JP4808733B2 - 光均質化装置 - Google Patents

光均質化装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4808733B2
JP4808733B2 JP2007549798A JP2007549798A JP4808733B2 JP 4808733 B2 JP4808733 B2 JP 4808733B2 JP 2007549798 A JP2007549798 A JP 2007549798A JP 2007549798 A JP2007549798 A JP 2007549798A JP 4808733 B2 JP4808733 B2 JP 4808733B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cylindrical lens
lens array
cylindrical
concave
lenses
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2007549798A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2008527430A (ja
Inventor
ガンゼル,ハイコ
ヒル,ウィーラント
ぺトロフ,ミハイル
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Focuslight Germany GmbH
Original Assignee
Limo Patentverwaltung GmbH and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=34960003&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP4808733(B2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Limo Patentverwaltung GmbH and Co KG filed Critical Limo Patentverwaltung GmbH and Co KG
Publication of JP2008527430A publication Critical patent/JP2008527430A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4808733B2 publication Critical patent/JP4808733B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938Using specific optical elements
    • G02B27/095Refractive optical elements
    • G02B27/0955Lenses
    • G02B27/0966Cylindrical lenses
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0927Systems for changing the beam intensity distribution, e.g. Gaussian to top-hat
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938Using specific optical elements
    • G02B27/095Refractive optical elements
    • G02B27/0955Lenses
    • G02B27/0961Lens arrays
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938Using specific optical elements
    • G02B27/0977Reflective elements
    • G02B27/0983Reflective elements being curved

