JP2005138562A - 光学フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 低位相差・低残存溶剤量で、かつ表面欠陥の少ない光学フィルムを簡便、かつ低コストな方法で製造する。
【解決手段】 テンター装置によるフィルム処理の工程が少なくともフィルムの搬送幅をＬ₁（ｍｍ）から１．０２Ｌ₁〜１．０７Ｌ₁（ｍｍ）に拡げて搬送する工程（Ｃ）と、フィルムの搬送幅をＬ₃（ｍｍ）から０．９５Ｌ₃〜０．９９Ｌ₃（ｍｍ）に拡げながら搬送する工程（Ｄ）の２工程からなり、この２工程が、この順に連続している製造方法により、低位相差・低残存溶剤量で、かつ表面欠陥の少ない光学フィルムを得る。
【選択図】 なし

Description

本発明は光学フィルムの製造方法に関し、また、特に光記録媒体の光透過層として用いられる、低位相差、低残存溶剤量、かつ表面欠陥の少ない光学フィルムに関する。

コンピュータ用、オーディオ用等の各種情報を記録する高密度記録媒体として、再生記録を光照射にて行う光ディスクなどの光記録媒体がある。近年、地上波デジタル放送やハイビジョン放送などに対応するために、現行ＤＶＤ以上の大容量ディスクが要求されている。高容量化を達成する為の技術としては、レーザー光を集光するレンズのＮＡ（numerical aperture；開口数）を大きくする、またレーザー波長を短くするという方法が挙げられる。そして、このようなレンズの高ＮＡ化、レーザー光の短波長化には基板の光学特性の向上が不可欠である。

レンズの高ＮＡ化のためには、基板内の光透過距離を短くする必要がある。そのため、これまでのＤＶＤのように６００μｍの基板を２枚貼り合わせる構造ではなく、レーザー光の通過する光透過層を薄くするために、厚さ約１００μｍの光学フィルムを接着層を介して基板と貼り合わせ、フィルム側から信号を読みとる構造のディスクが開発中である。基板は主に射出成形によって作られているが、射出成形で薄膜を成形する場合、成形時の冷却ムラなどによって光学ムラが出やすくなるため３００μｍ以下のシートやフィルムを作るのには適していない。一方、射出成形などの溶融法に対し、樹脂を溶液に溶解させて、塗工・乾燥を行う溶液法は、光学均一性の面で優れ、また粘度が低いために濾過により異物の除去が容易なため、透明フィルムの薄膜化に有利である。

大容量光学ディスクに用いられるフィルムには、薄膜化の他にも下記に示すような要求特性がある。一つ目は低複屈折性である。位相差が大きくなると光の入射方向によってエラーが生じるという角度依存性が発現し、信号劣化の原因となる。そのため、位相差はできるだけ小さい方がよい。ビスフェノールＡ型のポリカーボネートである、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）を主たる構成成分としたポリカーボネートは、安価且つ加工性に優れる材料として、ＣＤやＤＶＤなどのディスク材料に大量に用いられているが、複屈折性が大きい事から張力による搬送を伴う従来の製造方法では、複屈折の指標である位相差値が大きくなるという問題があった。

この問題を解決する為に、例えば特許文献１〜特許文献３等にあるようにフルオレン構造のように厚み方向に配向する成分を有するポリカードネートを用いる事で光学均一性を高める必要がある。しかしながら、フルオレン構造を持つポリカーボネートは使用量が少ない為、ビスフェノールＡタイプと比較してコストの面で大きな差があった。

また、ビスフェノールＡタイプのポリカーボネートを用いて複屈折の小さいフィルムを作成する方法として、例えば特許文献４〜５等にあるように溶液製膜法で製膜したフィルムを応力の影響をほとんど受けない状態で加熱乾燥を行う方法が知られている。しかし、応力の影響をほとんど受けないようにするためには、複数の工程を用いてフィルムにかかる張力と温度をコントロールしながら長時間かけて乾燥を行ったり、フィルムに粘着フィルムを接着させた状態で乾燥させたりと、厳密な条件管理の上に多数の工程を配置する為、設備が複雑でかつ実際の製造が不安定になりやすく、生産性に劣る場合があった。

