JP2002319207A - 光磁気記録方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光学系回折限界以下の微小マーク列を記録し
た場合のエッジシフトの問題を解決し、データ再生にお
けるＰＬＬの誤差増加の防止、エラーレートが悪化しな
いようにする。 【解決手段】 光磁気記録媒体に光ビームの照射すると
共に、記録信号に対応した変調磁界を印加することによ
り、情報の記録を行う光磁気記録再生装置において、情
報に応じた記録マークパターンを生成する手段と、前記
記録マークパターンを周囲からの浮遊磁界による記録マ
ークエッジの変動がなくなるように補正してから記録を
行う手段とを備えることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光磁気効果を利用
して情報を記録再生する光磁気記録再生方法及び装置に
関するものであり、特に光学系回折限界以下の微小マー
クの記録再生を可能とする光磁気記録再生方法に係わる
ものである。

【０００２】

【従来の技術】書き換え可能な高密度記録方式として、
半導体レーザの熱エネルギーを用いて、磁性薄膜に磁区
を書き込んで情報を記録し、光磁気効果を用いて、この
情報を読み出す光磁気記録媒体がある。また近年この光
磁気記録媒体の記録密度を更に高めて大容量の記録媒体
とする要求が高まっている。

【０００３】光磁気記録媒体の等の光ディスクの線記録
密度は、再生光学系のレーザ波長及び、対物レンズの開
口数に大きく依存する。すなわち、再生光学系のレーザ
波長λと対物レンズの開口数ＮＡが決まるとビームウエ
ストの径が決まるため、記録マーク再生時の空間周波数
は２ＮＡ／λ程度が検出可能な現となってしまう。した
がって、従来の光ディスクで高密度化を実現するために
は、再生光学系のレーザ波長を短くし、対物レンズのＮ
Ａを大きくする必要がある。

【０００４】しかし、レーザ波長や対物レンズの開口数
の改善にも限度がある。このため、光磁気記録媒体の構
成や読み取り方法を工夫し、記録密度を改善する技術が
開発されている。

【０００５】たとえば、特開平６−２９０４９６号公報
において、磁気的に結合される再生層と記録層とを有し
てなる多層膜の記録層に信号記録を行うと共に、加熱用
光ビームの照射による温度勾配を利用し、記録層の記録
データを変化させることなく再生層の記録マークの磁壁
を移動させ、再生用光ビームスポットのほぼ全域が同一
の磁化になるように再生層を磁化させて、該再生用光ビ
ーム反射光の偏向面の変化を検出し光の回折限界以下の
記録マークを再生する信号再生方法、及び装置が提案さ
れている。

【０００６】この方法によれば再生信号が矩形状にな
り、再生信号振幅を低下させることなく光学系の回折限
界以下の記録マークが再生可能となり、記録密度ならび
に転送速度を大幅に向上できる光磁気記録媒体、再生方
法が可能となる。

【０００７】図１１は、従来の光磁気記録再生装置の模
式的な構成図である。図１１において、１はガラス或い
はプラスチックを素材とした基板２に、光ビームの照射
による温度勾配を利用し、記録層の記録データを変化さ
せることなく再生層の記録マークの磁壁を移動させ、再
生スポット内の磁化を拡大し、光ビーム反射光の偏向面
の変化を検出し光学系の回折限界以下の記録マークを再
生することが可能な光磁気記録媒体３を被着し、さらに
保護膜４を形成した光磁気ディスクである。

【０００８】光磁気ディスク１はマグネットチャッキン
グ等でスピンドルモータに支持され、回転軸に対して回
転自在の構造となっている。５は光磁気ディスク１にレ
ーザ光を照射し、さらに反射光から情報を得る光ヘッド
の概略図であり、たとえば開口数が０．６０の集光レン
ズ、集光レンズ駆動するアクチュエータ、波長がたとえ
ば６５０ｎｍの半導体レーザ、ビームスプリッタ、偏光
ビームスプリッタ、等から構成されている。

【０００９】半導体レーザから出射されたレーザ光は光
学部品群を介して、光磁気ディスク１に照射される。こ
のとき集光レンズはアクチュエータの制御によってフォ
ーカシング方向、及び、トラッキング方向に移動してレ
ーザ光が光磁気記録媒体３上に逐次焦点を結ぶように制
御され、かつ、光磁気ディスク上に刻まれた案内溝に沿
ってトラッキングする構成になっている。

