JP2005054221A5 - - Google Patents

Description

フィードスルー（真空電流導入端子）２８０は、オーリング２８１によってハウジング２２０の下部２２３に取り付けられる。オーリング２８１の代わりにメタルガスケットなど別の取り付け部材を用いてもよいことはいうまでもない。フィードスルー２８０は、ヒータ２７４に接続される電線２８２と、電線２８２を保護するセラミック部材２８３と、任意の金属材料２８４と、外部のヒータコントローラ３００と電線２８２を接続する接続部２８６とを有している。フィードスルー２８０は、反応室２００内の減圧環境を破壊することなく反応室２００の内部に配置されたヒータ２７４に電力を供給することができる。なお、本実施例は、フィードスルー２８０とヒータコントローラ３００とは別部材として構成しているが、両者は一体的に構成されてもよい。

ヒータコントローラ３００によりヒータ２７４に供給される電力を制御することにより、ヒータ２７４（及びその結果ヒータブロック２７０と高温トラップ２６０）の温度を制御することができる。ヒータコントローラ３００は、ヒータブロック２７０や高温トラップ２６０の温度をフィードバック情報として受け取り、これによって制御してもよい。温度情報は、例えば、ヒータブロック２７０や高温トラップ２６０に取り付けられる図示しない熱電対、ＰＴＣサーミスタ、赤外線センサなどの当業界で周知の温度センサにより生成することができる。ヒータコントローラ３００には、当業界で周知の構造を使用することができるのでここでは詳しい説明は省略する。

Claims (15)

1. 反応ガスが供給されるガス導入部と、
   被処理体を支持可能な支持部と、
   高温トラップを支持可能なトラップ支持部と、
   前記反応ガスを反応させて前記被処理体を処理する処理空間と前記高温トラップが配置されるトラップ空間とを分離すると共に、前記トラップ空間から前記処理空間への気体の逆流を防止することができる逆流抑制装置とを有する反応室。
2. 前記逆流抑制装置は、複数の排気孔を有する中空円筒板形状のシールドリングである請求項１記載の反応室。
3. 前記複数の排気孔は、０．５乃至１ｍｍの径を有する請求項２記載の反応室。
4. 前記高温トラップから排出される排出ガスが導入されるポストトラップ空間を更に有する請求項１記載の反応室。
5. 請求項１記載の反応室と、
   前記ガス導入部に反応ガスを供給する反応ガス供給装置と、
   前記高温トラップを通過した前記反応ガスを排気する排気装置とを有する処理装置。
6. 反応ガスが供給されるガス導入部と、
   被処理体を支持可能な支持部と、
   高温トラップを支持可能で減圧環境にあるトラップ支持部と、
   前記トラップ支持部に配置され、前記高温トラップを前記被処理体とは独立して加熱可能なヒータと、
   前記減圧環境を維持しつつ前記ヒータに電力を供給する電力供給装置とを有する反応室。
7. 請求項６記載の反応室と、
   前記ガス導入部に反応ガスを供給する反応ガス供給装置と、
   前記高温トラップを通過した前記反応ガスを排気する排気装置とを有する処理装置。
8. 反応ガス供給装置に接続されると共に被処理体を支持可能で、前記反応ガスを利用して前記被処理体に所定の処理を施すことができる反応室に配置可能であり、
   前記被処理体を通過した反応ガスを含む排気ガスが供給される導入部と、
   前記排気ガスを加熱して除害するために当該排気ガスに接触可能な導電性除害部と、
   前記導電性除害部を経た前記排気ガスを排出する排出部とを有する高温トラップ。
9. 前記導電性除害部は、通電される請求項８記載の高温トラップ。
10. 前記導電性除害部は、メッシュ状である請求項８記載の高温トラップ。
11. 請求項８記載の高温トラップが配置される反応室と、
    前記反応室に接続された反応ガス供給装置と、
    前記反応室に接続された排気装置とを有する処理装置。
12. 前記反応ガス供給装置は、
    前記反応ガスを運ぶことができる金属ベースの第１及び第２の配管と、
    当該第１及び第２の配管を接続する接続装置と、
    前記第１及び第２の配管の各々の接合面に設けられた絶縁物とを有する請求項５、７及び１１のいずれか１項記載の処理装置。
13. 前記処理装置は、
    前記反応ガス供給装置に接続されて、前記反応ガス供給装置から供給される反応ガスを運ぶキャリアガスを供給するキャリアガス供給装置と、
    前記第１及び第２の配管に接続されて、当該第１及び第２の配管の接合部から前記キャリアガスが漏れることを防止するシール部材とを更に有する請求項１２記載の処理装置。
14. 前記第１及び第２の配管の各々の接合面が、
    前記絶縁物が設けられた内側部と、
    前記内側部の周囲に位置し、金属面である外側部とを有し、
    前記シール部材が、前記第１の配管の接合面の前記外側部と前記第２の配管の接合面の前記外側部との間に配置された金属製のシール部材である請求項１３記載の処理装置。
15. 前記反応ガスを運ぶことができる第１及び第２の配管と、
    当該第１及び第２の配管を接続する接続装置と、
    前記第１の配管の接合面と前記第２の配管の接合面との間に配置された、絶縁性の表面を有するシール部材とを有する請求項５、７及び１１のうちいずれか１項記載の処理装置。