JP2005093683A - 露光方法および露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 被露光基板上に多重露光する際に高速処理できる露光装置の提供。
【解決手段】 レチクル8には、2種類の第1パターン領域8aと第2パターン領域8bとが分けて形成されている。移動遮光板4は、レチクル8の両パターン領域8a,8bのうちのいずれか一方を選択するものである。制御部7は、ステージ上の所定位置にウエハ9がセットされると、この状態でステージ6をX方向とY方向に交互に所定量ずつ移動させ、この移動中に遮光板4の移動が必要なときには遮光板4をその移動中に移動させ、その移動が不要のときには遮光板4を移動させずに第1パターン領域8aまたは第2パターン領域8bのいずれか一方を選択し、ウエハ9の移動が終了するたびに、ウエハ9上の同一の各露光領域にその選択されているパターン領域のパターンを重ねて露光する。
【選択図】 図1
【解決手段】 レチクル8には、2種類の第1パターン領域8aと第2パターン領域8bとが分けて形成されている。移動遮光板4は、レチクル8の両パターン領域8a,8bのうちのいずれか一方を選択するものである。制御部7は、ステージ上の所定位置にウエハ9がセットされると、この状態でステージ6をX方向とY方向に交互に所定量ずつ移動させ、この移動中に遮光板4の移動が必要なときには遮光板4をその移動中に移動させ、その移動が不要のときには遮光板4を移動させずに第1パターン領域8aまたは第2パターン領域8bのいずれか一方を選択し、ウエハ9の移動が終了するたびに、ウエハ9上の同一の各露光領域にその選択されているパターン領域のパターンを重ねて露光する。
【選択図】 図1
Description
本発明は、微細な回路パターンなどを被露光基板上に露光する露光方法および露光装置に関するものである。
この種の露光方法としては、1枚のレチクルに第1のパターンと第2のパターンを分割して形成しておき、まず、ウエハ上の各露光位置に第1のパターンを露光し、次に、同じウエハ上の各露光位置に第2のパターンを露光するものが知られている(例えば、特許文献1参照)。
このような露光方法によれば、レチクルを交換することなく、かつステージ上のウエハを載せ替えることなく、2種類のパターンをそれぞれの露光情報に基づいてウエハの各露光位置に露光することができる。すなわち、2種類のパターンをウエハ上の各露光位置に多重露光することができる。
特開2000−21749号公報
このような露光方法によれば、レチクルを交換することなく、かつステージ上のウエハを載せ替えることなく、2種類のパターンをそれぞれの露光情報に基づいてウエハの各露光位置に露光することができる。すなわち、2種類のパターンをウエハ上の各露光位置に多重露光することができる。
ところで、従来の多重の露光方法では、例えば、まずウエハをステージにセットし、ステージを所定量ずつ移動させながらレチクルの第1のパターンをウエハの各露光位置に露光していき、その第1のパターンの全面露光が終了すると、レチクルの第1のパターンを第2のパターンに手動などで切り換え、ステージを再び所定量ずつ移動させながらレチクルの第2のパターンをウエハの各露光位置と同一位置に露光し、その第2のパターンの全面露光を行うようにしていた。
このように、従来の露光方法は、ウエハ上の各露光位置を2回に分けて露光するとともに、レチクルの第1のパターンと第2のパターンとを切り換えるのに相当の時間を必要としていた。
このため、従来の露光方法では、ウエハなどの被露光基板上に多重露光する際に、高速処理ができないという不具合があった。
このため、従来の露光方法では、ウエハなどの被露光基板上に多重露光する際に、高速処理ができないという不具合があった。
そこで、本発明の目的は、被露光基板上に多重露光する際に高速処理することができる露光方法および露光装置を提供することにある。
上記の課題を解決して本発明の目的を達成するために、各発明は、以下のように構成した。
すなわち、第1発明は、1枚の原版上に複数種類のパターン領域を分けて形成しておき、前記複数のパターン領域の各パターンを、被露光基板上の同一の露光領域に重ねて露光する露光方法であって、前記原版を所定位置に固定しておき、前記被露光基板を同一平面内において予め定めた規則に従ってX方向またはY方向のいずれか一方に所定量ずつ移動させ、この移動中に複数のパターン領域のうちの予め定めてある1つを選択するようにし、前記被露光基板の移動が終了するたびに、その被露光基板上の同一の各露光領域にその選択されているパターン領域のパターンを重ねて露光するようにした。
すなわち、第1発明は、1枚の原版上に複数種類のパターン領域を分けて形成しておき、前記複数のパターン領域の各パターンを、被露光基板上の同一の露光領域に重ねて露光する露光方法であって、前記原版を所定位置に固定しておき、前記被露光基板を同一平面内において予め定めた規則に従ってX方向またはY方向のいずれか一方に所定量ずつ移動させ、この移動中に複数のパターン領域のうちの予め定めてある1つを選択するようにし、前記被露光基板の移動が終了するたびに、その被露光基板上の同一の各露光領域にその選択されているパターン領域のパターンを重ねて露光するようにした。
第2発明は、1枚の原版上に複数種類のパターン領域を分けて形成しておき、前記複数のパターン領域の各パターンを、被露光基板上の同一の露光領域に重ねて露光する露光方法であって、前記原版上には、2種類の第1パターン領域と第2パターン領域とを分けて形成しておくとともに、その原版を所定位置に固定しておき、前記被露光基板を同一平面内においてX方向とY方向に交互に所定量ずつ移動させ、この移動中に予め定めてある第1パターン領域または第2パターン領域のいずれか一方を選択するようにし、前記被露光基板の移動が終了するたびに、前記被露光基板上の同一の各露光領域にその選択されているパターン領域のパターンを重ねて露光するようにした。
