JP2005136244A - 露光方法 - Google Patents
露光方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005136244A JP2005136244A JP2003371465A JP2003371465A JP2005136244A JP 2005136244 A JP2005136244 A JP 2005136244A JP 2003371465 A JP2003371465 A JP 2003371465A JP 2003371465 A JP2003371465 A JP 2003371465A JP 2005136244 A JP2005136244 A JP 2005136244A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- upper layer
- light
- refractive index
- layer film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/091—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by antireflection means or light filtering or absorbing means, e.g. anti-halation, contrast enhancement
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/094—Multilayer resist systems, e.g. planarising layers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2008—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the reflectors, diffusers, light or heat filtering means or anti-reflective means used
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/7095—Materials, e.g. materials for housing, stage or other support having particular properties, e.g. weight, strength, conductivity, thermal expansion coefficient
- G03F7/70958—Optical materials or coatings, e.g. with particular transmittance, reflectance or anti-reflection properties
Abstract
【解決手段】 被加工基体上にレジスト膜を形成する工程と、レジスト膜上に上層膜を形成する工程と、上層膜を通してレジスト膜に露光光を照射する工程とを有し、上層膜を形成する際に、レジスト膜に入射される露光光のs偏光のp偏光に対する比率が大きくなるように上層膜の屈折率及び膜厚を調整する。
【選択図】 図1
Description
(数6)
δ=4πd62n62/λ(数式6)
ここで、d62は上層膜62の膜厚、λは露光波長である。これにより、次の数式7が得られる。
(数7)
d62=λ/4n62(数式7)
こうして得られた数式5及び数式7から上層膜の屈折率と膜厚を調整する。
B. Smith, et al. SPIE Vol.4691 (2002) p. 11-24
本発明の実施の形態1に係る露光方法は、図1に示すように、被加工基体であるSi基板11上に反射防止膜12を形成し、反射防止膜12上にレジスト膜13を形成し、レジスト膜13上に上層膜14を形成し、上層膜14を通してレジスト膜13に露光光を照射する。ただし、上層膜14を形成する際に、レジスト膜13に入射される露光光のs偏光のp偏光に対する比率が大きくなるように上層膜14の屈折率及び膜厚を調整する。このように、解像性に優れるs偏光の比率を大きくすることで、レジスト膜13中での光学像の解像性を向上させることができる。以下、上層膜の屈折率及び膜厚を調整する方法について具体的に説明する。前提として、図1に示すように、レジスト膜13上に設けられた上層膜14に、入射光を空気15中から斜め入射させる場合を考える。
(数14)
θ15=arc−sinNA (数式14)
上記の実施の形態1において上層膜の適正屈折率として1.27が得られた。しかし、これはかなり小さい値であり、現在用いられている上層膜の屈折率は1.45である。ただし、正確には吸収が若干あり、複素屈折率にして1.45−0.084iである。そこで、実施の形態2に係る露光方法では、適正屈折率より大きい屈折率の上層材を用いた場合の調整を行う。
12 反射防止膜
13 レジスト膜
14 上層膜
15 空気
Claims (3)
- 被加工基体上にレジスト膜を形成する工程と、
前記レジスト膜上に上層膜を形成する工程と、
前記上層膜を通して前記レジスト膜に露光光を照射する工程とを有し、
前記上層膜を形成する際に、前記レジスト膜に入射される前記露光光のs偏光のp偏光に対する比率が大きくなるように前記上層膜の屈折率及び膜厚を調整することを特徴とする露光方法。 - 入射光が前記上層膜へ斜め入射する場合に、前記入射光の前記上層膜への入射角度を露光機のレンズ開口数NAを用いてarc-sinNAとし、前記入射光の波長をλとし、前記上層膜の屈折率をnとし、前記上層膜中の前記入射光の入射角度をθとし、前記上層膜の膜厚をλ/4ncosθとして、前記入射光が前記上層膜表面で反射する反射光のエネルギーのp偏光分及びs偏光分について、それぞれ前記上層膜の屈折率との関係を計算する工程と、
この計算結果から、前記反射光のエネルギーのs偏光分のp偏光分に対する比率が小さくなるような前記上層膜の適正屈折率を求める工程と、
この求めた適正屈折率と前記λ/4ncosθの式から、前記上層膜の適正膜厚を求める工程とを有し、
前記上層膜を形成する際に、前記上層膜の屈折率及び膜厚をそれぞれ前記適正屈折率及び前記適正膜厚にすることを特徴とする請求項1記載の露光方法。 - 前記上層膜の適正屈折率及び適正膜厚を基準にして、前記入射光の前記上層膜への入射角度を変数とし、前記レジスト膜の膜厚をパラメーターとして、前記レジスト膜中へ取り込まれる前記入射光のエネルギーのs偏光分の比率を計算する工程と、
この計算結果から、前記露光機のレンズ開口数NAに応じて、前記s偏光分の比率が大きくなるような前記レジスト膜の適正膜厚を求める工程とを有し、
前記レジスト膜を形成する際に、前記レジスト膜の膜厚を前記適正膜厚にすることを特徴とする請求項2記載の露光方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003371465A JP2005136244A (ja) | 2003-10-31 | 2003-10-31 | 露光方法 |
