JP2005011385A - 磁区拡大型光磁気再生方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】符号間干渉を持たない磁区拡大型光磁気再生において信号極性変化部(立ち上がり、立ち下がり)以外の信号飽和レベルノイズ成分或いは波形歪みにより発生するレベルジッタを軽減し、良好なエラー特性を実現する。
【解決手段】再生信号に所定の上限値或いは下限値を設定し、その上限値以上或いは下限値以下の再生信号をそれぞれ上限値或いは下限値のレベルに矯正するリミッタ処理を施し、リミッタ処理を施した信号に対してパーシャルレスポンス等価(PR等価)処理を行い、PR再生を行うことで、PR検出時のレベルジッタを改善し、情報再生時のエラーレートを改善する。
【選択図】 図1
【解決手段】再生信号に所定の上限値或いは下限値を設定し、その上限値以上或いは下限値以下の再生信号をそれぞれ上限値或いは下限値のレベルに矯正するリミッタ処理を施し、リミッタ処理を施した信号に対してパーシャルレスポンス等価(PR等価)処理を行い、PR再生を行うことで、PR検出時のレベルジッタを改善し、情報再生時のエラーレートを改善する。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光磁気記録媒体に再生光ビームを照射して情報を再生する方法及び装置、特に、磁区拡大型光磁気記録媒体を用いて情報の再生を行う磁区拡大型光磁気再生方法及び装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、書き換え可能な高密度記録方式として、半導体レーザの熱エネルギーを利用して磁性薄膜に磁区を書き込んで情報を記録し、光磁気効果を利用してこの情報を読み出す光磁気記録媒体がある。近年この光磁気記録媒体の記録密度を更に高めて大容量の記録媒体とする要求が高まっている。
【0003】
ところで、光磁気記録媒体等の光ディスクの線記録密度は、再生光学系のレーザ波長及び対物レンズの開口数に大きく依存する。即ち、再生光学系のレーザ波長λと対物レンズの開口数NAが決まるとビームウエストの径が決まるため、記録マークの再生時の空間周波数は、2NA/λ程度が検出可能な限界となってしまう。
【0004】
従って、従来の光ディスクで高密度化を実現するためには、再生光学系のレーザ波長を短くし、対物レンズのNAを大きくする必要がある。しかしながら、レーザ波長や対物レンズの開口数の改善にも限度があるため、記録媒体の構成や読み取り方法を工夫し、記録密度を改善する技術が開発されている。
【0005】
例えば、特開平06−290496号公報には、磁気的に結合された再生層と記録層とを有する多層膜の記録層に信号記録を行うと共に、加熱用光ビームの照射による温度勾配を利用し、記録層の記録データを変化させることなく再生層の記録マークの磁壁を移動させることにより、再生用光ビームスポットのほぼ全域が同一の磁化になるように再生層を磁化させて、再生用光ビーム反射光の偏向面の変化を検出し、光の回折限界以下の記録マークを再生する信号再生方法及び装置が提案されている(特許文献1参照)。
【0006】
この方法によれば、再生信号が矩形状になり、再生信号振幅を低下させることなく光学系の回折限界以下の記録マークが再生可能となり、記録密度並びに転送速度を大幅に向上することができる。
【0007】
図6は磁区拡大型(磁壁移動型)光磁気記録媒体を用いた光磁気記録再生装置の構成を示すブロック図である。図中1は磁区拡大型の光磁気ディスクである。光磁気ディスク1はガラス或いはプラスチックを素材とする基板2上に光磁気記録膜3が形成され、更にその上に保護膜4が形成された構成である。
【0008】
光磁気記録膜3は、複数の磁性層が積層されたもので、その情報を再生する場合には、詳しく後述するように再生用光ビームの照射による温度勾配を利用し、記録層の記録データを変化させることなく、再生層の記録マークの磁壁を移動させて再生スポット内の磁化を拡大する。そして、再生用光ビームの媒体による反射光の偏向面の変化を検出し、光学系の回折限界以下の記録マークを再生するものである。
【0009】
光磁気ディスク1はマグネットチャッキング等でスピンドルモータ(図示せず)に支持され、回転軸に対して回転自在の構造となっている。5は光磁気ディスク1に記録再生用レーザ光を照射し、更に反射光から情報を得る光ヘッドである。光ヘッド5は集光レンズ(例えばNA;0.60)、集光レンズを駆動するアクチュエータ、半導体レーザ(例えばλ;650nm)、ビームスプリッタ、偏光ビームスプリッタ、光磁気ディスク1からの反射光を検出する光センサ等から構成されている。半導体レーザから出射したレーザ光は集光レンズ等の光学部品群を介して光磁気ディスク1に照射される。
【0010】
この時、集光レンズはアクチュエータの制御によってフォーカシング方向及びトラッキング方向に移動し、レーザ光が光磁気ディスク1の光磁気記録膜3上に逐次焦点を結ぶように、且つ、光磁気ディスク1上に刻まれた案内溝に沿ってトラッキングするように制御される。
【0011】
光磁気ディスク1から反射されたレーザ光は光学部品群を介して光センサで検出される。光センサは複数のセンサに分割されており、光磁気記録膜3の磁化の極性に応じた偏向方向の違いによって対応するそれぞれのセンサに集光され、それらのセンサ出力を差動増幅することで光磁気信号が生成される。この光磁気信号は図示しないLPF等を介してPRML処理回路に入力され、より高い精度での再生情報を得る構成となっている。なお、ここでは、再生信号の波形等価を行うPR等価回路11とビタビ復号を行うビタビ復号回路12とを合わせてPRML処理回路という。
【0012】
コントローラ6は光磁気ディスク1の回転数及び記録半径、記録セクタ情報、更には環境温度等を入力情報として、記録パワー、記録信号等を出力し、LDドライバ7、磁気ヘッドドライバー8等を制御する。9は記録動作時に光磁気ディスク1のレーザ照射部位に変調磁界を印加するための磁気ヘッドであり、光磁気ディスク1を挟み光ヘッド5と対向して配置されている。磁気ヘッド9は磁気ヘッドドライバー8によって駆動される。
【0013】
情報の記録時には、光ヘッド5から光磁気ディスク1に記録レーザ光が照射され、これと同時に磁気ヘッド9から記録信号に対応して極性の異なる磁界が印加される。また、この磁気ヘッド9は光ヘッド5と連動して光磁気ディスク1の半径方向に移動し、記録時には逐次光磁気ディスク1のレーザ光照射部位に磁界を印加することで情報を記録する。
