JP2005126757A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005126757A5 JP2005126757A5 JP2003362626A JP2003362626A JP2005126757A5 JP 2005126757 A5 JP2005126757 A5 JP 2005126757A5 JP 2003362626 A JP2003362626 A JP 2003362626A JP 2003362626 A JP2003362626 A JP 2003362626A JP 2005126757 A5 JP2005126757 A5 JP 2005126757A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- compound thin
- film forming
- vib
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Description
VIｂ族元素は、Ｏ、Ｓｅ、Ｓ、およびＴｅの内の少なくとも１種とすることができる。
製膜室および真空室と、前記製膜室内に配置され相異なる材料を保持する複数の蒸着源と、前記製膜室外に配置されかつフレキシブル性を有する基板を移動させる一対のローラとを有する化合物薄膜の製造装置であって、前記真空室には、前記複数の蒸着源に保持される材料とは更に異なる材料を保持する蒸着源を有し、前記真空室と接続された配管は複数に分岐され製膜室内に吹き出し管として配置され、前記製膜室内には前記基板を加熱するヒータが配置された構成としてもよい。
本発明の化合物薄膜の製造方法は、真空排気可能な製膜室内に設置した基板の製膜面にVIｂ族元素を含んだ化合物薄膜を蒸着形成する化合物薄膜の製造方法において、VIｂ族元素の一部を前記製膜室に弁手段を介して連通した真空室内のVIｂ族元素蒸着源から供給しつつ前記化合物薄膜の製膜を行う工程と、前記弁手段を閉じ、前記真空室内のVIｂ族元素蒸着源を補給する工程とを行うようにしたものである。
製膜室および真空室と、前記製膜室内に配置され相異なる材料を保持する複数の蒸着源と、前記製膜室外に配置されかつフレキシブル性を有する基板を移動させる一対のローラとを有する化合物薄膜の製造装置であって、前記真空室には、前記複数の蒸着源に保持される材料とは更に異なる材料を保持する蒸着源を有し、前記真空室と接続された配管は複数に分岐され製膜室内に吹き出し管として配置され、前記製膜室内には前記基板を加熱するヒータが配置された構成としてもよい。
本発明の化合物薄膜の製造方法は、真空排気可能な製膜室内に設置した基板の製膜面にVIｂ族元素を含んだ化合物薄膜を蒸着形成する化合物薄膜の製造方法において、VIｂ族元素の一部を前記製膜室に弁手段を介して連通した真空室内のVIｂ族元素蒸着源から供給しつつ前記化合物薄膜の製膜を行う工程と、前記弁手段を閉じ、前記真空室内のVIｂ族元素蒸着源を補給する工程とを行うようにしたものである。
９，１０，１１はそれぞれ、真空容器１内、基板７の展張位置の下方に基板７の走行方向に沿って配列されたＣｕ蒸着源，Ｉｎ蒸着源，Ｇａ蒸着源であり、８は真空容器１内、基板７の展張位置の上方に基板７の走行方向に沿って配置された基板加熱ヒータである。１２はＳｅ蒸着源であり、第１配管系１３，第２配管系１４を通じて真空容器１内に連通した第２の真空容器１５内に配置されている。
Claims (9)
- 真空排気可能な製膜室内に設置した基板の製膜面にVIｂ族元素を含んだ化合物薄膜を蒸着形成する化合物薄膜の製造装置であって、前記製膜室に対して弁手段を介して連通する真空室を設け、この真空室内にVIｂ族元素の蒸着源の一部を設置した化合物薄膜の製造装置。
- 製膜室と真空室とを弁手段を介装した配管で連通させ、この配管の内壁を管内のVIｂ族元素が蒸気状態に維持される温度に加熱する加熱機構を設けた請求項１記載の化合物薄膜の製造装置。
- 一端が弁手段に連通し、他端が基板の製膜面の近傍で開口するVIｂ族元素吹き出し管を設けた請求項１または請求項２のいずれかに記載の化合物薄膜の製造装置。
- 複数のVIｂ族元素吹き出し管を設けた請求項３記載の化合物薄膜の製造装置。
- VIｂ族元素吹き出し管の開口部と基板の製膜面との距離が５０ｍｍ以内である請求項３または請求項４のいずれかに記載の化合物薄膜の製造装置。
- VIｂ族元素吹き出し管の開口部と基板の製膜面との距離が３０ｍｍ以内である請求項３または請求項４のいずれかに記載の化合物薄膜の製造装置。
- VIｂ族元素がＯ、Ｓｅ、Ｓ、およびＴｅの内の少なくとも１種である請求項１〜請求項６のいずれかに記載の化合物薄膜の製造装置。
- 真空排気可能な製膜室内に設置した基板の製膜面にVIｂ族元素を含んだ化合物薄膜を蒸着形成する化合物薄膜の製造方法において、VIｂ族元素の一部を前記製膜室に弁手段を介して連通した真空室内のVIｂ族元素蒸着源から供給しつつ前記化合物薄膜を製膜する工程と、前記弁手段を閉じ、前記真空室内のVIｂ族元素蒸着源を補給する工程とを行う化合物薄膜の製造方法。
- 製膜室および真空室と、前記製膜室内に配置され相異なる材料を保持する複数の蒸着源と、前記製膜室外に配置されかつフレキシブル性を有する基板を移動させる一対のローラとを有する化合物薄膜の製造装置であって、前記真空室には、前記複数の蒸着源に保持される材料とは更に異なる材料を保持する蒸着源を有し、前記真空室と接続された配管は複数に分岐され製膜室内に吹き出し管として配置され、前記製膜室内には前記基板を加熱するヒータが配置されていることを特徴とする化合物薄膜の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003362626A JP2005126757A (ja) | 2003-10-23 | 2003-10-23 | 化合物薄膜の製造装置および方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003362626A JP2005126757A (ja) | 2003-10-23 | 2003-10-23 | 化合物薄膜の製造装置および方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005126757A JP2005126757A (ja) | 2005-05-19 |
| JP2005126757A5 true JP2005126757A5 (ja) | 2006-11-02 |
