JP2005311340A5 - - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims 1
Claims (14)
- 第1のレーザビームを発振させるレーザ発振器と、
前記第1のレーザビームを一方向に分割して、複数の第2のレーザビームを形成する軸外しシリンドリカルレンズアレイと、
前記複数の第2のレーザビームを前記一方向に集光して、第3のレーザビームを形成する光学素子と、を有することを特徴とするレーザ照射装置。 - 第1のレーザビームを発振させるレーザ発振器と、
前記第1のレーザビームを長方形状の短辺方向に分割して、複数の第2のレーザビームを形成するシリンドリカルレンズアレイと、
前記複数の第2のレーザビームを長方形状の長辺方向に分割して、複数の第3のレーザビームを形成する軸外しシリンドリカルレンズアレイと、
前記複数の第3のレーザビームを前記長辺方向に集光して、複数の第4のレーザビームを形成する第1のシリンドリカルレンズと、
前記複数の第4のレーザビームを前記短辺方向に集光して、第5のレーザビームを形成する第2のシリンドリカルレンズと、を有することを特徴とするレーザ照射装置。 - 請求項2において、前記レーザ発振器側から照射面側に向かって、前記シリンドリカルレンズアレイ、前記軸外しシリンドリカルレンズアレイ、前記第1のシリンドリカルレンズ、前記第2のシリンドリカルレンズの順に配置されていることを特徴とするレーザ照射装置。
- 請求項1乃至3のいずれか一において、前記軸外しシリンドリカルレンズアレイを構成するシリンドリカルレンズの母線は、アレイの中心から離れた方向にレンズ中心軸からずれていることを特徴とするレーザ照射装置。
- 請求項4において、前記軸外しシリンドリカルレンズアレイの中心に配置されたシリンドリカルレンズから両端に配置されたシリンドリカルレンズに向って、母線とレンズ中心軸とのずれ量が大きくなることを特徴とするレーザ照射装置。
- 第1のレーザビームを発振させるレーザ発振器と、
前記第1のレーザビームを一方向に分割して、複数の第2のレーザビームを形成する第1の光学素子と、
前記複数の第2のレーザビームを前記一方向に集光して、第3のレーザビームを形成する第2の光学素子と、を有し、
前記複数の第2のレーザビームを前記レーザ発振器側に延長したときに、前記複数の第2のレーザビームがそれぞれ同一領域に重畳する仮想的な面が、前記第2の光学素子を介して照射面と共役関係となることを特徴とするレーザ照射装置。 - 第1のレーザビームを発振させるレーザ発振器と、
前記第1のレーザビームを長方形状の短辺方向に分割して、複数の第2のレーザビームを形成する第1の光学素子と、
前記複数の第2のレーザビームを長方形状の長辺方向に分割して、複数の第3のレーザビームを形成する第2の光学素子と、
前記複数の第3のレーザビームを前記長辺方向に集光して、複数の第4のレーザビームを形成する第3の光学素子と、
前記複数の第4のレーザビームを前記短辺方向に集光して、第5のレーザビームを形成する第4の光学素子と、を有し、
前記複数の第3のレーザビームを前記レーザ発振器側に延長したときに、前記複数の第3のレーザビームがそれぞれ同一領域に重畳する仮想的な面が、前記第3の光学素子を介して照射面と共役関係となることを特徴とするレーザ照射装置。 - 請求項7において、前記レーザ発振器側から前記照射面側に向かって、前記第1の光学素子、前記第2の光学素子、前記第3の光学素子、前記第4の光学素子の順に配置されていることを特徴とするレーザ照射装置。
- 請求項7または8において、前記第2の光学素子は軸外しシリンドリカルレンズアレイであることを特徴とするレーザ照射装置。
- 請求項1乃至9のいずれか一において、前記レーザ発振器は、エキシマレーザ、YAGレーザ、ガラスレーザのいずれか一であることを特徴とするレーザ照射装置。
- 請求項1乃至9のいずれか一において、前記レーザ発振器は、YVO4レーザ、YLFレーザ、Arレーザ、GdVO4レーザのいずれか一であることを特徴とするレーザ照射装置。
- 軸外しシリンドリカルレンズアレイを用いて、レーザ発振器より発振された第1のレーザビームを一方向に分割して、複数の第2のレーザビームを形成し、
光学素子を用いて前記複数の第2のレーザビームを前記一方向に集光して、第3のレーザビームを形成し、
前記第3のレーザビームを非単結晶半導体膜に照射することを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項12において、前記光学素子はシリンドリカルレンズであることを特徴とする半導体装置の作製方法。
- シリンドリカルレンズアレイを用いて、レーザ発振器より発振された第1のレーザビームを長方形状の短辺方向に分割して、複数の第2のレーザビームを形成し、
軸外しシリンドリカルレンズアレイを用いて、前記複数の第2のレーザビームを長方形状の長辺方向に分割して、複数の第3のレーザビームを形成し、
第1のシリンドリカルレンズを用いて、前記複数の第3のレーザビームを前記長辺方向に集光して、複数の第4のレーザビームを形成し、
第2のシリンドリカルレンズを用いて、前記複数の第4のレーザビームを前記短辺方向に集光して、第5のレーザビームを形成し、
前記第5のレーザビームを非単結晶半導体膜に照射することを特徴とする半導体装置の作製方法。
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