JP2007119917A - 基材への蒸着のための装置 - Google Patents

基材への蒸着のための装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2007119917A
JP2007119917A JP2006283846A JP2006283846A JP2007119917A JP 2007119917 A JP2007119917 A JP 2007119917A JP 2006283846 A JP2006283846 A JP 2006283846A JP 2006283846 A JP2006283846 A JP 2006283846A JP 2007119917 A JP2007119917 A JP 2007119917A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cover
oil
sealing device
holes
openings
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2006283846A
Other languages
English (en)
Inventor
Guenter Klemm
ギュンター クレム
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Applied Materials GmbH and Co KG
Original Assignee
Applied Materials GmbH and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Applied Materials GmbH and Co KG filed Critical Applied Materials GmbH and Co KG
Publication of JP2007119917A publication Critical patent/JP2007119917A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/243Crucibles for source material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Cookers (AREA)

Abstract

【課題】放出される油気の量を設定可能な、基材にオイルを蒸着するための装置を提供する。
【解決手段】この構成は、オイルパンと、線状に配置された孔を有するカバーとを有する。このカバーの上に密封装置が載っており、この密封装置も開口部を有する。この密封装置によって、カバーの孔を開閉可能であり、全ての孔を同時に処理することができる。密封装置によって、極めて短時間に、異なる気化速度を設定することができる。
【選択図】図1