TW093129564A TW200527146A (en) | 2003-10-31 | 2004-09-30 | Exposure method |
US10/973,424 US20050095539A1 (en) | 2003-10-31 | 2004-10-27 | Exposure method |
KR1020040086944A KR20050041931A (ko) | 2003-10-31 | 2004-10-29 | 노광 방법 |
DE102004052650A DE102004052650A1 (de) | 2003-10-31 | 2004-10-29 | Belichtungsverfahren |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003371465A JP2005136244A (ja) | 2003-10-31 | 2003-10-31 | 露光方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005136244A true JP2005136244A (ja) | 2005-05-26 |
Family
ID=34543953
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003371465A Ceased JP2005136244A (ja) | 2003-10-31 | 2003-10-31 | 露光方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20050095539A1 (ja) |
JP (1) | JP2005136244A (ja) |
KR (1) | KR20050041931A (ja) |
DE (1) | DE102004052650A1 (ja) |
TW (1) | TW200527146A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007049026A (ja) * | 2005-08-11 | 2007-02-22 | Renesas Technology Corp | 微細パターンの形成方法およびその形成材料 |
JP2007103899A (ja) * | 2005-09-06 | 2007-04-19 | Sony Corp | 反射防止膜及び露光方法 |
JP2007220844A (ja) * | 2006-02-16 | 2007-08-30 | Sony Corp | 反射防止膜及び露光方法 |
JP2007220845A (ja) * | 2006-02-16 | 2007-08-30 | Sony Corp | 反射防止膜及び露光方法 |
JP2007220848A (ja) * | 2006-02-16 | 2007-08-30 | Sony Corp | 反射防止膜及び露光方法 |
JP2007220846A (ja) * | 2006-02-16 | 2007-08-30 | Sony Corp | 反射防止膜及び露光方法 |
JP2007220847A (ja) * | 2006-02-16 | 2007-08-30 | Sony Corp | 反射防止膜及び露光方法 |
KR100929734B1 (ko) * | 2007-12-24 | 2009-12-03 | 주식회사 동부하이텍 | 반도체 소자의 제조 방법 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004342728A (ja) * | 2003-05-14 | 2004-12-02 | Canon Inc | 投影光学系 |
JP2009192811A (ja) * | 2008-02-14 | 2009-08-27 | Toshiba Corp | リソグラフィーシミュレーション方法およびプログラム |
Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0653120A (ja) * | 1992-07-27 | 1994-02-25 | Nikon Corp | 照明光学装置 |
JPH06215997A (ja) * | 1993-01-14 | 1994-08-05 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
JPH07183201A (ja) * | 1993-12-21 | 1995-07-21 | Nec Corp | 露光装置および露光方法 |
JPH07201723A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-08-04 | Toshiba Corp | 露光方法及び露光装置 |
JPH07211617A (ja) * | 1994-01-25 | 1995-08-11 | Hitachi Ltd | パターン形成方法,マスク、及び投影露光装置 |
JPH08316125A (ja) * | 1995-05-19 | 1996-11-29 | Hitachi Ltd | 投影露光方法及び露光装置 |
JPH10319209A (ja) * | 1997-05-19 | 1998-12-04 | Nikon Corp | 反射防止膜及びその製造方法及び光学素子及び光学システム |
JP2000089471A (ja) * | 1998-09-14 | 2000-03-31 | Sharp Corp | レジストパターンの形成方法 |
WO2000058761A1 (fr) * | 1999-03-29 | 2000-10-05 | Nikon Corporation | Film multicouche antireflechissant, composant optique, et systeme reduisant l'exposition a des projections |
JP2000357654A (ja) * | 1998-10-13 | 2000-12-26 | Nikon Corp | 反射防止膜、光学素子、露光装置、及び電子物品 |
JP2002250801A (ja) * | 2000-12-15 | 2002-09-06 | Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag | 大きな入射角度における紫外線反射防止コーティング |
JP2004207709A (ja) * | 2002-12-10 | 2004-07-22 | Canon Inc | 露光方法及び装置 |
JP2004302113A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Nikon Corp | 反射防止膜、光学部材、光学系及び投影露光装置、並びに反射防止膜の製造方法 |
JP2004342728A (ja) * | 2003-05-14 | 2004-12-02 | Canon Inc | 投影光学系 |
