JPH0427522A - ポリエステルフイルム - Google Patents
ポリエステルフイルムInfo
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- JPH0427522A JPH0427522A JP13212390A JP13212390A JPH0427522A JP H0427522 A JPH0427522 A JP H0427522A JP 13212390 A JP13212390 A JP 13212390A JP 13212390 A JP13212390 A JP 13212390A JP H0427522 A JPH0427522 A JP H0427522A
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Landscapes
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- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、ポリエステルフィルムに関するものである。
特に本発明は、耐湿熱性、機械的特性及び光学特性に優
れたポリエステルフィルムに関するものである。
れたポリエステルフィルムに関するものである。
ここで、本願においては、特にことわりのない限り、「
フィルム」には、一般にシートと呼ばれる厚物も含むも
のとする。
フィルム」には、一般にシートと呼ばれる厚物も含むも
のとする。
[従来の技術]
光学用の支持体層としては、従来まで、ポリアクリル系
フィルムや、セルロースエステル系フィルム或いはポリ
カーボネートフィルムが用いられていた。
フィルムや、セルロースエステル系フィルム或いはポリ
カーボネートフィルムが用いられていた。
ところが、ポリアクリル系フィルムは、光学特性に優れ
ているものの、湿度による寸法変化を起こしやすく、ま
た加工性が悪いといった問題がある。そこで、吸水性を
抑えるために、疎水性を有するモノマーを共重合してい
るが(たとえば特開昭58−127754、特開昭58
−11515)機械的強度や耐熱性が低下し好ましくな
い。
ているものの、湿度による寸法変化を起こしやすく、ま
た加工性が悪いといった問題がある。そこで、吸水性を
抑えるために、疎水性を有するモノマーを共重合してい
るが(たとえば特開昭58−127754、特開昭58
−11515)機械的強度や耐熱性が低下し好ましくな
い。
セルロースエステル系フィルムは、耐熱性、光学特性に
優れており、たとえば偏光フィルムの保護フィルムとし
て一般に用いられているが(偏光フィルムの応用、p1
35.1986、シーエムシー社)、湿度による寸法変
化が大きく、高温高湿下での加水分解が激しいといった
問題がある。
優れており、たとえば偏光フィルムの保護フィルムとし
て一般に用いられているが(偏光フィルムの応用、p1
35.1986、シーエムシー社)、湿度による寸法変
化が大きく、高温高湿下での加水分解が激しいといった
問題がある。
ポリカーボネートフィルムは、湿度の影響を受けにくく
成形しやすい反面、光学的歪が生じやすいという問題が
ある。そのため、一般に分子量を下げたり、共重合やブ
レンドによるもの(例えば特開昭6O−215051)
や、特定のビスフェノール誘導体を用いるもの(特開昭
63−35619)があるが、必ずしも良好な低複屈折
性は得られていない。また、ポリカーボネートフィルム
は、耐溶剤性が極めて悪いという問題もある。
成形しやすい反面、光学的歪が生じやすいという問題が
ある。そのため、一般に分子量を下げたり、共重合やブ
レンドによるもの(例えば特開昭6O−215051)
や、特定のビスフェノール誘導体を用いるもの(特開昭
63−35619)があるが、必ずしも良好な低複屈折
性は得られていない。また、ポリカーボネートフィルム
は、耐溶剤性が極めて悪いという問題もある。
そこで、ポリエステルフィルムを支持体層として用いれ
ばよいという提案がなされていた。ポリエステルフィル
ムは、耐湿性がポリカーボネートフィルムと同じレベル
であり、また成形性に優れ、透明性を有するフィルムで
ある。
ばよいという提案がなされていた。ポリエステルフィル
ムは、耐湿性がポリカーボネートフィルムと同じレベル
であり、また成形性に優れ、透明性を有するフィルムで
ある。
[発明が解決しようとする課題]
しかし、ポリエステルフィルムを支持体層とした光学媒
体においても、耐熱性・耐溶剤性・表面平滑性が不十分
であり、光学的歪すなわち複屈折が大きくなりやすいと
いう欠点を有している。
体においても、耐熱性・耐溶剤性・表面平滑性が不十分
であり、光学的歪すなわち複屈折が大きくなりやすいと
いう欠点を有している。
すなわち、耐熱性が悪化すると、光学媒体の加工時、或
いは、製品としての使用時に受ける熱によって、該媒体
が変形し、複屈折が生じたり、製品そのものの外観が損
なわれたりする。
いは、製品としての使用時に受ける熱によって、該媒体
が変形し、複屈折が生じたり、製品そのものの外観が損
なわれたりする。
また、耐溶剤性が悪いと、例えば偏光フィルムにおいて
は、透明フィルムが偏光子と貼り併せる際に用いられる
接着剤によって、白化あるいは変形してしまう。
は、透明フィルムが偏光子と貼り併せる際に用いられる
接着剤によって、白化あるいは変形してしまう。
更に、フィルムに複屈折があると、例えばこのフィルム
を保護フィルムとして用いた偏光板を通して物体を見た
場合、方向により保護フィルム上に光の干渉による色む
らが生じることがあり、液晶表示用の偏光フィルムなど
としては適さない。
を保護フィルムとして用いた偏光板を通して物体を見た
場合、方向により保護フィルム上に光の干渉による色む
らが生じることがあり、液晶表示用の偏光フィルムなど
としては適さない。
或いは、複屈折のあるフィルムを光記録用保護フィルム
として利用する場合、記録信号の読取りに偏光したレー
ザ光を用いているため、信号強度が低下し信号の読取り