Description

発明の詳細な説明
本発明は、均質化すべき光を透過することが可能な第1のシリンドリカルレンズアレイであって、互いに平行なシリンダ軸を有する凸状および凹状シリンドリカルレンズを含み、それら凸状および凹状シリンドリカルレンズは互いに交互に配置された、第1のシリンドリカルレンズアレイと、第1のシリンドリカルレンズアレイを透過した光を透過することが可能な第2のシリンドリカルレンズアレイであって、互いに平行なシリンダ軸を有する凸状および凹状シリンドリカルレンズを含み、それら凸状および凹状シリンドリカルレンズは互いに交互に配置された、第2のシリンドリカルレンズアレイとを有し、第2のシリンドリカルレンズアレイのシリンドリカルレンズのシリンダ軸は、第1のシリンドリカルレンズアレイのシリンドリカルレンズのシリンダ軸に平行に配置されている、光均質化装置に関する。さらにまた、本発明は、請求項16の上位概念に従った装置に関する。
隣接する凸状シリンドリカルレンズよりも明らかに小さい、凹状シリンドリカルレンズを含むシリンドリカルレンズアレイも前述の装置によって包含される。たとえば、凹状シリンドリカルレンズは、ただ単にへこんだものであってもよく、または2つの凹状シリンドリカルレンズ間の空間の実質的に平らな領域であってもよい。上述のタイプの装置は公知である。かかる装置は、比較的均質な光、たとえば、エキシマレーザ、またはレーザダイオードバーから出射した光を均質化するためにたとえば利用される。図1は、かかるタイプの均質化装置の動作原理を概略的に示す。そこに図示された装置において、第1の基板2上の第1のシリンドリカルレンズアレイ1と第2の基板4上の第2のシリンドリカルレンズアレイ3が設けられ、基板2,4は、互いに離間されている。装置に入射する不均質な光5は、シリンドリカルレンズアレイ1,3の各シリンドリカルレンズによって、光が、装置から出射される光照射野の角度領域に亘って均質に分布されるように、該装置によって均質化される。第2の基板4の後段に配置される対物レンズによって、光照射野6の均質な角度分布を、作業面における均質な位置分布に変えることが可能である。
冒頭に述べたタイプの装置の場合、通常、第2のシリンドリカルレンズアレイ3の凸状シリンドリカルレンズの焦点距離は、第1のシリンドリカルレンズアレイと第2のシリンドリカルレンズアレイとの間の距離にほぼ対応する。このようにして、第2のシリンドリカルレンズアレイの凸状シリンドリカルレンズは、第1のシリンドリカルレンズアレイの領域における入射する不均質な光5の伝播方向に垂直に平面を、作業面に投影する。
図2は、入射する光5が、第1のシリンドリカルレンズアレイ1の凸状および凹状シリンドリカルレンズ7,8と、第2のシリンドリカルレンズアレイ2の凸状および凹状シリンドリカルレンズ9,10をどのように進むかを詳細に示す。図2において、特に、図の左領域を進む部分ビーム11と図の右領域を進む部分ビーム12が示されている。均質化されるべき光5のこれらの部分ビーム11,12は、第1のシリンドリカルレンズアレイの2つの凸状シリンドリカルレンズ8を通過する。部分ビーム11,12は凸状シリンドリカルレンズ8を通過し、大部分が第2のシリンドリカルレンズアレイ2の凸状シリンドリカルレンズ9へと偏向されることは明らかである。この凸状シリンドリカルレンズ9によって投影された部分ビーム11,12は、それらが対物レンズによって、作業面における照射領域の外方側部に到達するような角度で偏向される。
このような状態の概略は、図3に明らかである。図3において、作業面における強度は、位置座標または角度座標で表されている。図3に示された光の分布は、実質的に均質な中間領域13と、両脇の2つの盛り上がった部分14とを有し、これらは、第1のシリンドリカルレンズアレイ1の凹状シリンドリカルレンズ8を通過する、実質的に上述の部分ビーム11,12、または、さらなる対応する部分ビームによって生じる。このような部分ビームの寄与は、第1のシリンドリカルレンズアレイ1の凹状シリンドリカルレンズ8が非常に小さな半径を有し、したがって非常に小さな焦点距離を有することによって説明がつく。したがって、凹状シリンドリカルレンズ8の虚焦点が、ほぼ第1のシリンドリカルレンズアレイ1の面内にあり、第2のシリンドリカルレンズアレイ2の凸状シリンドリカルレンズ9によって、作業面内に投影される。
図3から明らかであって、技術水準にとって典型的な盛り上がり部14は、広範な利用の妨げとなっている。
本発明の基礎となる課題は、作業面に均質な光をもたらすことが可能である、冒頭で述べたタイプの装置を提供することである。
これは、本発明に従って、請求項1または請求項16の特徴を有する、冒頭で述べたタイプの装置によって、達成される。下位の請求項は、本発明の好ましい実施形態に関する。
請求項1に従えば、シリンドリカルレンズが並んで配置されている方向の第1のシリンドリカルレンズアレイの凹状シリンドリカルレンズは、シリンドリカルレンズが並んで配置されている方向の第2のシリンドリカルレンズアレイの凹状シリンドリカルレンズとは別の形状を有する。たとえば、第1および/または第2のシリンドリカルレンズアレイの凹状シリンドリカルレンズの大きさおよび/または曲率を目的に合わせて変更することによって、図3に明らかな盛り上がりを避けることができる。