Description

本発明は、請求項1の導入部による、基材への蒸着のための装置(arrangement)に関する。
合成フィルムは、気体に対する不透過性または導電性を付与するため、多くの場合、真空下で金属層が設けられる。導電性を全ての領域ではなく、特定の軌道のみに付与する場合、金属層を設けない領域に、油膜の細長い片(ストリップ)が設けられる。この膜により、金属が積層体に付着しなくなる。これらの油膜のストリップは、油用気化装置によって付着される。
真空中で被覆されるフィルム軌道の場合、金属フリー(金属以外の)ストリップを作製するための装置が、特にコンデンサのために知られている。この場合、オイルを満たした容器が設けられ、この容器は少なくとも1つの蒸気出口管を有する(特許文献1)。この蒸気出口管の吹出ノズルの終端は、被覆する基材のすぐ近くにある被覆チャンバ内のオイルの液面の下にある。
更に、絶縁材料のバンドへの金属蒸着において、金属以外のストリップを製造するための方法および装置が知られている(特許文献2)。この文献では、金属以外のストリップを形成する領域に被覆バンドが付され、この上に、油用気化装置によって一方の面にオイルが被覆される。油用気化装置の構造の詳細については提供されていない。
オイルマスキングの製造のための別の公知の装置に、円筒状のマスキングローラーを提供して、このローラーにマスキングオイルを入れる例がある(特許文献3)。マスキングローラーの周縁に、マスキングオイルの出口となる開口部がある。ローラーの上に貫通孔を有する薄い積層体が配置され、この貫通孔が開口部と重なっている。
線状に配置された数個のノズルを通過するように基材が案内される更に別の装置が、特許文献4号公報に開示されている。この文献に記載されている装置は、オイルを満たした箱形形状の装置を有し、この装置の下に加熱システムが配置されている。
独国特許出願公開第3922187号明細書 欧州特許出願公開第0756020号明細書 特開2001−279425号公報 特開2004−214185号公報
上記の装置は、放出される油気の量を調節する(dosing)機能を有していない。
このため、本発明は、放出される油気の量を設定可能な、基材にオイルを蒸着するための装置を提供するという課題を解決する。
この課題は、請求項1に記載の特徴によって解決される。
したがって、本発明は、基材への蒸着のための装置に関する。この装置は、気化用容器と、線状に配置された孔を有するカバーとを有する。このカバーの上に密封装置が載っており、この密封装置も開口部を有する。該密封装置によってカバーの孔を開閉可能であり、全ての孔を同時に処理することができる。密封装置によって、極めて短時間に、異なる気化速度を設定することができる。
本発明に記載の装置は、フィルムの全有効幅において、蒸気圧を極めて良好に均一に維持でき、かつオイルのストリップの精度を極めて良好に均一に維持できるという利点を有する。
この装置は、一列に配置された数個の孔を有し、この孔は密封装置によって開閉可能である。この密封装置も開口部を有しており、密封装置を作動させることによって、孔を開閉させることが可能である。
この密封装置は、全ての孔の開きを一定にできるように、全ての孔を同時に処理する。
これにより、熱的に不活性な気化の処理の場合に、極めて短時間に気化速度を設定することが可能になる。
本発明の1つの利点に、放出される蒸気の量が常に一定に維持されるように、密封装置を配置できることが挙げられる。このように蒸気量が一定に保たれることにより、基材の被覆も均一化される。そのため、この装置は、金属化合成フィルムに金属以外の領域のほか、パターン、ストリップを形成するのに特に適する。
本発明の更に別の利点は、蒸着工程の準備中および終了中に、密封装置によって蒸着空間を閉じることができるということにある。これにより、オイルの漏洩が発生しにくくなり、オイルによる環境汚染が最小限に低減される。このため、オイルが失われるのを大幅に低減することができる。密封装置は、開位置と閉位置をとる機能を有する。
放出される油気の量を調整する機能によって、端部の精度に関して金属以外の領域の品質を向上させ、残油量を増やすことが可能となるように、オイルの量を最適化することができる。例えば、正確な設定が行われ、放出されたオイルの量が測定器によって決定される。放出された油気の量が公称値と一致しない場合、装置に信号が送られ、これにより、油気の量が公称値に再度設定されるように、密封装置が作動される。
上昇する蒸気が、上の方向のみ、すなわち一方向に向かって装置から出るように、この装置が更に概念化されるが、これは、この装置が、他の側に蒸気を全く通さないためである。これにより、流れの交差が発生することはなくなり、装置の全ての領域において蒸気圧がほぼ等しくなる。このため、ノズルの下の空間に流れ抵抗が存在しなくなる。るつぼおよびスライドの形状の密封装置が浅い構造であるため、この装置は、既に公知の気化装置ユニットよりも大幅に小さな寸法とすることができる。
本発明の主題が、図面に示されると共に、下記に更に詳述される。
図1は、真空下で材料(例えば有機物質)を基材に蒸着させるための装置1の斜視図を示す。装置1上に、薄層状の基材38がB−Bに沿って案内される。基材が合成フィルムの場合、特開2001−279425号公報に記載されているように、装置1上を移動することができる。ストリップを鮮明に形成するために、基材38と装置1の間の距離は、多くの場合非常に短くされる。
装置1は、オイルパン2を有しており、ここに気化させるオイルが配される。このオイルパン2の上に絶縁層3が載り、この上に加熱プレート4が配置される。加熱プレート4の上にノズルバー5が配置され、ノズルバー5はその上端に間隙6を有する。間隙6の代わりに、個々のノズルを設けてもよい。線A−Aに沿って孔を有するスライド7が設けられ、このうち、図1には孔10のみを見ることができる。間隙6は、2つの領域24、25によって区切られている。
更に、装置1は、連結要素28から32を有しており、これらは、オイルパン2、絶縁層3、加熱プレート4のほか、その上に載っているノズルバー5を相互に連結している。
オイルパン2は少なくとも1つの加熱システムを有しており、これは図1では棒状の加熱器9として示されている。この加熱器9は、例えば抵抗加熱器であり、好ましくは交流電圧源を介して作動される。この棒(ロッド)状の加熱器9によって、オイルパン2内のオイルが気化される。