エラーが発生してしまう。
として利用する場合、記録信号の読取りに偏光したレー
ザ光を用いているため、信号強度が低下し信号の読取り
エラーが発生してしまう。
この複屈折は、フィルム成形時に容易に発生する。この
複屈折が配向複屈折であり、この値が大きいと光学用途
において支障となるわけである。
複屈折が配向複屈折であり、この値が大きいと光学用途
において支障となるわけである。
また、フィルム表面が平滑でないと、フィルム表面にお
いて光が散乱したり、光学系が異常に歪んでしまうため
、光学用フィルムとしては適さない。通常、表面の平滑
化のためにはカレンダリングが行なわれるが、この手法
では容易にポリマーが配向してしまい複屈折が生じてし
まう。つまり、フィルムの低複屈折性と表面平滑性を両
立させることは非常に困難である。
いて光が散乱したり、光学系が異常に歪んでしまうため
、光学用フィルムとしては適さない。通常、表面の平滑
化のためにはカレンダリングが行なわれるが、この手法
では容易にポリマーが配向してしまい複屈折が生じてし
まう。つまり、フィルムの低複屈折性と表面平滑性を両
立させることは非常に困難である。
[課題を解決するたの手段]
本発明は、かかる欠点を解消するために次の構成を有す
る。すなわち、ビス(4−ヒドロキシエトキシフェニル
)スルホン及び/又はその誘導体が10モル%以上含ま
れるジヒドロキシ化合物及び/又はそのエステル形成誘
導体と、ジカルボン酸及び/又はそのエステル形成誘導
体とを反応せしめて導かれたポリエステルよりなるフィ
ルムであり、複屈折が2.5X10−’以下であり、表
面の最大粗さRtが1100n以下であることを特徴と
するポリエステルフィルムに関するものである。
る。すなわち、ビス(4−ヒドロキシエトキシフェニル
)スルホン及び/又はその誘導体が10モル%以上含ま
れるジヒドロキシ化合物及び/又はそのエステル形成誘
導体と、ジカルボン酸及び/又はそのエステル形成誘導
体とを反応せしめて導かれたポリエステルよりなるフィ
ルムであり、複屈折が2.5X10−’以下であり、表
面の最大粗さRtが1100n以下であることを特徴と
するポリエステルフィルムに関するものである。
本発明のポリエステルにおいては、ビス(4−ヒドロキ
シエトキシフェニル)スルホンを共重合することにより
、フィルムとしたときに非品性となり、耐熱性が向上し
、耐溶剤性が向上すると共に、耐衝撃性、打ち抜き性と
いった特性が向上する。また、ポリマーの流動性も良好
であるため、フィルム成形時に生じる複屈折も小さくな
り、光弾性も向上するため、フィルムに外力を加えても
、複屈折は生じにくくなる。
シエトキシフェニル)スルホンを共重合することにより
、フィルムとしたときに非品性となり、耐熱性が向上し
、耐溶剤性が向上すると共に、耐衝撃性、打ち抜き性と
いった特性が向上する。また、ポリマーの流動性も良好
であるため、フィルム成形時に生じる複屈折も小さくな
り、光弾性も向上するため、フィルムに外力を加えても
、複屈折は生じにくくなる。
ビス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)スルホンの添
加量は、10モル%以上であり、好ましくは、20モル
%以上であり、より好ましくは、30モル%以上である
。添加量が10モル%未満になると添加効果はほとんど
みられない。
加量は、10モル%以上であり、好ましくは、20モル
%以上であり、より好ましくは、30モル%以上である
。添加量が10モル%未満になると添加効果はほとんど
みられない。
ビス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)スルホン以外
のジヒドロキシ化合物成分としては、工チレングリコー
ル、トリメチレジグリコール、テトラメチレングリコー
ル、シクロヘキサンジメタツール、2,2−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒ
ドロキシエトキシフェニル)プロパン、ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)スルホン、ポリエチレングリコール、
ポリテトラメチレングリコール、ジエチレングリコール
、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノン、シクロヘ
キサンジオールなどを挙げることができる。
のジヒドロキシ化合物成分としては、工チレングリコー
ル、トリメチレジグリコール、テトラメチレングリコー
ル、シクロヘキサンジメタツール、2,2−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒ
ドロキシエトキシフェニル)プロパン、ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)スルホン、ポリエチレングリコール、
ポリテトラメチレングリコール、ジエチレングリコール
、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノン、シクロヘ
キサンジオールなどを挙げることができる。
また、ジカルボン酸としては例えば、テレフタル酸、イ
ソフタル酸、フタル酸、ジフェニルスルホンジカルボン
酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェノキシエ
タンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、コハ
ク酸、アジピン酸、セパチン酸、スチルベンジカルボン
酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルチオエーテル
ジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニ
ルインダンジカルボン酸、更にはp−オキシ安息香酸な
どのオキシカルボン酸などを挙げることができる。
