JP2005060137A - 二酸化炭素の固定化方法及びそのシステム - Google Patents

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Abstract

【課題】 低コストで二酸化炭素を固定化できるとともに、固定化により付加価値の高い生成物を得ることができる二酸化炭素の固定化方法及びそのシステムを提供する。
【解決手段】 原子力発電プラントに併設された水を電気分解して水素と酸素を生成する水電解装置70と、触媒が充填されており、二酸化炭素と水電解装置から水素とが供給され、メタン及び水蒸気を含む混合ガスを生成する第1反応炉10と、第1反応炉で生成する混合ガスを凝縮する凝縮器50と、凝縮器で凝縮された混合ガスをメタンガスと水とに分離するタンク60と、タンクからメタンガスが供給され、カーボン、グラファイト、カーボンナノチューブ及びダイヤモンドからなる群から選択される少なくと1つの炭素製品を製造する第2反応炉100と、混合ガスとタンクから第2反応炉へ供給されるメタンガスとの間で熱交換を行う熱交換器40と、タンクから水を水電解装置へ供給する配管64とを含む。
【選択図】 図1

Description

本発明は、地球温暖化ガスである二酸化炭素の削減のための二酸化炭素の固定化方法及びそのシステムに関する。
現在、地球温暖化ガスとして環境に悪影響を与える二酸化炭素の削減・固定化が世界的な急務となっている。そのため、近年、多くの二酸化炭素の固定化技術が開発されている。しかし、二酸化炭素は化学的に安定した化合物であり、二酸化炭素を固定化するためには、多大なエネルギーを必要とする。このエネルギーを得るために化石燃料が燃焼されると二酸化炭素が放出されるので、実質的に二酸化炭素の削減にはならないという問題がある。また、多大なエネルギーを必要とするため、二酸化炭素の固定化には非常に高いコストがかかるが、固定化により得られる生成物は商品価値が低いという問題がある。よって、事業化が可能な二酸化炭素の固定化技術の開発が望まれている。
一方、原子力発電プラントは、ウランの核分裂を利用して発電するため、発電による二酸化炭素の発生はない。また、原子力発電プラントは、火力発電プラントに比較して燃料費が安いという特長を有しており、長期にわたり定格出力で連続運転を行うことで、低コストで電力を供給することができる。しかし、電力の需要量は、昼間と夜間で大きく変化し、昼間の電力需要は夜間の約2倍に達している。そのため、原子力発電プラントでは、今後、分散化電源の設置が増えることを考慮すると、夜間に余剰電力が生じていくという問題がある。
そこで、夜間の余剰電力を利用して、水分解装置で水を水素と酸素に分解し、この水素を二酸化炭素と反応させて貯蔵可能な燃料であるメタノールを合成するという二酸化炭素の固定化技術が開発されている(特許文献1)。しかしながら、この技術では、メタノール燃料しか得られず、二酸化炭素から得られる付加価値が小さいという問題がある。
特開平11−46460号公報 (第6頁、図3)
そこで本発明は、上記の問題点に鑑み、低コストで二酸化炭素を固定化できるとともに、固定化により付加価値の高い生成物を得ることができる二酸化炭素の固定化方法及びそのシステムを提供することを目的とする。
上記の目的を達成するために、本発明に係る二酸化炭素の固定化方法は、水を電気分解して水素と酸素を生成する水電解工程と、二酸化炭素と前記水電解工程で得られた水素とを触媒の存在下で反応させて、メタン及び水を含む混合ガスを生成する第1反応工程と、前記第1反応工程で得られた混合ガス中の水分を凝縮してメタンガスと水とに分離する分離工程と、前記分離工程で得られたメタンガスを原料として、カーボン、グラファイト、カーボンナノチューブ及びダイヤモンドからなる群から選択される少なくと1つの炭素製品を製造する第2反応工程とを含んでなり、前記混合ガスと前記メタンガスとの間で熱交換を行い、前記分離工程で得られた水を前記水電解工程で使用するものである。
上記の第1反応工程と第2反応工程は、それぞれ以下の反応式で表せる。
第1反応:CO2+4H2→CH4+2H2O・・・(式1)
第2反応:CH4→C+2H2・・・(式2)
第2反応は吸熱反応(約1280℃)であるが、第1反応は発熱反応(約300℃)であるため、第1反応で得られたメタン及び水の混合物と第2反応の原料であるメタンとの間で熱交換を行うことで、第1反応の熱エネルギーを回収でき、エネルギー効率を向上させることができる。また、第2反応工程によれば、上記式2に示すように、地球温暖化ガスである二酸化炭素を生成することなく、グラファイトやカーボンナノチューブ、ダイヤモンドなどの付加価値の高い炭素製品を製造することができる。なお、第1反応に必要な水素は、安価である原子力発電プラントの夜間電力で水を電気分解することで、二酸化炭素を生成することなく、安価に水素を得ることができる。
