CN214375821U - 多阶曝光装置 - Google Patents
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Abstract
一种多阶曝光装置，包括有一工作平台，其设有一用以搭载晶圆的载台。工作平台的上方设有一DMD曝光机，其具有复数个构成阵列的微反射镜，此DMD曝光机电性连接一控制单元，其可接受复数个曝光参数的设定，进而控制DMD曝光机中各微反射镜的作动，以在同一晶圆上分别成形曝光图形，据此在晶圆上形成多个曝光层次。
Description
技术领域
本实用新型与黄光微影制程有关，尤指一种可以多阶段进行的曝光装置。
背景技术
习知使用光罩的曝光机要做出多个曝光层次的图案，通常是利用多灰阶光罩，其分为gray-tone mask和half-tone mask两种。gray-tone mask是在光罩上制作曝光机解析度以下的微缝，half-tone mask则利用半透过的膜(semitransparent film)，以遮住部分光源，进而产生曝光部分、半曝光部分及未曝光部分等三个层次，在显影后形成不同厚度的光阻层。然而光罩一经制作完成，其结构即告固定而不能再变化，如欲进行其他专案工作，则必须制作另一套光罩，而有成本较高的缺点。
有鉴于此，如何改进上述问题即为本实用新型所欲解决的首要课题。
实用新型内容
本实用新型的主要目的在于提供一种多阶曝光装置，其通过多个曝光参数控制DMD曝光机对同一个晶圆产生不同的曝光图形，以达成多个曝光层次，据此降低成本。
为达前述的目的，本实用新型提供一种多阶曝光装置，其包括有：
一工作平台，其设有一用以搭载晶圆的载台；
一设于该工作平台上方的DMD曝光机，其具有复数个构成阵列的微反射镜；
一与该DMD曝光机电性连接的控制单元，其可接受复数个曝光参数的设定，进而控制该DMD曝光机中各微反射镜的作动，以在同一晶圆上分别成形曝光图形。
较佳地，该曝光参数包括有曝光剂量或曝光焦距的资讯。
较佳地，该工作平台设有一轨道，该载台可移动地设于该轨道上。
本实用新型的优点在于：
本实用新型提供的多阶曝光装置，其通过多个曝光参数控制DMD曝光机对同一个晶圆产生不同的曝光图形，以达成多个曝光层次，据此降低成本。
本实用新型的上述目的与优点，不难从以下所选用实施例的详细说明与附图中获得深入了解。
附图说明
图1为本实用新型的立体示意图；
图2A至图2F为本实用新型的使用状态示意图。
具体实施方式
请参阅图1，所示为本实用新型提供的多阶曝光装置，其包括有一工作平台1及一DMD曝光机2(Digital Micromirror Device)。该工作平台1上设有一轨道11，此轨道11上设有一可移动的载台12，该载台12用以搭载晶圆3，据此晶圆3可被载运而在工作平台1上移动。此外，该工作平台1上设有一龙门架13，该DMD曝光机2设于该龙门架13上。
该DMD曝光机2具有复数个构成阵列的微反射镜，并电性连接一控制单元(图中未示)，在该控制单元上设定曝光参数之后，即可控制该DMD曝光机2中各微反射镜的作动，使光线投射在晶圆3上，进而在晶圆3上成形曝光图形。当在该控制单元上设定不同的曝光参数，可在晶圆3上成形不同的曝光图形。于本实施例中，上述的曝光参数包括有曝光剂量及曝光焦距的资讯。
于本实施例中，该控制单元可接受复数个曝光参数的设定，借此先后执行不同的曝光参数，而在同一个晶圆3上成形不同的曝光图形，这些不同曝光图形在整体上可构成不同的曝光层次。
本实用新型于实际使用时，是将晶圆置放在载台上，令晶圆被该载台沿该轨道来回载运，而在经过该DMD曝光机时接受曝光，使晶圆上成形曝光图形。当第一次经过DMD曝光机时，可在晶圆上以第一曝光参数成形如图2A所示的曝光图形，接着在未进行曝光的情形下使载台退回，然后使载台前进以进行第二次曝光，并成形如图2B所示的曝光图形。接着再使载台载运晶圆来回经过DMD曝光机，此时该控制单元以第二曝光参数对晶圆进行曝光，则成形如图2C、2D所示的曝光图形。最后又使载台载运晶圆来回经过DMD曝光机，并以第二曝光参数对晶圆进行曝光，则成形如图2E、2F所示的曝光图形。
上述过程中，每一次曝光所形成的图形虽然不同，但最终可在晶圆上构成一个有层次的整体图形。本实用新型利用DMD曝光机中可被个别控制的微反射镜的作动，迅速地在晶圆上成形不同的曝光图形，达到与习知光罩式曝光机一样的成果，却由于无须更换光罩而具有降低成本的功效。
只是以上实施例的揭示仅用以说明本实用新型，并非用以限制本实用新型，举凡等效元件的置换仍应隶属本实用新型的范畴。
综上所述，可使熟知本领域技术人员明了本实用新型确可达成前述目的，实已符合专利法的规定，爰依法提出申请。
Claims (4)
1.一种多阶曝光装置，其特征在于，其包括有：
一工作平台，其设有一用以搭载晶圆的载台；
一设于该工作平台上方的DMD曝光机，其具有复数个构成阵列的微反射镜；
一与该DMD曝光机电性连接的控制单元，其可接受复数个曝光参数的设定，进而控制该DMD曝光机中各微反射镜的作动，以在同一晶圆上分别成形曝光图形。
2.根据权利要求1所述的多阶曝光装置，其特征在于，该曝光参数包括有曝光剂量的资讯。
3.根据权利要求1所述的多阶曝光装置，其特征在于，该曝光参数包括有曝光焦距的资讯。
4.根据权利要求1所述的多阶曝光装置，其特征在于，该工作平台设有一轨道，该载台可移动地设于该轨道上。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202120501277.8U CN214375821U (zh) | 2021-03-09 | 2021-03-09 | 多阶曝光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202120501277.8U CN214375821U (zh) | 2021-03-09 | 2021-03-09 | 多阶曝光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN214375821U true CN214375821U (zh) | 2021-10-08 |
Family
ID=77970734
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202120501277.8U Active CN214375821U (zh) | 2021-03-09 | 2021-03-09 | 多阶曝光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN214375821U (zh) |
-
2021
- 2021-03-09 CN CN202120501277.8U patent/CN214375821U/zh active Active
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Legal Events
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