第3発明は、第2の発明において、前記原版上の2種類のパターン領域の選択は、所定方向に移動自在な遮光板で行うようにし、その選択に前記遮光板の移動が必要なときには、遮光板を前記被露光基板の移動中に移動するようにした。
第4発明は、1枚の原版上に複数種類のパターン領域を分けて形成しておき、前記複数種類のパターン領域の各パターンを、被露光基板上の同一の露光領域に重ねて露光する露光方法であって、前記原版上には、4種類のパターン領域を分けて形成しておくとともに、その原版を所定位置に固定しておき、前記被露光基板を同一平面内においてX方向とY方向に交互に所定量ずつ移動させ、この移動中に予め定めてある前記4種類のパターン領域のうちの1つを選択するようにし、前記被露光基板の移動が終了するたびに、前記被露光基板上の同一の各露光領域にその選択されているパターン領域のパターンを重ねて露光するようにした。
第4発明は、1枚の原版上に複数種類のパターン領域を分けて形成しておき、前記複数種類のパターン領域の各パターンを、被露光基板上の同一の露光領域に重ねて露光する露光方法であって、前記原版上には、4種類のパターン領域を分けて形成しておくとともに、その原版を所定位置に固定しておき、前記被露光基板を同一平面内においてX方向とY方向に交互に所定量ずつ移動させ、この移動中に予め定めてある前記4種類のパターン領域のうちの1つを選択するようにし、前記被露光基板の移動が終了するたびに、前記被露光基板上の同一の各露光領域にその選択されているパターン領域のパターンを重ねて露光するようにした。
第5発明は、第4発明において、前記原版上の4種類のパターン領域のうちの1つの選択は、所定方向に移動自在な2つの遮光板で行うようにし、その選択に前記2つの遮光板のうちの少なくとも一方の移動が必要なときには、その遮光板を前記被露光基板の移動中に移動するようにした。
第6発明は、1枚の原版上に複数種類のパターン領域を分けて形成しておき、前記複数のパターン領域の各パターンを、被露光基板上の同一の露光領域に重ねて露光する露光方法であって、前記原版上には、2種類の第1パターン領域と第2パターン領域とを分けて形成しておくとともに、その原版を所定位置に固定しておき、前記第1パターン領域を選択し、前記被露光基板をX方向に所定量ずつ移動させ、前記被露光基板の移動が終了するたびに、前記被露光基板上の各露光領域にその選択されている第1パターン領域のパターンを露光し、その露光の終了後に、前記被露光基板をY方向に所定量移動させ、この移動中に前記第2パターン領域を選択し、その被露光基板の移動の終了後に、直ちに前記被露光基板上の露光領域にその選択されている第2パターン領域のパターンを露光し、さらに、前記被露光基板をX方向に所定量ずつ移動させ、前記被露光基板の移動が終了するたびに、前記被露光基板上の各露光領域と同一領域にその選択されている第2パターン領域のパターンを露光するようにした。
第6発明は、1枚の原版上に複数種類のパターン領域を分けて形成しておき、前記複数のパターン領域の各パターンを、被露光基板上の同一の露光領域に重ねて露光する露光方法であって、前記原版上には、2種類の第1パターン領域と第2パターン領域とを分けて形成しておくとともに、その原版を所定位置に固定しておき、前記第1パターン領域を選択し、前記被露光基板をX方向に所定量ずつ移動させ、前記被露光基板の移動が終了するたびに、前記被露光基板上の各露光領域にその選択されている第1パターン領域のパターンを露光し、その露光の終了後に、前記被露光基板をY方向に所定量移動させ、この移動中に前記第2パターン領域を選択し、その被露光基板の移動の終了後に、直ちに前記被露光基板上の露光領域にその選択されている第2パターン領域のパターンを露光し、さらに、前記被露光基板をX方向に所定量ずつ移動させ、前記被露光基板の移動が終了するたびに、前記被露光基板上の各露光領域と同一領域にその選択されている第2パターン領域のパターンを露光するようにした。
第7発明は、所定位置にセットされる原版のパターンを、同一平面内においてX方向とY方向に移動自在なステージ上にセットされた被露光基板に、投影光学系を用いて露光できるようになっている露光装置において、前記原版上には、2種類の第1パターン領域と第2パターン領域とを分けて形成しておき、移動自在であるとともに、前記原版に照射される光を遮断することにより前記両パターンのうちのいずれか一方を選択する遮光板と、前記ステージ上の所定位置に前記被露光基板をセットさせた状態で、前記ステージをX方向とY方向に交互に所定量ずつ移動させ、この移動中に前記遮光板の移動が必要なときには遮光板をその移動中に移動させ、その移動が不要のときには遮光板を移動させずに第1パターン領域または第2パターン領域のいずれか一方を選択し、前記被露光基板の移動が終了するたびに、前記被露光基板上の同一の各露光領域にその選択されているパターン領域のパターンを重ねて露光する制御部と、を備えている。
このような構成からなる本発明によれば、被露光基板の移動中にレチクルのパターンの選択を完了できるので、被露光基板の移動終了時にその選択されているパターンを使用して被露光基板の各露光位置に直ちに露光でき、その結果、被露光基板上に多重露光する際に高速処理することができる。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
本発明の露光装置の第1実施形態の概略構成について、図1を参照して説明する。
この第1実施形態に係る露光装置は、図1に示すように、光源1と、レンズ2と、固定遮光板3、移動遮光板4と、レンズ5と、ステージ(X−Yテーブル)6と、制御部7とを少なくとも備えている。
本発明の露光装置の第1実施形態の概略構成について、図1を参照して説明する。
この第1実施形態に係る露光装置は、図1に示すように、光源1と、レンズ2と、固定遮光板3、移動遮光板4と、レンズ5と、ステージ(X−Yテーブル)6と、制御部7とを少なくとも備えている。