また、二つ目はチルトやスキューと呼ばれるディスクの反りや変形の問題があった。ディスクの反りや変形は、貼り合わせ後の基板と光透過層用フィルムの寸法変形が原因である為、フィルムには寸法安定性が求められる。通常、溶液法で製膜された光学フィルムは内部に残存溶剤を含んでいるため、ディスクなどに加工した後に残存溶剤が揮発して寸法変化が生じると、ディスクの反りや歪みとなり好ましくない。そのため、この残存溶剤量をできる限り除去しておく事が好ましく、０重量％とするのが理想的であるが、乾燥に多大な時間を要してしまうなど工業的な生産に適用するのは困難である。

さらに三つ目の問題として、レーザーの短波長化により、これまでは問題にならなかった微細な表面欠陥、特にキズ等が問題となってきた。特に、目視では確認できないような３０μｍから１００μｍ程度のキズがノイズの原因となるため、微細キズの低減は必須課題となっている。
特開２００１−２４３６５８号公報 国際公開番号ＷＯ０１／７３７８０号公報 特開２００２−３１７０４２号公報 特開平９−２３０３１６号公報 特開２００２−２２８８３８号公報

以上のように、光記録媒体の光透過層として用いられるフィルムを得るために様々な技術検討が成されているものの、いずれも生産効率の低いものであるのが実情である。

そこで本発明者は低位相差、低残存溶剤、かつ表面欠陥の少ない光学フィルムの製造方法について鋭意検討した結果、本発明に至ったのである。

本発明に係る光学フィルムの製造方法の要旨とするところは、以下の通りである。

１． テンター装置によるフィルム処理の工程を含む製造方法であり、前期フィルム処理の工程が少なくとも以下の２工程を含んでなる、光学フィルムの製造方法。
Ｔｇ（℃）以上、Ｔｇ＋２０（℃）以下のもとで、１０（秒）以上、１２０（秒）以下の時間内にフィルムの搬送幅をＬ₁（ｍｍ）から１．０２Ｌ₁（ｍｍ）以上、１．０７Ｌ₁（ｍｍ）以下に拡げてＬ₂（ｍｍ）としながらフィルムを搬送する工程（Ｃ）
Ｔｇ（℃）以上、Ｔｇ＋２０（℃）以下のもとで、１０（秒）以上、１２０（秒）以下の時間内にフィルムの搬送幅をＬ₃（ｍｍ）から０．９５Ｌ₃（ｍｍ）以上、０．９９Ｌ₃（ｍｍ）以下に変形してＬ₄（ｍｍ）としながらフィルムを搬送する工程（Ｄ）

２． 前記工程（Ｃ）と前期工程（Ｄ）がこの順に連続しており、Ｌ₂＝Ｌ₃である、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。

３． 前記フィルム処理の工程が、さらに以下の工程（Ｅ）を有し、工程（Ｄ）と工程（Ｅ）がこの順に連続している、上記１．または２．に記載の光学フィルムの製造方法。
Ｔｇ−５５（℃）以上、Ｔｇ−２５（℃）以下のもとで、１０（秒）以上、６００（秒）以下の時間、搬送幅をＬ₄±０．０２Ｌ₄（ｍｍ）に保って搬送したのち、室温下にフィルムを搬送する工程（Ｅ）

４． 前記フィルム処理の工程が、さらに以下の工程（Ｂ）を有し、工程（Ｂ）と工程（Ｃ）がこの順に連続している、上記１．から３．に記載の光学フィルムの製造方法。
Ｔｇ−１５（℃）以上、Ｔｇ＋２０（℃）以下のもとで、１０（秒）以上、２４０（秒）以下の時間、搬送幅をＬ₁±０．０２Ｌ₁（ｍｍ）に保ってフィルムを搬送する工程（Ｂ）

５． 前記フィルム処理の工程が、さらに以下の工程（Ａ）を有し、工程（Ａ）と工程（Ｂ）がこの順に連続している、４．に記載の光学フィルムの製造方法。
Ｔｇ−３５（℃）以上、Ｔｇ（℃）以下のもとで、１０（秒）以上、２４０（秒）以下の時間、搬送幅をＬ₁±０．０５Ｌ₁（ｍｍ）に保ってフィルムを搬送する工程（Ａ）

６． 前記工程（Ｃ）に搬入されるフィルムの残存溶剤量が１重量％以上、８重量％以下であり、前記工程（Ｅ）から搬出されるフィルムの残存溶剤量が０．００１重量％以上、１重量％以下である、３．から５．のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。

