JP2005072565A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2005072565A5
JP2005072565A5 JP2004216869A JP2004216869A JP2005072565A5 JP 2005072565 A5 JP2005072565 A5 JP 2005072565A5 JP 2004216869 A JP2004216869 A JP 2004216869A JP 2004216869 A JP2004216869 A JP 2004216869A JP 2005072565 A5 JP2005072565 A5 JP 2005072565A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
irradiation apparatus
laser beam
optical waveguide
cylindrical lens
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2004216869A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2005072565A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2004216869A priority Critical patent/JP2005072565A/ja
Priority claimed from JP2004216869A external-priority patent/JP2005072565A/ja
Publication of JP2005072565A publication Critical patent/JP2005072565A/ja
Publication of JP2005072565A5 publication Critical patent/JP2005072565A5/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Claims (8)

  1. ーザビームを第1の方向に分割するシリンドリカルレンズアレイと、
    前記シリンドリカルレンズアレイによって分割されたレーザビームを合成する凸シリンドリカルレンズと
    前記第1の方向において前記レーザビームの強度分布を均一化する光導波路とを有し、
    前記凸シリンドリカルレンズによって、前記シリンドリカルレンズアレイによって分割されたレーザビームは複数の焦点をむすび、
    前記光導波路は、向かい合う2つの反射面を有することを特徴とするレーザ照射装置。
  2. レーザビームを第1の方向及び前記第1の方向と直交する第2の方向に分割するフライアイレンズと、
    前記フライアイレンズによって分割されたレーザビームを合成する球面レンズと、
    前記第1の方向及び前記第2の方向において前記レーザビームの強度分布を均一化する光導波路とを有し、
    前記球面レンズによって、前記フライアイレンズによって分割されたレーザビームは複数の焦点をむすび、
    前記光導波路は向かい合う2つの反射面を2組有することを特徴とするレーザ照射装置。
  3. 請求項1において、
    前記複数の焦点は前記凸シリンドリカルレンズと前記光導波路の間に形成されることを特徴とするレーザ照射装置。
  4. 請求項2において、
    前記複数の焦点は前記球面レンズと前記光導波路の間に形成されることを特徴とするレーザ照射装置。
  5. 請求項1乃至請求項4のいずれか一において、
    前記レーザビームを出力するレーザ発振器はエキシマレーザ、YAGレーザ、ガラスレーザのいずれかであることを特徴とするレーザ照射装置。
  6. 請求項1乃至請求項4のいずれか一において、
    前記レーザビームを出力するレーザ発振器はYVOレーザ、YLFレーザ、Arレーザのいずれかであることを特徴とするレーザ照射装置。
  7. 請求項1乃至請求項6のいずれか一において、
    射面を前記レーザビームに対し相対的に移動させる移動ステージを有することを特徴とするレーザ照射装置。
  8. 請求項において、
    記照射面を前記移動ステージに運搬する運搬装置を有することを特徴とするレーザ照射装置。
JP2004216869A 2003-08-04 2004-07-26 ビームホモジナイザおよびレーザ照射装置、並びに半導体装置の作製方法 Withdrawn JP2005072565A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004216869A JP2005072565A (ja) 2003-08-04 2004-07-26 ビームホモジナイザおよびレーザ照射装置、並びに半導体装置の作製方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003286304 2003-08-04
JP2004216869A JP2005072565A (ja) 2003-08-04 2004-07-26 ビームホモジナイザおよびレーザ照射装置、並びに半導体装置の作製方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005072565A JP2005072565A (ja) 2005-03-17
JP2005072565A5 true JP2005072565A5 (ja) 2007-08-16

Family

ID=34425157

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004216869A Withdrawn JP2005072565A (ja) 2003-08-04 2004-07-26 ビームホモジナイザおよびレーザ照射装置、並びに半導体装置の作製方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005072565A (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7411735B2 (en) * 2005-12-06 2008-08-12 3M Innovative Property Company Illumination system incorporating collimated light source

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0242717A (ja) * 1988-08-03 1990-02-13 Hitachi Ltd エネルギービーム照射方法
JP3285957B2 (ja) * 1992-09-29 2002-05-27 株式会社東芝 光学装置
JP3612018B2 (ja) * 1992-12-04 2005-01-19 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置の作製方法
JPH0727993A (ja) * 1993-07-07 1995-01-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光ビーム均一化光学系
JP2597464B2 (ja) * 1994-03-29 1997-04-09 株式会社ジーティシー レーザアニール装置
JPH10258383A (ja) * 1997-03-14 1998-09-29 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 線状レーザビーム光学系
JPH11212021A (ja) * 1998-01-27 1999-08-06 Toshiba Corp レーザ光照射装置
JP2002025897A (ja) * 2000-07-10 2002-01-25 Nikon Corp 照明光学装置、該照明光学装置を備えた露光装置、および該露光装置を用いたマイクロデバイス製造方法
JP2002139697A (ja) * 2000-11-02 2002-05-17 Mitsubishi Electric Corp 複数レーザビームを用いたレーザ光学系とレーザアニーリング装置
JP2003344802A (ja) * 2002-05-23 2003-12-03 Toshiba Corp レーザ照射装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7991037B2 (en) Multi-beam laser apparatus
JP4808733B2 (ja) 光均質化装置
JP5548127B2 (ja) 線状のビーム断面を有するレーザビームを生成するための方法及び構成
JP2002141301A5 (ja)
WO2013146197A1 (ja) レーザアニール装置及びレーザアニール方法
WO2007053338A3 (en) Systems and methods to shape laser light as a homogeneous line beam for interaction with a film deposited on a substrate
US20180011330A1 (en) Line beam forming device
ATE350789T1 (de) Laserverstärker und laserresonator mit mehreren laseraktiven medien
JP2005028428A (ja) レーザ加工装置
TW200741676A (en) Optical medium recording
KR102589766B1 (ko) 레이저 장치
JP2006156984A5 (ja)
JP2005072565A5 (ja)
JP2004297058A5 (ja)
JP2005109359A (ja) レーザ装置及び液晶表示装置の製造方法
JP2005311340A5 (ja)
JP2003290941A (ja) レーザーマーカ
KR20060037568A (ko) 듀얼 빔 레이저 가공 시스템
TW201343295A (zh) 雷射網點加工之光學系統
US20100053739A1 (en) Laser device providing an adjusted field distribution for laser beams thereof
KR101928264B1 (ko) 레이저빔 성형 장치
JP2001242413A5 (ja) レーザー照射装置
JP2004289140A5 (ja)
JP2007090760A (ja) 基板の割断方法、電気光学装置の製造方法
JP2005129916A5 (ja)