すなわち、この露光装置は、原版であるレチクル8を固定遮光板3の下側にセットするとともに、被露光基板(感光性基板)であるウエハ9をステージ6上にセットし、光源1やレンズ2、5で形成される投影光学系により、レチクル8のパターンをウエハ9上に光露光ができるようになっている。
レチクル8は、例えば図2に示すように、2種類の第1パターン領域8aと第2パターン領域8bとが分かれて形成されている。このレチクル8は、固定遮光板3の下側に設けられたレチクルセット部(図示せず)にセットされるようになっている。
レチクル8は、例えば図2に示すように、2種類の第1パターン領域8aと第2パターン領域8bとが分かれて形成されている。このレチクル8は、固定遮光板3の下側に設けられたレチクルセット部(図示せず)にセットされるようになっている。
固定遮光板3は、図1に示す位置に配置されて固定され、レチクル8の周縁に当たる光を遮断するようになっている。
移動遮光板4は、固定遮光板3の上側に移動自在に配置され、光源1から光を遮断することにより、レチクル8の第1パターン領域8aと第2パターン領域8bのうちのいずれか一方を選択するものである。すなわち、移動遮光板4は、図1の矢印方向に移動できるようになっており、図1の位置にあるときにはレチクル8の第1パターン領域8aを選択でき、図1の位置から前進して所定位置にある場合にレチクル8の第2パターン領域8bを選択できるようになっている。
移動遮光板4は、固定遮光板3の上側に移動自在に配置され、光源1から光を遮断することにより、レチクル8の第1パターン領域8aと第2パターン領域8bのうちのいずれか一方を選択するものである。すなわち、移動遮光板4は、図1の矢印方向に移動できるようになっており、図1の位置にあるときにはレチクル8の第1パターン領域8aを選択でき、図1の位置から前進して所定位置にある場合にレチクル8の第2パターン領域8bを選択できるようになっている。
ステージ6は、ウエハ9を載せるものであり、図示しない移動機構により同一平面内においてX方向とY方向にそれぞれ移動できるようになっている。すなわち、ステージ6は、ウエハ6を同一平面内においてX方向およびY方向に移動させるとともに、所望の位置に停止させることができるようになっている。
制御部7は、ステージ6の移動や停止を制御するとともに、移動遮光板4の移動や停止を制御するものであり、その制御は予め定めた手順により行われるようになっている。制御部7によるステージ6と移動遮光板4の制御の詳細については後述する。
制御部7は、ステージ6の移動や停止を制御するとともに、移動遮光板4の移動や停止を制御するものであり、その制御は予め定めた手順により行われるようになっている。制御部7によるステージ6と移動遮光板4の制御の詳細については後述する。
次に、このように構成される第1実施形態の第1の露光方法について、図1〜図3を参照して説明する。
この例では、固定遮光板3の下側に図2に示すようなレチクル8がセットされ、ステージ6上にはウエハ9がセットされ、レチクル8の第1パターン領域8aと第2パターン領域8bの各パターンを、ウエハ9上の同一の露光領域に重ねて露光する場合について説明する。
この例では、固定遮光板3の下側に図2に示すようなレチクル8がセットされ、ステージ6上にはウエハ9がセットされ、レチクル8の第1パターン領域8aと第2パターン領域8bの各パターンを、ウエハ9上の同一の露光領域に重ねて露光する場合について説明する。
まず、制御部7は、ステージ6を露光開始位置に移動させるとともに、この移動中に移動遮光板4を図1の位置に移動させてレチクル8の第1パターン領域8aを使用できるように選択する。ステージ6の移動が終了すると、ステージ6上のウエハ9の露光領域9aに選択されている第1パターン領域8aのパターンが直ちに露光可能であるので、制御部7はその露光を直ちに行う(図3参照)。
次に、制御部7は、ステージ6をY方向(後方向)に所定量だけ移動させるとともに、この移動中に移動遮光板4を図1の位置から前方に移動させてレチクル8の第2パターン領域8bを使用できるように選択する。ステージ6の移動が終了すると、ステージ6上のウエハ9の露光領域9aに選択されている第2パターン領域8bのパターンが直ちに露光可能であるので、制御部7はその露光を直ちに行う(図3参照)。
この結果、図3に示すウエハ9の露光領域9aには、レチクル8の第1パターン領域8aと第2パターン領域8bの両パターンが重ねて露光される。このとき、その第1パターン領域8aと第2パターン領域8bの各パターンの露光条件は、予め同一または別々に設定されている。
次に、制御部7は、ステージ6をX方向(左方向)に所定量だけ移動させ、このときは移動遮光板4は移動させないので、レチクル8の第2パターン領域8bが選択されることになる。そのステージ6の移動が終了すると、ステージ6上のウエハ9の露光領域9bに選択されている第2パターン領域8bのパターンが露光可能であるので、制御部7はその露光を直ちに行う。
次に、制御部7は、ステージ6をX方向(左方向)に所定量だけ移動させ、このときは移動遮光板4は移動させないので、レチクル8の第2パターン領域8bが選択されることになる。そのステージ6の移動が終了すると、ステージ6上のウエハ9の露光領域9bに選択されている第2パターン領域8bのパターンが露光可能であるので、制御部7はその露光を直ちに行う。
さらに、制御部7は、ステージ6をY方向(前方向)に所定量だけ移動させるとともに、この移動中に移動遮光板4を図1の位置に移動させてレチクル8の第2パターン領域8aを選択する。この移動が終了すると、ステージ6上のウエハ9の露光領域9bに第2パターン領域8aのパターンが露光可能であるので、制御部7はその露光を直ちに行う。
この結果、図3に示すウエハ9の露光領域9bには、レチクル8の第1パターン領域8aと第2パターン領域8bの両パターンが重ねて露光される。
この結果、図3に示すウエハ9の露光領域9bには、レチクル8の第1パターン領域8aと第2パターン領域8bの両パターンが重ねて露光される。
