JP2005025086A - 光スイッチ及びその製造方法 - Google Patents
光スイッチ及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005025086A JP2005025086A JP2003270019A JP2003270019A JP2005025086A JP 2005025086 A JP2005025086 A JP 2005025086A JP 2003270019 A JP2003270019 A JP 2003270019A JP 2003270019 A JP2003270019 A JP 2003270019A JP 2005025086 A JP2005025086 A JP 2005025086A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- optical waveguide
- optical
- electrode
- optical switch
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
Abstract
【解決手段】 キャリア注入による屈折率変化により光信号の伝送経路を切り換える光スイッチにおいて、半導体基板と、この半導体基板上に形成された下部のクラッド層と、この下部のクラッド層上であって光信号が一方から入射され途中で2つに分岐して出射される光導波路が形成された光導波路層と、この光導波路層上形成され光導波路の周囲がエッチング加工された上部のクラッド層と、この上部のクラッド層上でエッチング加工がされていない部分に形成されたコンタクト層と、上部のクラッド層及びコンタクト層上の一部以外に形成された酸化膜と、コンタクト層上の一部に形成された第1の電極と、基板の裏面に形成された第2の電極とを備え、下部のクラッド層であって第1の電極の直下以外の部分に電流狭窄のための不純物拡散領域を設ける。
【選択図】 図1
Description
従って本発明が解決しようとする課題は、構造が簡単で製作が容易な電流狭窄構造を有する光導波路型の光スイッチをを実現することにある。
キャリア注入による屈折率変化により光信号の伝送経路を切り換える光スイッチにおいて、
半導体基板と、この半導体基板上に形成された下部のクラッド層と、この下部のクラッド層上であって前記光信号が一方から入射され途中で2つに分岐して出射される光導波路が形成された光導波路層と、この光導波路層上形成され前記光導波路の周囲がエッチング加工された上部のクラッド層と、この上部のクラッド層上でエッチング加工がされていない部分に形成されたコンタクト層と、前記上部のクラッド層及び前記コンタクト層上の一部以外に形成された酸化膜と、前記コンタクト層上の前記一部に形成された第1の電極と、前記基板の裏面に形成された第2の電極とを備え、前記下部のクラッド層であって前記第1の電極の直下以外の部分に電流狭窄のための不純物拡散領域が形成されたことにより、構造が簡単で製作が容易な電流狭窄構造を有することができる。
請求項1記載の発明である光スイッチにおいて、
前記下部のクラッド層であって、
分岐部分の前記光導波路の幅方向の一部の領域を残して電流狭窄のための前記不純物拡散領域が形成されたことにより、構造が簡単で製作が容易な電流狭窄構造を有することができる。
請求項1若しくは請求項2記載の発明である光スイッチにおいて、
前記上部のクラッド層であって、
前記第1の電極の直下の部分に第2の不純物拡散領域が形成されたことにより、構造が簡単で製作が容易な電流狭窄構造を有することができる。
請求項1若しくは請求項2記載の発明である光スイッチにおいて、
前記光導波路が、
スラブ型の光導波路であることにより、構造が簡単で製作が容易な電流狭窄構造を有することができる。
請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の発明である光スイッチにおいて、
前記光導波路層が、
2本の直線の光導波路が交差した光導波路を有することにより、構造が簡単で製作が容易な電流狭窄構造を有することができる。
請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の発明である光スイッチにおいて、
前記光導波路層が、
1本の直線の光導波路の途中から異なる角度で分岐する光導波路を有することにより、構造が簡単で製作が容易な電流狭窄構造を有することができる。
キャリア注入による屈折率変化により光信号の伝送経路を切り換える光スイッチの製造方法であって、
半導体基板上に下部のクラッド層を結晶成長させる工程と、この下部のクラッド層に不純物を選択拡散して不純物拡散領域を形成する工程と、前記下部のクラッド層上に光導波路層、上部のクラッド層を順次結晶成長させる工程と、この上部のクラッド層に不純物を選択拡散して不純物拡散領域を形成する工程と、前記上部のクラッド層上にコンタクト層を形成する工程と、前記コンタクト層から前記上部のクラッド層の途中までエッチング加工を行いスラブ型光導波路を構成する工程と、前記コンタクト層上及び前記上部のクラッド層上であって前記コンタクト層の一部を残して酸化膜を形成する工程と、前記コンタクト層の一部に第1の電極を形成する工程と、前記半導体基板の裏面に第2の電極を形成する工程とから成ることにより、構造が簡単で製作が容易な電流狭窄構造を有することができる。
請求項7記載の発明である光スイッチの製造方法であって、
前記光導波路層に、
2本の直線の光導波路が交差した光導波路を形成することにより、構造が簡単で製作が容易な電流狭窄構造を有することができる。
請求項7記載の発明である光スイッチの製造方法であって、