７． 前記工程（Ａ）に搬入されるフィルムの残存溶剤量が１０重量％以上、４０重量％以下である、５．または６．に記載の光学フィルムの製造方法。

８． １．から７．に記載の製造方法を用いて製造した、光学フィルムであって次の（ａ）〜（ｃ）を同時に満たす事を特徴とする光学フィルム。
（ａ）フィルム面内の屈折率をｎｘとｎｙ、フィルムの厚さをｄとした時に、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで示される面内レターデーションＲｅが０ｎｍ以上、８ｎｍ以下である
（ｂ）フィルム厚み方向の屈折率をｎｚとした時に、Ｒ２＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）で示される厚み方向のレターデーションＲ２が０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下である
（ｃ）残存溶剤量が０．００１％以上、１％以下である

９． 前記光学フィルムが２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）からなる繰返し単位を主たる構成成分とするポリカーボネートからなる１．から８．に記載の光学フィルム。

１０． １．から９．に記載の製造方法を用いて製造した、光学フィルムであって次の（ａ）、（ｂ）を同時に満たすことを特徴とする光情報記録媒体用保護フィルム。
（ａ）フィルム表面の中心線平均粗さＲａが０．１ｎｍ以上、１ｎｍ以下である
（ｂ）フィルム面内の任意の点における１ｃｍ²の範囲内に３０μｍ以上の表面欠陥の個数が０個以上、５０個以下である

本発明の光学フィルムの製造方法によれば、光記録媒体の光透過層として好適な、低位相差、低残存溶剤量、かつ表面欠陥が少ない光学フィルムを安価なビスフェノールＡタイプのポリカーボネートを用い、簡便な方法で得る事ができる。

本発明の光学フィルムの実施の形態について詳しく説明する。

本発明における光学フィルムの製膜方法としては溶液製膜法を用いる。フィルムの製膜方法としては溶液塗布法または溶液流延法に代表される溶液製膜法と、溶液を用いない方法として溶融押出または溶融射出法に代表される溶融法がある。しかし、溶融法は薄膜化すると金型の厚みムラの転写や金型内の温度ムラ等によってフィルムの品質ムラが大きくなるおそれがある。そのため、本発明のフィルムのように極めて均一な厚み精度が必要な薄膜フィルムでは溶液キャスト法で製膜する方が好ましい。また、製膜工程での変形応力による服屈折率の増大を防ぐ為にも、溶融法に比べ粘度の低い状態で比較的小さな応力で製膜し得る溶液製膜法が好ましい。

通常の溶液製膜法では、樹脂組成物を適当な有機溶剤に溶解して溶液を調整し、該溶液を支持体上に流延や塗布などキャストして、その後乾燥を行ってフィルム化する。

支持体には金属のエンドレスベルトやドラム、またプラスチック製や金属製のフィルム、もしくはシート状成形体が挙げられるが、特に限定されるものではない。中でも搬送性、変形に対する柔軟性、巻取りによる再回収・再利用の容易さなどを考えるとプラスチック製のフィルムやシート状成形物をベースとする支持体が好ましい。支持体として用いるプラスチックとしては、剛性が高く、また耐有機溶剤性が高いものであり、また搬送状態が良好なものが好ましい。例としては、ポリオレフィン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリケトン系樹脂、ポリフェニレンオキサイド系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、ポリサルホン系樹脂等を用いることが出来るが、これらに限定されるものではない。中でもポリエチレンテレフタレート（PET）は安価でかつ加工性に優れ耐薬品性も高いことから利用しやすく特に好ましい材料である。

本発明による光学フィルムの製造方法は、前述した溶液製膜法によって製膜し、乾燥後支持体より剥離したフィルムを、テンター装置により以下の工程で連続的に処理する事を特徴としている。

支持体より剥離したフィルムは、好ましくは、まず工程（Ａ）に搬送される。工程（Ａ）は、支持体から剥離した直後のフィルムの残存溶剤量を調整し、後工程で有効に処理が行えるようにする事を目的としている。工程（Ａ）に搬入されるフィルムの残存溶剤量は１０重量％以上、４０重量％以下が好ましい。そのため、残存溶剤量が４０重量％より大きい場合は、工程（Ａ）に搬入する前に残存溶剤量を調節する工程を設けてもよい。工程（Ａ）では樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）に対して、Ｔｇ−３５（℃）以上、Ｔｇ（℃）以下のもとで、１０（秒）以上、２４０（秒）以下の時間、搬送幅をＬ₁±０．０５Ｌ₁（ｍｍ）に保ってフィルムを搬送することが好ましい。

