JP2005093747A - 半導体処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 半導体基板が、ボートの一部だけに収容された状態でも、全てに半導体基板が収容された状態と同じ処理結果が得られるようにする。
【解決手段】 レシピ群選択部312は、確定した処理種およびバッチサイズから、適切な処理レシピを選択し、さらに、ボートに収容するウエハの種類と位置とを定義するウエハ移載パラメータを求める。第1の制御用コンピュータ3は、処理レシピと、ウエハ移載パラメータバッファとを、第2の制御用コンピュータ4に対して出力する。第2の制御用コンピュータ4は、ウエハ移載パラメータに従ってボートに収容されたウエハに対して、処理レシピに従った処理を行うように半導体処理装置を制御する。
【選択図】 図5
【解決手段】 レシピ群選択部312は、確定した処理種およびバッチサイズから、適切な処理レシピを選択し、さらに、ボートに収容するウエハの種類と位置とを定義するウエハ移載パラメータを求める。第1の制御用コンピュータ3は、処理レシピと、ウエハ移載パラメータバッファとを、第2の制御用コンピュータ4に対して出力する。第2の制御用コンピュータ4は、ウエハ移載パラメータに従ってボートに収容されたウエハに対して、処理レシピに従った処理を行うように半導体処理装置を制御する。
【選択図】 図5
Description
本発明は、半導体基板に対して成膜処理などを行う基板処理装置に関する。
例えば、特許文献1は、多数の半導体基板に対する処理を行う半導体処理装置を開示している。
これらの文献に開示された半導体処理装置は、反応室内の半導体基板が、半導体の支持体(ボート)いっぱいに収容されない状態で処理されても、支持体いっぱいに半導体基板が収容された状態で処理されたときと同じ処理結果を得るための工夫がなされている。
特開平2001−68532号公報
これらの文献に開示された半導体処理装置は、反応室内の半導体基板が、半導体の支持体(ボート)いっぱいに収容されない状態で処理されても、支持体いっぱいに半導体基板が収容された状態で処理されたときと同じ処理結果を得るための工夫がなされている。
本発明は、上述した背景からなされたものであり、反応室内の半導体基板が、その支持体の一部だけに収容された状態でも、支持体の全てに半導体基板が収容された状態と同じ処理結果を得ることができる基板処理装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明に係る基板処理装置は、基板を基板支持体に収容して処理する処理室と、前記基板を前記基板支持体に搬送する搬送装置と、前記搬送装置を制御する制御部とを有する基板処理装置において、前記制御部は、前記基板を処理する処理種と、前記処理種に応じた前記基板の総枚数を記憶する第1の記憶部と、所望の前記基板の枚数を記憶する第2の記憶部と、前記第1の記憶部と前記第2の記憶部の前記基板の枚数を比較し、この比較結果に基づいて制御する比較制御手段とを有し、前記比較制御手段は、前記第2の記憶部の前記基板の枚数以上であって、最も近似な前記第1の記憶部の前記基板の総枚数となるように、所望外の基板を補充するように制御する。
本発明に係る基板処理装置によれば、反応室内の半導体基板が、その支持体の一部だけに収容された状態でも、支持体の全てに半導体基板が収容された状態と同じ処理結果を得ることができる。
[本発明の背景]
本発明に係る半導体製造装置の理解を容易にするために、その実施形態の説明に先立ち、本発明がなされるに至った背景を説明する。
多数の半導体基板(半導体ウエハ)に対して、一括して成膜処理などを行うバッチ式熱処理装置として、従来から、いわゆる横型熱処理装置および縦型熱処理装置が用いられてきた。
現在では、処理中に巻き込む大気が少ないなどの理由で、これらの内の後者、つまり、縦型熱処理装置が主流となっている。
本発明に係る半導体製造装置の理解を容易にするために、その実施形態の説明に先立ち、本発明がなされるに至った背景を説明する。
多数の半導体基板(半導体ウエハ)に対して、一括して成膜処理などを行うバッチ式熱処理装置として、従来から、いわゆる横型熱処理装置および縦型熱処理装置が用いられてきた。
現在では、処理中に巻き込む大気が少ないなどの理由で、これらの内の後者、つまり、縦型熱処理装置が主流となっている。
この縦型熱処理装置においては、生成される膜の厚さや種類などに応じて、反応室内の圧力、処理温度およびガス流量などの処理条件(処理パラメータの目標値)が決められており、縦型熱処理装置の制御系には、予め、このような処理条件を内容とする多数の処理レシピが用意されている。
縦型熱処理装置の制御装置は、縦型熱処理装置のオペレータにより選択された処理レシピに従って、縦型熱処理装置の処理条件を制御する。
縦型熱処理装置の制御装置は、縦型熱処理装置のオペレータにより選択された処理レシピに従って、縦型熱処理装置の処理条件を制御する。
一般に、処理レシピは、処理の対象となる多数の半導体基板を収容するボートを満載にした状態で、熱処理が行われたときに、所望の処理結果を与えるような処理条件を示している。
従って、例えば、ボートに150枚の半導体基板が収容可能なときには、処理レシピも、ボートに150枚の半導体基板が収容されているときに、縦型熱処理装置により所望の処理結果が得られるように求められている。
従って、例えば、ボートに150枚の半導体基板が収容可能なときには、処理レシピも、ボートに150枚の半導体基板が収容されているときに、縦型熱処理装置により所望の処理結果が得られるように求められている。
ここで、150枚の半導体基板を処理するための処理レシピを用いて、半導体基板50枚に対する処理を行おうとしても、150枚の半導体基板を収容した場合と、50枚だけ半導体基板を収容した場合とで、温度分布が変化したり、ガス濃度が乱れたりして、反応室内の条件が大きく変化してしまい、所望の処理結果を得ることができなくなってしまうことがある。
従って、これまでは、150枚の半導体基板を処理するための処理レシピしかない用意されていないときには、必要とされる半導体基板が50枚であっても、ボートに150枚の半導体基板を収容することにより、処理レシピに反応室内の条件を合わせて、処理を行う方法が採られてきた。
従って、これまでは、150枚の半導体基板を処理するための処理レシピしかない用意されていないときには、必要とされる半導体基板が50枚であっても、ボートに150枚の半導体基板を収容することにより、処理レシピに反応室内の条件を合わせて、処理を行う方法が採られてきた。