前記光導波路層に、
1本の直線の光導波路の途中から異なる角度で分岐する光導波路を形成することにより、構造が簡単で製作が容易な電流狭窄構造を有することができる。
請求項1,2,3,4,5,6,7,8及び請求項9の発明によれば、下部のクラッド層である平坦なInP層34にp型不純物であるZnを選択拡散させて電流狭窄構造を形成した後に、光層波路層35等を結晶成長により順次形成させエッチング加工を行いスラブ型光導波路を構成することにより、構造が簡単で製作が容易な電流狭窄構造を有することができる。
Δn=−(q2λ2/8π2c2nε0)
×[(ΔNe/m* ce)+(ΔNh/m* ch)] (1)
で表される。
2,6,13,24,35 光導波路層
3,4,9,10,17,18,21,22,28,31,39,40 電極
7,8,37 コンタクト層
11,16 絶縁膜
14,25,33,34,36 InP層
15,26 InGaAsP層
20,30 光導波路
23 InP基板
27,38 酸化膜
Claims (9)
- キャリア注入による屈折率変化により光信号の伝送経路を切り換える光スイッチにおいて、
半導体基板と、
この半導体基板上に形成された下部のクラッド層と、
この下部のクラッド層上であって前記光信号が一方から入射され途中で2つに分岐して出射される光導波路が形成された光導波路層と、
この光導波路層上形成され前記光導波路の周囲がエッチング加工された上部のクラッド層と、
この上部のクラッド層上でエッチング加工がされていない部分に形成されたコンタクト層と、
前記上部のクラッド層及び前記コンタクト層上の一部以外に形成された酸化膜と、
前記コンタクト層上の前記一部に形成された第1の電極と、
前記基板の裏面に形成された第2の電極とを備え、
前記下部のクラッド層であって前記第1の電極の直下以外の部分に電流狭窄のための不純物拡散領域が形成されたことを特徴とする
光スイッチ。 - 前記下部のクラッド層であって、
分岐部分の前記光導波路の幅方向の一部の領域を残して電流狭窄のための前記不純物拡散領域が形成されたことを特徴とする
請求項1記載の光スイッチ。 - 前記上部のクラッド層であって、
前記第1の電極の直下の部分に第2の不純物拡散領域が形成されたことを特徴とする
請求項1若しくは請求項2記載の光スイッチ。 - 前記光導波路が、
スラブ型の光導波路であることを特徴とする
請求項1若しくは請求項2記載の光スイッチ。 - 前記光導波路層が、
2本の直線の光導波路が交差した光導波路を有することを特徴とする
請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の光スイッチ。 - 前記光導波路層が、
1本の直線の光導波路の途中から異なる角度で分岐する光導波路を有することを特徴とする
請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の光スイッチ。 - キャリア注入による屈折率変化により光信号の伝送経路を切り換える光スイッチの製造方法であって、
半導体基板上に下部のクラッド層を結晶成長させる工程と、
この下部のクラッド層に不純物を選択拡散して不純物拡散領域を形成する工程と、
前記下部のクラッド層上に光導波路層、上部のクラッド層を順次結晶成長させる工程と、
この上部のクラッド層に不純物を選択拡散して不純物拡散領域を形成する工程と、
前記上部のクラッド層上にコンタクト層を形成する工程と、
前記コンタクト層から前記上部のクラッド層の途中までエッチング加工を行いスラブ型光導波路を構成する工程と、
前記コンタクト層上及び前記上部のクラッド層上であって前記コンタクト層の一部を残して酸化膜を形成する工程と、
前記コンタクト層の一部に第1の電極を形成する工程と、
前記半導体基板の裏面に第2の電極を形成する工程と
から成ることを特徴とする光スイッチの製造方法。 - 前記光導波路層に、
2本の直線の光導波路が交差した光導波路を形成することを特徴とする
請求項7記載の光スイッチの製造方法。 - 前記光導波路層に、
1本の直線の光導波路の途中から異なる角度で分岐する光導波路を形成することを特徴とする
請求項7記載の光スイッチの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003270019A JP2005025086A (ja) | 2003-07-01 | 2003-07-01 | 光スイッチ及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003270019A JP2005025086A (ja) | 2003-07-01 | 2003-07-01 | 光スイッチ及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005025086A true JP2005025086A (ja) | 2005-01-27 |
Family
ID=34190110
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003270019A Pending JP2005025086A (ja) | 2003-07-01 | 2003-07-01 | 光スイッチ及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005025086A (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6145230A (ja) * | 1984-08-10 | 1986-03-05 | Hitachi Ltd | 光スイツチ |