その場合、たとえば、シリンドリカルレンズが並んで配置されている方向の第2のシリンドリカルレンズアレイの凹状シリンドリカルレンズは、より大きく、好適には、第1のシリンドリカルレンズアレイの凹状シリンドリカルレンズよりも大きく形成される。たとえば、この方向における第2のシリンドリカルレンズアレイの凹状シリンドリカルレンズは、第1のシリンドリカルレンズアレイの凹状シリンドリカルレンズの少なくともおよそ2倍の大きさとすることが可能である。第2のシリンドリカルレンズアレイの凹状シリンドリカルレンズを大きくすることによって、第1のシリンドリカルレンズアレイの凹状シリンドリカルレンズを通過した部分ビームが、第2のシリンドリカルレンズアレイの凸状シリンドリカルレンズ上に入射することを少なくとも部分的に回避することが可能である。したがって、この第1のシリンドリカルレンズアレイの凹状シリンドリカルレンズを通過した部分ビームは、第2のシリンドリカルレンズアレイの凸状シリンドリカルレンズから作業面の光照視野のわきの領域に偏向される、または投影されることはもはやない。これによって、盛り上がりは取り除かれる。したがって、図3に明らかな均質な領域13は大きくなる。特に、第1のシリンドリカルレンズアレイの凹状シリンドリカルレンズを通過した部分ビームが、第2のシリンドリカルレンズアレイの凹状シリンドリカルレンズを通過するという事実に基づき、この部分ビームは、均質な照射野の全幅に亘って分布することとなる。このようにして、装置の効率(均質な領域の光量または全光量)が高められる。
さらにまた、シリンドリカルレンズが並んで配置されている方向の第1のシリンドリカルレンズアレイの凸状シリンドリカルレンズは、第1のシリンドリカルレンズアレイの凹状シリンドリカルレンズよりも大きく、特に、何倍か大きくすることが可能である。特に、第1のシリンドリカルレンズアレイの凸状シリンドリカルレンズ間のくぼみであってもよく、おおよそ平らな領域としてもよい。
技術水準におけるように、本発明においても、第2のシリンドリカルレンズアレイの凸状シリンドリカルレンズの焦点距離は、第1のシリンドリカルレンズアレイと第2のシリンドリカルレンズアレイとの間の距離と同じとすることが可能である。このようにして、第2のシリンドリカルレンズアレイの凸状シリンドリカルレンズによって、第1のシリンドリカルレンズアレイの面の作業面への投影が達成される。
さらなる好ましい実施形態に従えば、第1のシリンドリカルレンズアレイの凹状シリンドリカルレンズの焦点距離は、第2のシリンドリカルレンズアレイの凸状シリンドリカルレンズの焦点距離よりも実質的に大きい。このようにして、第1のシリンドリカルレンズアレイの凹状シリンドリカルレンズの虚焦点を、第2のシリンドリカルレンズアレイの焦点面から遠く離すことが可能となり、したがって、これらの焦点を、第2のシリンドリカルレンズアレイの凸状シリンドリカルレンズから作業面に鮮明に投影される。このようにして、第2のシリンドリカルレンズアレイの凹状シリンドリカルレンズが比較的小さい場合でさえも、および、第1のシリンドリカルレンズアレイの凹状シリンドリカルレンズを先に通過した、第2のシリンドリカルレンズアレイの凸状シリンドリカルレンズを通過されるべき部分ビームの場合であっても、作業面における光分布のわき領域における盛り上がりをなくすことが達成される。
特に、シリンドリカルレンズが並んで配置されている方向の第1のシリンドリカルレンズアレイの凹状シリンドリカルレンズは、シリンドリカルレンズが並んで配置されている方向の第1のシリンドリカルレンズアレイの凸状シリンドリカルレンズと同じ大きさを有することが可能である。かかる配置の場合、凹状シリンドリカルレンズの焦点は、第1のシリンドリカルレンズアレイの面から明確に離すことが可能である。
本装置は、第1のシリンドリカルレンズアレイと第2のシリンドリカルレンズアレイとが互いに対向した側に設けられる基板を有することが可能である。この基板は、適切な厚みを有し、したがって、第1のシリンドリカルレンズアレイは、第2のシリンドリカルレンズアレイの凸状シリンドリカルレンズの焦点距離だけ、第2のシリンドリカルレンズアレイから離間されている。
これに代えて、本装置は、第1の基板と、第1とは異なった、特に、第1の基板から離間された第2の基板を有してもよく、第1のシリンドリカルレンズアレイは第1の基板上に、第2のシリンドリカルレンズアレイは第2の基板上に設けられる。かかる装置の場合、基板間の距離は、第1のシリンドリカルレンズアレイと第2のシリンドリカルレンズアレイ間の距離が、第2のシリンドリカルレンズアレイの凸状シリンドリカルレンズの焦点距離に対応するように合わせることが可能である。