【００１０】光磁気ディスク１で反射されたレーザ光は
光学部品群を介して 光磁気記録媒体３の磁化の極性に
応じた偏向方向の違いによって、それぞれのセンサに集
光され、それらを差動増幅することで光磁気信号を出力
する。

【００１１】コントローラ６は光磁気ディスクの回転
数、及び、記録半径・記録セクタ情報、さらには環境温
度等を入力情報として、記録パワー、記録信号等を出力
し、半導体レーザ（Laser Diode：ＬＤ）ドライバ７、
磁気ヘッドドライバ８等を制御するものである。

【００１２】また、９は記録動作時に光磁気ディスクの
レーザ照射部位に変調磁界を印加するための磁気ヘッド
であり、光磁気ディスク１をはさみ光ヘッド５と対向し
て配置されている。記録時には、光ヘッド５より記録レ
ーザ光を照射し、これと同時にこの磁気ヘッド９は磁界
変調ドライバ８により記録信号に対応して極性の異なる
磁界を発生するようになっている。また、磁気ヘッド９
は光ヘッド５と連動して光磁気ディスク１の半径方向に
移動し、記録時には逐次光磁気記録媒体３のレーザ照射
部位に磁界を印加することで情報を記録する構成になっ
ている。

【００１３】図１２は、図１１の光磁気記録再生装置に
おける記録動作の説明図である。図１２において、
（ａ）は記録信号、（ｂ）は記録パワー、（ｃ）は変調
磁界、（ｄ）は記録マーク列、（ｅ）は再生信号であ
る。

【００１４】図１２（ａ）に示すような記録信号を記録
する場合、記録動作開始と共にレーザパワーは図１２
（ｂ）に示すように所定の記録パワーを出力し、さら
に、図１２（ｃ）に示すように記録信号に基づく変調磁
界が印加される。

【００１５】ここでは、印加磁界を記録情報に応じて変
調させ、かつ、記録ＬＤ光を定常周期でパルス状に変調
させる所謂パルス磁界変調を採用している。これら動作
により光磁気記録媒体３の冷却過程において、図１２
（ｄ）に示すような記録マーク列が形成される。なお、
図１２（ｄ）の斜線部と白抜き部とは、互いに逆の磁化
の向きを持つ磁区を表している。

【００１６】図１３は、図１１に示す光学的除法記録再
生装置の再生動作の説明図である。ここでは、記録マー
クの保存を司る記録層、磁壁が移動し再生信号に直接寄
与する磁壁移動層、記録層、磁壁移動層の結合状態をス
イッチするスイッチング層、の３層構造の場合に関して
説明する。

【００１７】図１３において（ａ）は磁壁移動層の磁区
パターンを示している。（ｂ）は磁壁移動層、スイッチ
ング層及び記録保持層の状態を示している。（ｃ）は磁
性層の温度分布を示している。（ｄ）は再生信号を示し
ている。

【００１８】再生時には、図１３（ａ）に示すように光
ビーム照射により磁壁移動層の磁壁が移動するＴｓ温度
条件まで加熱されている。図１３（ｂ）に示すスイッチ
ング層はＴｓより低い温度領域では交換結合により、記
録層、磁壁移動層と結合した状態となっている。

【００１９】媒体が光ビームの照射によりＴｓ温度以上
に加熱されると、スイッチング層はキュリー点に達し、
磁壁移動層と記録層との結合が切れた状態となる。この
ため、このＴｓ温度領域に記録マークの磁壁が到達する
と同時に、磁壁移動層の磁壁は磁壁移動層の温度勾配に
対してエネルギー的に磁壁が安定して存在する位置、す
なわち光ビーム照射による温度上昇の線密度方向の最高
温度点にランドを横切るように磁壁が瞬時に移動する。

【００２０】これにより、再生光ビームに覆われる領域
の大部分の磁化状態が同じになるため、通常の光ビーム
再生原理においては、再生不可能な微小な記録マークで
あっても、図１３（ｄ）に示すような矩形に近い状態の
再生信号を得ることができる。

【００２１】したがって、図１３（ａ）に示すような記
録マーク列を光ビームで再生することにより、図１３
（ｄ）に示すような再生信号が得られる。この方法によ
れば、光ビームに覆われる磁化状態は大部分が同じにな
るため、図１３（ｄ）示すように再生信号が矩形に近い
状態になるので、再生信号振幅をほとんど低下させるこ
となく光学系回折限界以下の記録マークの再生が可能と
なり、記録密度ならびに転送速度を大幅に向上できる光
磁気記録媒体、再生方法が可能となる。

