JP2005031689A - 電子デバイス用ガラス基板並びにこれを用いたフォトマスクブランク及びフォトマスク - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電子デバイス用ガラス基板の一つであるフオトマスクブランクは、ガラス基板1と、遮光機能を有するクロム膜2とからなる。ガラス基板1は、主表面及び側面が精密研磨された石英ガラス材料からなる。光学的なガラス基板の欠陥検査によって、基板1には検査光の進行方向に依存性をもった久陥は存在せず、基板1内部には脈理がなく、また基板1表面に存在する傷は、その幅(短軸方向の長さ)が1μmより小さいことが確認されたものである。このフオトマスクブランクからフオトマスクを作製したが、クロム膜パターン2’には、エッチングによるクワレ等の久陥がなく、所望のパターンが形成されていた。また、このフオトマスクによって被転写物にパターンを転写したが、パターン転写も良好であった。
【選択図】図1
Description
(構成1)検査光の光学的変化によって欠陥の有無を判別する方法においてある基準設定値に基づいて選別された電子デバイス用ガラス基板であって、前記ガラス基板に存在する欠陥は、前記検査光の進行方向に依存性を持たないものであることを特徴とするものである。
(構成2)前記検査光は、前記ガラス基板の光路が光学的に均一の場合には、該ガラス基板の表面で全反射を繰り返して伝播するようにガラス基板内に光を導入したものであることを特徴とするものである。即ち、全反射条件を満足する光をガラス基板内に導入することにより、ガラス基板内の光路が光学的に均一の場合には、あらゆる方向からの光が基板全面及び基板内部の全部を埋め尽くすことになるので、例えば、ガラス基板表面にある特定な方向性をもった凹部(傷)があった場合や、ガラス基板内部に脈理といった欠陥があった場合でも、確実に且つ高精度、高速度に検出することが可能となる。具体的には、後述する構成8に規定する通りである。
(構成3)前記検査光はレーザー光であり、前記ガラス基板の表面は、少なくとも一組の互いに平行な主表面と、該主表面に直交する少なくとも一組の側面と、前記主表面及び前記側面によって挾まれた面取り面とを有するものであって、
前記ガラス基板内の光路が光学的に均一の場合には、該ガラス基板内を伝搬して前記主表面及び前記側面で全反射をし、かつ、少なくとも一組の側面の間で反復するように伝搬し、伝搬することによって、前記主表面、側面及び面取り面で囲まれる被検査領域にレーザー光が行き渡るように、レーザー光を導入するものであることを特徴とする。
(構成4) 前記レーザー光は、前記面取り面から導入し、ガラス基板の光路が光学的に均一の場合には、前記面取り面からのみレーザー光が出射するように導入することを特徴とする。
(構成5)電子デバイス用ガラス基板であって、前記ガラス基板のパターンが形成される側の主表面に存在する凹部の大きさを、長軸方向の長さと、該長軸方向に対し垂直方向の短軸方向の長さで表したとき、前記凹部を主表面に対し垂直な断面で切ったときの主表面における短軸方向の長さが1μm以下であることを特徴とするものである。
(構成6)前記凹部の短軸方向の長さが0.5μm以下であることを特徴とするものである。0.5μm以下とすることにより、パターニングする際のエッチング等において、パターン欠陥の発生を抑え、高精度のパターニングが可能となると共に、信頼性が向上する。
(構成7)前記凹部の短軸方向の長さが0.05〜0.25μmであることを特徴とするものである。凹部の短軸方向の長さを0.05μm未満とすると、品質上は勿論よいが、歩留まりが悪くなり、製造コストを上昇させることになるので好ましくない。
(構成8)電子デバイス用ガラス基板内部に、透過光に対する光学特性が不均一な部分が実質的に存在しないことを特徴とするものである。
(構成9)前記電子デバイス用ガラス基板内部に、透過光に対する光学特性が不均一な部分が実質的に存在しないことを特徴とするものである。