かかる装置の場合、さらにまた、本装置は第3のシリンドリカルレンズアレイを有してもよく、これは、第1の基板の第1のシリンドリカルレンズアレイに対向する側に設けられ、互いに平行なシリンダ軸を有する凸状および凹状のシリンドリカルレンズを含み、これらは互いに交互に配置され、第1のシリンドリカルレンズアレイのシリンドリカルレンズのシリンダ軸は、第3のシリンドリカルレンズアレイのシリンドリカルレンズのシリンダ軸に垂直に配設される。
これに代えて、本装置は、さらにまた、第4のシリンドリカルレンズアレイを有してもよく、該シリンドリカルレンズアレイは、第2の基板の第2のシリンドリカルレンズアレイに対向する側に設けられ、互いに平行なシリンダ軸を有する凸状および凹状のシリンドリカルレンズを含み、かかるシリンドリカルレンズは互いに交互に設けられ、第2のシリンドリカルレンズアレイのシリンドリカルレンズのシリンダ軸は、第4のシリンドリカルレンズアレイのシリンドリカルレンズのシリンダ軸に垂直に配設される。第3、および、場合によっては、第4のシリンドリカルレンズアレイによって、第1および第2のシリンドリカルレンズアレイが光の均質化に寄与する方向に対して垂直な方向において、均質化されるべき光の均質化が行われる。加えて、第3および第4のシリンドリカルレンズアレイは、特に、第3および第4のシリンドリカルレンズアレイのシリンドリカルレンズの幅に関して、第1および第2のシリンドリカルレンズアレイに対応させて形成することが可能である。さらにまた、第3のシリンドリカルレンズアレイの第4のシリンドリカルレンズアレイからの距離も、第3のシリンドリカルレンズアレイの凸状シリンドリカルレンズの焦点距離に実質的に対応させてもよい。
請求項16に従えば、シリンドリカルミラーが並んで配置されている方向の第1のシリンドリカルミラーアレイの凹状シリンドリカルミラーは、シリンドリカルミラーが並んで配置されている方向の第2のシリンドリカルミラーアレイの凹状シリンドリカルミラーとは別の形状、特に別の大きさおよび/または曲率を有する。請求項1〜15に従ったシリンドリカルレンズアレイの特徴を、シリンドリカルミラーアレイに転用することによって、同じ利点が達成される。
特に、請求項16に従った装置は、請求項2〜15においてシリンドリカルレンズアレイのために限定された対応する特徴によって、さらに形成することも可能である。特に、第1のシリンドリカルミラーアレイの凹状シリンドリカルミラーの焦点は、第1のシリンドリカルミラーアレイの面から比較的離れるようにして設けてもよい。さらにまた、第2のシリンドリカルミラーアレイの凹状シリンドリカルミラーは、第1のシリンドリカルミラーアレイの凹状シリンドリカルミラーよりも大きく、特に、明確に大きくしてもよい。さらにまた、第1のシリンドリカルミラーアレイの第2のシリンドリカルミラーアレイからの距離は、第2のシリンドリカルミラーアレイの凸状シリンドリカルミラーの焦点距離にほぼ対応させることも可能である。さらにまた、第3および/または第4のシリンドリカルミラーアレイは、第1および第2のシリンドリカルミラーアレイのシリンドリカルミラーのシリンダ軸に垂直に設けられたシリンダ軸を有するシリンドリカルミラーを有する構成としてもよい。
本発明のさらなる特徴と利点は、添付の図を参照して、好ましい実施形態についての以下の詳細な説明によって明らかになるであろう。
図4および図5においては、明瞭化のために、デカルト座標が示されている。
本発明の装置の、図4から明らかな第1の実施形態は、第1の基板15と第2の基板16とを有している。第1の基板15は、その入射面に第1のシリンドリカルレンズアレイ17を有し、反対にその出射面は平らに形成されている。これに代えて、出射面に、たとえば第1のシリンドリカルレンズアレイ17に交差して配列されるシリンドリカルレンズアレイを設けてもよい。この第1のシリンドリカルレンズアレイ17は、凸状シリンドリカルレンズ18と凹状シリンドリカルレンズ19を含み、それらは、交互に設けられる。図4に示された実施形態においては、2つの凸状シリンドリカルレンズ19と1つの凸状シリンドリカルレンズ18とだけが示されている。しかしながら、X方向に、多数の凸状および凹状シリンドリカルレンズ18,19が互いに並んで配置されてもよい。凹状シリンドリカルレンズ19は、X方向、すなわちシリンドリカルレンズ18,19が並んで配置されている方向において、凸状シリンドリカルレンズ18よりも明確に小さい。
第2の基板16は、その入射面上に、すなわち、第1の基板15に対向した側に、凸状シリンドリカルレンズ21と凹状シリンドリカルレンズ22を有する第2のシリンドリカルレンズアレイ20を有する。これらの凸状および凹状シリンドリカルレンズ21,22は、X方向に互いに交互に設けられ、多数の凸状および凹状シリンドリカルレンズ21,22が基板16に入射面上に設けられる。さらにまた、図4から、第1のシリンドリカルレンズアレイ17のシリンドリカルレンズ18,19のシリンダ軸と、第2のシリンドリカルレンズアレイの凸状および凹状シリンドリカルレンズ21,22のシリンダ軸とは、Y方向、すなわちシリンドリカルレンズ18,19,21,22が並んで配置されている方向に方向づけられていることがわかる。第2の基板16の出射面は、平らに形成されている。これに代えて、第2の基板16の出射面にも、さらなるシリンドリカルレンズアレイを設けてもよく、この場合、シリンドリカルレンズのシリンダ軸は、第2のシリンドリカルレンズアレイ20のシリンドリカルレンズ21,22のシリンダ軸に対して垂直に方向づけられる。