【００２２】

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の技術
は、記録時に、レーザ光の照射により光磁気記録媒体の
レーザ光照射部位の温度はキュリー点（Ｔｃ）まで達し
磁化が消失するものの、Ｔｃまで温度が上昇していない
周辺部位では磁化が存在する。

【００２３】図１０（Ｃ）は、磁化及びそれを起因とす
る浮遊磁界を示す図である。図１０（Ｃ）に示すよう
に、記録マーク端である磁壁は光ビーム進行方向後端で
形成されるが、浮遊磁界は、磁壁形成のために外部から
磁気ヘッドにより印加される変調磁界に重畳する。

【００２４】この浮遊磁界の大きさは、直前に形成され
た磁壁と次に形成しようとする磁壁との間隔、すなわ
ち、形成しようとする記録マーク長、さらにその前に位
置するマーク長により変化する。また、磁壁の形成位置
は、温度と磁界強度との関係において決定される。ここ
で、レーザ光強度、磁気ヘッドからの印加磁界強度は定
常状態に保たれており、記録マーク長、或いは記録マー
ク長列が異なる場合には重畳される浮遊磁界強度が異な
ってくるために、磁区形成位置に印加される磁界強度は
磁気ヘッドからの磁界強度に浮遊磁界強度が重畳された
ものとなり、前述したように実質的に磁区形成部に印加
される磁界強度は形成する記録マーク長、或いは記録マ
ーク長列により異なる。その結果、磁壁形成位置が記録
マーク長により異なる現象が現れる。

【００２５】図１０を用いさらに説明を加える。図１０
（Ａ）は記録符号上最長・最短の記録マークを順次形成
する場合、図１０（Ｂ）は記録符号上最短・最長の記録
マークを順次形成する場合を表している。図１０におい
て、１は光ビーム、矢印２は光磁気記録媒体の記録層の
磁化状態を、矢印３は磁気ヘッドからの印加磁界の強度
・方向を示しており、矢印４は磁壁形成直前の磁化状態
による浮遊磁界強度・方向を示している。矢印５は更に
前に位置する記録マークからの浮遊磁界強度・方向を示
している。

【００２６】ここでは、光磁気記録媒体の特性上、矢印
４の浮遊磁界の向きは磁壁形成時磁気ヘッドからの印加
磁界を増加させる方向に印加され、矢印５の浮遊磁界の
向きは磁壁形成時磁気ヘッドからの印加磁界を現象させ
る方向に印加される。

【００２７】したがって、図１０（Ａ）、図１０（Ｂ）
の場合で磁壁形成部位の矢印３〜５の印加磁界の和が異
なり、図１０（Ｂ）の場合により強さのある磁界強度が
記録層に印加される。その結果、磁壁形成位置はある基
準位置から見ると、図１０（Ａ）の場合には、ΔＡずれ
た位置に形成され、Ｂの場合はΔＢずれた位置に形成さ
れて、ΔＡ、ΔＢの関係はΔＡ＜ΔＢなる結果となる。

【００２８】図１４は、上記説明した要因により発生し
たパターン依存性の結果を示す図である。図１４におい
て、横軸はタイムインターバルアナライザにより計測さ
れたＮ番目のマーク長、縦軸はＮ＋１番目のマーク長を
示しており、１×１０⁵の計測データがドットでプロッ
トされている。

【００２９】図１４に示されるグリッドの交点が理想位
置である。ここでは、１−７変調符号を採用している。
たとえば、（Ｎ，Ｎ＋１）が（８Ｔ、２Ｔ）の場合にタ
イムインターバル分布がグリッド交点からずれてエッジ
シフトが発生していることが確認できる。この要因によ
り、同じマーク長を連続記録した場合のジッタ値に比
べ、ランダム信号を記録した場合のジッタ値が大きく悪
化する問題点が存在する。

【００３０】さらにいえば、磁壁移動型光磁気媒体等の
ように、光学系分解能の制約を排除できるような飛躍的
に線記録密度の向上が可能となる光磁気記録再生方法を
採用することで記録マーク長が小さくなり、 （１）磁壁形成位置からの一定範囲における磁化状態の
変化がより複雑化し、浮遊磁界の変化も複雑化したため
に記録マーク長によるエッジシフトが複雑化した。