装置1の中心部での蒸気の凝結を防止するために、加熱プレート4は、少なくとも1つの別の棒(ロッド)状の加熱器8を有する。
図2は、基材38およびノズルバー5がない場合の、図1に示す装置1の斜視図を示す。この図においても、スライド7を見てとることができ、スライド7は加熱プレート4に配置されている。ここに示すように、このスライド7は長尺状のプレートの形状であってよい。加熱プレート4は、オイルパン2に載っている絶縁板3に接しており、絶縁板3、加熱プレート4およびオイルパン2は、連結要素28から37によって相互に接続されている。更に、棒状の加熱器9、8、27が見てとれる。
絶縁板3は、オイルパン2とプレート4の間で熱を絶縁する役目を果たす。別個の加熱器、すなわち棒状の加熱器8および加熱器9によって、プレート4とオイルパン2において温度設定を変えることができる。絶縁板3は、実質的に可撓性を有する合成材料からなり、これは同時にシーリング材としても機能する。
加熱プレート4は、その中央に線A−Aに沿った凹部を有し、この凹部にスライド7が嵌め込まれる。このスライド7は、一列に配置された数個の開口部10から14を有し、これらは実質的に等間隙に離間されている。スライド7は、A−Aに沿って(矢印を参照)移動可能である。スライド7は、加熱プレート4(図2に図示せず)にある孔と少なくとも同数の開口部10から14を有していなければならず、10から14の2つの開口部の中心間の距離は、加熱プレート4の2つの孔の中心間の距離に一致している。加熱プレート4の孔の直径は、スライド7の開口部10から14の直径に実質的に一致している。このため、スライド7の長さは、加熱プレート4の長さに、2つの開口部10〜14の中心間の距離を加えた値と一致する。これにより、開口部10から14の中心が、ある時には、孔の中心の上に正確にくるようになり、またある時には、孔の中心同士の間に位置するようになる。開口部10から14の中心が、孔の中心の上に正確にくる場合、蒸気が、オイルパン2の内部から脱出することができるが、孔の中心同士の間にくる場合、蒸気の脱出が防止されるようになる。この2つの端の位置の間に、脱出できる蒸気の量が少ない位置があることが理解される。設ける開口部10から14の数は、図2に示すものよりも数が多くても、またサイズが小さくてもよいことが理解される。
A−Aに沿って延在する加熱プレート4の両面に、蒸気がオイルパン2から逃げないように防ぐシーリング材15、16が設けられる。このシーリング材15、16は、好ましくはゴムタイプの弾性材料を含む。
図3は、図1の装置の、A−Aに沿った縦断面の一部分を表す。オイルパン2の内部空間18内に加熱ロッド9を見てとることができ、この加熱ロッドはオイルに完全に取り囲まれている。オイルパン2の上に絶縁板3が載り、その上に加熱プレート4が配置されている。この加熱プレート4は数個の孔19から22を有しており、ここから蒸気が、スライド7の開口部10から14を通って、内部空間26まで昇っていくことができる。
図3からわかるように、開口部10を含むスライド7の一部が、オイルパン2の外側にある。スライド7がこのように加熱プレート4に配置されているため、スライドの開口部12から14の一部の位置が、加熱プレート4の孔19から21の位置と一致している。その結果、上昇した蒸気が、装置1から出て、孔19から21と開口部12から14を通って、ノズルバー5の内部空間26に進入して、そこから間隙6に進入することができる。上述のとおり、蒸気が、装置1上を移動している基材38に到達する。
スライド7を装置1内に更に摺動させると、開口部10から12が、孔19から22上の一部にしかない状態を得ることができる。この場合、オイルパン2を出て進入する蒸気の量が少なくなるため、スライド7は、スロットルバルブのような機能を果たす。スライド7を装置1内に更に摺動させると、孔19から22の上に開口部がなくなり、蒸気がオイルパン2から脱出できなくなるため、被覆工程が完全に中断される。
図4は、時計回り方向に約90°回転させた後の、図3に示す装置1のB−Bにおける断面を示す。基材38は、装置1上を通過するように移動される。オイルパン2の内部18に加熱ロッド9が延在しており、加熱ロッド9はオイル17に完全に取り囲まれている。
オイルパン2の上には、絶縁板3のほかに加熱プレート4およびノズルバー5が載っている。これらの要素2から5は全て連結片29、34によって相互に連結されており、これらが互いに隣接している。蒸気が装置1の側面から脱出することができない。加熱プレート4を通って、2本の加熱ロッド8、27が延在している。ゴムタイプの弾性材料15、16のほかに、孔19と平行して延在するシーリング材23が見てとれる。そのため、この孔19は、ほかの孔20、21、22と同様に、シーリング材に完全に囲繞されている。
加熱プレート4の上に、開口部12を有するスライド7が載り、開口部12は孔19の真上に位置している。これにより、上昇した蒸気が、内部空間26に到達することができる。特にノズルの数が少ないノズルバーの場合に、均一なオイルのストリップを形成するために、顕著な流れ抵抗を生じさせずに、蒸気圧を均一にすることが可能でなければならない。このため、ノズルの下の内部空間26は、可能な限り広くする必要がある。ノズルバー5は、2つの領域24、25によって画定される間隙6を有する。蒸気は、間隙6を通って装置1を抜け出し、装置1を通過して移動している基材38に到達し、そこで最終的に凝縮する。
スライド7を摺動させることで、開口部12が孔19の上にないか、あるいは一部しかない状態とされる。
開口部12が孔19の上に一部しかない場合は、スロットル効果が得られるのに対し、開口部12が孔19の上にない場合は、蒸気が脱出できなくなる。このため、スライド7は、密封バルブとして機能する。
ひとたび被覆工程が完了し、装置1が冷却すると、連結片29、34を取り外して、装置を容易に分解し、クリーニングすることができる。
基材を配置を通過して案内させた状態で、基材にオイルを蒸着するための装置の斜視図である。 基材およびノズルバーがない状態の、図1の装置の斜視図である。 スライドが開位置のときの、図1の装置のA−Aにおける部分縦断面である。 スライドが開位置のときの、時計回りの方向に90°回転させた後の、図1の装置のB−Bにおける断面図である。