これらの動作を繰り返すことにより、図3に示すウエハ9の露光領域9c〜9eには、レチクル8の第1パターン領域8aと第2パターン領域8bの両パターンが重ねて露光される。
ここで、ウエハ9の露光領域9a〜9eにレチクル8のパターン領域8a、8bの両パターンが重ねて露光される場合のステージ6の移動方向(ウエハ9の移動方向)は、図4の上段のようになる。図4において、各矢印は、ステージ6の各移動ごとの移動方法を表している。
ここで、ウエハ9の露光領域9a〜9eにレチクル8のパターン領域8a、8bの両パターンが重ねて露光される場合のステージ6の移動方向(ウエハ9の移動方向)は、図4の上段のようになる。図4において、各矢印は、ステージ6の各移動ごとの移動方法を表している。
そして、ウエハ9の露光領域9eにおける2重露光が終了すると、ウエハ9の露光領域9fにおける2重露光に移行する。このために、制御部7は、ステージ6をY方向(前方向)に所定量移動させるとともに、その移動中に移動遮光板4を図1の位置に移動させてレチクル8の第1パターン領域8aを選択する。
この移動が終了すると、ウエハ9の露光領域9f〜9jにおける2重露光を、ウエハ9の露光領域9a〜9eにおける2重露光の場合と同様な方法により行う。このときのステージ6の移動方向は、図4の中段のようになる。
この移動が終了すると、ウエハ9の露光領域9f〜9jにおける2重露光を、ウエハ9の露光領域9a〜9eにおける2重露光の場合と同様な方法により行う。このときのステージ6の移動方向は、図4の中段のようになる。
さらに、ウエハ9の露光領域9jにおける2重露光が終了すると、ウエハ9の露光領域9kにおける2重露光に移行する。このために、制御部7は、ステージ6をY方向(前方向)に所定量移動させるとともに、その移動中に移動遮光板4を図1の位置に移動させてレチクル8の第1パターン領域8aを選択する。
この移動が終了すると、ウエハ9の露光領域9k〜9oにおける2重露光を行い、このときのステージ6の移動方向は、図4の下段のようになる。
この移動が終了すると、ウエハ9の露光領域9k〜9oにおける2重露光を行い、このときのステージ6の移動方向は、図4の下段のようになる。
以上説明したように、第1実施形態の第1の露光方法では、2種類のパターン領域8a、8bを有するレチクル8を使用し、そのパターン領域8a、8bのうちから次の露光に必要なものをステージ6の移動中に選択しておき、ステージ6の移動終了後に直ちにその選択したパターン領域のパターンをウエハ9の各露光領域に露光するようにした。
このため、第1の露光方法によれば、ウエハ9上に2重露光を自動により実現できる上に、その露光の高速処理を実現できる。
このため、第1の露光方法によれば、ウエハ9上に2重露光を自動により実現できる上に、その露光の高速処理を実現できる。
次に、第1実施形態の第2の露光方法について説明する。
この例は、固定遮光板3の下部に図2に示すようなレチクル8がセットされ、ステージ6上にはウエハ9がセットされ、レチクル8の第1パターン領域8aと第2パターン領域8bの各パターンを、ウエハ9上の同一の露光領域に重ねて露光する点は、上記の第1の露光動作と同じであるが、その露光動作が以下のように異なる。
この例は、固定遮光板3の下部に図2に示すようなレチクル8がセットされ、ステージ6上にはウエハ9がセットされ、レチクル8の第1パターン領域8aと第2パターン領域8bの各パターンを、ウエハ9上の同一の露光領域に重ねて露光する点は、上記の第1の露光動作と同じであるが、その露光動作が以下のように異なる。
まず、制御部7は、ステージ6を露光開始位置に移動させるとともに、この移動中に移動遮光板4を図1の位置に移動させてレチクル8の第1パターン領域8aを選択する。ステージ6の移動が終了すると、ステージ6上のウエハ9の露光領域9aに選択されている第1パターン領域8aのパターンが直ちに露光可能であるので、制御部7はその露光を直ちに行う(図3参照)。
次に、制御部7は、ステージ6をX方向(左方向)に所定量だけ移動させるとともに、このときには、移動遮光板4を移動させないので、レチクル8の第1パターン領域8aが選択されることになる。ステージ6の移動が終了すると、ステージ6上のウエハ9の露光領域9bに選択されている第1パターン領域8aのパターンが直ちに露光可能であるので、制御部7はその露光を直ちに行う。
このような動作を繰り返すことにより、制御部7は、ウエハ9の露光領域9c〜9eについてレチクル8の第1パターン領域8aのパターンの露光を行い、このときのステージ6の移動方向(ウエハ9の移動方向)は、図5に示すようになる。
そして、ウエハ9の露光領域9eにおける第1パターン領域8aのパターンの露光が終了すると、その同じ露光領域9eにおける第2パターン領域8bのパターンの露光に移行する。
そして、ウエハ9の露光領域9eにおける第1パターン領域8aのパターンの露光が終了すると、その同じ露光領域9eにおける第2パターン領域8bのパターンの露光に移行する。
そのため、制御部7は、ステージ6をY方向(後方向)に所定量移動させるとともに、この移動中に移動遮光板4を図1の位置から前方に移動させてレチクル8の第2パターン領域8bを選択する。ステージ6の移動が終了すると、ステージ6上のウエハ9の露光領域9eに選択されている第2パターン領域8bのパターンが直ちに露光可能であるので、制御部7はその露光を直ちに行う。
次に、制御部7は、ステージ6をX方向(右方向)に所定量だけ移動させるとともに、このときには、移動遮光板4を移動させないのでレチクル8の第2パターン領域8bが選択されることになる。ステージ6の移動が終了すると、ステージ6上のウエハ9の露光領域9dに選択されている第2パターン領域8bのパターンが直ちに露光可能であるので、制御部7はその露光を直ちに行う。
このような動作を繰り返すことにより、制御部7は、ウエハ9の露光領域9c,9b,9aについてレチクル8の第2パターン領域8bのパターンの露光を行い、このときのステージ6の移動方向は図5に示すようになる。