前記第2反応工程において炭素製品とともに水素が副生する場合、この水素を、前記メタンガスとの間で熱交換を行った後、前記第1反応工程で使用することが好ましい。また、太陽光を吸収して得られる熱エネルギーを利用して、前記第2反応工程の予熱を行うことが好ましい。
前記第2反応工程は、その一形態として、前記メタンガスを不活性雰囲気中でカーボンヒータにより温度1080℃以上に加熱してカーボンを得る工程を含むことが好ましい。本発明のサバティエ法の第2反応(式2)はメタンの分解反応であり、装置実験による最適温度の確認によると反応温度1280℃付近で、メタンの分解率が99%と最高効率を示す。その最高効率を示す温度から、反応温度が減少するにつれて、分解効率は徐々に低下し、1280℃−200℃(1080℃付近)の温度では、メタンの分解効率は85%程度に低下する。しかし、メタンの分解効率85%は、本目的においては許容範囲であるので1080℃以上とした。一方、1280℃付近より高温側では、メタンの分解率は99%と最高効率を維持し続ける。過剰に反応温度を上昇させても、メタン分解率は変化せず、エネルギーの消費が増加し、反応機器への負担も増加するのみであるため、高温域も+200℃の増加温度すなわち1480℃以下が望ましい。また、前記第2反応工程は、別の形態として、前記メタンガスを不活性雰囲気中で断熱圧縮してカーボンを得る工程を含むことが好ましい。なお、これら形態において、前記第2反応工程は、前記得られたカーボンを高周波誘導加熱で温度3000℃以上に加熱してグラファイトを得る工程を更に含むことが好ましい。
前記第2反応工程は、また別の形態として、前記メタンガスに温度2000℃以上のヘリウムガスを加圧噴射して反応させ、気相中にカーボン粒子を生成する工程と、この気相中のカーボン粒子を高周波誘導加熱で温度3000℃以上に加熱してグラファイトを得る工程とを含むことが好ましい。また、前記第2反応工程は、更に別の形態として、前記メタンガスに酸素を加えて不完全燃焼させ、気相中にカーボン粒子を生成する工程と、この気相中のカーボン粒子を高周波誘導加熱で温度3000℃以上に加熱してグラファイトを得る工程とを含むことが好ましい。
前記第2反応工程は、また別の形態として、前記メタンガスを不活性雰囲気中でアーク放電させてカーボンナノチューブを得る工程を含むことがことが好ましい。また、前記第2反応工程は、更に別の形態として、前記メタンガスと触媒メタルとを温度500〜1200℃に加熱された流動層中に供給して、流動層中でカーボンナノチューブを生成する工程を含むことが好ましい。
前記第2反応工程は、また別の形態として、プラズマCVD法により前記メタンガスからダイヤモンドを得る工程を含むことが好ましい。
また、本発明は、別の側面として、二酸化炭素の固定化システムであって、水を電気分解して水素と酸素を生成する水電解装置と、触媒が充填されており、二酸化炭素と前記水電解装置から水素とが供給され、メタン及び水蒸気を含む混合ガスを生成する第1反応炉と、前記第1反応炉で生成する混合ガス中の水分を凝縮する凝縮器と、前記凝縮器からメタンガスが供給され、カーボン、グラファイト、カーボンナノチューブ及びダイヤモンドからなる群から選択される少なくと1つの炭素製品を製造する第2反応炉と、前記混合ガスと、前記凝縮器で生成し前記第2反応炉へ供給されるメタンガスとの間で熱交換を行う熱交換器と、前記凝縮器で生成する水を前記水電解装置へ供給する配管とを含んでなるものである。
本発明に係る二酸化炭素の固定化システムは、前記第2反応炉で炭素製品とともに副生する水素を前記第1反応炉に供給する配管と、前記副生する水素と前記メタンガスとの間で熱交換を行う熱交換器とを更に含んでなることが好ましい。また、前記第2反応炉には、太陽光を吸収して熱エネルギーに変換する熱吸収膜を備えることが好ましい。
前記第2反応炉は、別の形態として、カーボンを製造するために、石英管と、前記石英管中に設けられたカーボンヒータと、前記石英管の外周に設けられたリフレクタとを含むものが好ましい。また、前記第2反応炉は、更に別の形態として、カーボンを製造するために、チャンバと、前記チャンバ内を断熱圧縮するピストンとを含み、前記チャンバはカーボンを捕集するためのフィルタを備えるものが好ましい。なお、これら形態において、本発明に係る二酸化炭素の固定化システムは、前記第2反応炉で得られたカーボンからグラファイトを生成するための高周波誘導加熱炉を更に含むことが好ましい。
前記第2反応炉は、また別の形態として、グラファイトを製造するために、温度2000℃以上のヘリウムガスを加圧噴射する噴射器と、高周波誘導加熱炉とを含むものが好ましい。また、前記第2反応炉は、更に別の形態として、グラファイトを製造するために、メタンガスを不完全燃焼させるガスバーナと、高周波誘導加熱炉と、除湿器とを含むものが好ましい。