【0014】
次に、情報を記録する場合の記録動作を図7を参照して説明する。図7(a)は記録信号、図7(b)は半導体レーザの記録パワー、図7(c)は磁気ヘッド9の変調磁界、図7(d)は光磁気ディスク1上に記録された記録マーク列、図7(e)は再生信号である。
【0015】
図7(a)に示すような記録信号を記録する場合には、記録動作の開始と共に光ヘッド5から図7(b)に示すように所定記録パワーの記録用光ビームが光磁気ディスク1上に照射され、同時に図7(c)に示すように磁気ヘッド9から光磁気ディスク1の光ビーム照射部位に図7(a)の記録信号に基づく変調磁界が印加される。
【0016】
ここでは、印加磁界を記録情報に応じて変調し、且つ、記録レーザ光を定常周期でパルス状に変調させる所謂パルス磁界変調を用いている。これらの動作により、光磁気ディスク1の光磁気記録膜3の冷却過程において図7(d)に示すように光磁気ディスク1上に記録マーク列が形成される。なお、図7(d)の斜線部及び白抜き部は互いに逆の磁化の向きを持つ磁区を表している。また、このような磁界変調記録を採用することで、スポットサイズよりも小さな磁区を形成することが可能である。
【0017】
次に、再生動作に関して図8を用いて説明する。ここでは、光磁気ディスク1の光磁気記録膜3が記録マークの保存を司る記録保持層(記録層)、磁壁が移動し再生信号に直接寄与する磁壁移動層(再生層)、記録層と再生層の結合状態をスイッチするスイッチング層の3層構造の場合を例として説明する。
【0018】
図8(a)は磁区再生状態を示す模式図、図8(b)は記録膜の状態図、図8(c)は媒体の温度状態図、図8(d)は再生信号を示す。情報の再生時には、図8(a)に示すように再生用光ビームの照射により磁壁移動媒膜3の再生層の磁壁が移動するTs温度条件まで加熱される。この際、図8(b)に示すスイッチング層はTsより低い温度領域では交換結合により記録層、再生層と結合した状態となっている。
【0019】
光磁気記録膜3が光ビームの照射によりTs温度以上に加熱されると、スイッチング層はキュリー点に達し、再生層、記録層との結合が切れた状態となる。このため、このTs温度領域に記録マークの磁壁が到達すると同時に再生層の磁壁は再生層の温度勾配に対してエネルギー的に磁壁が安定して存在する位置、即ち、光ビームの照射による温度上昇の線密度方向の最高温度点にランドを横切るように磁壁が瞬時に移動する。
【0020】
これにより、再生用光ビームに覆われている領域の大部分の磁化状態が同じになるため、通常の光ビーム再生原理においては再生不可能な微小な記録マークであっても、図8(d)示すように矩形に近い状態の再生信号を得ることができる。従って、再生信号振幅がほとんど低下することなく光学系回折限界以下の記録マークの再生が可能となり、記録密度並びに転送速度を大幅に向上することが可能となる。
【0021】
次に、図6のPRML処理回路の再生信号処理方法に関して説明する。通常の光ディスクの再生信号に用いられるパーシャルレスポンス信号処理は、光ディスクの再生信号がDC成分を持ち、光学系の制約から生じる空間周波数の低下による符号間干渉の影響から、PR(1,1)、PR(1,2,1)を用いるのが一般的である。
【0022】
しかしながら、磁区拡大型光磁気媒体を用いた場合には、光学系の制約による符号間干渉を持たない特徴、また、狭トラックピッチ化におけるクロストークの影響の増加等を背景に微分系であるパーシャルレスポンスを採用するメリットが唱われており、例えば、PR(1,−1)を採用することで、光学的に読み取り可能な空間周波数である低域のクロストーク成分の影響を排した再生信号処理を行うことが可能である。
【0023】
図9はPR(1,−1)の再生信号処理例を説明する信号波形図である。なお、変調符号に(1,7)RLL符号を用いた場合を例とする。図9(a)は情報信号列、図9(b)は記録信号列、図9(c)はその記録信号を光磁気ディスクに記録した場合の記録マーク列、図9(d)はその記録マークを再生した場合の磁区拡大型光磁気再生信号、図9(e)はPLLクロックにおいて図9(d)の再生信号をサンプリングした場合のサンプリング信号レベル、図9(f)は図9(e)のサンプリングデータに対してPR(1,−1)等価処理を施した場合の信号レベルを示す。
【0024】
また、図9(g)は図9(f)の信号レベルのヒストグラム、所謂レベルジッタなるものである。図9(h)は図9(f)の信号レベルの3値レベル判断を行い、“0”か否かを判断し、“0”の場合を“0”、“0”でない場合は“1”と判断するPR再生処理判定の結果を示す。
【0025】
ここで、図9(h)に示す情報列は図9(a)の情報信号列を再現しており、これにより情報の再生が可能となる。以上がPR処理の基本的処理原理であるが、通常は図9(h)のように直接3値レベルを判断せず、図9(f)の信号レベルを更に処理し、最尤復号(ML)或いはビタビ復号なる手法を用いて再生信号処理を行うPRML処理を行うことで、よりエラーの少ない再生情報を得る手法が採られている。
【0026】
【特許文献1】
特開平06−290496号公報
【0027】
【発明が解決しようとする課題】
従来の磁区拡大再生型の光磁気再生では、前述のように再生信号波形が符号間干渉を持たない矩形状の波形となる。図10(a)はこの再生信号波形の例を示す。まず、図10(a)に示すように信号波形の本来レベル変動がない飽和振幅部分(Aで示す部分)に注目すると、実際には高周波のノイズ成分を多く含み、時としては本来レベル変動がない部分(Bで示す部分)にレベル変動が起こり、波形歪が生じる場合がある。
【0028】
これら高周波のノイズや波形歪はPR検出時のレベル誤差を生み、即ち、図10(g)の信号レベルのヒストグラムのレベルジッタを悪化させる原因となっている。通常、これらノイズに対してはローパスフィルタ(LPF)による除去を行うが、LPFはノイズのみならず、矩形再生信号の信号極性変化の立ち上がり、立ち下りの傾きにも影響を与えるため、過剰なLPFの作用は信号極性変化のエッジ位置のジッタを悪化させる結果になり、PLL検出等には逆に悪影響を与える場合があった。
【0029】
図10(b)は図10(a)の再生信号をLPFを通した後にサンプリングした場合のサンプリングレベルを示しているが、信号極性変化の立ち上がり、立ち下りが緩やかに変化しているのが分かる。また、このように立ち上がり、立ち下がりが変化すると、図11(b)に矢印で示すようにエッジ位置を挟む再生信号のサンプリング点のレベル変化を招くことになり、逆にヒストグラムのレベル変化を招くという問題点があった。