つまり、この場合には、100枚の半導体基板に対する処理が無駄になってしまう。
このように、反応室内の条件を、処理レシピに合わせるために、余分に用いられる半導体基板は、ダミー基板(ダミーウエハ)とも呼ばれる。
一方、最近、多数・多様な半導体デバイスが求められており、半導体デバイスの他品種・少量生産が必要とされるようになってきているので、多数の半導体基板に対する一括処理が可能な縦型熱処理装置を用いて、少数の半導体基板に対する処理を行わなければならないという状況は、今後は、さらに増加すると予想できる。
このように、反応室内の条件を、処理レシピに合わせるために、余分に用いられる半導体基板は、ダミー基板(ダミーウエハ)とも呼ばれる。
一方、最近、多数・多様な半導体デバイスが求められており、半導体デバイスの他品種・少量生産が必要とされるようになってきているので、多数の半導体基板に対する一括処理が可能な縦型熱処理装置を用いて、少数の半導体基板に対する処理を行わなければならないという状況は、今後は、さらに増加すると予想できる。
このダミー基板は、1回の処理ごとに廃棄されず、洗浄されて何回かの処理にわたって用いられるが、最終的には、製品として出荷されることはないので、縦型熱処理装置のランニングコストを高くしてしまう。
従って、半導体デバイスの多品種・少量生産するためには、半導体基板の支持体(ボート)いっぱいに半導体基板が収容されず、ボートに空き領域が存在していても、所望の処理結果を得ることができる縦型熱処理装置が望まれる。
従って、半導体デバイスの多品種・少量生産するためには、半導体基板の支持体(ボート)いっぱいに半導体基板が収容されず、ボートに空き領域が存在していても、所望の処理結果を得ることができる縦型熱処理装置が望まれる。
[実施形態]
以下、本発明に係る半導体処理装置の実施形態を説明する。
以下、本発明に係る半導体処理装置の実施形態を説明する。
[半導体処理装置1の構成と処理の概要]
図1,図2は、本発明に係る半導体処理装置1の構成を例示する第1および第2の図である。
図1,図2に示すように、半導体処理装置1の筐体101の前面側には、外部搬送装置(図示せず)との間で、基板収納容器(カセット100)の授受を行う保持具授受部材(カセットステージ105)が設けられている。
このカセットステージ105の後側には昇降機(カセットエレベータ115)が設けられ、カセットエレベータ115には、搬送機(カセット移載機114)が取り付けられている。
また、カセットエレベータ115の後側には、カセット100の戴置棚(カセット棚109)が設けられており、また、カセットステージ105の上方にも、予備カセット棚110が設けられている。
また、予備カセット棚110の上方には、クリーンユニット118が設けられ、クリーンユニット118は、クリーンエアを、筐体101の内部に流通させる。
図1,図2は、本発明に係る半導体処理装置1の構成を例示する第1および第2の図である。
図1,図2に示すように、半導体処理装置1の筐体101の前面側には、外部搬送装置(図示せず)との間で、基板収納容器(カセット100)の授受を行う保持具授受部材(カセットステージ105)が設けられている。
このカセットステージ105の後側には昇降機(カセットエレベータ115)が設けられ、カセットエレベータ115には、搬送機(カセット移載機114)が取り付けられている。
また、カセットエレベータ115の後側には、カセット100の戴置棚(カセット棚109)が設けられており、また、カセットステージ105の上方にも、予備カセット棚110が設けられている。
また、予備カセット棚110の上方には、クリーンユニット118が設けられ、クリーンユニット118は、クリーンエアを、筐体101の内部に流通させる。
筐体101の後部上方には、反応炉202が設けられ、この反応炉202の下方には、基板(ウエハ200)を水平姿勢で多段に保持する基板保持部材(ボート217)を、反応炉202に対して昇降させる昇降機(ボートエレベータ121)が設けられている。
このボートエレベータ121には、昇降部材122が取り付けられ、昇降部材122の先端部には、蓋体(シールキャップ219)が取り付けられており、シールキャップ219は、ボート217を、垂直に支持する。
ボートエレベータ121とカセット棚109との間には、昇降機(移載エレベータ113)が設けられ、移載エレベータ113には、搬送機(ウエハ移載機112)が取り付けられている。
また、ボートエレベータ121の横には、開閉機構を有し、反応炉202の下面を塞ぐ遮蔽部材(炉口シャッタ116)が設けられている。
このボートエレベータ121には、昇降部材122が取り付けられ、昇降部材122の先端部には、蓋体(シールキャップ219)が取り付けられており、シールキャップ219は、ボート217を、垂直に支持する。
ボートエレベータ121とカセット棚109との間には、昇降機(移載エレベータ113)が設けられ、移載エレベータ113には、搬送機(ウエハ移載機112)が取り付けられている。
また、ボートエレベータ121の横には、開閉機構を有し、反応炉202の下面を塞ぐ遮蔽部材(炉口シャッタ116)が設けられている。
ウエハ200が装填されたカセット100には、外部搬送装置(図示せず)から、カセットステージ105にウエハ200が上向きの姿勢で搬入され、カセットステージ105は、これらウエハ200を、水平の姿勢になるように90°回転させる。
さらに、カセットエレベータ115によるカセット100の上下方向および横方向の移動、および、カセット移載機114によるカセット100の前後方向の移動および回転により、カセット100は、カセットステージ105からカセット棚109または予備カセット棚110に搬送される。
さらに、カセットエレベータ115によるカセット100の上下方向および横方向の移動、および、カセット移載機114によるカセット100の前後方向の移動および回転により、カセット100は、カセットステージ105からカセット棚109または予備カセット棚110に搬送される。
カセット棚109には、ウエハ移載機112の搬送対象となるカセット100が収容される移載棚123があり、ウエハ200の移載のために用いられるカセット100は、カセットエレベータ115およびカセット移載機により、移載棚123に移載される。
移載棚123に移載されたカセット100にあるウエハ200は、ウエハ移載機112により前後方向に移動され、回転され、また、移載エレベータ113により上下方向に移動されて、ボート217に移載される。