前記第2反応炉は、また別の形態として、カーボンナノチューブを製造するために、カーボン電極を備えてなるアーク放電装置を含むことが好ましい。また、前記第2反応炉は、更に別の形態として、カーボンナノチューブを製造するために、多孔質の流動材が充填された流動層を含むものが好ましい。
前記第2反応炉は、また別の形態として、ダイヤモンドを製造するために、プラズマCVD装置を含むことが好ましい。
上記したところから明らかなように、本発明によれば、低コストで二酸化炭素を固定化できるとともに、固定化により付加価値の高い生成物を得ることができる二酸化炭素の固定化方法及びそのシステムを提供することができる。また、本発明により、排ガスから回収されたCO2や原子力発電所の余剰電力を用いて製造された製品は、環境保護に配慮したものとしてより高い価格で販売することができる。
以下、添付図面を参照して、本発明の一実施の形態について説明する。
(第1の実施の形態)
図1は、本発明に係る二酸化炭素の固定化システムの第1の実施の形態を示す模式図である。図1に示すように、第1反応炉10の入口は、CO2配管22を介してCO2タンク20と、H2配管32を介してH2タンク30と接続している。第1反応炉10内には、上記式1に示す第1反応を促進する触媒が充填されている。触媒は白金系触媒が好ましく、特にルテニウム(Ru)を活性金属とする触媒がより好ましい。触媒の形状は、ペレット状または粒状なども採用できるが、反応効率から比表面積が広いハニカム状が好ましい。
第1反応炉10の出口は、混合ガス配管12を介してタンク60に接続している。混合ガス配管12には、第1反応炉10側から順に、熱交換器40と凝縮器50とが設置されている。タンク60は気液分離できるものであれば特に限定されない。タンク60の液相側出口は、水配管64を介して水電解装置70に接続している。この水電解装置70は、原子力発電プラント(図示省略)に併設されており、夜間の余剰電力により運転される。
水電解装置70としては、固体高分子であるイオン交換膜を電解質として使用する固体高分子形水電解(SPWE)水素製造装置が好ましい。このSPWE水素製造装置の陽極では、水が電気分解されて酸素ガスと水素イオンを発生する。水素イオンは固体高分子電解質膜を介して陰極へ移動する。陰極では、水素イオンが電子と結合して水素ガスを発生する。よって装置全体として、水から水素と酸素とが発生することとなる。この反応は80℃程度の温度で進行するため、エネルギー消費量が少ないという特長がある。また、この水の電気分解では地球温暖化ガスである二酸化炭素を発生しない。更に、アルカリ水電解法では電解効率が70〜85%であるのに対し、SPWE法では約90%と電解効率が高い。更にまた、水素発生部と酸素発生部が固体高分子電解質膜にて分離されているため、高純度(99.99%以上)の水素を製造することができる。また、アルカリ水溶液と異なり、電解質に腐食性がない。
水電解装置70の水素側出口は、H2配管72を介してH2タンク30に接続している。また、水電解装置70の酸素側出口は、O2配管74を介して酸素利用設備(図示省略)に接続している。また、タンク60の気相側出口は、メタン配管62を介して第二反応炉100に接続している。メタン配管62には、熱交換器40が設置されており、すなわち、メタン配管62と混合ガス配管12との間で熱交換がされるように構成されている。
第2反応炉100内には、円筒形状の石英管120が設置されており、この石英管120内には、発熱体であるカーボンヒータ110が設置されている。このカーボンヒータ110は、約1000〜1500℃の範囲で加熱できる性能を有している。また、石英管120の外周は、カーボンヒータ110の熱の放熱を反射により防ぐリフレクタ130が設けられており、これにより熱効率を向上させることができる。なお、メタン配管62は石英管120内まで設けらており、また、石英管120内には、生成する水素をH2タンク30に供給するH2配管190が設けられている。このH2配管190には、熱交換器40が設置されており、すなわち、H2配管190とメタン配管62との間で熱交換がされるように構成されている。
また、第2反応炉100の天井部及び壁面部には、太陽光を吸収して熱エネルギーに変換する熱吸収膜150が設けられている。熱吸収膜150としては、例えば、焙焼酸化亜鉛膜などを用いることができる。また、太陽光は、直接第2反応炉100に照射できる他、鏡やレンズ、グラスファイバーなどの光学機器を用いて集光して、第2反応炉100に導くこともできる。その結果、第2反応炉100を40〜70℃の温度へ昇温することができる。このように太陽熱を利用することによりエネルギーコストを下げることができる。なお、太陽光以外の熱源も補助的あるいは付加的に使用することができる。