図4から、第2のシリンドリカルレンズアレイ20の凹状シリンドリカルレンズ22は、X方向、すなわちシリンドリカルレンズ18,19,21,22が並んで配置されている方向においては、第1のシリンドリカルレンズアレイ17の凹状シリンドリカルレンズ19よりも明確に大きいことがわかる。特に、この実施形態においては、第2のシリンドリカルレンズアレイ20の凹状シリンドリカルレンズ22は、第1のシリンドリカルレンズアレイ17の凹状シリンドリカルレンズ19の2倍の幅がある。
さらにまた、図4においては、均質化されるべき光25の部分ビーム23,24であって、第1のシリンドリカルレンズアレイ17の凹状シリンドリカルレンズ19を通過する部分ビーム23,24が描かれている。技術の水準に従った部分ビーム11,12とは反対に(図2)、部分光ビーム23,24は、第2のシリンドリカルレンズアレイ20の凸状シリンドリカルレンズ21を通過しない、または実質的でない程度しか通過せず、第2のシリンドリカルレンズアレイの広がった凸状シリンドリカルレンズ22を通過する。このようにして、第2のシリンドリカルレンズアレイ20の凹状シリンドリカルレンズ22から、部分ビーム23,24が、作業面において、広い範囲に亘って、特に、均質化されるべき光照視野の全幅に亘って分布される。このようにして、技術の水準に従った場合の、図3に明らかな、明確なわきの盛り上がり14が回避される。
図5から明らかな、本発明に従った装置の第2の実施形態も、第1の基板26と第2の基板27を有する。第1の基板26は、その入射面上に、凸状シリンドリカルレンズ29と凹状シリンドリカルレンズ30とを含む第1のシリンドリカルレンズアレイ28を有する。第2の基板27は、その入射面上に、すなわち、第1の基板26に対向した側に、凸状シリンドリカルレンズ32と凹状シリンドリカルレンズ33を含む、第2のシリンドリカルレンズアレイ31を有する。これら両基板26,27の場合、図示された数のシリンドリカルレンズ29,30,32,33だけでなく、多くのシリンドリカルレンズ29,30,32,33を互いに交互に配設してもよい。
図4に従った実施形態とは反対に、図5に従った実施形態の場合、第1のシリンドリカルレンズアレイ28の凹状シリンドリカルレンズ30は、X方向、すなわち、シリンドリカルレンズ29,30が並んで配置されている方向において、第1のシリンドリカルレンズアレイ28の凸状シリンドリカルレンズ29とほぼ同じだけの幅であるか、または同じだけ広がっている。これとは反対に、第2のシリンドリカルレンズアレイ31の凹状シリンドリカルレンズ33は、第2のシリンドリカルレンズアレイ31の凸状シリンドリカルレンズ32よりも明確に小さい。
第1のシリンドリカルレンズアレイ28の凹状または凸状シリンドリカルレンズ30,29は実質的に同じ幅であることから、第1のシリンドリカルレンズアレイ28の凹状シリンドリカルレンズ30の焦点距離f1kは、比較的大きい、すなわち、均質化されるべき光の伝播方向Zにおいて、凸状シリンドリカルレンズ29の高さまたは長さのほぼ2倍ある。さらにまた、図5においては、分かりやすくするために、第2のシリンドリカルレンズアレイ31の凸状シリンドリカルレンズ32の焦点距離f2vが記載されている。図5によって、この凸状シリンドリカルレンズ32の焦点距離f2vは、第1のシリンドリカルレンズアレイ28と第2のシリンドリカルレンズアレイ31との間の距離にほぼ対応することがわかる。第1のシリンドリカルレンズアレイ28の凹状シリンドリカルレンズ30の焦点距離f1kは比較的大きいことから、図5に概略的に示された虚焦点34は、第2のシリンドリカルレンズアレイ31の凸状シリンドリカルレンズ32から、作業面内に投影される。このことは、図5において、例として描かれた部分ビーム35,36,37によって明らかである。
図4に従った実施形態の場合、また、図5に従った実施形態の場合においても、均質化されるべき光の伝播方向においては、第1のシリンドリカルレンズアレイ17,28の凸状シリンドリカルレンズ18,29の頂稜線は、第2のシリンドリカルレンズアレイ20,31の凸状シリンドリカルレンズ21,32の頂稜線と一直線となっている。さらにまた、第1のシリンドリカルレンズアレイ17,28の凹状シリンドリカルレンズ19,30の頂稜線は、第2のシリンドリカルレンズアレイ20,31の凹状シリンドリカルレンズ22,33の頂稜線と一直線となっている。
光を均質化するための装置の動作原理を概略的に示す図である。 技術の水準に従った均質化装置の概略側面図を示す。 図2に従った均質化装置によって生じる、作業面における光分布を概略的に示す図である。 本発明に従った装置の第1の実施形態の断面を概略的に示す図である。 本発明に従った装置の第1の実施形態の断面を概略的に示す図である。