ボート217に、所定枚数のウエハ200が移載されると、ボートエレベータ121は、ボート217を反応炉202に挿入し、シールキャップ219が、反応炉202を気密に閉塞する。
気密に閉塞された反応炉202内では、ウエハ200が加熱され、反応炉202内に処理ガスが供給されて、ウエハ200に対する処理が行われる。
ボート217に、所定枚数のウエハ200が移載されると、ボートエレベータ121は、ボート217を反応炉202に挿入し、シールキャップ219が、反応炉202を気密に閉塞する。
気密に閉塞された反応炉202内では、ウエハ200が加熱され、反応炉202内に処理ガスが供給されて、ウエハ200に対する処理が行われる。
ウエハ200に対する処理が完了すると、上述とは逆の動作により、ウエハ200は、ボート217から移載棚123のカセット100に移載され、カセット100は、カセット移載機114により、移載棚123からカセットステージ105に移載される。
カセットステージ105に移載されたウエハ200は、外部搬送装置(図示せず)により、筐体101の外部に搬出される。
なお、炉口シャッタ116は、ボート217が降下状態にあるときには、反応炉202の下面を塞ぎ、反応炉202への外気の流入を防止する。
以上説明したカセット移載機114などの動作は、第1の制御用コンピュータ2と接続された第2の制御用コンピュータ4により制御される。
カセットステージ105に移載されたウエハ200は、外部搬送装置(図示せず)により、筐体101の外部に搬出される。
なお、炉口シャッタ116は、ボート217が降下状態にあるときには、反応炉202の下面を塞ぎ、反応炉202への外気の流入を防止する。
以上説明したカセット移載機114などの動作は、第1の制御用コンピュータ2と接続された第2の制御用コンピュータ4により制御される。
[第1の制御用コンピュータ2]
図3は、図1,図2に示した第1の制御用コンピュータ3のハードウェア構成を示す図である。
図3に示すように、制御用コンピュータ3は、CPU300、メモリ304、キーボードおよび表示装置などを含む表示・入力部32、および、CD装置・HDD装置などの記録部34から構成される。
つまり、制御用コンピュータ3は、半導体処理装置1を制御するプログラムを実行し、半導体基板に対する処理を行わせるコンピュータとしての構成部分を備えている。
なお、図1,2に示した第2の制御用コンピュータ4も、図3に示した第1の制御用コンピュータ3と同様な構成部分を1組以上、有している。
図3は、図1,図2に示した第1の制御用コンピュータ3のハードウェア構成を示す図である。
図3に示すように、制御用コンピュータ3は、CPU300、メモリ304、キーボードおよび表示装置などを含む表示・入力部32、および、CD装置・HDD装置などの記録部34から構成される。
つまり、制御用コンピュータ3は、半導体処理装置1を制御するプログラムを実行し、半導体基板に対する処理を行わせるコンピュータとしての構成部分を備えている。
なお、図1,2に示した第2の制御用コンピュータ4も、図3に示した第1の制御用コンピュータ3と同様な構成部分を1組以上、有している。
[反応炉202]
次に、図4を参照して、反応炉202を説明する。
図4は、図1,図2に示した反応炉202の構成を例示する図である。
均熱管206は、例えば、SiCなどの耐熱性材料からなり、上端が閉塞され、下端に開口を有する円筒状の形態を採る。
反応管203は、石英(SiO2)などの耐熱性材料からなり、下端に開口を有する円筒状の形態を採り、均熱管206と同心円上に配置されている。
次に、図4を参照して、反応炉202を説明する。
図4は、図1,図2に示した反応炉202の構成を例示する図である。
均熱管206は、例えば、SiCなどの耐熱性材料からなり、上端が閉塞され、下端に開口を有する円筒状の形態を採る。
反応管203は、石英(SiO2)などの耐熱性材料からなり、下端に開口を有する円筒状の形態を採り、均熱管206と同心円上に配置されている。
反応管203の下部には、例えば、石英などからなるガスの供給管232と、排気管231とが連結されており、供給管232と連結された導入口234は、反応管203の下部から、反応管203の側部に沿って、例えば、細管状に立ち上がり、天井部で反応管203の内部に至る。
排気管231は、反応管203の排気口235に接続される。
ガスは、供給管232から反応管203の天井部から内部に流され、反応管203下部に接続された排気管231から排気される。
排気管231は、反応管203の排気口235に接続される。
ガスは、供給管232から反応管203の天井部から内部に流され、反応管203下部に接続された排気管231から排気される。
反応管203の導入口234には、供給管232により、処理用のガスが供給され、供給されたガスは、反応管203内部に導入される。
この供給管232は、ガスの流量制御装置(マスフローコントローラ;MFC241)に接続されており、このMFC241により、供給されるガスあるいは水蒸気(H20)の流量が、任意の量に制御される。
反応管203の排気口235には、圧力調整器(APC242)に連結されたガスの排気管231が接続されており、排気管231は、反応管203内部のガスを排出する。
圧力検出装置(圧力センサ245)は、反応管203内の圧力を検出し、この検出された圧力に基づくAPC242の制御により、反応管203内は所望の圧力とされる。
この供給管232は、ガスの流量制御装置(マスフローコントローラ;MFC241)に接続されており、このMFC241により、供給されるガスあるいは水蒸気(H20)の流量が、任意の量に制御される。
反応管203の排気口235には、圧力調整器(APC242)に連結されたガスの排気管231が接続されており、排気管231は、反応管203内部のガスを排出する。
圧力検出装置(圧力センサ245)は、反応管203内の圧力を検出し、この検出された圧力に基づくAPC242の制御により、反応管203内は所望の圧力とされる。
反応管203の下端開口部には、例えば、石英からなる円盤状の保持体(ベース257)が、Oリング220を介して、着脱可能に設けられ、Oリング220は、反応管203の下端開口部に装着されたときには、この下端開口部を気密に封止する。
ベース257は、円盤状の蓋体(シールキャップ219)の上に取り付けられる。