WO2005006417A1 (ja) * | 2003-07-09 | 2005-01-20 | Nikon Corporation | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2005024890A (ja) * | 2003-07-02 | 2005-01-27 | Renesas Technology Corp | 偏光子、投影レンズ系、露光装置及び露光方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3234084B2 (ja) * | 1993-03-03 | 2001-12-04 | 株式会社東芝 | 微細パターン形成方法 |
KR0173168B1 (ko) * | 1994-02-24 | 1999-03-20 | 가네꼬 히사시 | 웨이퍼상의 레지스트막을 노광하기 위한 노광계와 그에 사용되는 조명계 및 방법 |
US5910453A (en) * | 1996-01-16 | 1999-06-08 | Advanced Micro Devices, Inc. | Deep UV anti-reflection coating etch |
JP3985346B2 (ja) * | 1998-06-12 | 2007-10-03 | 株式会社ニコン | 投影露光装置、投影露光装置の調整方法、及び投影露光方法 |
US20040165271A1 (en) * | 2003-02-21 | 2004-08-26 | Krautschik Christof Gabriel | Enhancing light coupling efficiency for ultra high numerical aperture lithography through first order transmission optimization |
-
2003
- 2003-10-31 JP JP2003371465A patent/JP2005136244A/ja not_active Ceased
-
2004
- 2004-09-30 TW TW093129564A patent/TW200527146A/zh unknown
- 2004-10-27 US US10/973,424 patent/US20050095539A1/en not_active Abandoned
- 2004-10-29 DE DE102004052650A patent/DE102004052650A1/de not_active Withdrawn
- 2004-10-29 KR KR1020040086944A patent/KR20050041931A/ko not_active Application Discontinuation
Patent Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0653120A (ja) * | 1992-07-27 | 1994-02-25 | Nikon Corp | 照明光学装置 |
JPH06215997A (ja) * | 1993-01-14 | 1994-08-05 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
JPH07183201A (ja) * | 1993-12-21 | 1995-07-21 | Nec Corp | 露光装置および露光方法 |
JPH07201723A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-08-04 | Toshiba Corp | 露光方法及び露光装置 |
JPH07211617A (ja) * | 1994-01-25 | 1995-08-11 | Hitachi Ltd | パターン形成方法,マスク、及び投影露光装置 |
JPH08316125A (ja) * | 1995-05-19 | 1996-11-29 | Hitachi Ltd | 投影露光方法及び露光装置 |
JPH10319209A (ja) * | 1997-05-19 | 1998-12-04 | Nikon Corp | 反射防止膜及びその製造方法及び光学素子及び光学システム |
JP2000089471A (ja) * | 1998-09-14 | 2000-03-31 | Sharp Corp | レジストパターンの形成方法 |
JP2000357654A (ja) * | 1998-10-13 | 2000-12-26 | Nikon Corp | 反射防止膜、光学素子、露光装置、及び電子物品 |
WO2000058761A1 (fr) * | 1999-03-29 | 2000-10-05 | Nikon Corporation | Film multicouche antireflechissant, composant optique, et systeme reduisant l'exposition a des projections |
JP2002250801A (ja) * | 2000-12-15 | 2002-09-06 | Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag | 大きな入射角度における紫外線反射防止コーティング |
JP2004207709A (ja) * | 2002-12-10 | 2004-07-22 | Canon Inc | 露光方法及び装置 |
JP2004302113A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Nikon Corp | 反射防止膜、光学部材、光学系及び投影露光装置、並びに反射防止膜の製造方法 |
JP2004342728A (ja) * | 2003-05-14 | 2004-12-02 | Canon Inc | 投影光学系 |
JP2005024890A (ja) * | 2003-07-02 | 2005-01-27 | Renesas Technology Corp | 偏光子、投影レンズ系、露光装置及び露光方法 |
WO2005006417A1 (ja) * | 2003-07-09 | 2005-01-20 | Nikon Corporation | 露光装置及びデバイス製造方法 |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007049026A (ja) * | 2005-08-11 | 2007-02-22 | Renesas Technology Corp | 微細パターンの形成方法およびその形成材料 |
JP2007103899A (ja) * | 2005-09-06 | 2007-04-19 | Sony Corp | 反射防止膜及び露光方法 |
JP2007220847A (ja) * | 2006-02-16 | 2007-08-30 | Sony Corp | 反射防止膜及び露光方法 |