以上の構成によれば、先ず、水電解装置70で水を電気分解して、水素ガスと酸素ガスを製造する。この電気分解は、原子力発電プラント(図示省略)の夜間電力を利用する。得られた酸素ガスは、O2配管74を介して酸素利用設備(図示省略)に供給し有効利用する。また、水素ガスは、H2配管72を介してH2タンク30に供給し、一時的に貯蔵する。
次に、CO2タンク20から二酸化炭素ガスを、H2タンク30から水素ガスを、それぞれ配管を介して第1反応炉10に供給する。第1反応炉10内では、触媒存在下で上記式1の第1反応が進行し、約300℃のメタンガス及び水蒸気を含む混合ガスが生成する。生成した混合ガスは、混合ガス配管12を介して、熱交換器40でメタン配管62中のメタンガスを加熱する。その後、この混合ガスは、凝縮器50で室温まで冷却され、水分が凝縮されてメタンガスと水とに分離し、タンク60に供給される。タンク60中の水は、水配管72を介して水電解装置70に供給され、水電解装置70で電気分解に再利用される。一方、タンク60中のメタンガスは、メタン配管62を介して、熱交換器40で加熱された後、第2反応炉100内に設置された石英管120内に導入される。
石英管120内に導入されたメタンガスは、好ましくは1200〜1300℃に加熱されたカーボンヒータ110により熱分解され、カーボンと水素が生成する(上記式2の第2反応)。カーボンはカーボンヒータ110に付着して生成するので、一定の量のカーボンが生成した場合、第2反応炉100の運転を停止して、カーボンを回収する。回収したカーボンは、別途、高周波誘導加熱炉(図示省略)にて3000℃以上、好ましくは3000〜4000℃に加熱することで、付加価値の高いグラファイトにすることができる。また、副生した水素は、H2配管190を介して、熱交換器40でメタンガスを加熱した後、H2タンク30に供給されて、第1反応炉10での第1反応に再利用される。
なお、石英管120内は、メタンガスを熱分解するために、不活性雰囲気にしておく必要がある。不活性ガスとしては、例えば、HeガスやN2ガス等を使用することができる。不活性ガスは反応前に充填しておけば十分で、反応中に供給する必要はない。また、第2反応炉110内は、熱吸収膜150により昼間の太陽熱で十分に暖められており、クリーンエネルギーを利用して第2反応を促進することができる。
このように、原子力発電プラントの夜間電力を利用して、水電解装置70にて水を電気分解することで、二酸化炭素を生成することなく、安価に第1反応に必要な水素を得ることができる。また、第2反応の原料であるメタンガスを熱交換器40を用いて加熱することで、エネルギー効率を向上させることができる。更に、カーボンヒータ110によれば、二酸化炭素を生成することなく、容易にカーボンを製造することができるとともに、副生物として水素が生成するため、これを再び第1反応炉10に供給することで、エネルギー効率を向上させることができる。
(第2の実施の形態)
図2は、本発明に係る二酸化炭素の固定化システムの第2の実施の形態を示す模式図である。なお、第1の実施の形態と同様の構成については同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。図2に示すように、第2反応炉200の天井部には、第2反応炉200内に温度2000℃以上のヘリウムガスを加圧噴射するHe噴射器210が設置されている。なお、ヘリウムガスに代えて、窒素ガスなどの不活性ガスも使用することができる。また、第2反応炉200の底部には、高周波誘導加熱炉220が設置されており、この高周波誘導加熱炉220の中央部には、基板230が設けられている。なお、第2反応炉200には、第1の実施の形態と同様に、熱吸収膜250が設けられている。
以上の構成によれば、先ず、熱交換器40で加熱したメタンガスを、メタン配管62から第2反応炉200内に供給する。そして、He噴射器210から、温度2000℃以上、好ましくは2000〜3000℃のヘリウムガスを第2反応炉200内に加圧噴射する。これにより、第2反応炉200内の気相中でカーボン粒子260が生成する。生成したカーボン粒子260は、高周波誘導加熱炉220内に落下する。そして、カーボン粒子260を高周波誘導加熱炉220で3000℃以上、好ましくは3000〜4000℃に加熱することで、基板230上にグラファイト270が生成する。また、副生する水素は、H2配管290を介して、熱交換器40でメタンガスを加熱した後、H2タンク30に供給されて、第1反応炉10での第1反応に再利用される。
このように、He噴射器210で温度2000℃以上のヘリウムガスを加圧噴射することにより、気相中にカーボン粒子260が生成するので、カーボンを基材などに一旦付着させることなく、連続的にグラファイト270を製造することができる。よって、付加価値の高いグラファイトを容易に製造することができる。
(第3の実施の形態)