Claims (14)

  1. 光の均質化装置であって、
    均質化されるべき光(25)を通過させることが可能である第1のシリンドリカルレンズアレイ(17,28)であって、互いに平行なシリンダ軸を有する凸状および凹状シリンドリカルレンズ(18,19,29,30)を含み、該シリンドリカルレンズは互いに交互に配列された、第1のシリンドリカルレンズアレイ(17,28)と、
    第1のシリンドリカルレンズアレイ(17,28)を通過して入射した光を通過させることが可能である、第2のシリンドリカルレンズアレイ(20,31)であって、互いに平行なシリンダ軸を有する凸状および凹状シリンドリカルレンズ(21,22,32,33)を含み、それら凸状および凹状シリンドリカルレンズ(21,22,32,33)は互いに交互に配置され、第2のシリンドリカルレンズアレイ(20,31)のシリンドリカルレンズ(21,22,32,33)のシリンダ軸は、第1のシリンドリカルレンズアレイ(17,28)のシリンドリカルレンズ(18,19,29,39)のシリンダ軸に平行に配置されている、第2のシリンドリカルレンズアレイ(20,31)と
    を有する光均質化装置において、
    シリンドリカルレンズ(18,19,29,30)が並んで配置されている方向(X)の第1のシリンドリカルレンズアレイ(17,28)の凹状シリンドリカルレンズ(19,30)は、シリンドリカルレンズ(21,22,32,33)が並んで配置されている方向(X)の第2のシリンドリカルレンズアレイ(20,31)の凹状シリンドリカルレンズ(22,33)とは別の形状を有し、
    均質化されるべき光(25)の伝播方向(Z)においては、第1のシリンドリカルレンズアレイ(17,28)の凹状シリンドリカルレンズ(19,30)の頂稜線は、第2のシリンドリカルレンズアレイ(20,31)の凹状シリンドリカルレンズ(22,33)の頂稜線と重なっており、
    均質化されるべき光(25)の伝播方向(Z)においては、第1のシリンドリカルレンズアレイ(17,28)の凸状シリンドリカルレンズ(18,29)の頂稜線は、第2のシリンドリカルレンズアレイ(20,31)の凸状シリンドリカルレンズ(21,32)の頂稜線と重なっていることを特徴とする、光均質化装置。
  2. シリンドリカルレンズ(18,19,29,39)が並んで配置されている方向の第1のシリンドリカルレンズアレイ(17,28)の凹状シリンドリカルレンズ(19,30)は、シリンドリカルレンズ(21,22,32,33)が並んで配置されている方向の第2のシリンドリカルレンズアレイ(20,31)の凹状シリンドリカルレンズ(22,33)とは別の大きさおよび/または曲率を有することを特徴とする、請求項1に記載の装置。
  3. 第1および/または第2のシリンドリカルレンズアレイ(17,20,28,31)のシリンドリカルレンズ(18,19,21,22,29,30,32,33)のシリンダ軸は、シリンドリカルレンズ(18,19,21,22,29,30,32,33)が並んで配置されている方向(X)に垂直に配設されていることを特徴とする、請求項1または2に記載の装置。
  4. シリンドリカルレンズ(18,19,21,22)が並んで配置されている方向(X)における第2のシリンドリカルレンズアレイ(20)の凹状シリンドリカルレンズ(22)は、好ましくは、第1のシリンドリカルレンズアレイ(17)の凹状シリンドリカルレンズ(19)よりも実質的に大きいことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の装置。
  5. シリンドリカルレンズ(18,19,21,22)が並んで配置されている方向(X)の第1のシリンドリカルレンズアレイ(17)の凸状シリンドリカルレンズ(18)は、第1のシリンドリカルレンズアレイ(17)の凹状シリンドリカルレンズ(19)よりも大きく、特に、何倍か大きいことを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の装置。
  6. 第2のシリンドリカルレンズアレイ(20,31)の凸状シリンドリカルレンズ(21,32)の焦点距離(f2v)は、第1のシリンドリカルレンズアレイ(17,28)と第2のシリンドリカルレンズアレイ(20,31)との間の距離と同じであることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載の装置。
  7. 第1のシリンドリカルレンズアレイ(28)の凹状シリンドリカルレンズ(30)の焦点距離(f1k)は、均質化されるべき光(25)の伝播方向(Z)における第1のシリンドリカルレンズアレイ(28)の凸状シリンドリカルレンズ(29)の大きさよりも大きいことを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載の装置。
  8. 第1のシリンドリカルレンズアレイ(28)の凹状シリンドリカルレンズ(30)の焦点距離(f1k)は、均質化されるべき光の伝播方向(Z)において、凸状シリンドリカルレンズ(29)の大きさの少なくとも2倍であることを特徴とする、請求項7に記載の装置。
  9. シリンドリカルレンズ(29,30)が並んで配置されている方向(X)における第1のシリンドリカルレンズアレイ(28)の凹状シリンドリカルレンズ(30)は、シリンドリカルレンズ(29,30)が並んで配置されている方向(X)における第1のシリンドリカルレンズアレイ(28)の凸状シリンドリカルレンズ(29)と同じ大きさを有していることを特徴とする、請求項7または8に記載の装置。
  10. 第1のシリンドリカルレンズアレイ(28)の凹状シリンドリカルレンズ(30)の焦点距離(f1k)は、第2のシリンドリカルレンズアレイ(31)の凹状シリンドリカルレンズ(33)の焦点距離よりも大きいことを特徴とする、請求項1〜9のいずれか1項に記載の装置。
  11. 第1のシリンドリカルレンズアレイと第2のシリンドリカルレンズアレイとが互いに対向した側に設けられる基板を有することを特徴とする、請求項1〜10のいずれか1項に記載の装置。
  12. 第1の基板(15,26)と、第1とは異なった、特に、第1の基板(15,26)から離間された第2の基板(16,27)とを有し、第1のシリンドリカルレンズアレイ(17,18)は第1の基板(15,26)上に、第2のシリンドリカルレンズアレイ(20,31)は第2の基板(16,27)上に設けられることを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の装置。
  13. 第3のシリンドリカルレンズアレイであって、第1の基板(15,26)の第1のシリンドリカルレンズアレイ(17,28)に対向する側に設けられ、互いに平行なシリンダ軸を有する凸状および凹状のシリンドリカルレンズを含み、これらは互いに交互に配置され、第1のシリンドリカルレンズアレイ(17,28)のシリンドリカルレンズ(18,19,29,30)のシリンダ軸は、第3のシリンドリカルレンズアレイのシリンドリカルレンズのシリンダ軸に垂直に配設される第3のシリンドリカルレンズアレイを有することを特徴とする、請求項12に記載の装置。
  14. 第4のシリンドリカルレンズアレイであって、第2の基板(16,27)の第2のシリンドリカルレンズアレイ(20,31)に対向する側に設けられ、互いに平行なシリンダ軸を有する凸状および凹状のシリンドリカルレンズを含み、かかるシリンドリカルレンズは互いに交互に設けられ、第2のシリンドリカルレンズアレイ(20,31)のシリンドリカルレンズ(21,22,32,33)のシリンダ軸は、第4のシリンドリカルレンズアレイのシリンドリカルレンズのシリンダ軸に垂直に配設される、第4のシリンドリカルレンズアレイを有することを特徴とする、請求項12または13に記載の装置。
JP2007549798A 2005-01-07 2005-01-07 光均質化装置 Expired - Fee Related JP4808733B2 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/EP2005/000103 WO2006072263A1 (de) 2005-01-07 2005-01-07 Vorrichtung zur homogenisierung von licht