また、シールキャップ219には、回転手段(回転軸254)が連結されており、回転軸254により、保持体(石英キャップ218)、基板保持部材(ボート217)、および、ボート217に保持されている基板(ウエハ200)を回転させる。
ベース257は、円盤状の蓋体(シールキャップ219)の上に取り付けられる。
また、シールキャップ219には、回転手段(回転軸254)が連結されており、回転軸254により、保持体(石英キャップ218)、基板保持部材(ボート217)、および、ボート217に保持されている基板(ウエハ200)を回転させる。
シールキャップ219は、昇降装置(カセットエレベータ115)に連結されており、ボート217を昇降させる。
制御用コンピュータ3(図3)は、駆動制御部(図5を参照して後述)を介して、回転軸254およびカセットエレベータ115の回転および昇降を、所望の速度となるように制御する。
均熱管206の外側には加熱装置(ヒータ207)が同心円状に配置されている。
温度検出装置(熱電対263)は、反応管203内の温度を測定し、ヒータ207は、測定された温度に基づいて制御され、反応管203内の温度を所望の処理温度とする。
制御用コンピュータ3(図3)は、駆動制御部(図5を参照して後述)を介して、回転軸254およびカセットエレベータ115の回転および昇降を、所望の速度となるように制御する。
均熱管206の外側には加熱装置(ヒータ207)が同心円状に配置されている。
温度検出装置(熱電対263)は、反応管203内の温度を測定し、ヒータ207は、測定された温度に基づいて制御され、反応管203内の温度を所望の処理温度とする。
図4に示した反応炉202による酸化・拡散処理方法を例示して説明する。
カセットエレベータ115によりボート217が下降され、ボート217に、所定数のウエハ200が保持される。
ヒータ207は、反応管203内を加熱し、所望の温度とする。
供給管232に接続されたMFC241は、反応管203を不活性ガスで充填し、カセットエレベータ115は、ボート217を反応管203内に上昇させる。
反応管203内は、所定の処理温度に保持される。
カセットエレベータ115によりボート217が下降され、ボート217に、所定数のウエハ200が保持される。
ヒータ207は、反応管203内を加熱し、所望の温度とする。
供給管232に接続されたMFC241は、反応管203を不活性ガスで充填し、カセットエレベータ115は、ボート217を反応管203内に上昇させる。
反応管203内は、所定の処理温度に保持される。
反応管203内が所定の圧力とされると、回転軸254は、ボート217およびこれに保持されているウエハ200を回転させる。
これと同時に、供給管232から処理用のガスが供給され、あるいは、水分発生器から水分が供給される。
供給されたガスまたは水分は、反応管203を下降し、ウエハ200に対して均等に供給される。
これと同時に、供給管232から処理用のガスが供給され、あるいは、水分発生器から水分が供給される。
供給されたガスまたは水分は、反応管203を下降し、ウエハ200に対して均等に供給される。
反応管203は、排気管231を介して排気され、APC242は、反応管203内が所定の圧力になるように制御する。
この状態で、所定時間、ウエハ200に対する酸化・拡散処理が行われる。
この状態で、所定時間、ウエハ200に対する酸化・拡散処理が行われる。
以上の酸化・拡散処理が終了すると、次のウエハ200の酸化・拡散処理に移るために、反応管203内のガスが不活性ガスで置換され、反応管203内が常圧とされる。
その後、カセットエレベータ115は、ボート217を下降させ、ボート217およびウエハ200を、反応管203から取り出す。
反応管203から取り出されたボート217上の処理済みのウエハ200は、未処理のウエハ200と交換され、未処理のウエハ200に対する酸化・拡散処理が行われる。
その後、カセットエレベータ115は、ボート217を下降させ、ボート217およびウエハ200を、反応管203から取り出す。
反応管203から取り出されたボート217上の処理済みのウエハ200は、未処理のウエハ200と交換され、未処理のウエハ200に対する酸化・拡散処理が行われる。
なお、反応炉202により、例えば、SiO2膜の成膜を行うときには、処理条件として、ウエハ200の温度は750℃とされ、供給されるガスの種類・流量はO2・5(l/min)およびH2・6(l/min)とされ、処理圧力は0.1(MPa)とされる。
[処理制御プログラム30]
図5は、図1〜3に示した第1の制御用コンピュータ3上で実行される処理制御プログラム30の構成、および、第2の制御用コンピュータ4の機能を示す図である。
図5に示すように、第1の制御用コンピュータ3と第2の制御用コンピュータ4とは、バス201を介して接続される。
処理制御プログラム30は、レシピ群選択部312、ウエハ枚数バッファ314、ウエハ移載パラメータバッファ316、インターフェース部(IF)310、レシピデータベース(レシピDB)330および処理種DB332から構成される。
処理制御プログラム30は、例えば、記録媒体33(図3)を介して制御用コンピュータ3に供給され、メモリ304にロードされて実行される。
処理制御プログラム30は、これらの構成部分により、ウエハ200に対する処理を制御する。
図5は、図1〜3に示した第1の制御用コンピュータ3上で実行される処理制御プログラム30の構成、および、第2の制御用コンピュータ4の機能を示す図である。
図5に示すように、第1の制御用コンピュータ3と第2の制御用コンピュータ4とは、バス201を介して接続される。
処理制御プログラム30は、レシピ群選択部312、ウエハ枚数バッファ314、ウエハ移載パラメータバッファ316、インターフェース部(IF)310、レシピデータベース(レシピDB)330および処理種DB332から構成される。
処理制御プログラム30は、例えば、記録媒体33(図3)を介して制御用コンピュータ3に供給され、メモリ304にロードされて実行される。
処理制御プログラム30は、これらの構成部分により、ウエハ200に対する処理を制御する。
処理制御プログラム30において、IF310は、第2の制御用コンピュータ4との間、および、表示・入力部32(図3)との間のインターフェース機能を提供する。
レシピDB330は、例えば、ウエハ200に形成される薄膜の種類および膜厚などの処理種別と、処理のためにボート217に収容されるウエハ200の数(バッチサイズBS)との組み合わせごとに求められた処理レシピを記憶する。
なお、レシピDB330に記憶されている処理レシピは、処理種ごとにレシピ群(処理種1〜m)を構成する。