図3は、本発明に係る二酸化炭素の固定化システムの第3の実施の形態を示す模式図である。なお、第1の実施の形態と同様の構成については同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。図3に示すように、第2反応炉300の天井部には、ガスバーナ310が設けられており、第2反応炉300内にガスバーナ310の火炎が形成されるように配置されている。ガスバーナ310のメタン導入口312には、メタン配管62が接続しており、ガスバーナ310の酸素導入口314には、酸素供給源(図示省略)が接続している。また、第2反応炉300の底部には、高周波誘導加熱炉320が設置されており、この高周波誘導加熱炉320の中央部には、基板330が設けられている。
第2反応炉300内には、除湿器340が設置されている。除湿器340としては、例えば、シリカゲルなどの吸水性を有する化合物が充填されたものや、熱交換器を用いてあるいは電気的に空気を冷却して除湿するものなどを使用することができる。また、第2反応炉300には、H2タンク30に水素を供給するH2配管390が設けられている。このH2配管390には、第2反応炉300側から順にH2分離器392と熱交換器40とが設けられている。H2分離器392としては、例えば、モレキュラーシーブなどの水素吸着剤やPd−Ag合金などの水素透過膜を使用することができる。
以上の構成によれば、先ず、熱交換器40で加熱したメタンガスを、メタン配管62を介してメタン導入口312からガスバーナ310に供給する。そして、酸素導入口314から酸素を取り込み、ガスバーナ310によりメタンガスを不完全燃焼させる。この不完全燃焼により第2反応炉300内に煤が発生するため、これがカーボン形成の種となり、第2反応炉300内の気相中でカーボン粒子360が生成する。生成したカーボン粒子360は、高周波誘導加熱炉320内に落下する。そして、カーボン粒子360を第2の実施の形態と同様に高周波誘導加熱炉320で加熱することで、基板330上にグラファイト370が生成する。なお、メタンガスを酸素と燃焼させると水が副生する(CH4+O2→C+2H2O)が、この水は除湿器340により吸収除去される。また、水素の他に水などがH2配管390を介してH2タンク30に供給されるのを防ぐため、H2分離器392により水素を分離した後、熱交換器40でメタンガスを加熱して、H2タンク30に供給する。
このように、ガスバーナ312でメタンガスを不完全燃焼させることにより、気相中にカーボン粒子360が生成するので、カーボンを基材などに一旦付着させることなく、連続的にグラファイト370を製造することができる。よって、付加価値の高いグラファイトを容易に製造することができる。
(第4の実施の形態)
図4は、本発明に係る二酸化炭素の固定化システムの第4の実施の形態を示す模式図である。なお、第1の実施の形態と同様の構成については同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。図4に示すように、第2反応炉400内には、陽極及び陰極にそれぞれ接続された一対のカーボン電極410が設けられている。なお、カーボン電極として黒鉛を使用することで、カーボンナノチューブの収率を向上させることができる。カーボン電極410の下方には、生成するカーボンナノチューブを回収するための回収器420が設けられている。なお、第2反応炉400には、第1の実施の形態と同様に、熱吸収膜450が設けられている。
以上の構成によれば、先ず、熱交換器40で加熱したメタンガスを、メタン配管62を介して第2反応炉400内に供給する。そして、カーボン電極410間でアーク放電430を行う。アーク放電430によってメタンガスまたはカーボン電極が熱分解され、カーボンナノチューブが生成する。カーボンナノチューブは回収器420上で回収される。副生する水素は、H2配管490を介して、熱交換器40でメタンガスを加熱した後、H2タンク30に供給され、第1反応炉10での第1反応に再利用される。なお、第2反応炉400内は、第1の実施の形態と同様に、不活性雰囲気にしておく必要があるが、反応が進行した後に不活性ガスを供給する必要はない。
このように、アーク放電430によりメタンガスを熱分解させることにより、より付加価値の高いカーボンナノチューブを直接的に製造することができる。
(第5の実施の形態)