(構成10)前記構成1〜9記載の電子デバイス用ガラス基板の主表面上に、少なくとも遮光機能を有する薄膜が形成されていることを特徴とするものである。
(構成11)前記構成1〜9の電子デバイス用ガラス基板の主表面上に、パターニングされた少なくとも遮光機能を有する薄膜パターンが形成されていることを特徴とするものである。
)が形成されたレベンソン型位相シフトマスクのものや、SOG膜が形成された2層以上の位相シフト機能を有する膜が形成された位相シフトマスクであってもよい。
2 クロム膜
2’クロム膜パターン
3 MoSiNのハーフトーン膜
3’MoSiN膜パターン
4 レーザー
51、52 ミラー
53入射角度調整手段
6 駆動装置
7 テーブル
8 レンズ系
9 CCD
14 傷
22 脈理
Claims (6)
- 少なくとも一組の互いに平行な主表面と、該主表面に直交する少なくとも一組の側面と、前記主表面及び前記側面によって挟まれた面取り面とを有するガラス基板であって、前記主表面及び側面が精密研磨されたガラス基板を準備する工程と、
前記精密研磨されたガラス基板を、検査光の光学的変化によって欠陥の有無を判別する検査方法によって検査し、基準設定値を満足しているものを選ぶ検査工程とを有する電子デバイス用ガラス基板の製造方法であって、
前記検査工程における検査方法は、検査光としてレーザー光を用い、前記ガラス基板内の光路が光学的に均一の場合には、該ガラス基板内を伝搬して前記主表面及び前記側面で全反射をし、かつ、少なくとも一組の側面の間で反復するように伝搬し、伝搬することによって、前記主表面、側面及び面取り面で囲まれる被検査領域に前記レーザー光が行き渡るように、前記レーザー光を前記ガラス基板に導入し、前記ガラス基板内の光路に光学的に不均一な部分がある場合に表面から漏出する光の情報を求めて基準設定値と比較する方法であることを特徴とする電子デバイス用ガラス基板の製造方法。 - 前記電子デバイス用ガラス基板は、その主表面に遮光機能を有する薄膜を形成してフォトマスクブランクを製造する際に用いられるものであり、
前記検査工程における基準設定値は、前記電子デバイス用ガラス基板を用いて製造したフォトマスクブランクの薄膜に所定のパターンを形成してフォトマスクを製造し、そのフォトマスクを用いてパターン転写したときに、前記電子デバイス用ガラス基板内部の不均一部分に起因して前記転写パターンにパターン不良が発生しないような値を選定して設定することを特徴とする請求項1に記載の前記電子デバイス用ガラス基板の製造方法。 - 前記電子デバイス用ガラス基板は、その主表面に遮光機能を有する薄膜を形成してフォトマスクブランクを製造する際に用いられるものであり、
前記検査工程における基準設定値は、前記電子デバイス用ガラス基板を用いて製造したフォトマスクブランクの薄膜に所定のパターンを形成する際、このパターンにパターン欠陥が生じないような値を選定して設定することを特徴とする請求項1に記載の電子デバイス用ガラス基板の製造方法。 - 前記レーザー光を、前記面取り面から導入し、かつ、前記ガラス基板の光路が光学的に均一の場合には、前記面取り面からのみレーザー光が出射するように導入することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の電子デバイス用ガラス基板の製造方法。
- 請求項1乃至4のいずれかに記載の前記電子デバイス用ガラス基板の製造法によって得られた前記電子デバイス用ガラス基板の主表面に、少なくとも遮光機能を有する薄膜を形成することを特徴とするフォトマスクブランクの製造方法。
- 請求項1乃至4のいずれかに記載の前記電子デバイス用ガラス基板の製造法によって得られた前記電子デバイス用ガラス基板の主表面に、パターニングされた少なくとも遮光機能を有する薄膜パターンを形成することを特徴とするフォトマスクの製造方法。
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