JP2005115348A - 薄膜トランジスタアレイ基板、それを有する液晶表示パネル及びそれらの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明の目的は基板構造及び製造工程を単純化することと同時に視野角を進めることができる薄膜トランジスタアレイ基板、それを持つ液晶表示パネル、その製造方法及び液晶表示パネルの製造方法を提供するものである。
【解決手段】この液晶表示パネルは基板上に形成されたゲートラインと、前記ゲートラインとゲート絶縁膜を間に置いて交差して画素領域を決めるデータラインと、前記ゲートライン及びデータラインの交差部に形成される薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタのドレイン電極を露出させる保護パターンと、前記画素領域を液晶配向が互いに異なる多数個の領域に区分する少なくとも一つの突出部と、前記薄膜トランジスタと接続されて前記保護パターンと突出部を除いた前記画素領域に形成される画素電極と、を具備することを特徴とする。
【選択図】図4
Description
このような構成を持つ薄膜トランジスタアレイ基板は4マスク工程により形成される。
図3Aを参照すると、下部基板42の上にゲートパターンが形成される。
下部基板42の上にスパッタリング(sputtering)方法などの蒸着方法を通じてゲート金属層が形成される。引き継いで、第1マスクを利用したフォトリソグラフィ工程とエッチング工程によってゲート金属層がパターニングされることによってゲートライン2、ゲート電極8を含むゲートパターンが形成される。ゲート金属としてはクロム(Cr)、モリブデン(Mo)、アルミニウム系金属などが単一層または二重層構造に利用される。
ゲートパターンが形成された下部基板42の上にPECVD、スパッタリングなどの蒸着方法を通じてゲート絶縁膜44、非晶質シリコン層、n+非晶質シリコン層、そしてソース/ドレイン金属層が順次的に形成される。
引き継いで、フォトレジストパターンを利用した湿式エッチング工程によってソース/ドレイン金属層がパターニングされることによってデータライン4、ソース電極10、そのソース電極10と一体化されたドレイン電極12、ストレージ電極22を含むソース/ドレインパターンが形成される。
次いで、チャネル部で相対的に低い高さを持つフォトレジストパターンがアッシング(Ashing)工程によって除去された後、乾式エッチング工程によってチャネル部のソース/ドレインパターン及びオーミック接触層48がエッチングされる。これによって、チャネル部の活性層14が露出してソース電極10とドレイン電極12が分離する。
ゲート絶縁膜44の材料としては酸化シリコン(SiOx)または窒化シリコン(SiNx)などの無機絶縁物質が利用される。ソース/ドレイン金属としてはモリブデン(Mo)、チタン、タンタル、モリブデン合金などが利用される。
ソース/ドレインパターンが形成されたゲート絶縁膜44の上にPECVDなどの蒸着方法で保護膜50が全面形成される。保護膜50は第3マスクを利用したフォトリソグラフィ工程とエッチング工程によってパターニングされることによって第1及び第2コンタクトホール(16, 24)が形成される。第1コンタクトホール16は保護膜50を貫いてドレイン電極12が露出するように形成されて、第2コンタクトホール24は保護膜50を貫いてストレージ電極22が露出するように形成される。
保護膜50の材料としてはゲート絶縁膜44のような無機絶縁物質や誘電常数が小さなアクリル系有機化合物、BCBまたはPFCBなどのような有機絶縁物質が利用される。
保護膜50の上にスパッタリングなどの蒸着方法で透明電極物質が全面蒸着される。引き継いで、第4マスクを利用したフォトリソグラフィ工程とエッチング工程を通じて透明電極物質がパターニングされることによって画素電極18を含む透明電極パターンが形成される。画素電極18は第1コンタクトホール16を通じてドレイン電極12と電気的に接続されて、第2コンタクトホール24を通じて前段ゲートライン2と重畳されるストレージ電極22と電気的に接続される。透明電極物質としてはインジウムスズ酸化物( ITO)やスズ酸化物( TO)またはインジウム亜鉛酸化物( IZO)が利用される。
以下、本発明の実施例を添付した図4乃至図11を参照して詳しく説明する事にする。
図4は本発明の第1実施例に係る液晶表示パネルの薄膜トランジスタアレイ基板を図示した平面図で、図5は図4に図示された薄膜トランジスタアレイ基板をII-II’線に沿って切断して図示した断面図である。