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008527430A JP2008527430A (ja) 2008-07-24
JP4808733B2 true JP4808733B2 (ja) 2011-11-02

Family

ID=34960003

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007549798A Expired - Fee Related JP4808733B2 (ja) 2005-01-07 2005-01-07 光均質化装置

Country Status (8)

Country Link
US (1) US7532406B2 (ja)
EP (1) EP1839083B1 (ja)
JP (1) JP4808733B2 (ja)
CN (1) CN100489594C (ja)
AT (1) ATE480793T1 (ja)
DE (1) DE502005010250D1 (ja)
IL (1) IL184420A (ja)
WO (1) WO2006072263A1 (ja)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4880957B2 (ja) * 2005-09-13 2012-02-22 キヤノン株式会社 照明光学系およびそれを用いた投射型表示装置
JP4808780B2 (ja) * 2005-09-30 2011-11-02 リモ パテントフェルヴァルトゥング ゲーエムベーハー ウント コー.カーゲー 光を均質化するための装置
US20080225257A1 (en) * 2007-03-13 2008-09-18 Nikon Corporation Optical integrator system, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8587764B2 (en) * 2007-03-13 2013-11-19 Nikon Corporation Optical integrator system, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP4261591B2 (ja) * 2007-03-30 2009-04-30 アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社 照明光学装置および試料検査装置
TWI418855B (zh) * 2008-08-28 2013-12-11 Ind Tech Res Inst 多變曲率光學模組
KR101128996B1 (ko) * 2009-08-12 2012-03-23 엘지이노텍 주식회사 복합광학시트 및 이를 이용한 백라이트 유닛
JP5195991B2 (ja) * 2010-10-04 2013-05-15 ソニー株式会社 照明装置および表示装置
US8791355B2 (en) 2011-04-20 2014-07-29 International Business Machines Corporation Homogenizing light-pipe for solar concentrators
DE102012205790B4 (de) 2012-04-10 2015-02-05 Carl Zeiss Smt Gmbh Vorrichtung zur Homogenisierung von Laserstrahlung sowie Verfahren zu ihrer Herstellung
US10502870B2 (en) 2012-10-04 2019-12-10 North Inc. Optical assembly
WO2015084797A1 (en) 2013-12-02 2015-06-11 Mastercard International Incorporated Method and system for secure tranmission of remote notification service messages to mobile devices without secure elements
JP6224254B2 (ja) * 2014-04-14 2017-11-01 マスターカード インターナショナル インコーポレーテッド モバイルデバイスにおいてセキュアエレメントなしでアドバンスド記憶鍵を生成するための方法およびシステム
US10275767B2 (en) 2014-10-21 2019-04-30 Mastercard International Incorporated Method and system for generating cryptograms for validation in a webservice environment
US20160313017A1 (en) * 2015-04-21 2016-10-27 Stanford Nauls Apparatus and Method for Improving Airflow to a Room
DE102015214196B4 (de) 2015-07-27 2017-11-16 Carl Zeiss Smt Gmbh Vorrichtung zur Formung von Laserstrahlung sowie Beleuchtungssystem
US11333897B2 (en) * 2019-03-12 2022-05-17 Coherent Lasersystems Gmbh & Co. Kg Apparatus for forming a homogeneous intensity distribution with bright or dark edges