前記温度がＴｇより大きくなると、蒸発する溶剤の影響による発泡等により表面性が著しく悪化する、もしくはフィルムが軟化していしまい自己支持性が無くなり搬送不能な状態になるため好ましくない。また、（Ｔｇ−３５）℃より低いとフィルムの乾燥があまり進まない為、その後に続く工程で処理温度を上げられなくなり好ましくない。

工程（Ａ）は必要に応じて１つのゾーンでも、複数のゾーンに分かれていても良く、複数のゾーンに分かれている場合は前記温度範囲であればゾーン毎に異なる温度としても良い。

前記工程（Ａ）で処理されたフィルムは続いて工程（Ｂ）に搬送されることが好ましい。工程（Ｂ）は、続く工程（Ｃ）のための予熱ゾーンの役割を果たす。そのため、フィルムはＴｇ−１５（℃）以上、Ｔｇ＋２０（℃）以下のもとで、１０（秒）以上、２４０（秒）以下の時間、搬送幅をＬ₁±０．０２Ｌ₁（ｍｍ）に保って搬送されることが好ましい。

前記温度が（Ｔｇ＋２０）℃よりも高いと、蒸発する溶剤の影響による発泡等により表面性が著しく悪化する、もしくはフィルムが軟化していしまい自己支持性が無くなり搬送不能な状態になるため好ましくない。また、Ｔｇ℃より低いと工程（Ｃ）での処理の為の予熱効果を示さない為好ましくない。

続いて、前記工程（Ｂ）で処理されたフィルムは工程（Ｃ）に搬送され、その後工程（Ｄ）に連続的に搬送され処理されることが好ましい。

本発明による光学フィルムの製造方法は、工程（Ｃ）と工程（Ｄ）がこの順に連続しており、工程（Ｃ）の出口でのフィルム幅をＬ₂、工程（Ｄ）の入口のフィルム幅をＬ₃とした時、Ｌ₂＝Ｌ₃であることが好ましい。

工程（Ｃ）と工程（Ｄ）の順番が逆になると、各工程の効果が打ち消されてしまい、目標の特性が得られなくなるため好ましくない。

工程（Ｃ）では、Ｔｇ（℃）以上、Ｔｇ＋２０（℃）以下のもとで、１０（秒）以上、１２０（秒）以下の時間内にフィルムを搬送する。また、その際のフィルムの搬送幅は、Ｌ₁（ｍｍ）から１．０２Ｌ₁（ｍｍ）以上、１．０７Ｌ₁（ｍｍ）以下に拡げてＬ₂（ｍｍ）とする。フィルム搬送幅を拡張する事によりフィルム搬送方向への配向を打ち消す効果があり、面内位相差が小さく等方性のフィルムとなる。搬送幅の拡張率が１．０２Ｌ₁（ｍｍ）より低いと、この搬送方向への配向を打ち消しきれず、また拡張率が１．０７Ｌ₁（ｍｍ）より高いと逆に拡張方向（搬送方向に対して垂直方向）に配向してしまい好ましくない。

工程（Ｃ）での処理温度が（Ｔｇ＋２０）℃より高いと、フィルムが軟化していしまい自己支持性が無くなってしまったり、幅方向の中央付近が垂れてしまうことで物性が不均一になるため好ましくない。また、Ｔｇ（℃）より低いと均一に拡張されず光学ムラが発生するため好ましくない。

また、本発明において、前記工程（Ｃ）に搬入されるフィルムの残存溶剤量は１重量％以上、８重量％以下が好ましい。

一方、工程（Ｄ）では、Ｔｇ（℃）以上、Ｔｇ＋２０（℃）以下のもとで、１０（秒）以上、１２０（秒）以下の時間内にフィルムを搬送する。また、その際のフィルムの搬送幅は、Ｌ₃（ｍｍ）から０．９５Ｌ₃（ｍｍ）以上、０．９９Ｌ₃（ｍｍ）以下に変形してＬ₄（ｍｍ）とする。工程（Ｄ）でフィルム幅を縮小させる事でフィルム幅方向の物性を均一とする効果がある。ただし、この縮小率が０．９５Ｌ₃（ｍｍ）より低いと物性を均一にする効果が不十分となり、０．９９Ｌ₃（ｍｍ）より高いとフィルムが垂れてしまい幅方向の中央付近と端部付近での処理効果が異なってしまい物性が不均一となるため好ましくない。

工程（Ｄ）での処理温度が（Ｔｇ＋２０）℃より高いと、フィルムが軟化していしまい自己支持性が無くなってしまったり、幅方向の中央付近が垂れてしまうことで物性が不均一になるため好ましくない。また、Ｔｇ（℃）より低いと縮小による物性の均一化効果が示されないため好ましくない。