【００３１】（２）上記要因によるエッジシフト量が、
記録線密度が上がりマーク長が短くなることでマーク長
に対する比率が大きくなり浮遊磁界によるエッジシフト
問題が顕在化した。

【００３２】（３）光学系分解能の制約よる符号間干渉
によるエッジシフトの制約が無くなり、浮遊磁界による
エッジシフト問題が顕在化した。

【００３３】これら、要因も上記問題点の要因となって
いる。

【００３４】以上説明したように、記録マーク長が異な
るマーク列を記録した場合、それぞれのマーク長が正規
のマーク長からずれる所謂エッジシフトが発生し、デー
タ再生時におけるビット同期をとる位相同期ループ（ph
ase-locked loop：ＰＬＬ）回路の誤差の増加や、エラ
ーレートの悪化を招き、所要のデータ再生が行えない場
合がある。

【００３５】そこで、本発明は、光学系回折限界以下の
微小マーク列を記録した場合のエッジシフトの問題を解
決し、データ再生におけるＰＬＬの誤差増加の防止、エ
ラーレートが悪化しないようにすることを課題とする。

【００３６】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、光磁気記録媒体に光ビームを照射すると
共に、記録信号に対応した変調磁界を印加することによ
り、情報の記録を行う光磁気記録方法において、周囲か
らの浮遊磁界による記録マークエッジの変動をなくすよ
うに補正した記録マークパターンに基づいて記録マーク
列を形成することを特徴とする。

【００３７】また、本発明は、光磁気記録媒体に光ビー
ムの照射すると共に、記録信号に対応した変調磁界を印
加することにより、情報の記録を行う光磁気記録再生装
置において、情報に応じた記録マークパターンを生成す
る手段と、前記記録マークパターンを周囲からの浮遊磁
界による記録マークエッジの変動がなくなるように補正
してから記録を行う手段とを備えることを特徴とする。

【００３８】すなわち、本発明は、記録した磁界状態に
依存して発生する浮遊磁界を要因として発生するエッジ
シフトが軽減、改善するので、ＰＬＬ誤差が軽減し、ビ
ットエラーレートが改善する。

【００３９】

【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の実施
形態について説明する。

【００４０】（実施形態１）図１は、本発明の実施形態
１の光磁気記録再生装置の模式的な構成図である。図２
は、図１の記録信号補正回路１１の内部構成図である。

【００４１】図１，図２において、１はガラス或いはプ
ラスチックを素材とした基板２に、記録層、磁壁移動層
等、多層構造を持ち、光ビームの照射による温度勾配を
利用し、記録層の記録データを変化させることなく再生
層の記録マークの磁壁を移動させ、再生スポット内の磁
化を拡大し、光ビーム反射光の偏向面の変化を検出し光
学系の回折限界以下の記録マークを再生することが可能
な光磁気記録媒体３を被着し、さらに保護膜４を形成し
た光磁気ディスクである。

【００４２】光磁気ディスク１はマグネットチャッキン
グ等でスピンドルモータに支持され、回転軸に対して回
転自在の構造となっている。５は光磁気ディスク１にレ
ーザ光を照射し、さらに反射光から情報を得る光ヘッド
の概略図であり、たとえば開口数が０．６０の集光レン
ズ、集光レンズ駆動するアクチュエータ、波長がたとえ
ば６５０ｎｍの半導体レーザ、ビームスプリッタ、偏光
ビームスプリッタ、等から構成されている。

【００４３】半導体レーザから出射されたレーザ光は光
学部品群を介して、光磁気ディスク１に照射される。こ
のとき集光レンズはアクチュエータの制御によってフォ
ーカシング方向、及び、トラッキング方向に移動してレ
ーザ光が光磁気記録媒体３上に逐次焦点を結ぶように制
御され、かつ、光磁気ディスク上に刻まれた案内溝に沿
ってトラッキングする構成になっている。

【００４４】光磁気ディスク１で反射されたレーザ光は
光学部品群を介して 光磁気記録媒体３の磁化の極性に
応じた偏向方向の違いによって、それぞれのセンサに集
光され、それらを差動増幅することで光磁気信号を出力
する。