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10253916A (ja) * 1997-03-10 1998-09-25 Semiconductor Energy Lab Co Ltd レーザー光学装置
JPH11211903A (ja) * 1998-01-28 1999-08-06 Toppan Printing Co Ltd レンチキュラーレンズ
JP2004056103A (ja) * 2002-05-27 2004-02-19 Nikon Corp 照明光学装置、露光装置および露光方法
EP1489438A1 (de) * 2003-06-18 2004-12-22 Hentze-Lissotschenko Patentverwaltungs GmbH & Co. KG Vorrichtung zur Formung eines Lichtstrahls

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1943995A (en) * 1930-04-03 1934-01-16 Herbert W Weld Glass construction
US3484599A (en) * 1967-01-03 1969-12-16 William D Little Optical projection system
US3641255A (en) * 1970-04-17 1972-02-08 Rca Corp Noninteracting lens system for a color encoding camera
US4185891A (en) * 1977-11-30 1980-01-29 Grumman Aerospace Corporation Laser diode collimation optics
US5757547A (en) * 1995-04-24 1998-05-26 Polycom, Inc. High efficiency homogeneous polarization converter
US6081378A (en) * 1995-04-24 2000-06-27 Polycom, Inc. High efficiency homogeneous polarization converter
GB0019454D0 (en) * 2000-08-09 2000-09-27 Stevens Brian T Laser system
US7210820B2 (en) * 2003-05-07 2007-05-01 Resonetics, Inc. Methods and apparatuses for homogenizing light

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10253916A (ja) * 1997-03-10 1998-09-25 Semiconductor Energy Lab Co Ltd レーザー光学装置
JPH11211903A (ja) * 1998-01-28 1999-08-06 Toppan Printing Co Ltd レンチキュラーレンズ
JP2004056103A (ja) * 2002-05-27 2004-02-19 Nikon Corp 照明光学装置、露光装置および露光方法
EP1489438A1 (de) * 2003-06-18 2004-12-22 Hentze-Lissotschenko Patentverwaltungs GmbH & Co. KG Vorrichtung zur Formung eines Lichtstrahls

Also Published As

Publication number Publication date
DE502005010250D1 (de) 2010-10-21
JP2008527430A (ja) 2008-07-24
IL184420A0 (en) 2007-10-31
EP1839083B1 (de) 2010-09-08
WO2006072263A1 (de) 2006-07-13
US7532406B2 (en) 2009-05-12
CN100489594C (zh) 2009-05-20
CN101099103A (zh) 2008-01-02
US20080002261A1 (en) 2008-01-03
EP1839083A1 (de) 2007-10-03
ATE480793T1 (de) 2010-09-15
IL184420A (en) 2014-08-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4808733B2 (ja) 光均質化装置
US11759886B2 (en) Laser line illumination
JP4808780B2 (ja) 光を均質化するための装置
JP4964882B2 (ja) 光ビーム整形装置
JP5432438B2 (ja) レーザ光線の均一な角度分布生成装置
JPH1082971A (ja) レーザ放射光の均質化および複数の照明フィールドの生成のための光学装置
KR101738155B1 (ko) 라인 빔 형성 장치
US20050105189A1 (en) Arrangement and apparatus for optical beam transformation
JP6526077B2 (ja) レーザビームを成形するための装置
JP2005010787A (ja) 光線形成装置
JPH05196869A (ja) レーザー光線の干渉性低減及び光線整形のための構造
JP5444373B2 (ja) レーザビームを均質化するための装置
CN104950438A (zh) 光照射装置与绘制装置
JP2009543143A (ja) 光を均質化するための装置、および作業面において線状強度分布を発生させるためのレーザ装置
KR20070057074A (ko) 광 균일화 장치 및 상기 광 균일화 장치를 구비한 조명장치 또는 포커싱 장치
JP2004521398A (ja) 光線を光学的に均質化するための配置および装置
KR101399985B1 (ko) 실린더형 광학계를 이용한 레이저 빔의 포컬 스폿 사이즈 조절 장치
CN211554499U (zh) 光源系统
JP2004341299A (ja) レーザビームの干渉パターン強度低減装置及び方法
US7810938B2 (en) Laser configuration
JP7453328B2 (ja) レーザ放射用の変換装置
KR20070099581A (ko) 광 균일화 장치
JP2007245194A (ja) 光溶着用光学ユニットおよび光溶着装置および光溶着方法
CN112513706A (zh) 用于激光辐射的转变设备
JP2003107394A (ja) 画像露光装置

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100817

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101116

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110125

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110422

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110719

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110817

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140826

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140826

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees