JP2005052956A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2005052956A5
JP2005052956A5 JP2003288940A JP2003288940A JP2005052956A5 JP 2005052956 A5 JP2005052956 A5 JP 2005052956A5 JP 2003288940 A JP2003288940 A JP 2003288940A JP 2003288940 A JP2003288940 A JP 2003288940A JP 2005052956 A5 JP2005052956 A5 JP 2005052956A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
nanostructure
substrate
nanostructure according
forming
semiconductor material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2003288940A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP4383796B2 (ja
JP2005052956A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2003288940A priority Critical patent/JP4383796B2/ja
Priority claimed from JP2003288940A external-priority patent/JP4383796B2/ja
Publication of JP2005052956A publication Critical patent/JP2005052956A/ja
Publication of JP2005052956A5 publication Critical patent/JP2005052956A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4383796B2 publication Critical patent/JP4383796B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

JP2003288940A 2003-08-07 2003-08-07 ナノ構造体、及びその製造方法 Expired - Fee Related JP4383796B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003288940A JP4383796B2 (ja) 2003-08-07 2003-08-07 ナノ構造体、及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003288940A JP4383796B2 (ja) 2003-08-07 2003-08-07 ナノ構造体、及びその製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2005052956A JP2005052956A (ja) 2005-03-03
JP2005052956A5 true JP2005052956A5 (https=) 2006-09-21
JP4383796B2 JP4383796B2 (ja) 2009-12-16

Family

ID=34367432

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003288940A Expired - Fee Related JP4383796B2 (ja) 2003-08-07 2003-08-07 ナノ構造体、及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4383796B2 (https=)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4681939B2 (ja) * 2005-05-24 2011-05-11 キヤノン株式会社 ナノ構造体の製造方法
JP4681938B2 (ja) * 2005-05-24 2011-05-11 キヤノン株式会社 ナノ構造体の製造方法
JP2007111816A (ja) * 2005-10-19 2007-05-10 National Institute For Materials Science 多機能ナノワイヤとその製造方法、多機能ナノワイヤを用いた濃縮方法
JP5016957B2 (ja) * 2006-03-17 2012-09-05 キヤノン株式会社 凹凸構造を有する型及び光学素子用型の製造方法並びに光学素子
DE102006021940A1 (de) * 2006-05-11 2007-11-22 Forschungszentrum Karlsruhe Gmbh Element, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung
KR100803213B1 (ko) * 2006-06-27 2008-02-14 삼성전자주식회사 패턴된 자기기록매체 및 그 제조방법
JP4871809B2 (ja) * 2006-08-11 2012-02-08 キヤノン株式会社 パターンドメディア、磁気記録媒体の製造方法及び基体の製造方法
JP4745917B2 (ja) 2006-08-25 2011-08-10 株式会社日立製作所 磁気記録媒体及び磁気記録再生装置
ATE541303T1 (de) * 2008-01-11 2012-01-15 Uvis Light Ab Verfahren zur herstellung einer feldemissionsanzeige
KR20110055586A (ko) * 2008-08-05 2011-05-25 스몰텍 에이비 템플레이트 및 리소그래피용 고종횡비 템플레이트의 제조방법과 나노스케일로 기판을 천공하기 위한 템플레이트의 용도
JP5894780B2 (ja) * 2011-12-13 2016-03-30 昭和電工株式会社 磁気記録媒体の製造方法
JP2014106996A (ja) * 2012-11-29 2014-06-09 Toshiba Corp 垂直磁気記録媒体、及びその製造方法
JP2015135713A (ja) * 2014-01-17 2015-07-27 株式会社東芝 垂直磁気記録媒体、その製造方法、及び磁気記録再生装置
JP7520434B2 (ja) * 2021-09-13 2024-07-23 国立研究開発法人科学技術振興機構 規則化合金強磁性ナノワイヤ構造体及びその製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2005052956A5 (https=)
CN101159139B (zh) 磁记录介质
JP5236244B2 (ja) 磁気記録媒体の製造方法
Ruiz et al. Rectangular patterns using block copolymer directed assembly for high bit aspect ratio patterned media
JP3926360B2 (ja) パターン形成方法およびそれを用いた構造体の加工方法
CN100395821C (zh) 纳米孔、磁记录介质及它们的制造以及磁记录装置及方法
CN101441873B (zh) 磁记录介质及其制造方法
JP5178451B2 (ja) 磁気記憶媒体製造方法
JP2014241182A5 (https=)
KR100640595B1 (ko) 높은 파티클 밀도를 가지는 균일한 나노파티클 모노레이어필름의 형성방법 및 그 나노파티클 모노레이어 필름을구비하는 소자
CN100336111C (zh) 磁记录介质及磁记录介质的制造方法
JP2006286158A5 (https=)
JP5687679B2 (ja) インプリント方法
JP4383796B2 (ja) ナノ構造体、及びその製造方法
JP2006286158A (ja) 磁気記録媒体及びその製造方法
CN101197137B (zh) 磁记录介质及其制造方法
JP2012236371A (ja) インプリントにおける離型方法
EP1830352B1 (en) Patterned recording medium and production method therefor
JP2008130210A (ja) 磁気記録媒体、金属ガラス基板、磁気記録媒体の製造方法、ナノ金型の製造方法および金属ガラス基板の製造方法
CN100382146C (zh) 制造磁阻磁头的方法
JP2008165849A (ja) ナノ構造作成方法、および磁気ディスク製造方法
US20150072172A1 (en) Micropattern formation method, release method, magnetic recording medium manufacturing method, magnetic recording medium, and stamper manufacturing method
JP2004079098A (ja) 記録媒体、記録媒体の製造方法、インプリント原盤、およびインプリント原盤の製造方法
JP5293128B2 (ja) ナノ構造体製造方法および磁気記憶媒体製造方法
CN101206872A (zh) 图案化磁介质、磁记录介质和磁存储装置