先に、図8A〜図8GはVAモード液晶表示パネルの製造方法を示す図面である。
4, 58: データライン
6, 80 : 薄膜トランジスタ
8, 54: ゲート電極
10,60 : ソース電極
12, 62: ドレイン電極
14, 92: 活性層
16, 24: コンタクトホール
18, 72: 画素電極
20, 78: ストレージキャパシタ
22, 66: ストレージ電極
42, 88: 下部基板
44, 90a: ゲート絶縁膜
48, 94: オーミック接触層
50, 98a: 保護膜
64: データパッド
85, 113: 突出部
90: ゲート絶縁パターン
98: 保護膜パターン
99: 配向膜
Claims (40)
- 基板上に形成されたゲートラインと、
前記ゲートラインとゲート絶縁膜を間に置いて交差して画素領域を規定するデータラインと、
前記ゲートライン及びデータラインの交差部に形成される薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタのドレイン電極を露出させる保護膜パターンと、前記画素領域を液晶配向が互いに異なる多数個の領域に区分する少なくとも一つの突出部と、
前記薄膜トランジスタと接続されて前記保護パターンと突出部を除いた前記画素領域に形成される画素電極と、
を具備することを特徴とする薄膜トランジスタアレイ基板。 - 前記少なくとも一つの突出部は前記画素領域の対角線方向に形成されたことを特徴とする請求項1記載の薄膜トランジスタアレイ基板。
- 前記少なくとも一つの突出部は前記対角線方向に互いに向き合う第1及び第2突出部と、前記第1及び第2突出部と交差された方向に互いに向き合う第3及び第4突出部と、を含むことを特徴とする請求項2記載の薄膜トランジスタアレイ基板。
- 前記少なくとも一つの突出部は少なくとも一階の絶縁パターンから形成されたことを特徴とする請求項1記載の薄膜トランジスタアレイ基板。
- 前記少なくとも一階の絶縁パターンは前記ゲート絶縁膜と同一物質で同一平面上に形成された第1絶縁パターンと、前記保護膜パターンと同一物質で同一平面上に形成された第2絶縁パターンと、を含むことを特徴とする請求項4記載の薄膜トランジスタアレイ基板。
- 前記画素電極は前記ゲート絶縁膜及び保護膜パターンによって露出した前記画素領域の基板上に形成されることを特徴とする請求項5記載の薄膜トランジスタアレイ基板。
- 前記第1及び第2絶縁パターンの間には形成された半導体パターン及び金属層が形成されたことを特徴とする請求項5記載の薄膜トランジスタアレイ基板。
- 前記少なくとも一階の絶縁パターンは前記保護膜パターンと同一物質で前記絶縁膜上に形成された絶縁パターンを含むことを特徴とする請求項4記載の薄膜トランジスタアレイ基板。
- 前記画素電極は前記保護膜パターンによって露出した前記画素領域のゲート絶縁膜上に形成されることを特徴とする請求項8記載の薄膜トランジスタアレイ基板。
- 前記突出部の高さは0.5μm〜1.5μm位であることを特徴とする請求項1記載の薄膜トランジスタアレイ基板。
- 前記突出部の高さは前記画素電極から1μm〜4μmであることを特徴とする請求項1記載の薄膜トランジスタアレイ基板。
- 前記薄膜トランジスタは前記ゲートラインと接続されたゲート電極と、前記データラインと接続されたソース電極と、前記ソース電極と向き合うドレイン電極と、前記ソース電極とドレイン電極の間に形成されたチャネルとを含む半導体パターンと、を具備することを特徴とする請求項1記載の薄膜トランジスタアレイ基板。
- 前記半導体パターンは前記ソース及びドレイン電極に沿って、その下部に形成されることを特徴とする請求項12記載の薄膜トランジスタアレイ基板。
- 前記ゲートラインと、前記ゲート絶縁膜と半導体パターンを間に置いて前記ゲートラインと重畳されるストレージ電極と、を含むストレージキャパシタをさらに具備することを特徴とする請求項12記載の薄膜トランジスタアレイ基板。
- 前記画素電極は前記保護膜パターンによって部分的に露出した前記ドレイン電極及び前記ストレージ電極と電気的に接続されることを特徴とする請求項14記載の薄膜トランジスタアレイ基板。
- 前記保護膜パターンは無機絶縁物質及び有機絶縁物質の中からいずれかから形成されることを特徴とする請求項1及び4中、いずれかの記載の薄膜トランジスタアレイ基板。
- 無機絶縁物質からなる第1保護膜パターンと、前記第1保護膜パターン上に有機絶縁物質からなる第2保護膜パターンと、をさらに具備することを特徴とする請求項1及び4中、いずれかの記載の薄膜トランジスタアレイ基板。
- 基板上に形成されたゲートライン、
前記ゲートラインとゲート絶縁膜を間に置いて交差して画素領域を規定するデータライン、
前記ゲートライン及びデータラインの交差部に形成される薄膜トランジスタ、
前記薄膜トランジスタのドレイン電極を露出させる保護膜パターン、
前記画素領域を液晶の配向が互いに異なる多数個の領域に区分する少なくとも一つの突出部、
前記薄膜トランジスタと接続されて前記保護パターンと突出部を除いた前記画素領域に形成される画素電極を含む薄膜トランジスタアレイ基板と、
前記薄膜トランジスタアレイ基板と対向して前記突出部の間に形成されるスリットを持つ薄膜を含むカラーフィルターアレイ基板と、
を具備することを特徴とする液晶表示パネル。 - 前記カラーフィルターアレイ基板は前記画素領域を除いた他の上部基板上に形成されるブラックマットリックスと、前記ブラックマットリックスが形成された前記上部基板上に形成されるカラーフィルターと、前記カラーフィルターが形成された上部基板上に形成される共通電極と、をさらに具備することを特徴とする請求項18記載の液晶表示パネル。
- 前記薄膜は前記スリットを持つ前記共通電極であることを特徴とする請求項19記載の液晶表示パネル。
- 前記液晶はネガティブ型誘電率異方性を持つ液晶であることを特徴とする請求項18記載の液晶表示パネル。
- 基板上に薄膜トランジスタのゲート電極と、前記ゲート電極と接続されたゲートラインを含むゲートパターンとを形成する段階と、
前記ゲートパターンが形成された基板上にゲート絶縁膜を形成する段階と、
前記ゲート絶縁膜上に前記薄膜トランジスタのソース電極及びドレイン電極、前記ゲートラインと交差して画素領域を規定するデータライン、前記データラインを含むソース/ドレインパターンと前記ソース及びドレイン電極の間のチャネルを成す半導体パターンを形成する段階と、
前記画素領域に透明電極パターンを形成する段階と、前記透明電極パターンが形成された領域を除いた領域に保護膜パターンを形成する段階と、
前記画素領域を液晶の配向が互いに異なる多数個の領域に区分する少なくとも一つの突出部を形成する段階と、
を含むことを特徴とする薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法。 - 前記少なくとも一つの突出部は前記画素領域の対角線方向に形成することを特徴とする請求項22記載の薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法。
- 前記少なくとも一つの突出部を形成する段階は前記対角線方向に互いに向き合う第1及び第2突出部と、前記第1及び第2突出部と交差された方向に互いに向き合う第3及び第4突出部と、を形成する段階を含むことを特徴とする請求項23記載の薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法。
- 前記少なくとも一つの突出部を形成する段階は少なくとも一階の絶縁パターンからなる少なくとも一つの突出部を形成する段階を含むことを特徴とする請求項22記載の薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法。
- 前記少なくとも一つの突出部を形成する段階は前記ゲート絶縁膜と同一物質で同一平面上に第1絶縁パターンを形成する段階と、前記保護膜パターンと同一物質で同一平面上に第2絶縁パターンを形成する段階と、を含むことを特徴とする請求項25記載の薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法。
- 前記透明電極パターンを形成する段階は前記ゲート絶縁膜及び保護膜パターンによって露出した前記画素領域の基板上に前記ドレイン電極と接続される画素電極を形成する段階を含むことを特徴とする請求項26記載の薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法。
- 前記第1及び第2絶縁パターンの間に半導体パターン及び金属層を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項26記載の薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法。