図5は、本発明に係る二酸化炭素の固定化システムの第5の実施の形態を示す模式図である。なお、第1の実施の形態と同様の構成については同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。図5に示すように、第2反応炉500内には、流動材で充填された流動層510が設けられている。流動材としては、Ni、Cu、Fe、Co、Crなどの金属粒子又は金属合金粒子、グラファイト状のカーボン、ケイ砂又は酸化アルミニウム(アルミナ)などの粒子を使用することができる。第2反応炉500の底部、すなわち流動層510の底部には、流動層510内にメタンガスを供給するためのメタン配管62が設けられている。また、流動層510の底部には、触媒メタルと流動材を流動層510内に気流搬送するための触媒メタル/流動材配管502が設けられている。触媒メタルとしては、Fe、Ni、Coなどの金属化合物(例えば、塩化物、酸化物、金属錯体など)を使用することができる。一方、第2反応炉500の頂部には、生成したカーボンナノチューブを捕集器520へ気流搬送するための配管が設けられている。
捕集器520内には、気体中のカーボンナノチューブを衝突させて回収するための捕集板(図示省略)が複数設けられている。また、捕集器520の後流側には、サイクロンなどの遠心力を利用した浄化器530と、第3の実施の形態で説明したH2分離器540とが順に設けられている。そして、H2分離器540の水素出口側は、熱交換器40を通るH2配管590を介してH2タンク30に接続している。また、流動層510の底部には、流動層510からオーバーフローした流動材が供給される回収器550が設けられている。回収器550は、流動材とカーボンナノチューブとを分離できるものであれば特に限定されない。
以上の構成によれば、熱交換器40で加熱したメタンガスを、メタン配管62を介して第2反応炉500内の流動層510の底部から供給する。また同時に、触媒メタルと流動材も配管502を介して流動層510の底部から供給する。なお、流動層510内のガス流速は、底部から頂部に向かって約1m/sに調整する。そして、流動層510を500〜1200℃、好ましくは900〜1000℃に加熱する。これにより、流動層510内では、メタンガス、触媒メタル、流動材が均一に混合されて、カーボンナノチューブが連続的に生成する。カーボンナノチューブは触媒メタルや流動材よりも比重が軽いため、第2反応炉500の頂部から排出され、捕集器520に気流搬送される。捕集器520で殆どのカーボンナノチューブが回収された後、浄化器530で残りのカーボンナノチューブが回収される。気体中には副生する水素の他にメタンなどがH2配管590を介してH2タンク30に供給されるのを防ぐため、H2分離器392により水素を分離した後、熱交換器40でメタンガスを加熱して、H2タンク30に供給する。
このように、流動層510を用いることで、メタンガスと触媒メタルとを安定的に連続供給し、これらを均一に混合して加熱することが可能になるので、純度の高いカーボンナノチューブを連続的に製造することができる。
(第6の実施の形態)
図6は、本発明に係る二酸化炭素の固定化システムの第6の実施の形態を示す模式図である。なお、第1の実施の形態と同様の構成については同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。図6に示すように、第2反応炉600の頂部には、コイル状の電極610が設置されている。この電極610には高周波電源620が接続している。また、第2反応炉頭部には、メタンガスとArガスとを第2反応炉600内に導入するガス導入ノズル650が設けられている。メタン配管62はこのガス導入ノズル650に接続している。さらに、第2反応炉600の底部には、基板ホルダ630が設けられている。基板ホルダ630上には基板640が設置されている。また、第2反応炉600には排ガス管660が設けられており、この排ガス管660には真空ポンプ662が設けらている。
以上の構成によれば、先ず、熱交換器40で加熱したメタンガスを、メタン配管62を介してガス導入ノズル650に供給する。そして、Arガスとともにガス導入ノズル650から第2反応炉600内にメタンガスを導入する。これにより、電極610と基板ホルダ630との間で、プラズマ680が発生する。このプラズマ680により、基板上にダイヤモンド薄膜670が化学蒸着(CVD)される。第2反応炉600内は、真空ポンプ662より強制的に排気される。
このように、プラズマCVD法によりメタンガスを原料として、より付加価値の高い薄膜状のダイヤモンドを製造することができる。
(第7の実施の形態)
図7は、本発明に係る二酸化炭素の固定化システムの第7の実施の形態を示す模式図である。なお、第1の実施の形態と同様の構成については同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。図7に示すように、第2反応炉200内には、カーボン粒子を捕集できるフィルタ722を備えたチャンバ720が構成されており、このチャンバ720の底部には基板が備えられている。第2反応炉700の天井部には、チャンバ720内を圧縮断熱するピストン710が設置されている。第2反応炉700の壁部には、第2反応炉700内にヘリウムガスを供給するHe導入ノズル740が設置されている。