ソフタル酸、フタル酸、ジフェニルスルホンジカルボン
酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェノキシエ
タンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、コハ
ク酸、アジピン酸、セパチン酸、スチルベンジカルボン
酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルチオエーテル
ジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニ
ルインダンジカルボン酸、更にはp−オキシ安息香酸な
どのオキシカルボン酸などを挙げることができる。
更に本ポリエステルに実質的に線状である範囲内で、ト
リメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸、グリセ
リン、ペンタエリスリトールなどの三官能基以上の多官
能性化合物を共重合させても、更には、本ポリエステル
主鎖に分子量300〜70000程度のポリマー、例え
ばポリアクリレート、ポリアクリルアミド、ポリアクリ
ロニトリル、ポリスチレン、ポリシロキサン、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリブチルアクリレート及びそれら
の誘導体などを側鎖にグラフト共重合させておいてもよ
い。
リメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸、グリセ
リン、ペンタエリスリトールなどの三官能基以上の多官
能性化合物を共重合させても、更には、本ポリエステル
主鎖に分子量300〜70000程度のポリマー、例え
ばポリアクリレート、ポリアクリルアミド、ポリアクリ
ロニトリル、ポリスチレン、ポリシロキサン、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリブチルアクリレート及びそれら
の誘導体などを側鎖にグラフト共重合させておいてもよ
い。
また、本ポリエステルフィルムの複屈折を低下させるた
めの、共重合成分として、イソフタル酸、ジフェニルス
ルホン−2,2′ −ジカルボン酸、ジフェニルエーテ
ル−2,2′ −ジカルボン酸、ジフェニル−2,2゛
−ジカルボン酸(ジフェン酸)、ジフェニルチオエー
テル−2,2゛ −ジカルボン酸、ジフェニルケトン−
2,2° −ジカルボン酸、フェニルインダン−4゛、
5−ジカルボン酸といった三官能基の位置が非対称であ
るものを含むことが好ましい。特に好ましい共重合成分
は、ジフェニルスルホン−2,2′ −ジカルボン酸、
ジフェニル−2,2゛ −ジカルボン酸(ジフェン酸
)、フェニルインダン−4′、5−ジカルボン酸であり
、添加量は5モル%〜50モル%であり、好ましくは1
5モル%〜45モル%であり、より好ましくは25モル
%〜40モル%である。
めの、共重合成分として、イソフタル酸、ジフェニルス
ルホン−2,2′ −ジカルボン酸、ジフェニルエーテ
ル−2,2′ −ジカルボン酸、ジフェニル−2,2゛
−ジカルボン酸(ジフェン酸)、ジフェニルチオエー
テル−2,2゛ −ジカルボン酸、ジフェニルケトン−
2,2° −ジカルボン酸、フェニルインダン−4゛、
5−ジカルボン酸といった三官能基の位置が非対称であ
るものを含むことが好ましい。特に好ましい共重合成分
は、ジフェニルスルホン−2,2′ −ジカルボン酸、
ジフェニル−2,2゛ −ジカルボン酸(ジフェン酸
)、フェニルインダン−4′、5−ジカルボン酸であり
、添加量は5モル%〜50モル%であり、好ましくは1
5モル%〜45モル%であり、より好ましくは25モル
%〜40モル%である。
これによって、共重合したポリエステルの主鎖が屈曲し
た構造をとり易く、非品性や光学特性が向上する。つま
りポリマーがフィルムとなった時に、外力に対してポリ
マーが配向し難くなるため、複屈折の発生が抑えられる
。
た構造をとり易く、非品性や光学特性が向上する。つま
りポリマーがフィルムとなった時に、外力に対してポリ
マーが配向し難くなるため、複屈折の発生が抑えられる
。
又、ポリエステルに側鎖をつけることにより、ポリエス
テルの分子鎖軸方向の分極率とそれに垂直な方向の分極
率の差が小さくなり、ポリマーの固有複屈折が低下する
ため、光学的歪みが起きにくい。側鎖をつける方法とし
ては例えばマクロモノマーといわれる末端に重合可能な
官能基としてジヒドロキジル基やジカルボキシル基をも
つ高分子量のモノマーを使う方法がある。その構造は、
HOCH2 HOCH−(R) 11 あるいは HOOCCH2 HOOCCH−(R)。
テルの分子鎖軸方向の分極率とそれに垂直な方向の分極
率の差が小さくなり、ポリマーの固有複屈折が低下する
ため、光学的歪みが起きにくい。側鎖をつける方法とし
ては例えばマクロモノマーといわれる末端に重合可能な
官能基としてジヒドロキジル基やジカルボキシル基をも
つ高分子量のモノマーを使う方法がある。その構造は、
HOCH2 HOCH−(R) 11 あるいは HOOCCH2 HOOCCH−(R)。
などがあり、ここで、Rには、スチレン、スチレンアク
リロニトリル、メチルメタクリレート、ブチルアクリレ
ートなどがある。マクロモノマーの分子量は300〜6
000が好ましい。これらのマクロモノマーを他のジカ
ルボン酸及びジヒドロキシ化合物と共重合すれば容易に
側鎖をもうけることができる。
リロニトリル、メチルメタクリレート、ブチルアクリレ
ートなどがある。マクロモノマーの分子量は300〜6
000が好ましい。これらのマクロモノマーを他のジカ
ルボン酸及びジヒドロキシ化合物と共重合すれば容易に
側鎖をもうけることができる。
又、本ポリエステルの相対粘度ηrは、好ましくは14
〜70であり、より好ましくは20〜60である。ηr
が14未満になるとフィルムの機械的強度が極端に低下
してしまい、又、ηrか70を超えるとフィルム成形時
に、分子鎖が容易に配向し複屈折を生じ易くなって、と
もに好ましくない。
〜70であり、より好ましくは20〜60である。ηr
が14未満になるとフィルムの機械的強度が極端に低下
してしまい、又、ηrか70を超えるとフィルム成形時
に、分子鎖が容易に配向し複屈折を生じ易くなって、と
もに好ましくない。
ポリエステルフィルムは、上述のポリエステルを用いて
通常のフィルム製造方法、即ち押出し機から溶融ポリエ
ステルをシート状に押出しし、これを冷却ロールに接触
させて急冷固化する方法により製造することができる。
通常のフィルム製造方法、即ち押出し機から溶融ポリエ
ステルをシート状に押出しし、これを冷却ロールに接触
させて急冷固化する方法により製造することができる。
そこで、ポリマーの押出し温度は、ポリマーの融点によ
り10°C〜50℃高温であることが好ましいが、酸化
分解や熱分解が急激には進行しない温度範囲において、
できるだけ高い方が望ましい。
り10°C〜50℃高温であることが好ましいが、酸化
分解や熱分解が急激には進行しない温度範囲において、
できるだけ高い方が望ましい。
また、溶融ポリエステルシートを冷却ロールに接触させ
る際は、静電印加冷却法を適応することが好ましい。更
に、製膜速度は、0.5m/分〜40m/分であり、好
ましくは2.0m/分〜30m/分である。
る際は、静電印加冷却法を適応することが好ましい。更
に、製膜速度は、0.5m/分〜40m/分であり、好
ましくは2.0m/分〜30m/分である。
こうして得られるフィルムの複屈折は、2.5XIO−
’以下であり、好ましくは1.0X10−’以下であり
、更に好ましくは0.5X10−’以下である。また、
複屈折の分布は、平均複屈折に対して、±20%以内で
あることが好ましく、更に好ましくは±10%以内であ
る。即ち、複屈折が小さいフィルムを光学用フィルムと
して用いる場合、例えばこのフィルムを保護フィルムと
して用いた偏光板を通して物体を見ると、方向により保
護フィルム上に光の干渉による色むらが生じることがな
く、またこのフィルムを光記録用保護フィルムとして利
用すると、レーザ光の偏光状態が変化することがなく、
信号の読取りエラーは減少する。
’以下であり、好ましくは1.0X10−’以下であり
、更に好ましくは0.5X10−’以下である。また、
複屈折の分布は、平均複屈折に対して、±20%以内で
あることが好ましく、更に好ましくは±10%以内であ
る。即ち、複屈折が小さいフィルムを光学用フィルムと
して用いる場合、例えばこのフィルムを保護フィルムと
して用いた偏光板を通して物体を見ると、方向により保
護フィルム上に光の干渉による色むらが生じることがな
く、またこのフィルムを光記録用保護フィルムとして利
用すると、レーザ光の偏光状態が変化することがなく、
信号の読取りエラーは減少する。
また、該ポリエステルフィルムの最大粗さRtは、11
00n以下であり、好ましくは60nm以下であり、更
に好ましくは3Qnm以下である。
00n以下であり、好ましくは60nm以下であり、更
に好ましくは3Qnm以下である。
フィルムの表面が粗れて、Rtが1100nを超えると
、光が屈折・散乱したり、干渉するため、フィルムを透
過する光の強度が低下したり、光が歪んでしまうため、
光学用としては適さなくなる。
、光が屈折・散乱したり、干渉するため、フィルムを透
過する光の強度が低下したり、光が歪んでしまうため、
光学用としては適さなくなる。
また、該ポリエステルフィルムの中心線平均粗さRaは
lQnm以下であることが好ましく、より好ましくは6
nm以下、最も好ましくは3nm以下である。この表面
の最大粗さRtと中心線平均粗さRaとの比Rt /
Raは9以下であることが好ましく、より好ましくは7
以下であり、最も好ましくは5以下である。Rtと同様
に、Raが10nmより大きくなると光の屈折や干渉に
よって、光が歪んでしまうため、光学用としては適さな
くなる。また、Rt / Raは、表面突起の形状を表
わすものであり、Ra / Rを値が大きいほど鋭くて
大きな突起が多(、光学用としては光の散乱が多くなっ
てしまう。Rt / Ra値が小さくなると突起は滑ら
かで大きさの揃ったものになり、光の散乱は小さくなる
。
lQnm以下であることが好ましく、より好ましくは6
nm以下、最も好ましくは3nm以下である。この表面
の最大粗さRtと中心線平均粗さRaとの比Rt /
Raは9以下であることが好ましく、より好ましくは7
以下であり、最も好ましくは5以下である。Rtと同様
に、Raが10nmより大きくなると光の屈折や干渉に
よって、光が歪んでしまうため、光学用としては適さな
くなる。また、Rt / Raは、表面突起の形状を表
わすものであり、Ra / Rを値が大きいほど鋭くて
大きな突起が多(、光学用としては光の散乱が多くなっ
てしまう。Rt / Ra値が小さくなると突起は滑ら
かで大きさの揃ったものになり、光の散乱は小さくなる
。
また、該ポリエステルフィルムのピークの平均間隔Sm
は20μm以上であることが好ましく、より好ましくは
50μm以上であり、最も好ましくは100μm以上で
ある。Smが20μmより小さくなると、光の散乱、干
渉が大きくなり、また複屈折のむらが大きくなり、干渉
しまの原因にもなる。また、光記録用として用いる場合
には、記録のスポット径が0. 5〜10μmであるた
めに、突起の部分によって光が正常に反射せず記録の読
み取りエラーの発生原因ともなる。
は20μm以上であることが好ましく、より好ましくは
50μm以上であり、最も好ましくは100μm以上で
ある。Smが20μmより小さくなると、光の散乱、干
渉が大きくなり、また複屈折のむらが大きくなり、干渉
しまの原因にもなる。また、光記録用として用いる場合
には、記録のスポット径が0. 5〜10μmであるた
めに、突起の部分によって光が正常に反射せず記録の読
み取りエラーの発生原因ともなる。
上記のキャスティング法において、表面の平滑な冷却ロ
ール(好ましくは該ロールの表面が0゜2S以下)を用