- 前記少なくとも一つの突出部を形成する段階は前記保護膜パターンと同一物質で前記ゲート絶縁膜上に絶縁パターンを形成する段階を含むことを特徴とする請求項25記載の薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法。
- 前記透明電極パターンを形成する段階は前記保護膜パターンによって露出した前記画素領域のゲート絶縁膜上に前記ドレイン電極と接続される画素電極を形成する段階を含むことを特徴とする請求項29記載の薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法。
- 前記ソース/ドレインパターンと半導体パターンを形成する段階は前記ゲート絶縁膜上に半導体パターンを形成する段階と、前記半導体パターンが形成されたゲート絶縁膜上にソース/ドレインパターンを形成する段階と、を含むことを特徴とする請求項22記載の薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法。
- 前記ソース/ドレインパターンと半導体パターンを形成する段階は前記ソース/ドレインパターンに沿って、その下部に形成される半導体パターンとソース/ドレインパターンを同時に形成する段階を含むことを特徴とする請求項22記載の薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法。
- 前記ゲートラインと、前記ゲート絶縁膜と半導体パターンを間に置いて前記ゲートラインと重畳されるストレージ電極を含むストレージキャパシタを形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項22記載の薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法。
- 前記画素電極は前記保護膜パターンによって部分的に露出した前記ドレイン電極及び前記ストレージ電極と電気的に接続されることを特徴とする請求項33記載の薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法。
- 前記保護膜パターンは無機絶縁物質及び有機絶縁物質の中からいずれかに形成されることを特徴とする請求項22及び25中、いずれかの記載の薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法。
- 前記保護膜パターンは無機絶縁物質からなる第1保護膜パターンと、前記第1保護膜パターン上に有機絶縁物質からなる第2保護膜パターンと、を含むことを特徴とする請求項22及び25中、いずれかの記載の薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法。
- 基板上に形成されたゲートライン、前記ゲートラインとゲート絶縁膜を間に置いて交差して画素領域を規定するデータライン、前記ゲートライン及びデータラインの交差部に形成される薄膜トランジスタ、前記薄膜トランジスタのドレイン電極を露出させる保護膜パターン、前記画素領域を液晶の配向が互いに異なる多数個の領域に区分する少なくとも一つの突出部、前記薄膜トランジスタと接続されて前記保護膜パターンと突出部を除いた前記画素領域に形成される画素電極を含む薄膜トランジスタアレイ基板を用意する段階と、
前記薄膜トランジスタアレイ基板と対向して前記突出部の間に形成されるスリットを持つ薄膜を含むカラーフィルターアレイ基板を用意する段階と、
前記薄膜トランジスタアレイ基板とカラーフィルターアレイ基板を合着する段階と、
を含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。 - 前記カラーフィルターアレイ基板を用意する段階は前記画素領域を除いた他の上部基板上にブラックマットリックスを形成する段階と、前記ブラックマットリックスが形成された前記上部基板上にカラーフィルターを形成する段階と、前記カラーフィルターが形成された上部基板上に共通電極を形成する段階と、を含むことを特徴とする請求項37記載の液晶表示パネルの製造方法。
- 前記共通電極を形成する段階は前記突出部の間にスリットを持つ共通電極を形成する段階を含むことを特徴とする請求項38記載の液晶表示パネルの製造方法。
- 前記液晶はネガティブ型誘電率異方性を持つ液晶であることを特徴とする請求項37記載の液晶表示パネルの製造方法。
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