第2反応炉700には排ガス管760が設けられており、この排ガス管760には、H2分離器760が設けられている。H2分離器760のHe出口側は、He配管764を介してHe導入ノズル740と接続している。一方、H2分離器760の水素出口側は、H2配管790を介して熱交換器40を経た後にH2タンク30に接続している。なお、第2反応炉700には、第1の実施の形態と同様に、熱吸収膜750が設けられている。
以上の構成によれば、先ず、熱交換器40で加熱したメタンガスを、メタン配管62から第2反応炉700内に供給する。また、He導入ノズル740から第2反応炉700内にヘリウムガスを導入する。そして、ピストン710の運転を開始して、チャンバ720内を圧力1〜10MPa、好ましくは2〜3MPaまで断熱圧縮する。これにより、メタンガスとヘリウムガスの混合ガスが加熱され、メタンガスが熱分解して、チャンバ720内にカーボン粒子770が生成する。カーボン粒子770はフィルタ722でトラップされるので、チャンバ720内で容易に回収できる。回収したカーボンは、第1の実施の形態と同様に高周波誘導加熱炉(図示省略)にて加熱することで、付加価値の高いグラファイトにすることができる。
副生する水素は、ヘリウムガスとともに排ガス管760から排出され、H2分離器762で水素とヘリウムガスとに分離される。ヘリウムガスは、He配管を介してHe導入ノズル740で再び第2反応炉700内に供給される。水素は、H2配管790を介して熱交換器40でメタンガスを加熱した後、H2タンク30に供給されて、第1反応炉10での第1反応に再利用される。
このように、メタンガスを断熱圧縮することでも、メタンガスを熱分解することができるので、粒子状のカーボンを容易に得ることができる。
本発明に係る二酸化炭素の固定化システムの第1の実施の形態を示す模式図である。 本発明に係る二酸化炭素の固定化システムの第2の実施の形態を示す模式図である。 本発明に係る二酸化炭素の固定化システムの第3の実施の形態を示す模式図である。 本発明に係る二酸化炭素の固定化システムの第4の実施の形態を示す模式図である。 本発明に係る二酸化炭素の固定化システムの第5の実施の形態を示す模式図である。 本発明に係る二酸化炭素の固定化システムの第6の実施の形態を示す模式図である。 本発明に係る二酸化炭素の固定化システムの第7の実施の形態を示す模式図である。
符号の説明
10 第1反応炉
12 混合ガス配管
20 CO2タンク
22 CO2配管
30 H2タンク
32 H2配管
40 熱交換器
50 凝縮器
60 タンク
62 メタン配管
64 水配管
70 水電解装置
72 H2配管
74 O2配管
100、200、300、400、500、600、700 第2反応炉
110 カーボンヒータ
120 石英管
130 リフレクタ
150、250、450、750 熱吸収膜
190、290、390、490、590、790 H2配管
210 He噴出器
220、320 高周波誘導加熱炉
230、330、640、730 基板
260、360、770 カーボン粒子
270、370 グラファイト
310 ガスバーナ
312 メタン導入口
324 酸素導入口
340 除湿器
392、540、762 H2分離器
410 カーボン電極
420 回収器
430 アーク放電
502 触媒メタル/流動材配管
510 流動層
520 捕集器
530 浄化器
550 回収器
610 電極
620 高周波電源
630 基板ホルダ
650 ガス導入ノズル
660、760 排ガス管
662 真空ポンプ
670 ダイヤモンド薄膜
680 プラズマ
710 ピストン
720 チャンバ
722 フィルタ
740 He導入ノズル
764 He配管

Claims (22)

  1. 水を電気分解して水素と酸素を生成する水電解工程と、
    二酸化炭素と前記水電解工程で得られた水素とを触媒の存在下で反応させて、メタン及び水を含む混合ガスを生成する第1反応工程と、
    前記第1反応工程で得られた混合ガス中の水分を凝縮してメタンガスと水とに分離する分離工程と、
    前記分離工程で得られたメタンガスを原料として、カーボン、グラファイト、カーボンナノチューブ及びダイヤモンドからなる群から選択される少なくと1つの炭素製品を製造する第2反応工程と
    を含んでなり、前記混合ガスと前記メタンガスとの間で熱交換を行い、前記分離工程で得られた水を前記水電解工程で使用する二酸化炭素の固定化方法。
  2. 前記第2反応工程において炭素製品とともに副生する水素を、前記メタンガスとの間で熱交換を行った後、前記第1反応工程で使用する請求項1に記載の二酸化炭素の固定化方法。
  3. 太陽光を吸収して得られる熱エネルギーを利用して、前記第2反応工程の予熱を行う請求項1又は2に記載の二酸化炭素の固定化方法。