いることにより表面の平滑なフィルムが得られるが、そ
れでも不十分な場合は、押し出された溶融状態のフィル
ムをキャストドラムと付設の冷却ロール、あるいはキャ
ストドラムと金属製のエンドレスベルトで圧着して冷却
するのがよい。その際に、キャストドラムだけでなく、
付設の冷却ロール、あるいは、金属製のエンドレスベル
トの表面は平滑であること(好ましくは冷却体表面の最
大粗さは0.2S以下)が求められ、また十分に冷却す
ることによって、フィルムの両面を急冷してその結晶化
を防止することもできる。
ール(好ましくは該ロールの表面が0゜2S以下)を用
いることにより表面の平滑なフィルムが得られるが、そ
れでも不十分な場合は、押し出された溶融状態のフィル
ムをキャストドラムと付設の冷却ロール、あるいはキャ
ストドラムと金属製のエンドレスベルトで圧着して冷却
するのがよい。その際に、キャストドラムだけでなく、
付設の冷却ロール、あるいは、金属製のエンドレスベル
トの表面は平滑であること(好ましくは冷却体表面の最
大粗さは0.2S以下)が求められ、また十分に冷却す
ることによって、フィルムの両面を急冷してその結晶化
を防止することもできる。
又、別の手法として、好ましくは0.2S以下の平滑な
ドラムにキャストしたフィルムの非ドラム面をガラス転
移温度以上に加熱した付設のロールで圧着し、冷却ロー
ルで急冷しても良い。
ドラムにキャストしたフィルムの非ドラム面をガラス転
移温度以上に加熱した付設のロールで圧着し、冷却ロー
ルで急冷しても良い。
更に、押し出された溶融状態のポリマーを表面の平滑な
(好ましくは0.2S以下)2本のロールの間にバンク
として溜め、ロールの間から押し出して、カレンダリン
グしても良い。
(好ましくは0.2S以下)2本のロールの間にバンク
として溜め、ロールの間から押し出して、カレンダリン
グしても良い。
又、押し出された溶融状態のポリマーを好ましくは0.
2S以下の平滑な金属製のエンドレスベルト上にキャス
トし、そのエンドレスベルトと別の平滑な金属製のエン
ドレスベルトで加熱、圧着し、急冷しても良い。
2S以下の平滑な金属製のエンドレスベルト上にキャス
トし、そのエンドレスベルトと別の平滑な金属製のエン
ドレスベルトで加熱、圧着し、急冷しても良い。
ただし、いずれの場合においても、フィルムの平滑時に
フィルムに生じる複屈折を最小限にするために、溶融し
たポリマーを圧着しなければならず、またフィルム厚み
に対して、圧着部分の間隙は85%以上にすることがよ
い。また圧着時の線圧は40 k g / c m以下
にするのが好ましい。
フィルムに生じる複屈折を最小限にするために、溶融し
たポリマーを圧着しなければならず、またフィルム厚み
に対して、圧着部分の間隙は85%以上にすることがよ
い。また圧着時の線圧は40 k g / c m以下
にするのが好ましい。
このようにして、透明性・平滑性に優れたフィルムが得
られる。
られる。
また、本発明のポリエステルフィルムの厚さとしては特
に限定はしないが、延伸シートの場合、6〜360μm
1無延伸シートの場合、30〜2000μm程度のもの
が好んで用いられ、好ましくは40〜700μmである
。
に限定はしないが、延伸シートの場合、6〜360μm
1無延伸シートの場合、30〜2000μm程度のもの
が好んで用いられ、好ましくは40〜700μmである
。
次に、本発明ポリエステルフィルムを製造する方法につ
いて述べる。しかし、必ずしもこの方法に、限定される
ものではない。
いて述べる。しかし、必ずしもこの方法に、限定される
ものではない。
ジカルボン酸あるいは/又はそのエステル形成誘導体と
、ジヒドロキシ化合物とを常法により混合して反応させ
て、主鎖にエステル結合を有する好ましくは相対粘度η
rが14〜70のポリエステル組成物を得る。
、ジヒドロキシ化合物とを常法により混合して反応させ
て、主鎖にエステル結合を有する好ましくは相対粘度η
rが14〜70のポリエステル組成物を得る。
一旦エステル交換が必要な場合には、重合触媒以外にエ
ステル交換触媒を用いる。もちろん実用上、着色防止剤
、酸化防止剤、熱安定剤、結晶核剤、すべり剤、ブロッ
キング防止剤、粘度調節剤、消泡剤、透明化剤などを添
加させてもよい。しかし、本発明に係るフィルムは透明
性と表面の平滑性が要求されるので、ポリエステルとし
ては粒子を実質的に含まないか、又はきわめて微細な粒
子のみを含むものが望ましい。
ステル交換触媒を用いる。もちろん実用上、着色防止剤
、酸化防止剤、熱安定剤、結晶核剤、すべり剤、ブロッ
キング防止剤、粘度調節剤、消泡剤、透明化剤などを添
加させてもよい。しかし、本発明に係るフィルムは透明
性と表面の平滑性が要求されるので、ポリエステルとし
ては粒子を実質的に含まないか、又はきわめて微細な粒
子のみを含むものが望ましい。
このようにして得られたビス(4−ヒドロキシエトキシ
フェニル)スルホンを10モル%以上含むポリエステル
を、前述のような押し出し温度及び製膜速度で押し出し
し製膜することにより、複屈折が2.5X10−4以下
のポリエステルフィルムが得られる。キャストフィルム
はそのまま用いても良いが、フィルム表面を平滑化する
ために、前述のように平滑化処理を行なうことが好まし
い。
フェニル)スルホンを10モル%以上含むポリエステル
を、前述のような押し出し温度及び製膜速度で押し出し
し製膜することにより、複屈折が2.5X10−4以下
のポリエステルフィルムが得られる。キャストフィルム
はそのまま用いても良いが、フィルム表面を平滑化する
ために、前述のように平滑化処理を行なうことが好まし
い。
このようにして得られた表面の最大粗さRtが1100
n以下のフィルム表面に傷が発生しないように、ポリマ
ーの押し出し時あるいはキャスト直後に、ポリプロピレ
ン、エチレンプロピレンコポリマー、ポリメチルペンテ
ン、エチレン酢酸ビニルポリマーなどのオレフィンポリ
マーをラミネートしたり、あるいは耐スクラッチ層をコ
ーティングするのがよい。
n以下のフィルム表面に傷が発生しないように、ポリマ