工程（Ｄ）で処理されたフィルムをそのままテンターから搬出すると室温まで急激に冷却される為、収縮により配向が進んだり、物性が不均一になってしまうため好ましくない。そこで、冷却ゾーンとして工程（Ｄ）で処理されたフィルムは、連続的に工程（Ｅ）に搬送されることが好ましい。工程（Ｅ）は冷却ゾーンとしてだけではなく、フィルムの残存溶剤量を調節する役割も持つ。

工程（Ｅ）では、Ｔｇ−５５（℃）以上、Ｔｇ−２５（℃）以下のもとで、１０（秒）以上、６００（秒）以下の時間内にフィルムを搬送する。Ｔｇ−２５（℃）より高いと室温との温度差が広くなってしまい冷却ゾーンとしての役割を果たさなくなる。一方、（Ｔｇ−５５）℃より低いと室温との温度差は縮まるが工程（Ｄ）との温度差が広がってしまい、工程（Ｄ）から工程（Ｅ）に搬送される際に急冷されてしまい好ましくない。また、工程（Ｅ）ではフィルムはＬ₄±０．０２Ｌ₄（ｍｍ）に保って搬送し、その後室温下にフィルムを搬出することが好ましい。前記工程（Ｅ）から搬出されるフィルムの残存溶剤量は０．００１重量％以上、１重量％以下が好ましい。

また本発明においては、工程（Ｅ）を経て室温下に搬送されたフィルムをそのまま光学フィルムとして用いてもよく、さらに後乾燥させて残存溶剤量を調節した後用いてもよい。後乾燥の方法としては特に限定されず、テンター方式やロール懸垂型乾燥機等公知の方法を用いることができる。

本発明の製造方法によって得られるフィルムの面内のレターデーションは８ｎｍ以下、好ましくは４ｎｍ以下である。面内レターデーションは理想的には０ｎｍで小さいほど好ましいが、現実的な値を挙げるならば２ｎｍ以上である。面内レターデーションは、その値が小さいほどフィルムが光学的に均一である事を示している。面内レターデーションが大きいと、偏光方向に応じて光の進行速度に分布が生じる。このため、面内レターデーションの大きな光透過層を通過してディスクの記録面に到達したレーザー光には、位相のズレが生じ、信号劣化が発生する。そのため、面内レターデーションは８ｎｍ以下が好ましい。

また、厚み方向のレターデーションＲ２は１００ｎｍ以下、好ましくは６０ｎｍ以下である。厚み方向のレターデーションＲ２が大きくなるとノイズ増大の原因となるため好ましくない。

本発明の製造方法により得られるフィルムの残存溶剤量は１．０重量％以下、好ましくは０．４重量％以下、より好ましくは０．２重量％以下である。溶液法で製膜されたフィルムは内部に残存溶剤を含んでおり、この残存溶剤を完全に取り除き、０重量％にするのが理想的であるが、完全に取り除くには、乾燥に多大な時間を要してしまうなど工業的な生産に適用するのは困難である。しかしながら、光ディスクなどに加工した後に残存溶剤が揮発して寸法変化が生じると、ディスクの反りや歪みの原因となる。そのため、残存溶剤はできる限り除去しておく事が好ましい。

本発明におけるフィルムの、面内の任意の点における１ｃｍ²の範囲内に３０μｍ以上の表面欠陥の個数は５０個以下、好ましくは３０個以下、さらに好ましくは１０個以下であることが望まれる。表面欠陥、特に目視では判別できないような微細な欠陥でも、光ディスクなどにおいてはノイズの原因となり信号の信頼性を損ねるため、表面欠陥は最小限に押えておく必要があり、０個が好ましいことは言うまでもないが、上記数値範囲以下の欠陥個数であれば、信号の信頼性が著しく損なわれることはない。なお、「３０μｍ以上の表面欠陥」とは、欠陥の最大方向長さもしくは最大径が３０μｍ以上である欠陥を指す。

本発明におけるフィルム表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）は、両面ともに１ｎｍ以下、より好ましくは０．５ｎｍ以下である。次世代の光記録媒体として用いられる高容量ディスクは、レーザー光が従来のＤＶＤの規格である赤色レーザーから、波長の短い青色レーザーへと移行したこともあり、表面の厚みのムラに非常に敏感である。厚みムラが生じていると信号の劣化に繋がるため、光透過層として用いる本発明の光学フィルムの表面は平滑でなければならない。本発明の光学フィルムが光記録媒体用光透過層として用いられる場合、中心線表面粗さは小さいほど好ましいが、現実的な値を挙げるならば０．１ｎｍ以上である。