このような動作の結果、図3に示すウエハ9の露光領域9a〜9eには、レチクル8の両パターン領域8a、8bの各パターンが重ねて露光される。このとき、その両パターン領域8a,8bの各パターンの露光条件は、予め同一または別々に設置されている。
このような動作の結果、図3に示すウエハ9の露光領域9a〜9eには、レチクル8の両パターン領域8a、8bの各パターンが重ねて露光される。このとき、その両パターン領域8a,8bの各パターンの露光条件は、予め同一または別々に設置されている。
そして、ウエハ9の露光領域9aにおける2重露光が終了すると、ウエハ9の露光領域9j,9i,9h,9g,9fの2重露光に移行する。このために、制御部7は、ステージ6をY方向(前方向)に所定量移動させるとともに、その移動中に移動遮光板4を図1の位置に移動させてレチクル8の第1パターン領域8aを選択する。
この移動が終了すると、ウエハ9の露光領域9j,9i,9h,9g,9fの2重露光を、ウエハ9の露光領域9a〜9eにおける2重露光の場合と同様な動作により行う。このときのステージ6の移動方向は、図5のようになる。
この移動が終了すると、ウエハ9の露光領域9j,9i,9h,9g,9fの2重露光を、ウエハ9の露光領域9a〜9eにおける2重露光の場合と同様な動作により行う。このときのステージ6の移動方向は、図5のようになる。
さらに、ウエハ9の露光領域9jにおける2重露光が終了すると、ウエハ9の露光領域9k〜9oにおける2重露光に移行する。このために、制御部7は、ステージ6をY方向(前方向)に所定量移動させるとともに、その移動中に移動遮光板4を図1の位置に移動させてレチクル8の第1パターン領域8aを選択する。
この移動が終了すると、ウエハ9の露光領域9k〜9oにおける2重露光を行い、このときのステージ6の移動方向は、図5のようになる。
この移動が終了すると、ウエハ9の露光領域9k〜9oにおける2重露光を行い、このときのステージ6の移動方向は、図5のようになる。
以上説明したように、第1実施形態の第2の露光方法では、第1の露光方法と同様に、パターン領域8a、8bの選択が必要なときには、ステージ6の移動中にあらかじめ選択しておき、ステージ6の移動終了後に直ちにその選択したパターン領域のパターンをウエハ9の各露光領域に露光するようにした。このため、第2の露光方法によれば、ウエハ9上に2重露光を自動により実現できる上に、その露光の高速処理を実現できる。
また、第2の露光動作では、第1の露光方法と比較して移動遮光板4の移動回数を大幅に減少できる上に、ステージ6の移動方向がまちまちとならないので、その制御が容易となる。
次に、本発明の露光装置の第2実施形態の構成について、図1、図6および図7を参照して説明する。
次に、本発明の露光装置の第2実施形態の構成について、図1、図6および図7を参照して説明する。
この第2実施形態に係る露光装置は、図1に示す第1実施形態の露光装置の構成を基本とし、原版であるレチクルを図2に示すレチクル8から図6に示すレチクル18に置き換えるとともに、移動遮光板4をX方向とY方向にそれぞれ移動自在に配置される移動遮光板4aと移動遮光板4bに置き換えるようにしたものである。
レチクル18は、例えば図6に示すように、4種類の第1パターン領域18a、第2パターン領域18b、第3パターン領域18c、および第4パターン領域18dが分かれて形成されている。
レチクル18は、例えば図6に示すように、4種類の第1パターン領域18a、第2パターン領域18b、第3パターン領域18c、および第4パターン領域18dが分かれて形成されている。
移動遮光板4aは、図7に示すように固定遮光板3の上側に、X方向に移動自在に配置されている。また、移動遮光板4bは、図7に示すように移動遮光板の上側に、Y方向に移動自在に配置されている。そして、この両移動遮光板4a,4bは、制御部7によりその移動や停止がそれぞれ制御され、レチクル18のパターン領域18a〜18dのうちの1つを選択できるようになっている。図7は、レチクル18の第3パターン領域18dが選択されている状態を示す。
なお、この第2実施形態の他の部分の構成は、図1に示す露光装置と同様であるのでその説明は省略する。
次に、このように構成される第2実施形態の露光方法について、図1、図3、図6〜図8を参照して説明する。
この例では、図1に示す固定遮光板3の下側に図6に示すようなレチクル18がセットされ、ステージ6上には図3に示すようなウエハ9がセットされ、レチクル18の第1パターン領域18a〜第4パターン領域18dの各パターンを、ウエハ9上の同一の露光領域9a〜9oに重ねて露光する場合について説明する。
次に、このように構成される第2実施形態の露光方法について、図1、図3、図6〜図8を参照して説明する。
この例では、図1に示す固定遮光板3の下側に図6に示すようなレチクル18がセットされ、ステージ6上には図3に示すようなウエハ9がセットされ、レチクル18の第1パターン領域18a〜第4パターン領域18dの各パターンを、ウエハ9上の同一の露光領域9a〜9oに重ねて露光する場合について説明する。
まず、制御部7は、ステージ6を露光開始位置に移動させるとともに、この移動中に移動遮光板4a,4bを移動させてレチクル18の第1パターン領域18aを選択する。この移動が終了すると、ステージ6上のウエハ9の露光領域9aに選択されている第1パターン領域18aのパターンが直ちに露光可能であるので、制御部7はその露光を直ちに行う(図3参照)。
次に、制御部7は、ステージ6をY方向(後方向)に所定量だけ移動させるとともに、この移動中に移動遮光板4a,4bを移動させてレチクル18の第2パターン領域18bを選択する。ステージ6の移動が終了すると、ステージ6上のウエハ9の露光領域9aに選択されている第2パターン領域18bのパターンが直ちに露光可能であるので、制御部7はその露光を直ちに行う。