JP2007220845A (ja) * | 2006-02-16 | 2007-08-30 | Sony Corp | 反射防止膜及び露光方法 |
JP2007220848A (ja) * | 2006-02-16 | 2007-08-30 | Sony Corp | 反射防止膜及び露光方法 |
JP2007220846A (ja) * | 2006-02-16 | 2007-08-30 | Sony Corp | 反射防止膜及び露光方法 |
JP2007220844A (ja) * | 2006-02-16 | 2007-08-30 | Sony Corp | 反射防止膜及び露光方法 |
JP4715544B2 (ja) * | 2006-02-16 | 2011-07-06 | ソニー株式会社 | 反射防止膜及び露光方法 |
JP4715541B2 (ja) * | 2006-02-16 | 2011-07-06 | ソニー株式会社 | 反射防止膜及び露光方法 |
JP4715542B2 (ja) * | 2006-02-16 | 2011-07-06 | ソニー株式会社 | 反射防止膜及び露光方法 |
JP4715540B2 (ja) * | 2006-02-16 | 2011-07-06 | ソニー株式会社 | 反射防止膜及び露光方法 |
JP4715543B2 (ja) * | 2006-02-16 | 2011-07-06 | ソニー株式会社 | 反射防止膜及び露光方法 |
KR100929734B1 (ko) * | 2007-12-24 | 2009-12-03 | 주식회사 동부하이텍 | 반도체 소자의 제조 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102004052650A1 (de) | 2005-06-09 |
TW200527146A (en) | 2005-08-16 |
KR20050041931A (ko) | 2005-05-04 |
US20050095539A1 (en) | 2005-05-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI276924B (en) | Exposure apparatus and method | |
US8605257B2 (en) | Projection system with compensation of intensity variations and compensation element therefor | |
KR100549776B1 (ko) | 공간필터링을 통한 이미지향상의 장치 및 방법 | |
KR0171947B1 (ko) | 반도체소자 제조를 위한 노광 방법 및 그를 이용한 노광장치 | |
JP4832477B2 (ja) | リソグラフィ投影装置及び偏光器デバイス | |
US7511886B2 (en) | Optical beam transformation system and illumination system comprising an optical beam transformation system | |
US7206059B2 (en) | Stationary and dynamic radial transverse electric polarizer for high numerical aperture systems | |
US6970233B2 (en) | System and method for custom-polarized photolithography illumination | |
JP2005136244A (ja) | 露光方法 | |
US20110304926A1 (en) | Catadioptric projection objective with tilted deflecting mirrors, projection exposure apparatus, projection exposure method, and mirror | |
JP2005311187A (ja) | 照明光学系、露光装置、及びデバイス製造方法 | |
KR100597039B1 (ko) | 높은 개구수 시스템을 위한 정적 및 동적 방사상 횡단 전자 편광기 디바이스, 리소그래피 투영장치 및 그 제조방법 | |
JP4455020B2 (ja) | 露光方法 | |
US7999916B2 (en) | Microlithographic projection exposure apparatus | |
JP3872015B2 (ja) | 位相シフトアパーチャを用いる投射リソグラフィー | |
US20080186466A1 (en) | Element for defocusing tm mode for lithography | |
JP2007049026A (ja) | 微細パターンの形成方法およびその形成材料 | |
JP4936499B2 (ja) | 露光装置および露光方法 | |
JP2007156485A (ja) | 光学系、特に、マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明装置又は投影対物レンズ | |
EP1574904B1 (en) | Lithographic apparatus with a radial polarizer | |
Smith et al. | Spatial frequency filtering in the pellicle plane | |
JPH07319147A (ja) | 反射型露光用マスクとパターン形成方法 | |
JP2010232557A (ja) | 露光装置およびデバイス製造方法 | |
Nakao et al. | Approximation of in-resist image by aerial image with 1/n-times shorter wavelength | |
Smith et al. | Applications of TM polarized illumination |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20050331 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061002 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20090319 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090324 |
|
AA92 | Notification of invalidation |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971092 Effective date: 20090407 |