レシピDB330は、例えば、ウエハ200に形成される薄膜の種類および膜厚などの処理種別と、処理のためにボート217に収容されるウエハ200の数(バッチサイズBS)との組み合わせごとに求められた処理レシピを記憶する。
なお、レシピDB330に記憶されている処理レシピは、処理種ごとにレシピ群(処理種1〜m)を構成する。
また、バッチサイズBSは、ボート217に収容されたダミー基板(ダミーウエハDW)と、実際に製品となる製品化ウエハWとが収容されるときには、ダミーウエハDWと製品化ウエハWとの合計枚数を示す。
また、ボート217に製品化ウエハWのみが収容されるときには、バッチサイズBSは、製品化ウエハWの枚数を示す。
バッチサイズBSには、必要に応じて、ウエハ200がボート217において占める位置などの情報が、さらに含まれる。
また、ボート217に製品化ウエハWのみが収容されるときには、バッチサイズBSは、製品化ウエハWの枚数を示す。
バッチサイズBSには、必要に応じて、ウエハ200がボート217において占める位置などの情報が、さらに含まれる。
処理種DB332は、処理種ごとに、バッチサイズBS(サイズ11など)と、レシピDB330に記憶された処理レシピとが対応付けられ、テーブル形式で記憶される。
ここで、レシピDB330に、処理種1でバッチサイズBSが50枚,100枚のときに用いられる処理レシピに、処理レシピR50,R100の名称が付されて記憶されている場合を具体例とする。
この場合、処理種DB332には、処理種1と、そのバッチサイズ50枚と、この処理種1の処理を、バッチサイズ50枚で行うために用いられる処理レシピの名称(処理レシピR50)とが、対応付けられて記憶される。
また、この場合、処理種DB332には、処理種1と、そのバッチサイズ100枚と、この処理種1の処理を、バッチサイズ100枚で行うために用いられる処理レシピの名称(処理レシピR100)とが、対応付けられて記憶される。
ここで、レシピDB330に、処理種1でバッチサイズBSが50枚,100枚のときに用いられる処理レシピに、処理レシピR50,R100の名称が付されて記憶されている場合を具体例とする。
この場合、処理種DB332には、処理種1と、そのバッチサイズ50枚と、この処理種1の処理を、バッチサイズ50枚で行うために用いられる処理レシピの名称(処理レシピR50)とが、対応付けられて記憶される。
また、この場合、処理種DB332には、処理種1と、そのバッチサイズ100枚と、この処理種1の処理を、バッチサイズ100枚で行うために用いられる処理レシピの名称(処理レシピR100)とが、対応付けられて記憶される。
ウエハ枚数バッファ314は、第2の制御用コンピュータ4から入力され、あるいは、表示・入力部32に対してユーザが設定した上記製品化ウエハの数を記憶する。
ウエハ移載パラメータバッファ316は、レシピ群選択部312から入力されたウエハ移載パラメータを記憶する。
ウエハ移載パラメータバッファ316は、レシピ群選択部312から入力されたウエハ移載パラメータを記憶する。
図6は、図5に示した処理制御プログラム30のレシピ群選択部312の処理(S10)を示すフローチャートである。
レシピ群選択部312は、処理種、バッチサイズBSおよび製品化ウエハWの枚数(使用する製品化ウエハWの上に配置されるものと、製品化ウエハWの下に配置される最低限のダミーウエハの枚数が決まっている場合には、それを含めた数)に基づいて、ユーザが所望する処理に最適な処理レシピを選択し、さらに、ウエハ移載パラメータを算出して、第2の制御用コンピュータ4に対して出力する。
レシピ群選択部312は、処理種、バッチサイズBSおよび製品化ウエハWの枚数(使用する製品化ウエハWの上に配置されるものと、製品化ウエハWの下に配置される最低限のダミーウエハの枚数が決まっている場合には、それを含めた数)に基づいて、ユーザが所望する処理に最適な処理レシピを選択し、さらに、ウエハ移載パラメータを算出して、第2の制御用コンピュータ4に対して出力する。
図6に示すように、ステップ100(S100)において、レシピ群選択部312(図5)は、ウエハ枚数バッファ314から、製品化ウエハWの枚数を読み出す。
ステップ102(S102)において、レシピ群選択部312は、処理種DB332から、確定した処理種の処理レシピの内、最もバッチサイズBSが小さいレシピを読み出す。
ステップ102(S102)において、レシピ群選択部312は、処理種DB332から、確定した処理種の処理レシピの内、最もバッチサイズBSが小さいレシピを読み出す。
ステップ104(S104)において、レシピ群選択部312は、製品化ウエハWの枚数が、読み出した処理レシピのバッチサイズBSより少ないか否かを判断する。
レシピ群選択部312は、製品化ウエハの枚数が、処理レシピの枚数より少ないときにはS108の処理に進み、これ以外のときにはS106の処理に進む。
ステップ106(S106)において、レシピ群選択部312は、処理種DB332から、確定した処理種の処理レシピの内、次に、バッチサイズBSが小さい処理レシピを読み出す。
レシピ群選択部312は、製品化ウエハの枚数が、処理レシピの枚数より少ないときにはS108の処理に進み、これ以外のときにはS106の処理に進む。
ステップ106(S106)において、レシピ群選択部312は、処理種DB332から、確定した処理種の処理レシピの内、次に、バッチサイズBSが小さい処理レシピを読み出す。
ステップ108(S108)において、レシピ群選択部312は、S106の処理により得られた処理レシピを選択し、選択した処理レシピのバッチサイズBSを、実際の処理におけるバッチサイズBSとする。
レシピ群選択部312は、選択した処理レシピを第2の制御用コンピュータ4に対して出力する。
レシピ群選択部312は、選択した処理レシピを第2の制御用コンピュータ4に対して出力する。
図7は、図5に示したレシピ群選択部312が作成するウエハ移載パラメータを例示する図である。
ステップ110(S110)において、レシピ群選択部312は、製品化ウエハWとダミーウエハDWの合計数が、S108の処理により得られたバッチサイズBSと等しくなるように、ダミーウエハDWの枚数を計算する。
さらに、レシピ群選択部312は、製品化ウエハW(およびダミーウエハDW)を、ボート217の適切な位置に配置するウエハ移載パラメータ(図7)を作成し、ウエハ移載パラメータバッファ316に記憶する。