Claims (14)

  1. パン(2)と、前記パン(2)の上に設けられ、線状に配置された孔(19から22)を有するカバー(4)とを有する基材への蒸着のための装置であって、前記カバー(4)の上に、線状に配置された開口部(10から14)を有する密封装置(7)が設けられる装置。
  2. 前記密封装置(7)は、前記カバー(4)にある前記孔(19から22)の数と少なくとも同数の前記開口部(10から14)を有する請求項1に記載の装置。
  3. 前記密封装置(7)は一座標に沿って移動可能である請求項1に記載の装置。
  4. 前記密封装置(7)の長さは、前記カバー(4)の長さに実質的に一致する請求項1に記載の装置。
  5. 前記密封装置(7)の長さは、少なくとも前記カバー(4)の長さに、2つの前記孔(19から22)の中心間の距離に一致する長さを加えた値である請求項1に記載の装置。
  6. 前記密封装置(7)の隣接する2つの前記開口部(10から14)の中心間の距離は、前記カバー(4)の隣接する2つの前記孔(19から22)の中心間の距離にほぼ一致する請求項1に記載の装置。
  7. 前記密封装置(7)は、前記開口部(10から14)の中心が前記カバー(4)の前記孔(19から22)の中心の上に正確に位置する請求項1に記載の装置。
  8. 前記密封装置(7)は、前記開口部(10から14)の中心が前記カバー(4)の隣接する前記孔(19から22)の間の中心に正確に位置する請求項1に記載の装置。
  9. 前記パン(2)は、少なくとも1つの加熱器(9)を有する請求項1に記載の装置。
  10. 前記カバー(4)は、少なくとも1つの加熱器(8、27)を有する請求項1に記載の装置。
  11. 前記パン(2)と前記カバー(4)との間に絶縁板(3)が設けられる請求項1に記載の装置。
  12. 前記密封装置(7)の上のノズルバー(5)内に蒸気用の内部空間(26)が配される請求項1に記載の装置。
  13. 前記蒸気内部空間(26)の上の、前記ノズルバー(5)内に間隙(6)が配される請求項12に記載の装置。
  14. 前記加熱器(9、8、27)は棒状の加熱器である請求項9または10に記載の装置。
JP2006283846A 2005-10-26 2006-10-18 基材への蒸着のための装置 Withdrawn JP2007119917A (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP05023354A EP1788112B1 (de) 2005-10-26 2005-10-26 Vorrichtung zum Bedampfen von Substraten

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007119917A true JP2007119917A (ja) 2007-05-17

Family

ID=35276171

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006283846A Withdrawn JP2007119917A (ja) 2005-10-26 2006-10-18 基材への蒸着のための装置

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20070089676A1 (ja)
EP (1) EP1788112B1 (ja)
JP (1) JP2007119917A (ja)
KR (1) KR20070045120A (ja)
AT (1) ATE520799T1 (ja)
RU (1) RU2006135360A (ja)
TW (1) TW200716771A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20110195187A1 (en) * 2010-02-10 2011-08-11 Apple Inc. Direct liquid vaporization for oleophobic coatings
JP2012500900A (ja) * 2008-08-25 2012-01-12 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 可動シールドをもつコーティングチャンバ
US8715779B2 (en) 2011-06-24 2014-05-06 Apple Inc. Enhanced glass impact durability through application of thin films
JP2016160485A (ja) * 2015-03-02 2016-09-05 マシン・テクノロジー株式会社 パターニング材料付着装置および積層体形成装置

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2231895B1 (fr) * 2007-12-21 2017-10-18 Advanced Galvanisation AG Procede et dispositifs de controle d'un flux de vapeur en evaporation sous vide
JP2009224590A (ja) * 2008-03-17 2009-10-01 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置
US20100044213A1 (en) * 2008-08-25 2010-02-25 Applied Materials, Inc. Coating chamber with a moveable shield
KR20110110187A (ko) * 2008-12-18 2011-10-06 비코 인스트루먼트 아이엔씨. 열확산 오리피스를 갖는 진공 증착원
FR2956412B1 (fr) * 2010-02-16 2012-04-06 Astron Fiamm Safety Vanne d'obturation a volume constant d'une source de depot en phase vapeur
US8801858B2 (en) * 2010-12-23 2014-08-12 First Solar, Inc. Non-wear shutter apparatus for a vapor deposition apparatus
DE102011016814B4 (de) 2011-04-12 2017-03-23 MAX-PLANCK-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. Verdampferzellen-Verschlusseinrichtung für eine Beschichtungsanlage
TWI582251B (zh) * 2014-10-31 2017-05-11 財團法人工業技術研究院 蒸鍍系統以及蒸鍍方法
TWI737718B (zh) * 2016-04-25 2021-09-01 美商創新先進材料股份有限公司 含有瀉流源的沉積系統及相關方法
CN113718204A (zh) * 2021-08-31 2021-11-30 京东方科技集团股份有限公司 一种金属蒸发源设备