【0030】
本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたもので、その目的は、信号極性部分以外の信号飽和レベルのノイズ成分或いは波形歪みにより発生するレベルジッタを軽減し、良好なエラー特性を得る事が可能な磁区拡大型光磁気再生方法及び装置を提供することにある。
【0031】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記目的を達成するため、光学系の制約による符号間干渉を持たない磁区拡大型光磁気記録媒体の再生信号処理を行う磁区拡大型光磁気再生方法において、再生信号に所定の上限値或いは下限値を設定し、その上限値以上或いは下限値以下の再生信号レベルをそれぞれ上限値或いは下限値に矯正するリミッタ処理を施し、リミッタ処理を施した信号に対してパーシャルレスポンス等価・再生処理を行うことを特徴とする。
【0032】
また、本発明は、光学系の制約による符号間干渉を持たない磁区拡大型光磁気記録媒体の再生信号処理を行う磁区拡大型光磁気再生装置において、再生信号に所定の上限値或いは下限値を設定し、その上限値以上或いは下限値以下の再生信号レベルをそれぞれ上限値或いは下限値に矯正するリミッタ処理を行う手段と、前記リミッタ処理手段によりリミット処理を施した信号に対してパーシャルレスポンス等価・再生処理を行う手段とを備えたことを特徴とする。
【0033】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【0034】
(第1の実施形態)
図1は本発明による光磁気記録再生装置の第1の実施形態の構成を示すブロック図である。なお、図1では図6の従来装置と同一部分は同一符号を付して説明を省略する。即ち、磁区拡大型の光磁気ディスク1、基板2、光磁気記録膜3、光ヘッド5はいずれも図6のものと同じである。
【0035】
光ヘッド5は、記録再生用半導体レーザ、そのレーザ光束を集光する集光レンズ、集光レンズを駆動するアクチュエータ、ビームスプリッタ、偏光ビームスプリッタ、光磁気ディスク1からの反射光を検出する光センサ等から構成されている。光ヘッド5内の半導体レーザの波長λは、例えば、650nm、集光レンズのNAは、例えば、0.60とする。
【0036】
また、装置内の各部を制御するコントローラ6、光ヘッド5内の半導体レーザを駆動するLDドライバ7、光磁気ディスク1に記録磁界を印加する磁気ヘッドへ9、磁気ヘッド9を駆動する磁気ヘッドドライバー8、再生信号の波形等価を行うPR等価回路11、ビタビ復号を行うビタビ復号回路12はいずれも図6のものと同じである。
【0037】
情報の記録時には、光ヘッド5から光磁気ディスク1に記録用光ビームをパルス照射し、磁気ヘッド9は記録信号に応じて極性の異なる記録磁界を印加する。また、情報の再生時には、光ヘッド5は光磁気ディスク1に再生用光ビームを照射する。
【0038】
図6との違いはPR等価回路11の前段にリミッタ回路10を設けている点であり、その他の構成は図6と同様である。リミッタ回路10はオペアンプ、ダイオード等から成る振幅制限回路であり、再生信号の振幅を所定の上限値、下限値に矯正する回路である。
【0039】
図2(a)はリミッタ回路10の基本構成、図2(b)はリミッタ回路10の動作特性を示す。リミッタ回路10は図2(a)に示すようにオペアンプAmp、抵抗器R1、R2、ダイオードD1、D2等から構成され、図2(b)に示すように所定の入力レベル以上、或いは以下の入力信号に対して出力値が飽和する構成となっている。このリミッタ回路10によって再生信号の上限値と下限値が設定されている。
【0040】
また、PR等価回路11は再生信号の波形等価を行い、PR(1,−1)の特性に等価する回路であり、主にローパスフィルタ、微分回路、トランスバーサルフィルタ等から成る。これらのPR等価回路11の構成は周知であるので、詳しい説明は省略する。
【0041】
次に、基本的な記録動作は図7と同様である。簡単に説明すると、図7(a)に示す記録信号を記録する場合には、光ヘッド5から図7(b)に示すように所定記録パワーに設定され、パルス状に変調された光ビームが光磁気ディスク1上に照射され、同時に図7(c)に示すように磁気ヘッド9から図7(a)の記録信号に基づく変調磁界が光ビーム照射部位に印加される。ここでは、変調レーザ光のボトムパワーを“0”に設定しているが、この限りではなくボトムパワーを“0”以外に設定することもある。
【0042】
また、レーザ光の変調を変調符号のクロック周波数として説明するが、この限りではなくクロック周波数の整数倍であってもよい。更に、パルス照射をデューティ50%にて表しているが、これもこの限りではなく種々のデューティをとっても良い。これら記録動作により光磁気記録膜3の冷却過程において図7(d)に示すように記録マーク列が形成され、所謂、パルスアシスト磁界変調記録を行う。このような磁界変調記録を採用することで、スポットサイズよりも小さな磁区を形成することが可能である。
【0043】
次に、磁区拡大型再生の動作原理に関しても図8と同様である。簡単に説明すると、まず、情報再生時に図8(a)に示すように再生用光ビームの照射により光磁気記録膜3の再生層の磁壁が移動するTs温度条件まで加熱される。スイッチング層はTsより低い温度領域では、交換結合により記録層、再生層と結合した状態となっている。
【0044】
光磁気媒体膜3が再生用光ビームの照射によりTs温度以上に加熱されると、スイッチング層はキュリー点に達し、再生層と記録層との交換結合が切れた状態となる。このため、このTs温度領域に記録マークの磁壁が到達すると同時に再生層の磁壁は再生層の温度勾配に対してエネルギー的に磁壁が安定して存在する位置、即ち、光ビームの照射による温度上昇の線密度方向の最高温度点にランドを横切るように磁壁が瞬時に移動する。
【0045】
これにより、再生用光ビームに覆われる領域の大部分の磁化状態が同じになるため、通常の光ビーム再生原理においては再生不可能な微小な記録マークであっても、図8(d)に示すような矩形に近い状態の再生信号が得られる。なお、光磁気記録膜3は図8で説明したように再生層、記録層、スイッチング層の3層構造としているが、この限りではない。
【0046】
次に、本実施形態による再生信号処理方法に関して図3を用いて説明する。なお、変調符号に(1,7)RLL符号を用いた場合を例とする。図3(a)は記録情報列、図3(b)は記録信号列、図3(c)は図3(b)の記録信号列を光磁気ディスク1に記録した場合の記録マーク列、図3(d)は光磁気ディスク1から図3(c)の記録マーク列を再生した場合の磁区拡大光磁気再生信号、図3(e)はリミッタ回路10の出力、図3(f)は図3(e)の信号にPR(1,−1)等価処理を施した信号を示す。
【0047】
また、図3(g)は図3(f)の信号レベルのヒストグラム、所謂レベルジッタなるものを示す。図3(d)の光磁気ディスク1から再生された光磁気再生信号は図示しない増幅器やハイパスフィルタ等を通り、このハイパスフィルタによってDC成分が除去される。
【0048】
このDC成分が除去された信号はリミッタ回路10に入力され、このリミッタ回路10によって再生信号の上限、下限が制限され、図3(e)に示すように再生信号レベルがそれぞれ所定の上限値、下限値に矯正された信号が得られる。即ち、図3(d)の光磁気再生信号をリミッタ回路10によってリミッタ処理を施すことによって、図3(e)に示すように高周波ノイズ成分等のない再生信号波形が得られる。
【0049】
このリミッタ回路10の出力の上下限値は電気回路によって決まるノイズ成分のみが重畳された値となる。なお、リミッタの上下限値はエラーレート等の評価指標により最適化すれば良い。この信号をPR等価回路11によってPR等価処理すると、再生信号は図3(f)に示すような再生信号となる。図3(f)の黒丸はサンプリング点を示す。
【0050】
この信号はリミッタ回路10により上下限が制約された信号を基にしているため、レベルジッタの極めて少ない信号となる。従って、この信号レベルのヒストグラムは図3(g)に示すように3値のレベルが非常に良く分離したヒスグラムになる。これにより、PRレベル検出時のレベル誤差が激減し、誤判定を低減できる。更に、最尤復号、ビタビ復号時もサンプリングレベル差が明確に出ているため、より高精度での復号が可能となる。
【0051】
(第2の実施形態)
図4は本発明の第2の実施形態を示すブロック図である。図1との違いはリミッタ回路10、PR等価回路11の代わりに再生信号処理回路13を設けている点であり、それ以外は図1と同様である。再生信号処理回路13は再生信号のサンプリング、リミッタ制限、PR等価をディジタル処理するディジタル信号処理回路である。本実施形態の基本的な記録動作、並びに基本的な再生動作原理は第1の実施形態と同様である。
【0052】
次に、本実施形態の再生信号処理方法に関して図5を用いて説明する。なお、変調符号に(1,7)RLL符号を用いた場合を例とする。図5(a)は記録情報列、図5(b)は記録信号列、図5(c)は図5(b)の記録信号列を光磁気ディスク1に記録した場合の記録マーク列、図5(d)は図5(c)の記録マーク列を再生した場合の磁区拡大光磁気再生信号である。
【0053】
また、図5(e)は光磁気信号をPLLクロックによりサンプリング時刻iでサンプリングしたサンプリング値列{V(i)}、図5(f)は図5(e)のサンプリング値に上限値;Vmax、下限値;Vminを規定し、V(i)>Vmaxならば、V(i)=Vmax、V(i)<Vminならば、V(i)=Vminなる変換処理、即ち、リミッタ処理を施した信号列[Vl(i)]である。図5(g)は信号列[Vl(i)]に対して、[Vprl(i)]=[Vl(i)]−[Vl(I−1)]の演算処理を行った信号列である。
【0054】
この処理は磁区拡大型光磁気再生信号が符号間干渉を持たないため、PR(1,−1)等価と等価な処理になる。伝送系の信号帯域により更なる等価が必要な場合には、更に等価処理を加えれば良い。図5(h)は図5(g)の信号レベルのヒストグラム、所謂レベルジッタなるものを示す。
【0055】
図5(g)に示す信号列[Vprl(i)]のレベル分布は、エッジシフトによるサンプリング点でレベル変動を除けば、VmaxとVminとの差分値の分布になるため、再生信号飽和レベルにおけるノイズの影響、或いは波形歪の影響を大幅に軽減でき、3値のレベルが非常に良く分離し、PR(1,−1)等価出力となっている。これにより、PRレベル検出時のレベル誤差が激減し、誤判定を低減することができる。
【0056】
また、最尤復号、ビタビ復号時もサンプリングレベル差が明確に出ているためより高精度での復号が可能となる。なお、本願発明者の実験によれば、従来の信号処理系において、エラーレート≒1E−4であった特性が、本発明の手法を用いることによって、エラーレート≒5E−5と再生エラーを半減させることができた。
【0057】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、磁区拡大再生再生信号の上限或いは下限を制限するリミッタ処理を行うことにより、再生信号飽和レベルのノイズの影響或いは波形歪の影響を低減でき、この信号をパーシャルレスポンス再生を行うことで、レベルジッタを激減でき、良好なエラーレートを得ることが可能となる。従って、記録密度の向上或いはより信頼性の高い磁区拡大型光磁気再生装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態を示すブロック図である。
【図2】図1の実施形態に用いるリミッタ回路10の構成例及びその動作特性を示す図である。
【図3】図1の実施形態の再生処理を説明するタイミングチャートである。
【図4】本発明の第2の実施形態を示すブロック図である。
【図5】第2の実施形態の再生処理を説明するタイミングチャートである。
【図6】従来例の光磁気記録再生装置を示すブロック図である。
【図7】図6の従来装置の記録動作を説明タイミングチャートである。
【図8】従来装置の磁区拡大再生を説明する図である。
【図9】従来装置の再生処理を説明するタイミングチャートである。
【図10】従来装置の問題点を示す信号波形図である。
【符号の説明】
1 光磁気ディスク
2 基板
3 光磁気記録膜
4 保護層
5 光ヘッド
6 コントローラ
7 LDドライバー
8 磁気ヘッドドライバー
9 磁気ヘッド
10 リミッタ回路
11 PR等価回路
12 ビタビ復号回路
13 再生信号処理回路
【発明の属する技術分野】
本発明は、光磁気記録媒体に再生光ビームを照射して情報を再生する方法及び装置、特に、磁区拡大型光磁気記録媒体を用いて情報の再生を行う磁区拡大型光磁気再生方法及び装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、書き換え可能な高密度記録方式として、半導体レーザの熱エネルギーを利用して磁性薄膜に磁区を書き込んで情報を記録し、光磁気効果を利用してこの情報を読み出す光磁気記録媒体がある。近年この光磁気記録媒体の記録密度を更に高めて大容量の記録媒体とする要求が高まっている。
【0003】
ところで、光磁気記録媒体等の光ディスクの線記録密度は、再生光学系のレーザ波長及び対物レンズの開口数に大きく依存する。即ち、再生光学系のレーザ波長λと対物レンズの開口数NAが決まるとビームウエストの径が決まるため、記録マークの再生時の空間周波数は、2NA/λ程度が検出可能な限界となってしまう。
【0004】
従って、従来の光ディスクで高密度化を実現するためには、再生光学系のレーザ波長を短くし、対物レンズのNAを大きくする必要がある。しかしながら、レーザ波長や対物レンズの開口数の改善にも限度があるため、記録媒体の構成や読み取り方法を工夫し、記録密度を改善する技術が開発されている。
【0005】
例えば、特開平06−290496号公報には、磁気的に結合された再生層と記録層とを有する多層膜の記録層に信号記録を行うと共に、加熱用光ビームの照射による温度勾配を利用し、記録層の記録データを変化させることなく再生層の記録マークの磁壁を移動させることにより、再生用光ビームスポットのほぼ全域が同一の磁化になるように再生層を磁化させて、再生用光ビーム反射光の偏向面の変化を検出し、光の回折限界以下の記録マークを再生する信号再生方法及び装置が提案されている(特許文献1参照)。
【0006】
この方法によれば、再生信号が矩形状になり、再生信号振幅を低下させることなく光学系の回折限界以下の記録マークが再生可能となり、記録密度並びに転送速度を大幅に向上することができる。
【0007】
図6は磁区拡大型(磁壁移動型)光磁気記録媒体を用いた光磁気記録再生装置の構成を示すブロック図である。図中1は磁区拡大型の光磁気ディスクである。光磁気ディスク1はガラス或いはプラスチックを素材とする基板2上に光磁気記録膜3が形成され、更にその上に保護膜4が形成された構成である。
【0008】
光磁気記録膜3は、複数の磁性層が積層されたもので、その情報を再生する場合には、詳しく後述するように再生用光ビームの照射による温度勾配を利用し、記録層の記録データを変化させることなく、再生層の記録マークの磁壁を移動させて再生スポット内の磁化を拡大する。そして、再生用光ビームの媒体による反射光の偏向面の変化を検出し、光学系の回折限界以下の記録マークを再生するものである。
【0009】
光磁気ディスク1はマグネットチャッキング等でスピンドルモータ(図示せず)に支持され、回転軸に対して回転自在の構造となっている。5は光磁気ディスク1に記録再生用レーザ光を照射し、更に反射光から情報を得る光ヘッドである。光ヘッド5は集光レンズ(例えばNA;0.60)、集光レンズを駆動するアクチュエータ、半導体レーザ(例えばλ;650nm)、ビームスプリッタ、偏光ビームスプリッタ、光磁気ディスク1からの反射光を検出する光センサ等から構成されている。半導体レーザから出射したレーザ光は集光レンズ等の光学部品群を介して光磁気ディスク1に照射される。
【0010】
この時、集光レンズはアクチュエータの制御によってフォーカシング方向及びトラッキング方向に移動し、レーザ光が光磁気ディスク1の光磁気記録膜3上に逐次焦点を結ぶように、且つ、光磁気ディスク1上に刻まれた案内溝に沿ってトラッキングするように制御される。
【0011】
光磁気ディスク1から反射されたレーザ光は光学部品群を介して光センサで検出される。光センサは複数のセンサに分割されており、光磁気記録膜3の磁化の極性に応じた偏向方向の違いによって対応するそれぞれのセンサに集光され、それらのセンサ出力を差動増幅することで光磁気信号が生成される。この光磁気信号は図示しないLPF等を介してPRML処理回路に入力され、より高い精度での再生情報を得る構成となっている。なお、ここでは、再生信号の波形等価を行うPR等価回路11とビタビ復号を行うビタビ復号回路12とを合わせてPRML処理回路という。
【0012】
コントローラ6は光磁気ディスク1の回転数及び記録半径、記録セクタ情報、更には環境温度等を入力情報として、記録パワー、記録信号等を出力し、LDドライバ7、磁気ヘッドドライバー8等を制御する。9は記録動作時に光磁気ディスク1のレーザ照射部位に変調磁界を印加するための磁気ヘッドであり、光磁気ディスク1を挟み光ヘッド5と対向して配置されている。磁気ヘッド9は磁気ヘッドドライバー8によって駆動される。
【0013】
情報の記録時には、光ヘッド5から光磁気ディスク1に記録レーザ光が照射され、これと同時に磁気ヘッド9から記録信号に対応して極性の異なる磁界が印加される。また、この磁気ヘッド9は光ヘッド5と連動して光磁気ディスク1の半径方向に移動し、記録時には逐次光磁気ディスク1のレーザ光照射部位に磁界を印加することで情報を記録する。
【0014】
次に、情報を記録する場合の記録動作を図7を参照して説明する。図7(a)は記録信号、図7(b)は半導体レーザの記録パワー、図7(c)は磁気ヘッド9の変調磁界、図7(d)は光磁気ディスク1上に記録された記録マーク列、図7(e)は再生信号である。
【0015】
図7(a)に示すような記録信号を記録する場合には、記録動作の開始と共に光ヘッド5から図7(b)に示すように所定記録パワーの記録用光ビームが光磁気ディスク1上に照射され、同時に図7(c)に示すように磁気ヘッド9から光磁気ディスク1の光ビーム照射部位に図7(a)の記録信号に基づく変調磁界が印加される。
【0016】
ここでは、印加磁界を記録情報に応じて変調し、且つ、記録レーザ光を定常周期でパルス状に変調させる所謂パルス磁界変調を用いている。これらの動作により、光磁気ディスク1の光磁気記録膜3の冷却過程において図7(d)に示すように光磁気ディスク1上に記録マーク列が形成される。なお、図7(d)の斜線部及び白抜き部は互いに逆の磁化の向きを持つ磁区を表している。また、このような磁界変調記録を採用することで、スポットサイズよりも小さな磁区を形成することが可能である。
【0017】
次に、再生動作に関して図8を用いて説明する。ここでは、光磁気ディスク1の光磁気記録膜3が記録マークの保存を司る記録保持層(記録層)、磁壁が移動し再生信号に直接寄与する磁壁移動層(再生層)、記録層と再生層の結合状態をスイッチするスイッチング層の3層構造の場合を例として説明する。