ウエハ移載パラメータバッファ316に記憶されたウエハ移載パラメータは、第2の制御用コンピュータ4に対して出力され、処理レシピとともに、ウエハ200に対する処理のために用いられる。
このとき、計算されたダミーウエハDWは、製品化ウエハWの上に配置されたり、製品化ウエハWの下に配置されたり、製品化ウエハWの上下いずれにも配置されうる。
しかし、空き領域に近いほど、空き領域による処理への影響が大きいという知見により、ダミーウエハDWは、製品化ウエハWの上に配置されることが好ましい。
ステップ110(S110)において、レシピ群選択部312は、製品化ウエハWとダミーウエハDWの合計数が、S108の処理により得られたバッチサイズBSと等しくなるように、ダミーウエハDWの枚数を計算する。
さらに、レシピ群選択部312は、製品化ウエハW(およびダミーウエハDW)を、ボート217の適切な位置に配置するウエハ移載パラメータ(図7)を作成し、ウエハ移載パラメータバッファ316に記憶する。
ウエハ移載パラメータバッファ316に記憶されたウエハ移載パラメータは、第2の制御用コンピュータ4に対して出力され、処理レシピとともに、ウエハ200に対する処理のために用いられる。
このとき、計算されたダミーウエハDWは、製品化ウエハWの上に配置されたり、製品化ウエハWの下に配置されたり、製品化ウエハWの上下いずれにも配置されうる。
しかし、空き領域に近いほど、空き領域による処理への影響が大きいという知見により、ダミーウエハDWは、製品化ウエハWの上に配置されることが好ましい。
ボート217は、それぞれウエハ200を1枚ずつ戴置する複数のスロットを含んでおり、図7に例示するように、ウエハ移載パラメータは、ウエハ200に対する処理を行うときに、各スロットに、製品化ウエハWを移載するかダミーウエハDWを移載するか、サイドダミーウエハSWを移載するか、あるいは、これらのいずれも移載しないかを定義する。
制御用コンピュータ4は、ウエハ移載パラメータに従って、スロットそれぞれに、製品化ウエハW、ダミーウエハDWまたはサイドダミーウエハSWを移載し、あるいは、これらのいずれも移載せずに、ボート217にウエハ200を収容する。
さらに、制御用コンピュータ4は、このようにボート217に収容されたウエハ200に対して、上述したように、レシピ群選択部312から入力された処理レシピに従って、処理を行う。
制御用コンピュータ4は、ウエハ移載パラメータに従って、スロットそれぞれに、製品化ウエハW、ダミーウエハDWまたはサイドダミーウエハSWを移載し、あるいは、これらのいずれも移載せずに、ボート217にウエハ200を収容する。
さらに、制御用コンピュータ4は、このようにボート217に収容されたウエハ200に対して、上述したように、レシピ群選択部312から入力された処理レシピに従って、処理を行う。
図8〜図11を参照して、ウエハ移載パラメータをさらに説明する。
図8は、処理種DB332に記憶される処理レシピを例示する図表である。
図9〜図11は、ボート217へのウエハ200(製品化ウエハW、ダミーウエハDWおよびサイドダミーウエハSW)の収容の態様を例示する第1〜第3の図である。
例えば、図8に示すように、処理種DB332に記憶されているある処理種のレシピ群1が、バッチサイズ50,100,150枚それぞれの処理レシピR50,R100,R150を含んでいる。
このときに、ユーザが、製品化ウエハWの枚数を1〜50枚と指定すると、レシピ群選択部312は、処理レシピR50を選択し、図9に示すように、ダミーウエハDW、製品化ウエハWおよびサイドダミーウエハSWを、ボート217の下方に詰めて収容するウエハ移載パラメータを作成する。
図8は、処理種DB332に記憶される処理レシピを例示する図表である。
図9〜図11は、ボート217へのウエハ200(製品化ウエハW、ダミーウエハDWおよびサイドダミーウエハSW)の収容の態様を例示する第1〜第3の図である。
例えば、図8に示すように、処理種DB332に記憶されているある処理種のレシピ群1が、バッチサイズ50,100,150枚それぞれの処理レシピR50,R100,R150を含んでいる。
このときに、ユーザが、製品化ウエハWの枚数を1〜50枚と指定すると、レシピ群選択部312は、処理レシピR50を選択し、図9に示すように、ダミーウエハDW、製品化ウエハWおよびサイドダミーウエハSWを、ボート217の下方に詰めて収容するウエハ移載パラメータを作成する。
また、ユーザが、製品化ウエハWの枚数を51〜100枚と指定すると、レシピ群選択部312は、処理レシピR50を選択し、図10に示すように、ダミーウエハDW、製品化ウエハWおよびサイドダミーウエハSWを、ボート217の下方に詰めて収容するウエハ移載パラメータを作成する。
また、ユーザが、製品化ウエハWの枚数を101〜150枚と指定すると、レシピ群選択部312は、処理レシピR150を選択し、図11に示すように、ダミーウエハDW、製品化ウエハWおよびサイドダミーウエハSWを、ボート217の下方に詰めて収容するウエハ移載パラメータを作成する。
また、ユーザが、製品化ウエハWの枚数を101〜150枚と指定すると、レシピ群選択部312は、処理レシピR150を選択し、図11に示すように、ダミーウエハDW、製品化ウエハWおよびサイドダミーウエハSWを、ボート217の下方に詰めて収容するウエハ移載パラメータを作成する。
ボート217に空き領域がある場合の処理レシピについて説明する。
反応管203内においては、一般に、処理ガスは、上流側から下流側に拡散するので、反応管203の下部から上部に向かって温度が高くなる温度勾配をつける。
ここで、図9に示したようにボート217にウエハ200が収容されると、ウエハ200が存在しない反応管203の空き領域での温度が、この部分にウエハ200が収容されたときよりも高くなる。
従って、この場合には、処理レシピにおいて、図11に示すように、ボート217にウエハ200が満載されるときに比べて、ボート217の上部の温度を低くすることにより温度補償を行うことができる。
反応管203内においては、一般に、処理ガスは、上流側から下流側に拡散するので、反応管203の下部から上部に向かって温度が高くなる温度勾配をつける。
ここで、図9に示したようにボート217にウエハ200が収容されると、ウエハ200が存在しない反応管203の空き領域での温度が、この部分にウエハ200が収容されたときよりも高くなる。
従って、この場合には、処理レシピにおいて、図11に示すように、ボート217にウエハ200が満載されるときに比べて、ボート217の上部の温度を低くすることにより温度補償を行うことができる。