この結果、図3に示すウエハ9の露光領域9aには、レチクル18の第1パターン領域18aと第2パターン領域18bの両パターンが重ねて露光される。このとき、その第1パターン領域18aと第2パターン領域18bの各パターンの露光条件は、予め同一または別々に設置されている。
次に、制御部7は、ステージ6をX方向(左方向)に所定量だけ移動させ、このときには、移動遮光板4a,4bを移動させないので、レチクル18の第2パターン領域18bが選択されることになる。そのステージ6の移動が終了すると、ステージ6上のウエハ9の露光領域9bに選択されている第2パターン領域18bのパターンが直ちに露光可能であるので、制御部7はその露光を直ちに行う。
次に、制御部7は、ステージ6をX方向(左方向)に所定量だけ移動させ、このときには、移動遮光板4a,4bを移動させないので、レチクル18の第2パターン領域18bが選択されることになる。そのステージ6の移動が終了すると、ステージ6上のウエハ9の露光領域9bに選択されている第2パターン領域18bのパターンが直ちに露光可能であるので、制御部7はその露光を直ちに行う。
次に、制御部7は、ステージ6をY方向(前方向)に所定量だけ移動させるとともに、この移動中に移動遮光板4a,4bを移動させてレチクル18の第1パターン領域18aを選択する。ステージ6の移動が終了すると、ステージ6上のウエハ9の露光領域9bに選択されている第1パターン領域18aのパターンが直ちに露光可能であるので、制御部7はその露光を直ちに行う。
この結果、図3に示すウエハ9の露光領域9bには、レチクル18の第1パターン領域18aと第2パターン領域18bの両パターンが重ねて露光される。
これらの動作を繰り返すことにより、図3に示すウエハ9の露光領域9c〜9dには、レチクル18の第1パターン領域18aと第2パターン領域18bの両パターンが重ねて露光される。
これらの動作を繰り返すことにより、図3に示すウエハ9の露光領域9c〜9dには、レチクル18の第1パターン領域18aと第2パターン領域18bの両パターンが重ねて露光される。
ここで、ウエハ9の露光領域9a〜9eにレチクル18の第1パターン領域18aと第2パターン領域18bの各パターンが露光される場合のステージ6の移動方向(ウエハ9の移動方向)は、図8の上段に示すようになる。
そして、ウエハ9の露光領域9eにレチクル18のパターン領域18a、18bの両パターンの重ね露光が終了すると、その同じ露光領域9eにおけるレチクル18のパターン領域18c、18dの各パターンの露光を開始する。
そして、ウエハ9の露光領域9eにレチクル18のパターン領域18a、18bの両パターンの重ね露光が終了すると、その同じ露光領域9eにおけるレチクル18のパターン領域18c、18dの各パターンの露光を開始する。
このため、制御部7は、ステージ6をX方向(右方向)に所定量だけ移動させるとともに、この移動中に移動遮光板4a,4bを移動させてレチクル18の第4パターン領域18dを選択する。そのステージ6の移動が終了すると、ステージ6上のウエハ9の露光領域9eに第4パターン領域18dのパターンが露光可能であるので、制御部7はその露光を直ちに行う。
次に、制御部7は、ステージ6をY方向(前方向)に所定量だけ移動させるとともに、この移動中に移動遮光板4a,4bを移動させてレチクル18の第3パターン領域18cを選択する。この移動が終了すると、ステージ6上のウエハ9の露光領域9eに第3パターン領域18cのパターンが露光可能であるので、制御部7はその露光を直ちに行う。
この結果、図3に示すウエハ9の露光領域9eには、レチクル18の第3パターン領域18cと第4パターン領域18dの両パターンが露光される。このとき、その第3パターン領域18cと第4パターン領域18dの各パターンの露光条件は、予め同一または別々に設置されている。
この結果、図3に示すウエハ9の露光領域9eには、レチクル18の第3パターン領域18cと第4パターン領域18dの両パターンが露光される。このとき、その第3パターン領域18cと第4パターン領域18dの各パターンの露光条件は、予め同一または別々に設置されている。
次に、制御部7は、ステージ6をX方向(右方向)に所定量だけ移動させ、このときには、移動遮光板4a,4bを移動させないので、レチクル18の第3パターン領域18cが選択されることになる。そのステージ6の移動が終了すると、ステージ6上のウエハ9の露光領域9dに第3パターン領域18cのパターンが露光可能であるので、制御部7はその露光を直ちに行う。
次に、制御部7は、ステージ6をY方向(後方向)に所定量だけ移動させるとともに、この移動中に移動遮光板4a,4bを移動させてレチクル18の第4パターン領域18dを選択する。この移動が終了すると、ステージ6上のウエハ9の露光領域9dに第4パターン領域18dのパターンが露光可能であるので、制御部7はその露光を直ちに行う。
この結果、図3に示すウエハ9の露光領域9dには、レチクル18の第3パターン領域18cと第4パターン領域18dの両パターンが露光される。
この結果、図3に示すウエハ9の露光領域9dには、レチクル18の第3パターン領域18cと第4パターン領域18dの両パターンが露光される。
これらの動作を繰り返すことにより、図3に示すウエハ9の露光領域9c,9b,9aには、レチクル18の第3パターン領域18cと第4パターン領域18dの各パターンが露光される。
ここで、ウエハ9の露光領域9e,9d,9c,9b,9aにレチクル18の第3パターン領域18cと第4パターン領域18dの各パターンが露光される場合のステージ6の移動方向(ウエハ9の移動方向)は、図8の下段に示すようになる。
ここで、ウエハ9の露光領域9e,9d,9c,9b,9aにレチクル18の第3パターン領域18cと第4パターン領域18dの各パターンが露光される場合のステージ6の移動方向(ウエハ9の移動方向)は、図8の下段に示すようになる。
