JP2005093479A - 半導体装置、半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】高耐圧の半導体装置を提供する。
【解決手段】活性溝22aの一部に活性溝充填領域23aを残し、ゲート溝83の下方に位置する埋込領域24に接続しておく。活性溝充填領域23aをソース電極膜58aに接続し、ソース領域64と同電位になるようにしておく。ベース領域32aと導電層12の間が逆バイアスされるとき、埋込領域24と導電層12の間も逆バイアスされるので、空乏層が一緒に広がり、耐圧が高くなる。
【選択図】 図26
Description
請求項2記載の発明は、前記活性溝充填領域の表面は、前記ソース電極膜に接触された請求項1記載の半導体装置である。
請求項3記載の発明は、前記活性溝充填領域の表面の前記ソース電極膜と接触する部分には、第二導電型の不純物層が拡散によって形成された請求項2記載の半導体装置である。
請求項4記載の発明は、前記ソース電極膜は前記ベース領域に接触され、
前記活性溝充填領域は、前記ベース領域に接触された請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の半導体装置である。
請求項5記載の発明は、前記ゲート溝は細長に形成され、その長手方向両端に、前記活性溝充填領域が配置された請求項1乃至請求項4のいずれか1項記載の半導体装置である。
請求項6記載の発明は、前記処理基板に形成された活性溝を有し、前記埋込領域は、前記活性溝の底面上に配置され、前記ゲート溝は、前記活性溝の前記埋込領域よりも上の部分で構成され、前記活性溝充填領域は、前記活性溝の底面上に配置され、上部が前記ベース領域の表面よりも高く形成された請求項1乃至請求項5のいずれか1項記載の半導体装置である。
請求項7記載の発明は、前記ゲート溝を同心状に取り囲み、所定間隔で離間された複数本のリング状のガード溝と、前記ガード溝内に配置された第二導電型のガード溝充填領域とを有する請求項1乃至請求項6のいずれか1項記載の半導体装置である。
請求項8記載の発明は、前記導電層上に配置されたフィールド絶縁膜を有し、前記ガード溝の上部は前記フィールド絶縁膜の内部に位置し、前記ガード溝充填領域の上部は、前記絶縁膜の内部の前記ガード溝内部に位置する請求項1乃至請求項7のいずれか1項記載の半導体装置である。
請求項9記載の発明は、前記活性溝の上部は、前記絶縁膜の内部に位置し、前記活性溝充填領域の上部は、前記絶縁膜の内部の前記活性溝内部に位置する請求項8記載の半導体装置である。
請求項10記載の発明は、前記処理基板の裏面には、前記導電層に接続されたドレイン電極膜が配置された請求項1乃至請求項9のいずれか1項記載の半導体装置である。
請求項11記載の発明は、前記処理基板の裏面には、前記導電層と接触する第二導電型のコレクタ層と、前記コレクタ層と電気的に接続されたコレクタ電極膜が配置された請求項1乃至請求項9のいずれか1項記載の半導体装置である。
請求項12記載の発明は、前記処理基板の裏面には、前記導電層とショットキー接合を形成するショットキー電極膜が配置された請求項1乃至請求項9のいずれか1項記載の半導体装置である。
請求項13記載の発明は、第一導電型の導電層を有する処理基板と、前記導電層の内部表面に形成された第二導電型のベース領域と、前記導電層の前記ベース領域が配置された位置に底部が前記ベース領域の底面よりも深く形成されたゲート溝と、前記ゲート溝の側面に配置されたゲート絶縁膜と、前記ゲート溝内に配置され、前記ゲート絶縁膜と接触されたゲート電極プラグと、前記ベース領域内の前記ゲート絶縁膜と接触する位置に配置され、前記ベース領域によって前記導電層から分離された第一導電型のソース領域と、前記ゲート溝の下方位置に配置され、前記ゲート電極プラグとは絶縁された第二導電型の埋込領域と、前記ソース領域に接触されたソース電極膜と、前記埋込領域に接触し、前記ソース電極膜と電気的に短絡された第二導電型の活性溝充填領域とを有する半導体装置を製造する半導体装置の製造方法であって、前記ベース領域を形成した後、上部に前記ベース領域が露出し、下部に前記導電層が露出する活性溝を形成し、前記活性溝内に第二導電型の半導体充填物を成長させた後、前記半導体充填物の一部領域の上部を前記ベース領域の底面よりも低い位置まで除去し、残された下部によって前記埋込領域を形成し、前記半導体充填物が除去された部分によって前記ゲート溝を構成させ、前記半導体充填物の上部が除去されなかった部分により、前記ベース領域と接触された活性溝充填領域を構成させる半導体装置の製造方法である。
請求項14記載の発明は、前記活性溝充填領域の表面に第二導電型の不純物を拡散させて拡散領域を形成し、前記ソース領域と前記拡散領域とにオーミック接合を形成するソース電極膜を形成する請求項13記載の半導体装置の製造方法である。
本実施例及び後述する各実施例では、p型又はn型のうちのいずれか一方を第一導電型とし、他方を第二導電型とする。従って、第一導電型がn型であれば第二導電型はp型であり、逆に、第一導電型がp型であれば第二導電型はn型であり、本発明にはその両方が含まれる。
図1の符号1は、本発明の第一の実施例の半導体装置を示している。この図1は、半導体装置1の拡散構造を説明するための平面図である。
また、各ガード溝22b1〜22b3の底面から開口の間にも、第二導電型の半導体単結晶が配置され、それによってガード溝充填領域23b1〜23b3が形成されている。
上記のような半導体装置1の製造工程を説明する。
図2(a)〜(c)を参照し、符号10は、製造工程で処理される処理基板を示している。この処理基板10は、上述したように、第一導電型のシリコン単結晶から成る単結晶基板11と、該単結晶基板11上にシリコンのエピタキシャル成長によって形成された第一導電型の導電層12とを有している。
ベース領域32a内部表面の第二導電型の高濃度不純物層61aの幅は、ゲート溝83とゲート溝83の間の距離よりも短く、その高濃度不純物層61aとゲート絶縁膜45との間には、ベース領域32aが残っている。
図26(a)〜(c)のG−G線切断面図は、図1に示した通りである。
この半導体装置4は、第一の実施例の半導体装置1のベース領域32aの下に、導電層12よりも高濃度の第一導電型の低抵抗領域29を有している。他の構造は、第一の実施例の半導体装置1と同じである。
なお、上記の活性溝充填領域23aとガード溝充填領域23bは、活性溝22aやガード溝22b1〜22b3内にエピタキシャル成長されたシリコン単結晶で構成されていたが、単結晶ではなく、多結晶を成長させ、多結晶の充填領域にすることができる。
10……処理基板
11……単結晶基板
11’……コレクタ層
12……導電層
22a……活性溝
22b1〜22b3……ガード溝
23a……活性溝充填領域
23b1〜23b3……ガード溝充填領域
24……埋込領域
32a……ベース領域
43……フィールド絶縁膜
45……ゲート絶縁膜
48……ゲート電極プラグ
58a……ソース電極膜
58b……ゲート電極膜
64……ソース領域
71……ドレイン電極膜
71'……コレクタ電極膜
72……ショットキー電極膜
83……ゲート溝
Claims (14)
- 第一導電型の導電層を有する処理基板と、
前記導電層の内部表面に形成された第二導電型のベース領域と、
前記導電層の前記ベース領域が配置された位置に底部が前記ベース領域の底面よりも深く形成されたゲート溝と、
前記ゲート溝の側面に配置されたゲート絶縁膜と、
前記ゲート溝内に配置され、前記ゲート絶縁膜と接触されたゲート電極プラグと、
前記ベース領域内の前記ゲート絶縁膜と接触する位置に配置され、前記ベース領域によって前記導電層から分離された第一導電型のソース領域と、
前記ゲート溝の下方位置に配置され、前記ゲート電極プラグとは絶縁された第二導電型の埋込領域と、
前記ソース領域に接触されたソース電極膜と、