  4. 前記第2反応工程が、前記メタンガスを不活性雰囲気中でカーボンヒータにより温度1080℃以上に加熱してカーボンを得る工程を含む請求項1〜3のいずれかに記載の二酸化炭素の固定化方法。
  5. 前記第2反応工程が、前記メタンガスに温度2000℃以上のヘリウムガスを加圧噴射して反応させ、気相中にカーボン粒子を生成する工程と、この気相中のカーボン粒子を高周波誘導加熱で温度3000℃以上に加熱してグラファイトを得る工程とを含む請求項1〜3のいずれかに記載の二酸化炭素の固定化方法。
  6. 前記第2反応工程が、前記メタンガスに酸素を加えて不完全燃焼させ、気相中にカーボン粒子を生成する工程と、この気相中のカーボン粒子を高周波誘導加熱で温度3000℃以上に加熱してグラファイトを得る工程とを含む請求項1又は2に記載の二酸化炭素の固定化方法。
  7. 前記第2反応工程が、前記メタンガスを不活性雰囲気中でアーク放電させてカーボンナノチューブを得る工程を含む請求項1〜3のいずれかに記載の二酸化炭素の固定化方法。
  8. 前記第2反応工程が、前記メタンガスと触媒メタルとを温度500〜1200℃に加熱された流動層中に供給して、流動層中でカーボンナノチューブを生成する工程を含む請求項1又は2に記載の二酸化炭素の固定化方法。
  9. 前記第2反応工程が、プラズマCVD法により前記メタンガスからダイヤモンドを得る工程を含む請求項1に記載の二酸化炭素の固定化方法。
  10. 前記第2反応工程が、前記メタンガスを不活性雰囲気中で断熱圧縮してカーボンを得る工程を含む請求項1〜3のいずれかに記載の二酸化炭素の固定化方法。
  11. 前記第2反応工程が、前記得られたカーボンを高周波誘導加熱で温度3000℃以上に加熱してグラファイトを得る工程を更に含む請求項4又は10に記載の二酸化炭素の固定化方法。
  12. 水を電気分解して水素と酸素を生成する水電解装置と、
    触媒が充填されており、二酸化炭素と前記水電解装置から水素とが供給され、メタン及び水蒸気を含む混合ガスを生成する第1反応炉と、
    前記第1反応炉で生成する混合ガス中の水分を凝縮する凝縮器と、
    前記凝縮器からメタンガスが供給され、カーボン、グラファイト、カーボンナノチューブ及びダイヤモンドからなる群から選択される少なくと1つの炭素製品を製造する第2反応炉と、
    前記混合ガスと、前記凝縮器で生成し前記第2反応炉へ供給されるメタンガスとの間で熱交換を行う熱交換器と、
    前記凝縮器で生成する水を前記水電解装置へ供給する配管と
    を含んでなる二酸化炭素の固定化システム。
  13. 前記第2反応炉で炭素製品とともに副生する水素を前記第1反応炉に供給する配管と、前記副生する水素と前記メタンガスとの間で熱交換を行う熱交換器とを更に含んでなる請求項12に記載の二酸化炭素の固定化システム。
  14. 前記第2反応炉が、太陽光を吸収して熱エネルギーに変換する熱吸収膜を備える請求項12又は13に記載の二酸化炭素の固定化システム。
  15. 前記第2反応炉が、カーボンを製造するために、石英管と、前記石英管中に設けられたカーボンヒータと、前記石英管の外周に設けられたリフレクタとを含む請求項12〜14のいずれかに記載の二酸化炭素の固定化システム。
  16. 前記第2反応炉が、グラファイトを製造するために、温度2000℃以上のヘリウムガスを加圧噴射する噴射器と、高周波誘導加熱炉とを含む請求項12〜14のいずれかに記載の二酸化炭素の固定化システム。
  17. 前記第2反応炉が、グラファイトを製造するために、メタンガスを不完全燃焼させるガスバーナと、高周波誘導加熱炉と、除湿器とを含む請求項12又は13に記載の二酸化炭素の固定化システム。
  18. 前記第2反応炉が、カーボンナノチューブを製造するために、カーボン電極を備えてなるアーク放電装置を含む請求項12〜14のいずれかに記載の二酸化炭素の固定化システム。
  19. 前記第2反応炉が、カーボンナノチューブを製造するために、多孔質の流動材が充填された流動層を含む請求項12又は13に記載の二酸化炭素の固定化システム。
  20. 前記第2反応炉が、ダイヤモンドを製造するために、高周波プラズマCVD装置を含む請求項12に記載の二酸化炭素の固定化システム。
  21. 前記第2反応炉が、カーボンを製造するために、チャンバと、前記チャンバ内を断熱圧縮するピストンとを含み、前記チャンバはカーボンを捕集するためのフィルタを備える請求項12〜14のいずれかに記載の二酸化炭素の固定化システム。
  22. 前記第2反応炉で得られたカーボンからグラファイトを生成するための高周波誘導加熱炉を更に含んでなる請求項15又は21に記載の二酸化炭素の固定化システム。
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