このような処理により、ウエハ9の露光領域9a〜9eにおけるレチクル18の第1パターン領域18a〜第4パターン領域18dの各パターンの4重露光が終了する。
なお、ウエハ9の他の露光領域9f〜9oについても、露光領域9a〜9eの場合と同様の手順により4重露光を実現できるので、その説明は省略する。
以上説明したように、第2実施形態によれば、4種類のパターン領域18a〜18dを有するレチクル18を使用できるとともに、そのパターン領域18a〜18dのうちの1つを次の露光に先立って選択しておき、ステージ6の移動終了後に直ちにその選択してあるパターン領域のパターンをウエハ9の各露光領域に露光するようにした。
なお、ウエハ9の他の露光領域9f〜9oについても、露光領域9a〜9eの場合と同様の手順により4重露光を実現できるので、その説明は省略する。
以上説明したように、第2実施形態によれば、4種類のパターン領域18a〜18dを有するレチクル18を使用できるとともに、そのパターン領域18a〜18dのうちの1つを次の露光に先立って選択しておき、ステージ6の移動終了後に直ちにその選択してあるパターン領域のパターンをウエハ9の各露光領域に露光するようにした。
このため、第2実施形態によれば、ウエハ9上に2重〜4重の露光を自動により実現できる上に、その露光の高速処理を実現できる。
次に、本発明の露光装置の第3実施形態の構成について、図1および図9を参照して説明する。
この第3実施形態に係る露光装置は、図1に示す第1実施形態の露光装置の構成を基本とし、レチクル8a,8bを同時にセットできるレチクル搭載テーブル21を固定遮光板3の下部に設け、そのレチクル搭載テーブル21の移動によりレチクル8aまたはレチクル8bを選択的に使用できるようにしたものである。
次に、本発明の露光装置の第3実施形態の構成について、図1および図9を参照して説明する。
この第3実施形態に係る露光装置は、図1に示す第1実施形態の露光装置の構成を基本とし、レチクル8a,8bを同時にセットできるレチクル搭載テーブル21を固定遮光板3の下部に設け、そのレチクル搭載テーブル21の移動によりレチクル8aまたはレチクル8bを選択的に使用できるようにしたものである。
すなわち、レチクル搭載テーブル21は、固定遮光板3の下側に矢印方向に移動自在に配置されるとともに、レチクル8aとレチクル8bとをレチクル搭載テーブル21の所定位置にそれぞれセットして使用できるようになっている。レチクル8a、8bは、図2に示すレチクル8と同様に、2種類のパターン領域が分割して形成されたものである。
制御部27は、移動遮光板4、レチクル搭載テーブル21、およびステージ6の移動、停止をそれぞれ制御するようになっている。
制御部27は、移動遮光板4、レチクル搭載テーブル21、およびステージ6の移動、停止をそれぞれ制御するようになっている。
なお、この第3実施形態に係る露光装置の他の部分の構成は、図1に示す露光装置の構成と同様であるので、同一構成要素には同一符号を付してその説明を省略する。
このように第3実施形態では、レチクル8a、8bをセットできるレチクル搭載テーブル21を設けるようにしたので、そのレチクル搭載テーブル21の移動制御によりレチクル8a,8bを選択的に使用でき、2重〜4重の露光の対応できる。
このように第3実施形態では、レチクル8a、8bをセットできるレチクル搭載テーブル21を設けるようにしたので、そのレチクル搭載テーブル21の移動制御によりレチクル8a,8bを選択的に使用でき、2重〜4重の露光の対応できる。
また、制御部27の制御により、第1実施形態の第1の露光方法と同じ露光方法で行うようにすれば、その露光動作を高速に実現することができる。
ここで、図9において、レチクル8a,8bを図6に示すようなレチクル18に置き換え、これに伴って移動遮光板4を図7に示す移動遮光板4a,4bに置き換えれば、ウエハ9の各露光領域において2重〜8重の露光に対応できる。
ここで、図9において、レチクル8a,8bを図6に示すようなレチクル18に置き換え、これに伴って移動遮光板4を図7に示す移動遮光板4a,4bに置き換えれば、ウエハ9の各露光領域において2重〜8重の露光に対応できる。
1・・・光源、2、5・・・レンズ、3・・・固定遮光板、4・・・移動遮光板、6・・・ステージ、7・・・制御部、8・・・レチクル、8a,8b・・・パターン領域、9・・・ウエハ。
Claims (7)
- 1枚の原版上に複数種類のパターン領域を分けて形成しておき、前記複数のパターン領域の各パターンを、被露光基板上の同一の露光領域に重ねて露光する露光方法であって、
前記原版を所定位置に固定しておき、前記被露光基板を同一平面内において予め定めた規則に従ってX方向またはY方向のいずれか一方に所定量ずつ移動させ、この移動中に複数のパターン領域のうちの予め定めてある1つを選択するようにし、
前記被露光基板の移動が終了するたびに、その被露光基板上の同一の各露光領域にその選択されているパターン領域のパターンを重ねて露光するようにしたことを特徴とする露光方法。 - 1枚の原版上に複数種類のパターン領域を分けて形成しておき、前記複数のパターン領域の各パターンを、被露光基板上の同一の露光領域に重ねて露光する露光方法であって、
前記原版上には、2種類の第1パターン領域と第2パターン領域とを分けて形成しておくとともに、その原版を所定位置に固定しておき、
前記被露光基板を同一平面内においてX方向とY方向に交互に所定量ずつ移動させ、この移動中に予め定めてある第1パターン領域または第2パターン領域のいずれか一方を選択するようにし、
前記被露光基板の移動が終了するたびに、前記被露光基板上の同一の各露光領域にその選択されているパターン領域のパターンを重ねて露光するようにしたことを特徴とする露光方法。 - 前記原版上の2種類のパターン領域の選択は、所定方向に移動自在な遮光板で行うようにし、その選択に前記遮光板の移動が必要なときには、遮光板を前記被露光基板の移動中に移動するようにしたことを特徴とする請求項2に記載の露光方法。