前記埋込領域に接触し、前記ソース電極膜と電気的に短絡された第二導電型の活性溝充填領域とを有する半導体装置。 - 前記活性溝充填領域の表面は、前記ソース電極膜に接触された請求項1記載の半導体装置。
- 前記活性溝充填領域の表面の前記ソース電極膜と接触する部分には、第二導電型の不純物層が拡散によって形成された請求項2記載の半導体装置。
- 前記ソース電極膜は前記ベース領域に接触され、
前記活性溝充填領域は、前記ベース領域に接触された請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の半導体装置。 - 前記ゲート溝は細長に形成され、その長手方向両端に、前記活性溝充填領域が配置された請求項1乃至請求項4のいずれか1項記載の半導体装置。
- 前記処理基板に形成された活性溝を有し、
前記埋込領域は、前記活性溝の底面上に配置され、
前記ゲート溝は、前記活性溝の前記埋込領域よりも上の部分で構成され、
前記活性溝充填領域は、前記活性溝の底面上に配置され、上部が前記ベース領域の表面よりも高く形成された請求項1乃至請求項5のいずれか1項記載の半導体装置。 - 前記ゲート溝を同心状に取り囲み、所定間隔で離間された複数本のリング状のガード溝と、
前記ガード溝内に配置された第二導電型のガード溝充填領域とを有する請求項1乃至請求項6のいずれか1項記載の半導体装置。 - 前記導電層上に配置されたフィールド絶縁膜を有し、前記ガード溝の上部は前記フィールド絶縁膜の内部に位置し、
前記ガード溝充填領域の上部は、前記絶縁膜の内部の前記ガード溝内部に位置する請求項1乃至請求項7のいずれか1項記載の半導体装置。 - 前記活性溝の上部は、前記絶縁膜の内部に位置し、前記活性溝充填領域の上部は、前記絶縁膜の内部の前記活性溝内部に位置する請求項8記載の半導体装置。
- 前記処理基板の裏面には、前記導電層に接続されたドレイン電極膜が配置された請求項1乃至請求項9のいずれか1項記載の半導体装置。
- 前記処理基板の裏面には、前記導電層と接触する第二導電型のコレクタ層と、
前記コレクタ層と電気的に接続されたコレクタ電極膜が配置された請求項1乃至請求項9のいずれか1項記載の半導体装置。 - 前記処理基板の裏面には、前記導電層とショットキー接合を形成するショットキー電極膜が配置された請求項1乃至請求項9のいずれか1項記載の半導体装置。
- 第一導電型の導電層を有する処理基板と、
前記導電層の内部表面に形成された第二導電型のベース領域と、
前記導電層の前記ベース領域が配置された位置に底部が前記ベース領域の底面よりも深く形成されたゲート溝と、
前記ゲート溝の側面に配置されたゲート絶縁膜と、
前記ゲート溝内に配置され、前記ゲート絶縁膜と接触されたゲート電極プラグと、
前記ベース領域内の前記ゲート絶縁膜と接触する位置に配置され、前記ベース領域によって前記導電層から分離された第一導電型のソース領域と、
前記ゲート溝の下方位置に配置され、前記ゲート電極プラグとは絶縁された第二導電型の埋込領域と、
前記ソース領域に接触されたソース電極膜と、
前記埋込領域に接触し、前記ソース電極膜と電気的に短絡された第二導電型の活性溝充填領域とを有する半導体装置を製造する半導体装置の製造方法であって、
前記ベース領域を形成した後、上部に前記ベース領域が露出し、下部に前記導電層が露出する活性溝を形成し、
前記活性溝内に第二導電型の半導体充填物を成長させた後、前記半導体充填物の一部領域の上部を前記ベース領域の底面よりも低い位置まで除去し、残された下部によって前記埋込領域を形成し、
前記半導体充填物が除去された部分によって前記ゲート溝を構成させ、
前記半導体充填物の上部が除去されなかった部分により、前記ベース領域と接触された活性溝充填領域を構成させる半導体装置の製造方法。 - 前記活性溝充填領域の表面に第二導電型の不純物を拡散させて拡散領域を形成し、
前記ソース領域と前記拡散領域とにオーミック接合を形成するソース電極膜を形成する請求項13記載の半導体装置の製造方法。
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