JP2005120451A5 - - Google Patents

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  1. 基材表面にセラミック溶射皮膜を形成するのに先立ち、ビッカース硬さHV：200以下の軟質金属製基材の表面に、金属粒子、セラミック粒子またはサーメット粒子あるいはこれらの混合物からなるビッカース硬さHV：300以上の硬質粒子を分散状態で前記基材表面に突き刺さるように打ち込み、かつ前記軟質金属製基材の表面における硬質粒子の占める面積率が10〜70％となるようにすることを特徴とするセラミック溶射の前処理方法。
  2. 硬質粒子として、
    A：金属；
    高炭素鋼、鋳鉄、鋳鋼、Ni、Cr、V、W、Moを含む特殊鋼、Cr、MoあるいはWなどの硬質金属の単独粒子
    B：セラミックス粒子；
    ａ．炭化物：WC、Cr 3 C 2 、VC、TiC、HfC、NbC、TaC、ZrC、B 4 C
    ｂ．酸化物：Al 2 O 3 、TiO 2 、Cr 2 O 3 、ZrO 2 、HfO、SiO 2
    ｃ．窒化物：TiN、VN、NbN、TaN、ZrN、BN、Si 3 N 4 、CrN
    ｄ．硼化物：NiB 2 、ZrB 2 、HfB 2 、VB 2 、TaB 2 、NbB 2 、W 2 B 5 、TaB 4
    ｅ．珪化物：MoSi、NiSi、FeSi、CrSi、TiSi、HfSi
    C：サーメット；
    上記セラミックス粒子に、Co、Cr、NiもしくはMo、またはそれらの合金をセラミックスに対し5〜60wt％の割合で混合し、造粒、焼結などによって一体化したサーメット粒子
    を使用したことを特徴とする請求項１に記載のセラミック溶射の前処理方法。
  3. 打ち込み用硬質粒子は、その粒子径が10〜250μｍで、その硬さが、被処理金属製基材の硬さよりもHVで100以上大きいものであることを特徴とする請求項１または２に記載のセラミック溶射の前処理方法。
  4. 基材への前記硬質粒子の打ち込みは、飛行速度80ｍ/sec以上の高速度で吹きつけることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のセラミック溶射の前処理方法。
  5. 硬質粒子の前記吹き付けは、吹き付けトーチか金属製基材のいずれか一方、もしくは両者を移動させる方法、または多孔分散板を用いて吹き付けを行う方法により、硬質粒子を金属製基材の表面に点在するように分散させることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のセラミック溶射の前処理方法。
  6. 硬質粒子の吹き付けは、圧縮空気または高圧の窒素ガス、不活性ガスを用いて行うことを特徴とする請求項１〜５のいずれか1項に記載のセラミック溶射の前処理方法。
  7. 前記金属製基材を80〜300℃に予熱することを特徴とする請求項１〜６のいずれか1項に記載のセラミック溶射の前処理方法。
  8. 溶射皮膜を形成するべき基材が、ビッカース硬さHV：200以下の軟質金属製基材にて構成されていると共に、その表面には、ビッカース硬さが該金属製基材の硬さよりもHV：100以上硬い硬質粒子を秒速80ｍ以上の飛行速度で吹き付けることにより、その硬質粒子を該基材の表面に分散状態に打ち込むと共に、硬質粒子が基材表面に占める面積率で10〜70％となるように前処理されており、かつその前処理された基材表面には、溶射法によって、金属、酸化物や硼化物、窒化物、珪化物などのセラミックスまたはそれのサーメットなどからなる溶射皮膜が形成されてなることを特徴とするセラミック溶射皮膜被覆部材。
  9. 硬質粒子として、
    A：金属；
    高炭素鋼、鋳鉄、鋳鋼、Ni、Cr、V、W、Moを含む特殊鋼、Cr、MoあるいはWなどの硬質金属の単独粒子
    B：セラミックス粒子；
    ａ．炭化物：WC、Cr 3 C 2 、VC、TiC、HfC、NbC、TaC、ZrC、B 4 C
    ｂ．酸化物：Al 2 O 3 、TiO 2 、Cr 2 O 3 、ZrO 2 、HfO、SiO 2
    ｃ．窒化物：TiN、VN、NbN、TaN、ZrN、BN、Si 3 N 4 、CrN
    ｄ．硼化物：NiB 2 、ZrB 2 、HfB 2 、VB 2 、TaB 2 、NbB 2 、W 2 B 5 、TaB 4
    ｅ．珪化物：MoSi、NiSi、FeSi、CrSi、TiSi、HfSi
    C：サーメット；
    上記セラミックス粒子に、Co、Cr、NiもしくはMo、またはそれらの合金をセラミックスに対し5〜60wt％の割合で混合し、造粒、焼結などによって一体化したサーメット粒子
    を使用したことを特徴とする請求項８に記載のセラミック溶射皮膜被覆部材。
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