本発明の光学フィルムは樹脂組成物の溶液を支持体上にキャストする溶液製膜法で製造される。そのため、得られるフィルムの表面の中心線平均粗さが上記値を満足する為には支持体のキャスト面の中心線平均粗さは０．１ｎｍ以上、５ｎｍ以下であることが好ましい。

本発明の光学フィルムに用いる樹脂組成物としては、透明性や加工性に優れており、塩化メチレンなどの溶剤に可溶であるポリカーボネートを用いるのが好ましい。特に、光記録媒体の光透過層として用いる場合、その基板との寸法変化率の違いによる反りや歪みなどを防ぐために、光透過層とそれを貼り合わせる基板とは同一の材料であるのが好ましい。そのため、光記録媒体の基板材料として広く使用されているポリカーボネートが好ましい。中でも特に量産されていて安価である、主たる構成成分が２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）から成る繰返し単位で構成される芳香族ポリカーボネートが好ましい。ここでいう主たる構成成分とは、ポリカーボネートの原料であるジヒドロキシ化合物のうち、５０モル％以上を占める化合物からなる繰返し成分を指す。そのため、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）を単独で使用しても、また、５０モル％を越えない範囲で他のジヒドロキシ化合物を加えて共重合あるいは混合したものを用いることができる。共重合あるいは混合して用いるジヒドロキシ化合物としては特に限定されないが、例としては、１，１−ビス（４−ヒドロキシ２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシー３−ｔ−ブチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチルベンゼン、などのビス（ヒドロキシアリール）アルカン類、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンなどのビス（ヒドロキシルアリール）シクロヘキサン類、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンなどのフルオレン類、４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルフェニルエーテルなどのジヒドロキシアリールエーテル類、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルフェニルスルフィドなどのジヒドロキシアリールスルフィド類、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルフェニルスルホキシドなどのジヒドロキシアリールスルホキシド類、および上記化合物から誘導された化合物が挙げられる。これらのジヒドロキシ化合物はビスフェノールAから成る繰返し単位の主成分に対し、透明性を損なわれない範囲で１種類でも２種類以上組み合わせて用いることもできる。ただし、ビスフェノールAは安価で入手しやすい原料なので、ビスフェノールA成分を多く用いるほど、安価な光学フィルムを工業的に供給しやすくなる為好ましく、ビスフェノールAの繰返し単位は８０モル％以上が好ましく、より好ましくは９０％以上、特には１００モル％（すなわち単独）が好ましい。

本発明における光学フィルムの平均厚みは２０μｍ以上、３００μｍ以下であることが好ましく、４０μｍ以上、１５０μｍ以下であることがより好ましく、５０μｍ以上、１１０μｍ以下であることがさらに好ましい。光記録媒体用カバー層として用いる場合には、薄いほど高容量化に対応できる為好ましいが、２０μｍよりも薄い場合にはハンドリングが難しくなり、ディスク基板と貼り合わせる場合にシワなどが生じやすい。一方、フィルムが厚すぎる場合には溶液製膜法による製膜では乾燥中の発泡が生じ、欠陥となりやすいばかりでなく、ディスクの僅かな傾き等によって集光性能が急激に悪化する原因となる為好ましくない。

以下に実施例に基づいて本発明の内容を具体的に説明するが、本発明はこれによって限定されるものではない。

なお、実施例で行った測定項目は以下の方法で測定した。

フィルム中心線平均粗さ（Ｒａ）：温度２３℃±２℃、湿度５０％±５％において、３次元表面構造解析顕微鏡 ｚｙｇｏ Ｎｅｗ ｖｉｅｗ ２００（Ｚｙｇｏ社製）を用い、カットオフ値０．１４４ｍｍで直線上におけるＲａの値を３点測定し、その平均値を用いた。

フィルムの厚み：アンリツ株式会社製触診式厚み計ＫＧ６０１Ａを使用し、フィルムの幅方向に４ｃｍの幅でカットしたサンプルを用いて測定し、得られた厚み曲線からその平均値を読みとった。