【0018】
図8(a)は磁区再生状態を示す模式図、図8(b)は記録膜の状態図、図8(c)は媒体の温度状態図、図8(d)は再生信号を示す。情報の再生時には、図8(a)に示すように再生用光ビームの照射により磁壁移動媒膜3の再生層の磁壁が移動するTs温度条件まで加熱される。この際、図8(b)に示すスイッチング層はTsより低い温度領域では交換結合により記録層、再生層と結合した状態となっている。
【0019】
光磁気記録膜3が光ビームの照射によりTs温度以上に加熱されると、スイッチング層はキュリー点に達し、再生層、記録層との結合が切れた状態となる。このため、このTs温度領域に記録マークの磁壁が到達すると同時に再生層の磁壁は再生層の温度勾配に対してエネルギー的に磁壁が安定して存在する位置、即ち、光ビームの照射による温度上昇の線密度方向の最高温度点にランドを横切るように磁壁が瞬時に移動する。
【0020】
これにより、再生用光ビームに覆われている領域の大部分の磁化状態が同じになるため、通常の光ビーム再生原理においては再生不可能な微小な記録マークであっても、図8(d)示すように矩形に近い状態の再生信号を得ることができる。従って、再生信号振幅がほとんど低下することなく光学系回折限界以下の記録マークの再生が可能となり、記録密度並びに転送速度を大幅に向上することが可能となる。
【0021】
次に、図6のPRML処理回路の再生信号処理方法に関して説明する。通常の光ディスクの再生信号に用いられるパーシャルレスポンス信号処理は、光ディスクの再生信号がDC成分を持ち、光学系の制約から生じる空間周波数の低下による符号間干渉の影響から、PR(1,1)、PR(1,2,1)を用いるのが一般的である。
【0022】
しかしながら、磁区拡大型光磁気媒体を用いた場合には、光学系の制約による符号間干渉を持たない特徴、また、狭トラックピッチ化におけるクロストークの影響の増加等を背景に微分系であるパーシャルレスポンスを採用するメリットが唱われており、例えば、PR(1,−1)を採用することで、光学的に読み取り可能な空間周波数である低域のクロストーク成分の影響を排した再生信号処理を行うことが可能である。
【0023】
図9はPR(1,−1)の再生信号処理例を説明する信号波形図である。なお、変調符号に(1,7)RLL符号を用いた場合を例とする。図9(a)は情報信号列、図9(b)は記録信号列、図9(c)はその記録信号を光磁気ディスクに記録した場合の記録マーク列、図9(d)はその記録マークを再生した場合の磁区拡大型光磁気再生信号、図9(e)はPLLクロックにおいて図9(d)の再生信号をサンプリングした場合のサンプリング信号レベル、図9(f)は図9(e)のサンプリングデータに対してPR(1,−1)等価処理を施した場合の信号レベルを示す。
【0024】
また、図9(g)は図9(f)の信号レベルのヒストグラム、所謂レベルジッタなるものである。図9(h)は図9(f)の信号レベルの3値レベル判断を行い、“0”か否かを判断し、“0”の場合を“0”、“0”でない場合は“1”と判断するPR再生処理判定の結果を示す。
【0025】
ここで、図9(h)に示す情報列は図9(a)の情報信号列を再現しており、これにより情報の再生が可能となる。以上がPR処理の基本的処理原理であるが、通常は図9(h)のように直接3値レベルを判断せず、図9(f)の信号レベルを更に処理し、最尤復号(ML)或いはビタビ復号なる手法を用いて再生信号処理を行うPRML処理を行うことで、よりエラーの少ない再生情報を得る手法が採られている。
【0026】
【特許文献1】
特開平06−290496号公報
【0027】
【発明が解決しようとする課題】
従来の磁区拡大再生型の光磁気再生では、前述のように再生信号波形が符号間干渉を持たない矩形状の波形となる。図10(a)はこの再生信号波形の例を示す。まず、図10(a)に示すように信号波形の本来レベル変動がない飽和振幅部分(Aで示す部分)に注目すると、実際には高周波のノイズ成分を多く含み、時としては本来レベル変動がない部分(Bで示す部分)にレベル変動が起こり、波形歪が生じる場合がある。
【0028】
これら高周波のノイズや波形歪はPR検出時のレベル誤差を生み、即ち、図10(g)の信号レベルのヒストグラムのレベルジッタを悪化させる原因となっている。通常、これらノイズに対してはローパスフィルタ(LPF)による除去を行うが、LPFはノイズのみならず、矩形再生信号の信号極性変化の立ち上がり、立ち下りの傾きにも影響を与えるため、過剰なLPFの作用は信号極性変化のエッジ位置のジッタを悪化させる結果になり、PLL検出等には逆に悪影響を与える場合があった。
【0029】
図10(b)は図10(a)の再生信号をLPFを通した後にサンプリングした場合のサンプリングレベルを示しているが、信号極性変化の立ち上がり、立ち下りが緩やかに変化しているのが分かる。また、このように立ち上がり、立ち下がりが変化すると、図11(b)に矢印で示すようにエッジ位置を挟む再生信号のサンプリング点のレベル変化を招くことになり、逆にヒストグラムのレベル変化を招くという問題点があった。
【0030】
本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたもので、その目的は、信号極性部分以外の信号飽和レベルのノイズ成分或いは波形歪みにより発生するレベルジッタを軽減し、良好なエラー特性を得る事が可能な磁区拡大型光磁気再生方法及び装置を提供することにある。
【0031】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記目的を達成するため、光学系の制約による符号間干渉を持たない磁区拡大型光磁気記録媒体の再生信号処理を行う磁区拡大型光磁気再生方法において、再生信号に所定の上限値或いは下限値を設定し、その上限値以上或いは下限値以下の再生信号レベルをそれぞれ上限値或いは下限値に矯正するリミッタ処理を施し、リミッタ処理を施した信号に対してパーシャルレスポンス等価・再生処理を行うことを特徴とする。
【0032】
また、本発明は、光学系の制約による符号間干渉を持たない磁区拡大型光磁気記録媒体の再生信号処理を行う磁区拡大型光磁気再生装置において、再生信号に所定の上限値或いは下限値を設定し、その上限値以上或いは下限値以下の再生信号レベルをそれぞれ上限値或いは下限値に矯正するリミッタ処理を行う手段と、前記リミッタ処理手段によりリミット処理を施した信号に対してパーシャルレスポンス等価・再生処理を行う手段とを備えたことを特徴とする。