JPS62136625A (ja) * | 1985-12-11 | 1987-06-19 | Hitachi Ltd | 光スイツチの製造法 |
JPH02228634A (ja) * | 1989-03-01 | 1990-09-11 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体光スイッチ及びその製造方法 |
JPH04190332A (ja) * | 1990-11-26 | 1992-07-08 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 導波路型光スイッチ |
JP2003177368A (ja) * | 2001-12-11 | 2003-06-27 | Fujitsu Ltd | 半導体光変調器、マッハツェンダ型光変調器、及び光変調器一体型半導体レーザ |
-
2003
- 2003-07-01 JP JP2003270019A patent/JP2005025086A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6145230A (ja) * | 1984-08-10 | 1986-03-05 | Hitachi Ltd | 光スイツチ |
JPS62136625A (ja) * | 1985-12-11 | 1987-06-19 | Hitachi Ltd | 光スイツチの製造法 |
JPH02228634A (ja) * | 1989-03-01 | 1990-09-11 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体光スイッチ及びその製造方法 |
JPH04190332A (ja) * | 1990-11-26 | 1992-07-08 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 導波路型光スイッチ |
JP2003177368A (ja) * | 2001-12-11 | 2003-06-27 | Fujitsu Ltd | 半導体光変調器、マッハツェンダ型光変調器、及び光変調器一体型半導体レーザ |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5029369B2 (ja) | 光導波路 | |
US4787691A (en) | Electro-optical silicon devices | |
JP5565148B2 (ja) | 半導体光素子 | |
JP2873062B2 (ja) | 光集積装置およびその製造方法 | |
CN105474078B (zh) | 电吸收调制器 | |
JP5831165B2 (ja) | 半導体光素子 | |
JP2009258527A (ja) | 光学素子 | |
CN108828797B (zh) | 一种硅基电吸收调制器及其制备方法 | |
JP2019008163A (ja) | 電界吸収型光変調器 | |
US5706374A (en) | Compact digital optical switch | |
JP2011203384A (ja) | 半導体光素子及びマッハツェンダー型光変調素子 | |
US9798166B1 (en) | Attenuator with improved fabrication consistency | |
JP2019159273A (ja) | 電界吸収型光変調器 | |
JP4636426B2 (ja) | 光信号交換装置 | |
JP5824929B2 (ja) | 光半導体素子の製造方法 | |
JP2017156454A (ja) | 光変調器とその製造方法 | |
JP2005025086A (ja) | 光スイッチ及びその製造方法 | |
US7200290B2 (en) | Optical switch | |
Shakouri et al. | Wafer-fused optoelectronics for switching | |
Xiao et al. | Sub-nanosecond silicon-on-insulator optical micro-ring switch with low crosstalk | |
JP2662059B2 (ja) | 光電スイッチ素子を有する集積半導体装置 | |
JP2018004932A (ja) | 光位相・強度シフタ | |
JP2007155967A (ja) | 電磁波偏波面回転装置 | |
US6891986B2 (en) | Optical switch | |
JP4154663B2 (ja) | 光スイッチ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060404 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090528 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090602 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090731 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100601 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100610 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110517 |