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3922187A1 (de) * 1989-07-06 1991-01-17 Leybold Ag Vorrichtung zum herstellen von metallfreien streifen bei im vakuum beschichteten folienbahnen, insbesondere fuer kondensatoren
DE4100643C1 (ja) * 1991-01-11 1991-10-31 Leybold Ag, 6450 Hanau, De
US6011904A (en) * 1997-06-10 2000-01-04 Board Of Regents, University Of Texas Molecular beam epitaxy effusion cell
DE19843818A1 (de) * 1998-09-24 2000-03-30 Leybold Systems Gmbh Bedampfungsvorrichtung für Vakuum-Bedampfungsanlagen
DE19848177A1 (de) * 1998-10-20 2000-04-27 Leybold Systems Gmbh Bedampfungsvorrichtung
JP4380319B2 (ja) * 2002-12-19 2009-12-09 ソニー株式会社 蒸着装置および有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
WO2004105095A2 (en) * 2003-05-16 2004-12-02 Svt Associates Inc. Thin-film deposition evaporator
DE10330401B3 (de) * 2003-07-04 2005-02-24 Applied Films Gmbh & Co. Kg Verfahren und Vorrichtung zum bereichsweisen Auftragen von Trennmitteln

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012500900A (ja) * 2008-08-25 2012-01-12 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 可動シールドをもつコーティングチャンバ
US20110195187A1 (en) * 2010-02-10 2011-08-11 Apple Inc. Direct liquid vaporization for oleophobic coatings
US8715779B2 (en) 2011-06-24 2014-05-06 Apple Inc. Enhanced glass impact durability through application of thin films
US9282653B2 (en) 2011-06-24 2016-03-08 Apple Inc. Enhanced glass impact durability through application of thin films
JP2016160485A (ja) * 2015-03-02 2016-09-05 マシン・テクノロジー株式会社 パターニング材料付着装置および積層体形成装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP1788112A1 (de) 2007-05-23
EP1788112B1 (de) 2011-08-17
KR20070045120A (ko) 2007-05-02
RU2006135360A (ru) 2008-04-20
TW200716771A (en) 2007-05-01
US20070089676A1 (en) 2007-04-26
ATE520799T1 (de) 2011-09-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2007119917A (ja) 基材への蒸着のための装置
RU2538891C2 (ru) Испаритель для органических материалов и способ испарения органических материалов
KR101450339B1 (ko) 증발원 및 이것을 이용한 진공 증착 장치
JP4475967B2 (ja) 真空蒸着機
KR101094299B1 (ko) 선형 증발원 및 이를 포함하는 증착 장치
EP1803836A1 (en) Evaporation source and method of depositing thin film using the same
KR101128745B1 (ko) 증기 방출 장치, 유기 박막 증착 장치 및 유기 박막 증착 방법
JP4966028B2 (ja) 真空蒸着装置
KR101976674B1 (ko) 진공 증착 시스템용 인젝터
JP2007500794A (ja) 薄膜蒸着エバポレーター
WO2015136857A1 (ja) 蒸着装置及びその制御方法、蒸着装置を用いた蒸着方法、及びデバイスの製造方法
KR100666572B1 (ko) 유기물 증발장치
KR20110024223A (ko) 증발 장치 및 이를 포함하는 진공 증착 장치
EP1834364B1 (en) Method and apparatus for controlling the vaporization of organic material
JP2007119916A (ja) 気化させる材料を受け入れるレセプタクルを有する気化装置
KR102453030B1 (ko) 진공 증착 장치용 증착원
KR100514588B1 (ko) 기상 증착 장치용 증발원
JP2005126757A5 (ja)
KR20000057777A (ko) 기화증착장치
KR20050003983A (ko) 이형제의 부위별 도포를 위한 방법 및 장치
JP4174257B2 (ja) 真空蒸着方法
KR100623719B1 (ko) 유기물 증착원
KR20060084248A (ko) 유기물 증발원 및 유기물 증착장치
KR20070051602A (ko) 유기물 진공 증착 장치
KR100646514B1 (ko) 유기물 증착 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20090120

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20090120