【0033】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【0034】
(第1の実施形態)
図1は本発明による光磁気記録再生装置の第1の実施形態の構成を示すブロック図である。なお、図1では図6の従来装置と同一部分は同一符号を付して説明を省略する。即ち、磁区拡大型の光磁気ディスク1、基板2、光磁気記録膜3、光ヘッド5はいずれも図6のものと同じである。
【0035】
光ヘッド5は、記録再生用半導体レーザ、そのレーザ光束を集光する集光レンズ、集光レンズを駆動するアクチュエータ、ビームスプリッタ、偏光ビームスプリッタ、光磁気ディスク1からの反射光を検出する光センサ等から構成されている。光ヘッド5内の半導体レーザの波長λは、例えば、650nm、集光レンズのNAは、例えば、0.60とする。
【0036】
また、装置内の各部を制御するコントローラ6、光ヘッド5内の半導体レーザを駆動するLDドライバ7、光磁気ディスク1に記録磁界を印加する磁気ヘッドへ9、磁気ヘッド9を駆動する磁気ヘッドドライバー8、再生信号の波形等価を行うPR等価回路11、ビタビ復号を行うビタビ復号回路12はいずれも図6のものと同じである。
【0037】
情報の記録時には、光ヘッド5から光磁気ディスク1に記録用光ビームをパルス照射し、磁気ヘッド9は記録信号に応じて極性の異なる記録磁界を印加する。また、情報の再生時には、光ヘッド5は光磁気ディスク1に再生用光ビームを照射する。
【0038】
図6との違いはPR等価回路11の前段にリミッタ回路10を設けている点であり、その他の構成は図6と同様である。リミッタ回路10はオペアンプ、ダイオード等から成る振幅制限回路であり、再生信号の振幅を所定の上限値、下限値に矯正する回路である。
【0039】
図2(a)はリミッタ回路10の基本構成、図2(b)はリミッタ回路10の動作特性を示す。リミッタ回路10は図2(a)に示すようにオペアンプAmp、抵抗器R1、R2、ダイオードD1、D2等から構成され、図2(b)に示すように所定の入力レベル以上、或いは以下の入力信号に対して出力値が飽和する構成となっている。このリミッタ回路10によって再生信号の上限値と下限値が設定されている。
【0040】
また、PR等価回路11は再生信号の波形等価を行い、PR(1,−1)の特性に等価する回路であり、主にローパスフィルタ、微分回路、トランスバーサルフィルタ等から成る。これらのPR等価回路11の構成は周知であるので、詳しい説明は省略する。
【0041】
次に、基本的な記録動作は図7と同様である。簡単に説明すると、図7(a)に示す記録信号を記録する場合には、光ヘッド5から図7(b)に示すように所定記録パワーに設定され、パルス状に変調された光ビームが光磁気ディスク1上に照射され、同時に図7(c)に示すように磁気ヘッド9から図7(a)の記録信号に基づく変調磁界が光ビーム照射部位に印加される。ここでは、変調レーザ光のボトムパワーを“0”に設定しているが、この限りではなくボトムパワーを“0”以外に設定することもある。
【0042】
また、レーザ光の変調を変調符号のクロック周波数として説明するが、この限りではなくクロック周波数の整数倍であってもよい。更に、パルス照射をデューティ50%にて表しているが、これもこの限りではなく種々のデューティをとっても良い。これら記録動作により光磁気記録膜3の冷却過程において図7(d)に示すように記録マーク列が形成され、所謂、パルスアシスト磁界変調記録を行う。このような磁界変調記録を採用することで、スポットサイズよりも小さな磁区を形成することが可能である。
【0043】
次に、磁区拡大型再生の動作原理に関しても図8と同様である。簡単に説明すると、まず、情報再生時に図8(a)に示すように再生用光ビームの照射により光磁気記録膜3の再生層の磁壁が移動するTs温度条件まで加熱される。スイッチング層はTsより低い温度領域では、交換結合により記録層、再生層と結合した状態となっている。
【0044】
光磁気媒体膜3が再生用光ビームの照射によりTs温度以上に加熱されると、スイッチング層はキュリー点に達し、再生層と記録層との交換結合が切れた状態となる。このため、このTs温度領域に記録マークの磁壁が到達すると同時に再生層の磁壁は再生層の温度勾配に対してエネルギー的に磁壁が安定して存在する位置、即ち、光ビームの照射による温度上昇の線密度方向の最高温度点にランドを横切るように磁壁が瞬時に移動する。
【0045】
これにより、再生用光ビームに覆われる領域の大部分の磁化状態が同じになるため、通常の光ビーム再生原理においては再生不可能な微小な記録マークであっても、図8(d)に示すような矩形に近い状態の再生信号が得られる。なお、光磁気記録膜3は図8で説明したように再生層、記録層、スイッチング層の3層構造としているが、この限りではない。
【0046】
次に、本実施形態による再生信号処理方法に関して図3を用いて説明する。なお、変調符号に(1,7)RLL符号を用いた場合を例とする。図3(a)は記録情報列、図3(b)は記録信号列、図3(c)は図3(b)の記録信号列を光磁気ディスク1に記録した場合の記録マーク列、図3(d)は光磁気ディスク1から図3(c)の記録マーク列を再生した場合の磁区拡大光磁気再生信号、図3(e)はリミッタ回路10の出力、図3(f)は図3(e)の信号にPR(1,−1)等価処理を施した信号を示す。
【0047】
また、図3(g)は図3(f)の信号レベルのヒストグラム、所謂レベルジッタなるものを示す。図3(d)の光磁気ディスク1から再生された光磁気再生信号は図示しない増幅器やハイパスフィルタ等を通り、このハイパスフィルタによってDC成分が除去される。
【0048】
このDC成分が除去された信号はリミッタ回路10に入力され、このリミッタ回路10によって再生信号の上限、下限が制限され、図3(e)に示すように再生信号レベルがそれぞれ所定の上限値、下限値に矯正された信号が得られる。即ち、図3(d)の光磁気再生信号をリミッタ回路10によってリミッタ処理を施すことによって、図3(e)に示すように高周波ノイズ成分等のない再生信号波形が得られる。
【0049】
このリミッタ回路10の出力の上下限値は電気回路によって決まるノイズ成分のみが重畳された値となる。なお、リミッタの上下限値はエラーレート等の評価指標により最適化すれば良い。この信号をPR等価回路11によってPR等価処理すると、再生信号は図3(f)に示すような再生信号となる。図3(f)の黒丸はサンプリング点を示す。