レターデーション：ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用い、平行ニコル回転
法により、測定波長５９０ｎｍにおけるフィルムの正面位相差および、遅相軸を回転軸として４０度回転させた際の位相差を測定した。フィルムの厚みおよび平均屈折率から、装置付属のプログラムによりｎｘ，ｎｙ，ｎｚを求め、これを元に面内レターデーションＲｅ（＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ）、および厚み方向レターデーションＲ２（＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ））を算出した。サンプルは４０×４０ｍｍサイズのフィルムを、幅方向に１５０ｍｍ間隔で５ヶ所切り出したものを測定した。

残留溶媒量：重量法を用い、乾燥前の重量と乾燥後の重量を計測して、次式｛（乾燥前の重量）−（乾燥後の重量）｝／（乾燥前の重量）×１００（％）により算出した。

フィルム中の表面欠陥の確認方法：フィルム上に一辺が２０×２５ｍｍの長方形の目印を無作為に付けておき、サンプルを移動しながら偏光光学顕微鏡にて長方形内の表面欠陥を反射モードにて確認し、その総数を数えた。これを３回繰り返し、その平均値を算出した。本明細書における「フィルム面内の任意の点における」表面欠陥とは、上記測定により得た表面欠陥個数のことを言う。

（実施例１）
溶媒としてジクロロメタンを用いて、ポリカーボネート（帝人化成社製、品番パンライトＣ−１４００，Ｔｇ；１５５℃）の２０重量％溶液を調合した。支持体のベースフィルムとしてＰＥＴフィルムの表面にハードコート処理を施し中心線平均粗さを０．３ｎｍとしたフィルムを支持体として用いた。この支持体上に上記溶液を流延し、乾燥を行い、残存溶剤量が１３％のフィルムを得た。引き続いて、このフィルムを支持体から剥離しテンターに搬送した。

テンターでのフィルム処理条件として、まず工程（Ａ）は前半と後半に２分割し、前半温度を１４０℃、後半温度を１５０℃とした。工程（Ａ）に搬入される直前のフィルムの残存溶剤量は１８重量％であった。

続く工程（Ｂ）では１６０℃にてフィルムを処理した後、工程（Ｃ）に搬送した。工程（Ａ）および工程（Ｂ）におけるフィルム搬送幅は、工程（Ｃ）に搬送される直前のフィルム搬送幅Ｌ₁に対してＬ₁のままで搬送した。

工程（Ｃ）においては温度１６０℃でフィルム搬送幅を１．０４Ｌ₁と拡張した後、連続的に工程（Ｄ）に搬送した。

工程（Ｄ）に搬送される直前のフィルム搬送幅をＬ₃とした時、工程（Ｄ）では１６０℃の下で搬送幅を０．９７Ｌ₃に縮小させ、その搬送幅を保った状態で工程（Ｅ）にて１２０℃の温度下で処理し、テンターから搬出し室温で冷却させた。

得られたフィルムの残存溶剤量は０．２重量％、厚みは７９μｍ、フィルム表面の中心線平均粗さは支持体面側が０．６ｎｍ、支持体の逆面側が０．３ｎｍであった。また、１ｃｍ²の範囲内の表面欠陥の個数は２個であった。

（実施例２）
テンターにおける工程（Ａ）の後半温度を１６０℃とし、工程（Ｂ），（Ｃ），（Ｄ）の温度を１６５℃した以外は実施例１と同様にしてフィルム処理を行なった。

（比較例１）
テンターにおける工程（Ｃ）のフィルム搬送幅をＬ₁、工程（Ｄ）における搬送幅をＬ₃とし、各工程における拡張、および縮小を行わなかった以外は実施例１と同様にしてフィルム処理を行なった。

（比較例２）
テンターにおける工程（Ｃ）のフィルム搬送幅をＬ₁とし、工程（Ｃ）における拡張を行わなわず、工程（Ｄ）における搬送幅を０．９８Ｌ₃とした以外は実施例１と同様にしてフィルム処理を行なった。

（比較例３）
テンターにおける工程（Ｃ）のフィルム搬送幅をＬ₁とし、工程（Ｃ）における拡張を行わず、工程（Ｄ）における温度を１２０℃、搬送幅を０．９８Ｌ₃とした以外は実施例１と同様にしてフィルム処理を行なった。

（比較例４）
テンターにおける工程（Ｃ）のフィルム搬送幅を１．０５Ｌ₁、工程（Ｄ）における搬送幅を０．９７Ｌ₃とした以外は実施例１と同様にしてフィルム処理を行なった。

得られたフィルムの面内、および厚み方向位相差を表１にまとめて示す。

表１の結果から比較例１〜４のテンター処理条件では求める特性が得られなかった。

Claims (10)