また、圧力センサ245(図4)は、一般に、反応管203は、排気管231の排気口の近傍に配設される。
ここで、図9,図10に示したように、ボート217に空き領域が存在すると、反応ガスのコンダクタンスが変化し、図11に示したボート217にウエハ200が満載された状態に比べて、反応管203内の実際の圧力は低くなる。
このような圧力センサ245の測定値の変化に応じた補正を、処理レシピの設定圧力に対して行うことにより、反応管203内を、所望の圧力とすることができる。
ここで、図9,図10に示したように、ボート217に空き領域が存在すると、反応ガスのコンダクタンスが変化し、図11に示したボート217にウエハ200が満載された状態に比べて、反応管203内の実際の圧力は低くなる。
このような圧力センサ245の測定値の変化に応じた補正を、処理レシピの設定圧力に対して行うことにより、反応管203内を、所望の圧力とすることができる。
なお、処理レシピの設定温度および設定圧力などのパラメータには、ボート217に収容されたウエハ200の枚数(バッチサイズBS)に応じた補正が必要なものと、補正が不要なものとがある。
つまり、図5に示したように、処理レシピのパラメータに、バッチサイズBSに応じて補正が必要なものが含まれている場合には、レシピDB330および処理種DB332に、同一の処理種について、複数のバッチサイズBSの処理レシピが記憶されていればよい。
つまり、図5に示したように、処理レシピのパラメータに、バッチサイズBSに応じて補正が必要なものが含まれている場合には、レシピDB330および処理種DB332に、同一の処理種について、複数のバッチサイズBSの処理レシピが記憶されていればよい。
[第2の制御用コンピュータ4]
再び図5を参照する。
また、制御用コンピュータ4は、温度制御部400、ガス流量制御部402、圧力制御部404、駆動制御部406およびIF410から構成される。
既に述べたように、第1の制御用コンピュータ3から第2の制御用コンピュータ4に対して送られる処理レシピは、半導体処理装置1によるウエハ200に対する処理の条件(処理条件)を示す。
制御用コンピュータ4は、これらの構成部分により、制御用コンピュータ3(処理制御プログラム30)から入力される処理レシピおよびウエハ移載パラメータ(図7)に従って、半導体処理装置1の各構成部分を制御し、ウエハ200に対する処理を実現する。
再び図5を参照する。
また、制御用コンピュータ4は、温度制御部400、ガス流量制御部402、圧力制御部404、駆動制御部406およびIF410から構成される。
既に述べたように、第1の制御用コンピュータ3から第2の制御用コンピュータ4に対して送られる処理レシピは、半導体処理装置1によるウエハ200に対する処理の条件(処理条件)を示す。
制御用コンピュータ4は、これらの構成部分により、制御用コンピュータ3(処理制御プログラム30)から入力される処理レシピおよびウエハ移載パラメータ(図7)に従って、半導体処理装置1の各構成部分を制御し、ウエハ200に対する処理を実現する。
制御用コンピュータ4において、温度制御部400は、第1の制御用コンピュータ3から入力される処理レシピと、熱電対263が測定した反応管203内の温度に基づいて、ヒータ207を制御し、反応管203内を所望の温度とする。
ガス流量制御部402は、第1の制御用コンピュータ3から入力される処理レシピに従って、MFC241を制御し、反応管203に導入されるガスの流量を所望の値とする。
ガス流量制御部402は、第1の制御用コンピュータ3から入力される処理レシピに従って、MFC241を制御し、反応管203に導入されるガスの流量を所望の値とする。
圧力制御部404は、第1の制御用コンピュータ3から入力される処理レシピと、圧力センサ245が測定した圧力とに基づいて、APC242を制御し、反応管203内を所望の圧力とする。
駆動制御部406は、第1の制御用コンピュータ3から入力される処理レシピに従って、カセットエレベータ115およびカセット移載機114を制御して、カセット110をカセット棚109へ移動させ、さらに、移載エレベータ113および移載機112を制御して、ウエハ200をボート217へ移動させ、さらに、ボートエレベータ121および回転軸254を制御して、ウエハ移載パラメータに従ってウエハ200が収容されたボート217を移動および回転させる。
駆動制御部406は、第1の制御用コンピュータ3から入力される処理レシピに従って、カセットエレベータ115およびカセット移載機114を制御して、カセット110をカセット棚109へ移動させ、さらに、移載エレベータ113および移載機112を制御して、ウエハ200をボート217へ移動させ、さらに、ボートエレベータ121および回転軸254を制御して、ウエハ移載パラメータに従ってウエハ200が収容されたボート217を移動および回転させる。
[半導体処理装置1の全体動作]
以下、半導体処理装置1によるウエハ200の全体的な処理を説明する。
図12は、図1〜図5に示した半導体処理装置1の全体的な処理(S12)を示すフローチャートである。
図12に示すように、ステップ120(S120)において、ユーザは、表示・入力部32(図3)に対して、処理種を確定するための操作を行う。
処理制御プログラム30(図5)のIF310は、確定した処理種を受け入れ、レシピ群選択部312に対して出力する。
以下、半導体処理装置1によるウエハ200の全体的な処理を説明する。
図12は、図1〜図5に示した半導体処理装置1の全体的な処理(S12)を示すフローチャートである。
図12に示すように、ステップ120(S120)において、ユーザは、表示・入力部32(図3)に対して、処理種を確定するための操作を行う。
処理制御プログラム30(図5)のIF310は、確定した処理種を受け入れ、レシピ群選択部312に対して出力する。
ステップ122(S122)において、ユーザは、バッチサイズBSを確定させるための操作を行う。
処理制御プログラム30のIF310は、確定したバッチサイズBSを受け入れ、ウエハ枚数バッファ314に記憶する。
ステップ124(S124)において、レシピ群選択部312は、図6に示した処理を行い、処理レシピ(図5)を選択する。
さらに、レシピ群選択部312は、ウエハ移載パラメータ(図7)を求め、ウエハ移載パラメータバッファ316に記憶する。
IF310は、表示・入力部32に、選択された処理レシピと、求められたウエハ移載パラメータとを表示する。