ーの押し出し時あるいはキャスト直後に、ポリプロピレ
ン、エチレンプロピレンコポリマー、ポリメチルペンテ
ン、エチレン酢酸ビニルポリマーなどのオレフィンポリ
マーをラミネートしたり、あるいは耐スクラッチ層をコ
ーティングするのがよい。
該ポリエステルフィルムを光記録媒体として利用する場
合、光ディスクや光カード、光テープといったものが考
えられるが、光ディスクにおいては、たとえば該ポリエ
ステルフィルムの片面に無機質あるいは有機質の光記録
媒体を真空蒸着、スパッタリングあるいはスピンコード
することによって光記録媒体を形成させることができ、
また光カードにおいては、たとえば片側に塩化ビニル基
盤を貼りつけたポリエチレンフィルム上にゼラチンと銀
粒子の混合体を塗布、処理して光記録層とし、この記録
層の上に保護層として該ポリエステルフィルムを貼付け
て光記録媒体を形成させることができる。
合、光ディスクや光カード、光テープといったものが考
えられるが、光ディスクにおいては、たとえば該ポリエ
ステルフィルムの片面に無機質あるいは有機質の光記録
媒体を真空蒸着、スパッタリングあるいはスピンコード
することによって光記録媒体を形成させることができ、
また光カードにおいては、たとえば片側に塩化ビニル基
盤を貼りつけたポリエチレンフィルム上にゼラチンと銀
粒子の混合体を塗布、処理して光記録層とし、この記録
層の上に保護層として該ポリエステルフィルムを貼付け
て光記録媒体を形成させることができる。
また、該ポリエステルフィルムを偏光フィルムとして用
いる場合は、例えば、延伸したポリビニルアルコールフ
ィルムを緊張状態に保ったままヨウ素とヨウ化カリウム
からなる水溶液にヨウ素を吸着させ、次にホウ酸を主成
分とする水溶液に浸漬して偏光素子であるポリヨウ素を
形成させる。
いる場合は、例えば、延伸したポリビニルアルコールフ
ィルムを緊張状態に保ったままヨウ素とヨウ化カリウム
からなる水溶液にヨウ素を吸着させ、次にホウ酸を主成
分とする水溶液に浸漬して偏光素子であるポリヨウ素を
形成させる。
このフィルムを熱処理し、更にホウ酸を主成分とする水
溶液に浸漬したあと、そのフィルムの片面あるいは両面
に保護層と[2て、本発明のポリエステルフィルムを形
成することにより、偏光フィルムを得ることができる。
溶液に浸漬したあと、そのフィルムの片面あるいは両面
に保護層と[2て、本発明のポリエステルフィルムを形
成することにより、偏光フィルムを得ることができる。
[物性の測定方法]
(1)ガラス転移温度
ポリエステルフィルム10mgを、走査型熱量計にセッ
トし、窒素気流下で20℃/ m i nの速度で昇温
しでいき、ベースラインが偏倚し始める温度と、新たな
ベースラインに戻る温度との平均値を用いる。
トし、窒素気流下で20℃/ m i nの速度で昇温
しでいき、ベースラインが偏倚し始める温度と、新たな
ベースラインに戻る温度との平均値を用いる。
(2)相対粘度ηr
ポリエステルをドライアイスで冷却した後、粉砕機で1
00メツシユ以下に粉砕する。その8gを150℃の熱
0−クロロフェノール100cc中に入れ1〜2分で溶
解させる。このポリマー溶液の粘度ηと、0−クロロフ
ェノールの粘度η。
00メツシユ以下に粉砕する。その8gを150℃の熱
0−クロロフェノール100cc中に入れ1〜2分で溶
解させる。このポリマー溶液の粘度ηと、0−クロロフ
ェノールの粘度η。
とを25℃で測定しその比をもって相対粘度とする。
ηr=η/η0
(3)複屈折
フィルム面内の複屈折の測定はナトリウムD線(589
nm)を光源として直行ニコルを備えた偏光顕微鏡に試
料フィルム面が光軸と垂直となるように置き、試料の複
屈折によって生じた光路差「をコンペンセーターの補償
値から求め、r/dをもって複屈折とした。ここでdは
試料フィルムの厚さである。
nm)を光源として直行ニコルを備えた偏光顕微鏡に試
料フィルム面が光軸と垂直となるように置き、試料の複
屈折によって生じた光路差「をコンペンセーターの補償
値から求め、r/dをもって複屈折とした。ここでdは
試料フィルムの厚さである。
(4)耐溶剤性
試料を溶剤に1分間浸漬した時の試料の状態の変化で耐
溶剤性を判断した。溶剤によって膨潤せず、ヘイズ値の
変化が1%未満のものを◎、やや膨潤あるいはヘイズ値
の変化が1〜3%のものを○、ヘイズ値の変化が3〜1
0%のものを△、溶解あるいはヘイズ値の変化が10%
以上のものを×とした。なお、ヘイズ値については、日
本精密光学(株)製5EP−H−2を使用し、試料のト
ータルヘイズをもって値とした。。
溶剤性を判断した。溶剤によって膨潤せず、ヘイズ値の
変化が1%未満のものを◎、やや膨潤あるいはヘイズ値
の変化が1〜3%のものを○、ヘイズ値の変化が3〜1
0%のものを△、溶解あるいはヘイズ値の変化が10%
以上のものを×とした。なお、ヘイズ値については、日
本精密光学(株)製5EP−H−2を使用し、試料のト
ータルヘイズをもって値とした。。
(5)最大粗さRt、中心線平均粗さRa、ピークの平
均間隔Sm 小板研究所製の高精度薄膜段差測定機ET−10を用い
て測定した。Rtは粗さ曲線の最大の山と最深の谷の距
離で表わされ、Smは粗さ曲線の中心線と交わる一組の
山と谷の平均間隔で表わされる。また、Raは中心線を
X軸、縦倍率の方向をY軸とし、測定長しにおいて、粗
さ曲線をY=f (x)で表わした時、次式で与えられ
る。
均間隔Sm 小板研究所製の高精度薄膜段差測定機ET−10を用い
て測定した。Rtは粗さ曲線の最大の山と最深の谷の距
離で表わされ、Smは粗さ曲線の中心線と交わる一組の
山と谷の平均間隔で表わされる。また、Raは中心線を
X軸、縦倍率の方向をY軸とし、測定長しにおいて、粗
さ曲線をY=f (x)で表わした時、次式で与えられ
る。
測定条件は、下記のとおりであり、20回の測定の平均
値を持って値とした。
値を持って値とした。
◇触針先端半径二〇、5μm
◇触針荷重 :5mg
◇測定長 :1mm
◇カットオフ値:0.08mm
なお、パラメータの定義の詳細は、例えば奈良二部著「