【0050】
この信号はリミッタ回路10により上下限が制約された信号を基にしているため、レベルジッタの極めて少ない信号となる。従って、この信号レベルのヒストグラムは図3(g)に示すように3値のレベルが非常に良く分離したヒスグラムになる。これにより、PRレベル検出時のレベル誤差が激減し、誤判定を低減できる。更に、最尤復号、ビタビ復号時もサンプリングレベル差が明確に出ているため、より高精度での復号が可能となる。
【0051】
(第2の実施形態)
図4は本発明の第2の実施形態を示すブロック図である。図1との違いはリミッタ回路10、PR等価回路11の代わりに再生信号処理回路13を設けている点であり、それ以外は図1と同様である。再生信号処理回路13は再生信号のサンプリング、リミッタ制限、PR等価をディジタル処理するディジタル信号処理回路である。本実施形態の基本的な記録動作、並びに基本的な再生動作原理は第1の実施形態と同様である。
【0052】
次に、本実施形態の再生信号処理方法に関して図5を用いて説明する。なお、変調符号に(1,7)RLL符号を用いた場合を例とする。図5(a)は記録情報列、図5(b)は記録信号列、図5(c)は図5(b)の記録信号列を光磁気ディスク1に記録した場合の記録マーク列、図5(d)は図5(c)の記録マーク列を再生した場合の磁区拡大光磁気再生信号である。
【0053】
また、図5(e)は光磁気信号をPLLクロックによりサンプリング時刻iでサンプリングしたサンプリング値列{V(i)}、図5(f)は図5(e)のサンプリング値に上限値;Vmax、下限値;Vminを規定し、V(i)>Vmaxならば、V(i)=Vmax、V(i)<Vminならば、V(i)=Vminなる変換処理、即ち、リミッタ処理を施した信号列[Vl(i)]である。図5(g)は信号列[Vl(i)]に対して、[Vprl(i)]=[Vl(i)]−[Vl(I−1)]の演算処理を行った信号列である。
【0054】
この処理は磁区拡大型光磁気再生信号が符号間干渉を持たないため、PR(1,−1)等価と等価な処理になる。伝送系の信号帯域により更なる等価が必要な場合には、更に等価処理を加えれば良い。図5(h)は図5(g)の信号レベルのヒストグラム、所謂レベルジッタなるものを示す。
【0055】
図5(g)に示す信号列[Vprl(i)]のレベル分布は、エッジシフトによるサンプリング点でレベル変動を除けば、VmaxとVminとの差分値の分布になるため、再生信号飽和レベルにおけるノイズの影響、或いは波形歪の影響を大幅に軽減でき、3値のレベルが非常に良く分離し、PR(1,−1)等価出力となっている。これにより、PRレベル検出時のレベル誤差が激減し、誤判定を低減することができる。
【0056】
また、最尤復号、ビタビ復号時もサンプリングレベル差が明確に出ているためより高精度での復号が可能となる。なお、本願発明者の実験によれば、従来の信号処理系において、エラーレート≒1E−4であった特性が、本発明の手法を用いることによって、エラーレート≒5E−5と再生エラーを半減させることができた。
【0057】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、磁区拡大再生再生信号の上限或いは下限を制限するリミッタ処理を行うことにより、再生信号飽和レベルのノイズの影響或いは波形歪の影響を低減でき、この信号をパーシャルレスポンス再生を行うことで、レベルジッタを激減でき、良好なエラーレートを得ることが可能となる。従って、記録密度の向上或いはより信頼性の高い磁区拡大型光磁気再生装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態を示すブロック図である。
【図2】図1の実施形態に用いるリミッタ回路10の構成例及びその動作特性を示す図である。
【図3】図1の実施形態の再生処理を説明するタイミングチャートである。
【図4】本発明の第2の実施形態を示すブロック図である。
【図5】第2の実施形態の再生処理を説明するタイミングチャートである。
【図6】従来例の光磁気記録再生装置を示すブロック図である。
【図7】図6の従来装置の記録動作を説明タイミングチャートである。
【図8】従来装置の磁区拡大再生を説明する図である。
【図9】従来装置の再生処理を説明するタイミングチャートである。
【図10】従来装置の問題点を示す信号波形図である。
【符号の説明】
1 光磁気ディスク
2 基板
3 光磁気記録膜
4 保護層
5 光ヘッド
6 コントローラ
7 LDドライバー
8 磁気ヘッドドライバー
9 磁気ヘッド
10 リミッタ回路
11 PR等価回路
12 ビタビ復号回路
13 再生信号処理回路
Claims (4)
- 光学系の制約による符号間干渉を持たない磁区拡大型光磁気記録媒体の再生信号処理を行う磁区拡大型光磁気再生方法において、再生信号に所定の上限値或いは下限値を設定し、その上限値以上或いは下限値以下の再生信号レベルをそれぞれ上限値或いは下限値に矯正するリミッタ処理を施し、リミッタ処理を施した信号に対してパーシャルレスポンス等価・再生処理を行うことを特徴とする磁区拡大型光磁気再生方法。
- 前記リミッタ処理及びパーシャルレスポンス等価・再生処理は、それぞれ再生信号に対してアナログ的な信号処理、或いは再生信号をサンプリング後にディジタル的な演算処理によって行うことを特徴とする請求項1に記載の磁区拡大型光磁気再生方法。
- 光学系の制約による符号間干渉を持たない磁区拡大型光磁気記録媒体の再生信号処理を行う磁区拡大型光磁気再生装置において、再生信号に所定の上限値或いは下限値を設定し、その上限値以上或いは下限値以下の再生信号レベルをそれぞれ上限値或いは下限値に矯正するリミッタ処理を行う手段と、前記リミッタ処理手段によりリミット処理を施した信号に対してパーシャルレスポンス等価・再生処理を行う手段とを備えたことを特徴とする磁区拡大型光磁気再生装置。
- 前記リミッタ処理手段及びパーシャルレスポンス等価・再生処理手段は、それぞれ再生信号に対してアナログ的な信号処理、或いは再生信号をサンプリング後にディジタル的な演算処理によってリミッタ処理及びパーシャルレスポンス等価・再生処理を行うことを特徴とする請求項3に記載の磁区拡大型光磁気再生装置。
Priority Applications (2)
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