処理制御プログラム30のIF310は、確定したバッチサイズBSを受け入れ、ウエハ枚数バッファ314に記憶する。
ステップ124(S124)において、レシピ群選択部312は、図6に示した処理を行い、処理レシピ(図5)を選択する。
さらに、レシピ群選択部312は、ウエハ移載パラメータ(図7)を求め、ウエハ移載パラメータバッファ316に記憶する。
IF310は、表示・入力部32に、選択された処理レシピと、求められたウエハ移載パラメータとを表示する。
ステップ126(S126)において、ユーザは、表示された処理レシピと、ウエハ移載パラメータとを用いて、ウエハ200に対する処理を行うことを確定させる操作を、表示・入力部32(図3)に対して行う。
処理制御プログラム30のIF310は、この操作を受け入れ、処理レシピとウエハ移載パラメータとを確定し、第2の制御用コンピュータ4(図5など)に対して出力する。
処理制御プログラム30のIF310は、この操作を受け入れ、処理レシピとウエハ移載パラメータとを確定し、第2の制御用コンピュータ4(図5など)に対して出力する。
ステップ128(S128)において、第2の制御用コンピュータ4は、半導体処理装置1の各構成部分を制御し、第1の制御用コンピュータ3から入力されたウエハ移載パラメータに従ってボート217にウエハ200を収容する。
第2の制御用コンピュータ4は、さらに、第1の制御用コンピュータ3から入力された処理レシピに従って半導体処理装置1の各構成部分を制御し、ボート217に収容されたウエハ200に対する処理を実行する。
第2の制御用コンピュータ4は、さらに、第1の制御用コンピュータ3から入力された処理レシピに従って半導体処理装置1の各構成部分を制御し、ボート217に収容されたウエハ200に対する処理を実行する。
本発明は、半導体基板に対して成膜処理などを行うために利用可能である。
1・・・半導体処理装置、
100・・・カセット、
105・・・カセットステージ、
109・・・カセット棚、
110・・・予備カセット棚、
113・・・移載エレベータ、
116・・・炉口シャッタ、
112・・・ウエハ移載機、
114・・・カセット移載機、
118・・・クリーンユニット、
121・・・ボートエレベータ、
122・・・昇降部材、
123・・・移載棚、
200・・・ウエハ、
202・・・反応炉、
217・・・ボート、
219・・・シールキャップ、
3,4・・・制御用コンピュータ、
32・・・表示・入力部、
300・・・CPU、
304・・・メモリ、
33・・・記録媒体、
34・・・記録部、
30・・・処理制御プログラム、
310,410・・・IF、
312・・・レシピ群選択部、
314・・・ウエハ枚数バッファ、
316・・・ウエハ移載パラメータバッファ、
330・・・レシピDB、
332・・・処理種DB、
400・・・温度制御部、
402・・・ガス流量制御部、
404・・・圧力制御部、
406・・・駆動制御部、
100・・・カセット、
105・・・カセットステージ、
109・・・カセット棚、
110・・・予備カセット棚、
113・・・移載エレベータ、
116・・・炉口シャッタ、
112・・・ウエハ移載機、
114・・・カセット移載機、
118・・・クリーンユニット、
121・・・ボートエレベータ、
122・・・昇降部材、
123・・・移載棚、
200・・・ウエハ、
202・・・反応炉、
217・・・ボート、
219・・・シールキャップ、
3,4・・・制御用コンピュータ、
32・・・表示・入力部、
300・・・CPU、
304・・・メモリ、
33・・・記録媒体、
34・・・記録部、
30・・・処理制御プログラム、
310,410・・・IF、
312・・・レシピ群選択部、
314・・・ウエハ枚数バッファ、
316・・・ウエハ移載パラメータバッファ、
330・・・レシピDB、
332・・・処理種DB、
400・・・温度制御部、
402・・・ガス流量制御部、
404・・・圧力制御部、
406・・・駆動制御部、
Claims (1)
- 基板を基板支持体に収容して処理する処理室と、
前記基板を前記基板支持体に搬送する搬送装置と、
前記搬送装置を制御する制御部と
を有する基板処理装置において、
前記制御部は、
前記基板を処理する処理種と、
前記処理種に応じた前記基板の総枚数を記憶する第1の記憶部と、
所望の前記基板の枚数を記憶する第2の記憶部と、
前記第1の記憶部と前記第2の記憶部の前記基板の枚数を比較し、この比較結果に基づいて制御する比較制御手段と
を有し、
前記比較制御手段は、
前記第2の記憶部の前記基板の枚数以上であって、最も近似な前記第1の記憶部の前記基板の総枚数となるように、所望外の基板を補充するように制御する
基板処理装置。
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---|---|---|---|
JP2003325539A JP2005093747A (ja) | 2003-09-18 | 2003-09-18 | 半導体処理装置 |
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---|---|---|---|
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100596506B1 (ko) | 2005-06-03 | 2006-07-04 | 삼성전자주식회사 | 배치 타입의 반도체 설비 제어 방법 |
JP2008010721A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-17 | Denso Corp | 半導体装置の製造方法および半導体装置の製造装置 |
US9690879B2 (en) | 2012-09-12 | 2017-06-27 | Hitachi Kokusai Electric Inc. | Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and method of generating recipe |
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-
2003
- 2003-09-18 JP JP2003325539A patent/JP2005093747A/ja active Pending
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