表面粗さの測定・評価法」 (総合技術センター、19
83)に示されている。
表面粗さの測定・評価法」 (総合技術センター、19
83)に示されている。
(6)機械的強度
試料を90°、180°折曲げた時、180゜まで完全
に折曲げることのできたものを0190〜180°で割
れてしまったものを△、90°以下で割れてしまったも
のを×とした。
に折曲げることのできたものを0190〜180°で割
れてしまったものを△、90°以下で割れてしまったも
のを×とした。
(7)耐湿性
試料を60℃24時間真空乾燥機で乾燥後、重量W。を
測定し、常温24時間水中に浸漬後に増加した試料中の
水分量が、Woに対して0.3%未満のものを○、0.
3〜068%のものを△、0.8%以上のものを×とし
た。
測定し、常温24時間水中に浸漬後に増加した試料中の
水分量が、Woに対して0.3%未満のものを○、0.
3〜068%のものを△、0.8%以上のものを×とし
た。
[実施例]
次に本発明を実施例によってさらに詳細に説明する。
実施例1
ジカルボン酸として、テレフタル酸を用い、ジヒドロキ
シ化合物として、エチレングリコール50モル%及びビ
ス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)スルホン50モ
ル%からなる相対粘度20のポリエステルを、常法によ
り290℃に加熱し、Tダイから押出した。その溶融押
出フィルムは静電印加により、表面温度が90℃の鏡面
ドラム上に密着させ、その直後に付設の冷却ロールをシ
ートに接触させた。鏡面ドラム及び冷却ロールは0゜I
Sのものを用いた。製膜速度は30m/分で行ない、厚
み95μmのフィルムを得た。
シ化合物として、エチレングリコール50モル%及びビ
ス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)スルホン50モ
ル%からなる相対粘度20のポリエステルを、常法によ
り290℃に加熱し、Tダイから押出した。その溶融押
出フィルムは静電印加により、表面温度が90℃の鏡面
ドラム上に密着させ、その直後に付設の冷却ロールをシ
ートに接触させた。鏡面ドラム及び冷却ロールは0゜I
Sのものを用いた。製膜速度は30m/分で行ない、厚
み95μmのフィルムを得た。
比較例1
実施例1と同様のポリマーを用い、同様の方法で押出し
たのち、製膜速度は30m/分で、静電印加により、表
面温度が30℃、表面が0.ISの鏡面ドラム上に密着
させ、厚み95μmのフィルムを得たが、フィルム表面
にダイラインが残った。
たのち、製膜速度は30m/分で、静電印加により、表
面温度が30℃、表面が0.ISの鏡面ドラム上に密着
させ、厚み95μmのフィルムを得たが、フィルム表面
にダイラインが残った。
比較例2
実施例1と同様のポリマーを用い、常法により290℃
に加熱し、カラス口のTダイより押出した。その溶融押
出フィルムは、表面温度が30℃の3本の鏡面ロールで
カレンダリングを行なった。
に加熱し、カラス口のTダイより押出した。その溶融押
出フィルムは、表面温度が30℃の3本の鏡面ロールで
カレンダリングを行なった。
その際ロール間隙は560μm1線圧120kg/ c
mに設定し、フィルムの製膜速度10m/分で行ない
、厚み600μmのフィルムを得た。鏡面ロールは、o
、isのものを用いた。
mに設定し、フィルムの製膜速度10m/分で行ない
、厚み600μmのフィルムを得た。鏡面ロールは、o
、isのものを用いた。
実施例2
ジカルボン酸として、テレフタル酸70モル%及びジフ
ェニル〜2,2′ −ジカルボン酸30モル%を用い、
ジヒドロキシ化合物として、エチレングリコール50モ
ル%及びビス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)スル
ホン50モル%からなる相対粘度20のポリエステルを
、常法により290°Cに加熱したのち、Tダイから押
出し、実施例1と同様の方法で厚み95μmのフィルム
を得た。
ェニル〜2,2′ −ジカルボン酸30モル%を用い、
ジヒドロキシ化合物として、エチレングリコール50モ
ル%及びビス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)スル
ホン50モル%からなる相対粘度20のポリエステルを
、常法により290°Cに加熱したのち、Tダイから押
出し、実施例1と同様の方法で厚み95μmのフィルム
を得た。
実施例3
ジカルボン酸として、テレフタル酸を用い、ジヒドロキ
シ化合物として、エチレングリコール70モル%及びビ
ス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)スルホン30モ
ル%からなる相対粘度20のポリエステルを、常法によ
り290℃に加熱し、カラス口のTダイから押出した。
シ化合物として、エチレングリコール70モル%及びビ
ス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)スルホン30モ
ル%からなる相対粘度20のポリエステルを、常法によ
り290℃に加熱し、カラス口のTダイから押出した。
その溶融押出フィルムは、表面温度が60℃の2本の鏡
面ロール間でポリッシングを行なった。その際ロール間
隙は90am、線圧30 k g / c mに設定し
、フィルムの製膜速度25m/分で行ない1、厚み95
μmのフィルムを得た。鏡面ロールは、0.ISのもの
を用いた。
面ロール間でポリッシングを行なった。その際ロール間
隙は90am、線圧30 k g / c mに設定し
、フィルムの製膜速度25m/分で行ない1、厚み95
μmのフィルムを得た。鏡面ロールは、0.ISのもの
を用いた。
比較例3
ジカルボン酸として、テレフタル酸を用い、ジヒドロキ
シ化合物として、エチレングリコール95モル%及びビ
ス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)スルホン5モル