Family
ID=34642192
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003362626A Pending JP2005126757A (ja) | 2003-10-23 | 2003-10-23 | 化合物薄膜の製造装置および方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2005126757A (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5527933B2 (ja) * | 2007-11-30 | 2014-06-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜装置の制御方法、成膜方法、成膜装置、有機ｅｌ電子デバイスおよびその制御プログラムを格納した記憶媒体 |
| JP2011060866A (ja) * | 2009-09-07 | 2011-03-24 | Optorun Co Ltd | 多元素同時レートモニターシステム、多元素同時レートモニター方法、成膜装置及び成膜方法 |
| JP5543159B2 (ja) * | 2009-09-07 | 2014-07-09 | 株式会社オプトラン | リニア蒸着源とその使用方法、成膜装置並びに成膜方法 |
| DE102009047483A1 (de) * | 2009-12-04 | 2011-06-09 | Sulfurcell Solartechnik Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von Chalkopyrit-Absorberschichten in Solarzellen |
| JP2011176148A (ja) * | 2010-02-24 | 2011-09-08 | Nitto Denko Corp | 太陽電池モジュールの製造方法およびそれを用いて得られた太陽電池モジュール |
| TW201322472A (zh) * | 2011-11-21 | 2013-06-01 | Axuntek Solar Energy | 快速加熱處理系統及其硫化方法 |
| JP2014015662A (ja) * | 2012-07-09 | 2014-01-30 | Nitto Denko Corp | 化合物太陽電池の製法 |
| CN103966551B (zh) * | 2013-01-27 | 2016-11-23 | 常州国成新材料科技有限公司 | 一种解决高温下衬底原子蒸发影响平整度的方法及装置 |
-
2003
- 2003-10-23 JP JP2003362626A patent/JP2005126757A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2009540122A5 (ja) | ||
| TW200837206A (en) | Vapor deposition apparatus, device for controlling vapor deposition apparatus, method for controlling vapor deposition apparatus, and method for operating vapor deposition apparatus | |
| TWI652363B (zh) | 沉積配置、沉積設備及其操作方法 | |
| JP4966028B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
| WO2008038821A1 (fr) | appareil de déposition, appareil de commande d'appareil de déposition, procédé de commande d'appareil de déposition, appareil de déposition utilisant ce procédé et procédé de fabrication de sortie | |
| TW200914634A (en) | Method and arrangement for providing chalcogens | |
| WO2010132660A2 (en) | Web substrate deposition system | |
| JP2005126757A5 (ja) | ||
| JP2007119917A (ja) | 基材への蒸着のための装置 | |
| JP2012510568A (ja) | トップダウン式の材料堆積用システム及び方法 | |
| JP3962349B2 (ja) | 気相有機物の蒸着方法とこれを利用した気相有機物の蒸着装置 | |
| KR100767296B1 (ko) | 화학기상증착장치의 소스파우더 공급장치 | |
| WO2007029558A1 (ja) | 成膜用材料及び成膜用材料の推定方法 | |
| KR102671537B1 (ko) | 진공 디포지션 설비 및 기재를 코팅하는 방법 | |
| JP5328134B2 (ja) | 蒸着装置及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 | |
| JP2006523778A5 (ja) | ||
| JP5616029B2 (ja) | 調整弁装置 | |
| JPH02118064A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| KR20120027484A (ko) | 저마늄-안티모니-텔루륨 막의 성막 방법 및 기억 매체 | |
| KR100958778B1 (ko) | 유기 박막 증착 공정용 증발원 연속 공급장치 | |
| CN103993268B (zh) | 一种坩埚 | |
| TW201100568A (en) | Organic compound vapor generator and organic thin film forming apparatus | |
| JP2004111386A5 (ja) | 製造装置および有機化合物を含む層の作製方法 | |
| JP2005126757A (ja) | 化合物薄膜の製造装置および方法 | |
| JP5127372B2 (ja) | 蒸着装置 |