1. テンター装置によるフィルム処理の工程を含む製造方法であり、前記フィルム処理の工程が少なくとも以下の２工程を含んでなる、光学フィルムの製造方法。
   Ｔｇ（℃）以上、Ｔｇ＋２０（℃）以下のもとで、１０（秒）以上、１２０（秒）以下の時間内にフィルムの搬送幅をＬ₁（ｍｍ）から１．０２Ｌ₁（ｍｍ）以上、１．０７Ｌ₁（ｍｍ）以下に拡げてＬ₂（ｍｍ）としながらフィルムを搬送する工程（Ｃ）
   Ｔｇ（℃）以上、Ｔｇ＋２０（℃）以下のもとで、１０（秒）以上、１２０（秒）以下の時間内にフィルムの搬送幅をＬ₃（ｍｍ）から０．９５Ｌ₃（ｍｍ）以上、０．９９Ｌ₃（ｍｍ）以下に変形してＬ₄（ｍｍ）としながらフィルムを搬送する工程（Ｄ）
2. 前記工程（Ｃ）と前期工程（Ｄ）がこの順に連続しており、Ｌ₂＝Ｌ₃である、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
3. 前記フィルム処理の工程が、さらに以下の工程（Ｅ）を有し、工程（Ｄ）と工程（Ｅ）がこの順に連続している、請求項１または２に記載の光学フィルムの製造方法。
   Ｔｇ−５５（℃）以上、Ｔｇ−２５（℃）以下のもとで、１０（秒）以上、６００（秒）以下の時間、搬送幅をＬ₄±０．０２Ｌ₄（ｍｍ）に保って搬送したのち、室温下にフィルムを搬送する工程（Ｅ）
4. 前記フィルム処理の工程が、さらに以下の工程（Ｂ）を有し、工程（Ｂ）と工程（Ｃ）がこの順に連続している、請求項１から３のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
   Ｔｇ−１５（℃）以上、Ｔｇ＋２０（℃）以下のもとで、１０（秒）以上、２４０（秒）以下の時間、搬送幅をＬ₁±０．０２Ｌ₁（ｍｍ）に保ってフィルムを搬送する工程（Ｂ）
5. 前記フィルム処理の工程が、さらに以下の工程（Ａ）を有し、工程（Ａ）と工程（Ｂ）がこの順に連続している、請求項４に記載の光学フィルムの製造方法。
   Ｔｇ−３５（℃）以上、Ｔｇ（℃）以下のもとで、１０（秒）以上、２４０（秒）以下の時間、搬送幅をＬ₁±０．０５Ｌ₁（ｍｍ）に保ってフィルムを搬送する工程（Ａ）
6. 前記工程（Ｃ）に搬入されるフィルムの残存溶剤量が１重量％以上、８重量％以下であり、前記工程（Ｅ）から搬出されるフィルムの残存溶剤量が０．００１重量％以上、１重量％以下である、請求項３から５のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
7. 前記工程（Ａ）に搬入されるフィルムの残存溶剤量が１０重量％以上、４０重量％以下である、請求項５または６に記載の光学フィルムの製造方法。
8. 請求項１から７のいずれか１項に記載の製造方法を用いて製造した、光学フィルムであって次の（ａ）〜（ｃ）を同時に満たす事を特徴とする光学フィルム。
   （ａ）フィルム面内の屈折率をｎｘとｎｙ、フィルムの厚さをｄとした時に、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで示される面内レターデーションＲｅが０ｎｍ以上、８ｎｍ以下である
   （ｂ）フィルム厚み方向の屈折率をｎｚとした時に、Ｒ２＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）で示される厚み方向のレターデーションＲ２が０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下である
   （ｃ）残存溶剤量が０．００１％以上、１％以下である
9. 前記光学フィルムが２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）からなる繰返し単位を主たる構成成分とするポリカーボネートからなる請求項１から８のいずれか１項に記載の光学フィルム。
10. 請求項１から９のいずれか１項に記載の製造方法を用いて製造した、光学フィルムであって次の（ａ）、（ｂ）を同時に満たすことを特徴とする光情報記録媒体用保護フィルム。
    （ａ）フィルム表面の中心線平均粗さＲａが０．１ｎｍ以上、１ｎｍ以下である
    （ｂ）フィルム面内の任意の点における１ｃｍ²の範囲内に３０μｍ以上の表面欠陥の個数が０個以上、５０個以下である