%からなる相対粘度20のポリエステルを、常法により
290’Cに加熱し、実施例1と同様の方法で厚み95
μmのフィルムを得た。
シ化合物として、エチレングリコール95モル%及びビ
ス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)スルホン5モル
%からなる相対粘度20のポリエステルを、常法により
290’Cに加熱し、実施例1と同様の方法で厚み95
μmのフィルムを得た。
比較例4
PMMA (三菱レーヨン社製、アクリライト)を用い
、常法により260℃に加熱し、比較例2と同様の方法
でカレンダリングを行ない、厚み600μmのフィルム
を得た。
、常法により260℃に加熱し、比較例2と同様の方法
でカレンダリングを行ない、厚み600μmのフィルム
を得た。
比較例5
ポリカーボネート(三菱瓦斯化学社製 ニーピロン H
−4000)を用い、常法により315℃に加熱し、比
較例2と同様の方法でカレンダリングを行ない、厚み6
00μmのフィルムを得た。
−4000)を用い、常法により315℃に加熱し、比
較例2と同様の方法でカレンダリングを行ない、厚み6
00μmのフィルムを得た。
実施例1.2、比較例1〜5について表に示す。
[発明の効果]
本発明のポリエステルフィルムは、光学用フィルムとし
て利用する時、その製造、保存、あるいは使用時に加わ
る熱、溶剤、外力、さらには湿気、光線といった外的環
境に対して安定であり、光記録媒体としては、信頼性が
高く、他の光学用途においても歪のない良好なフィルム
が得られる。
て利用する時、その製造、保存、あるいは使用時に加わ
る熱、溶剤、外力、さらには湿気、光線といった外的環
境に対して安定であり、光記録媒体としては、信頼性が
高く、他の光学用途においても歪のない良好なフィルム
が得られる。
Claims (2)
- (1)ビス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)スルホ
ン及び/又はその誘導体が10モル%以上含まれるジヒ
ドロキシ化合物及び/又はそのエステル形成誘導体と、
ジカルボン酸及び/又はそのエステル形成誘導体とを反
応せしめて導かれたポリエステルよりなるフィルムであ
り、複屈折が2.5×10^−^4以下であり、表面の
最大粗さRtが100nm以下であることを特徴とする
ポリエステルフィルム。 - (2)中心線平均粗さRaが10nm以下であり、表面
の最大粗さRtと中心線平均粗さRaとの比Rt/Ra
が9以下であり、ピークの平均間隔Smが20μm以上
であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のポ
リエステルフィルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13212390A JPH0427522A (ja) | 1990-05-22 | 1990-05-22 | ポリエステルフイルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13212390A JPH0427522A (ja) | 1990-05-22 | 1990-05-22 | ポリエステルフイルム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0427522A true JPH0427522A (ja) | 1992-01-30 |
Family
ID=15073949
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13212390A Pending JPH0427522A (ja) | 1990-05-22 | 1990-05-22 | ポリエステルフイルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0427522A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002066234A2 (en) * | 2001-02-16 | 2002-08-29 | General Electric Company | Apparatus for producing low birefringence plastic film and sheet |
US8735484B1 (en) | 2012-11-21 | 2014-05-27 | Industrial Technology Research Institute | Amorphous copolyester, substrate, and optical film |
-
1990
- 1990-05-22 JP JP13212390A patent/JPH0427522A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002066234A2 (en) * | 2001-02-16 | 2002-08-29 | General Electric Company | Apparatus for producing low birefringence plastic film and sheet |
WO2002066234A3 (en) * | 2001-02-16 | 2003-01-30 | Gen Electric | Apparatus for producing low birefringence plastic film and sheet |
US8735484B1 (en) | 2012-11-21 | 2014-05-27 | Industrial Technology Research Institute | Amorphous copolyester, substrate, and optical film |
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