- 1枚の原版上に複数種類のパターン領域を分けて形成しておき、前記複数種類のパターン領域の各パターンを、被露光基板上の同一の露光領域に重ねて露光する露光方法であって、
前記原版上には、4種類のパターン領域を分けて形成しておくとともに、その原版を所定位置に固定しておき、
前記被露光基板を同一平面内においてX方向とY方向に交互に所定量ずつ移動させ、この移動中に予め定めてある前記4種類のパターン領域のうちの1つを選択するようにし、
前記被露光基板の移動が終了するたびに、前記被露光基板上の同一の各露光領域にその選択されているパターン領域のパターンを重ねて露光するようにしたことを特徴とする露光方法。 - 前記原版上の4種類のパターン領域のうちの1つの選択は、所定方向に移動自在な2つの遮光板で行うようにし、その選択に前記2つの遮光板のうちの少なくとも一方の移動が必要なときには、その遮光板を前記被露光基板の移動中に移動するようにしたことを特徴とする請求項4に記載の露光方法。
- 1枚の原版上に複数種類のパターン領域を分けて形成しておき、前記複数のパターン領域の各パターンを、被露光基板上の同一の露光領域に重ねて露光する露光方法であって、
前記原版上には、2種類の第1パターン領域と第2パターン領域とを分けて形成しておくとともに、その原版を所定位置に固定しておき、
前記第1パターン領域を選択し、前記被露光基板をX方向に所定量ずつ移動させ、前記被露光基板の移動が終了するたびに、前記被露光基板上の各露光領域にその選択されている第1パターン領域のパターンを露光し、
その露光の終了後に、前記被露光基板をY方向に所定量移動させ、この移動中に前記第2パターン領域を選択し、その被露光基板の移動の終了後に、直ちに前記被露光基板上の露光領域にその選択されている第2パターン領域のパターンを露光し、
さらに、前記被露光基板をX方向に所定量ずつ移動させ、前記被露光基板の移動が終了するたびに、前記被露光基板上の各露光領域と同一領域にその選択されている第2パターン領域のパターンを露光するようにしたことを特徴とする露光方法。 - 所定位置にセットされる原版のパターンを、同一平面内においてX方向とY方向に移動自在なステージ上にセットされた被露光基板に、投影光学系を用いて露光できるようになっている露光装置において、
前記原版上には、2種類の第1パターン領域と第2パターン領域とを分けて形成しておき、
移動自在であるとともに、前記原版に照射される光を遮断することにより前記両パターンのうちのいずれか一方を選択する遮光板と、
前記ステージ上の所定位置に前記被露光基板をセットさせた状態で、前記ステージをX方向とY方向に交互に所定量ずつ移動させ、この移動中に前記遮光板の移動が必要なときには遮光板をその移動中に移動させ、その移動が不要のときには遮光板を移動させずに第1パターン領域または第2パターン領域のいずれか一方を選択し、前記被露光基板の移動が終了するたびに、前記被露光基板上の同一の各露光領域にその選択されているパターン領域のパターンを重ねて露光する制御部と、
を備えていることを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003324590A JP2005093683A (ja) | 2003-09-17 | 2003-09-17 | 露光方法および露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2003324590A JP2005093683A (ja) | 2003-09-17 | 2003-09-17 | 露光方法および露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005093683A true JP2005093683A (ja) | 2005-04-07 |
Family
ID=34455299
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2003324590A Pending JP2005093683A (ja) | 2003-09-17 | 2003-09-17 | 露光方法および露光装置 |
Country Status (1)
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JP (1) | JP2005093683A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7737049B2 (en) | 2007-07-31 | 2010-06-15 | Qimonda Ag | Method for forming a structure on a substrate and device |
CN103293873A (zh) * | 2012-02-28 | 2013-09-11 | 佳能株式会社 | 曝光装置和使用曝光装置的器件制造方法 |
-
2003
- 2003-09-17 JP JP2003324590A patent/JP2005093683A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US9134619B2 (en) | 2012-02-28 | 2015-09-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and device manufacturing method using same |
US9568836B2 (en) | 2012-02-28 | 2017-02-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and device manufacturing method using same |
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