【００４５】コントローラ６は光磁気ディスクの回転
数、及び、記録半径・記録セクタ情報、さらには環境温
度等を入力情報として、記録パワー、記録情報に応じた
記録マークパターン等を出力し、ＬＤドライバ７、磁気
ヘッドドライバ８等を制御するものである。

【００４６】なお、記録マークパターンは基準チャンネ
ルクロックの周期の整数倍で表されるものとして出力さ
れる。

【００４７】また、９は記録動作時に光磁気ディスクの
レーザ照射部位に変調磁界を印加するための磁気ヘッド
であり、光磁気ディスク１をはさみ光ヘッド５と対向し
て配置されている。記録時には、光ヘッド５より記録レ
ーザ光を照射し、これと同時にこの磁気ヘッド９は磁界
変調ドライバ８により記録信号に対応して極性の異なる
磁界を発生するようになっている。また、磁気ヘッド９
は光ヘッド５と連動して光磁気ディスク１の半径方向に
移動し、記録時には逐次光磁気記録媒体３のレーザ照射
部位に磁界を印加することで情報を記録する構成になっ
ている。

【００４８】さらに、１１は記録パターンのパターン検
出を行うと共に、その検出結果に基づいて記録信号のエ
ッジ補正量を決定し、決定したエッジの補正量に基づい
てディレイ量を選択する記録信号補正回路である。

【００４９】図２に示すように、記録信号補正回路１１
は、以下説明する記録パターン検出回路１０、補正量決
定回路１２、ディレイライン１３及びマルチプレクサ１
４を備えている。

【００５０】記録パターン検出回路１０は、たとえば１
−７変調符号のＮＲＺＩ信号において連続する記録信号
列の “０”レベルの時間、“１”レベルの時間がチャ
ネルクロックＴのいくつ分の長さであるかを検出するた
めのカウンタを備えている。

【００５１】さらに、記録パターン検出回路１０は、カ
ウンタで検出された記録信号列の“１”レベル、“０”
レベルの各時間 (Ｔ_K-1,Ｔ_K）を格納するメモリ(１,２)
を備えている。メモリ（１，２）は、カウンタから計数
結果が出力されるたびに更新される。なお、２つの連続
パターン(Ｔ_K-1,Ｔ_K）に代えて、１つのマーク長(Ｔ_K）
を検出するようにしてもよい。

【００５２】補正量決定回路１２は、記録パターン検出
回路１０のメモリに格納されているパターン(Ｔ_K-1,
Ｔ_K）から、記録補正量Ｙ Ｙ＝−Ａ×Ｔ_K-1＋Ｂ×Ｔ_K （Ａ，Ｂは定数） を決定する。

【００５３】こうすると、記録されるマークの磁壁形成
部位に印加される浮遊磁界の大きさは形成しようとする
記録マークのマーク長、或いは更にその前に形成された
記録マークのマーク長の相違に基づいて、記録マークの
エッジシフト量（変調磁界の位相の時間軸方向のシフト
量）を補正できる。

【００５４】なお、上記定数Ａ，Ｂは、実験により予め
定められた値であり、記録媒体の出荷時にコントロール
トラックに事前に記録しておき読み出すようにしても、
或いはドライブ装置のＲＯＭに書き込んでおき読み出す
ようにしてもよい。

【００５５】補正量決定回路１２の出力は、マルチプレ
クサ１４に入力される。マルチプレクサ１４では、入力
した補正量から、直列接続されたディレイライン１３の
選択点を逐次選択し、記録補正された最終的な記録信号
列を磁気ヘッドドライバ８へ出力する。

【００５６】図３は、図１に示す光磁気記録再生装置の
記録動作を示す図である。図３において、（ａ）は記録
信号、（ｂ）は記録信号補正回路１１より出力される補
正後記録信号、（ｃ）は記録パワー、（ｄ）は変調磁
界、（ｅ）は記録マーク列、（ｆ）は再生信号である。

【００５７】図３（ｂ）に示すような補正後記録信号を
記録する場合には、記録動作開始と共にレーザパワーを
図３（ｃ）に示すように所定の記録パワーをパルス状に
して出力し、さらに、補正後記録信号に基づく図３
（ｄ）に示す変調磁界が印加される。

【００５８】ここでは、印加磁界を記録情報に応じて変
調させ、かつ、記録ＬＤ光を定常周期でパルス状に変調
させる所謂パルス磁界変調を採用している。これら動作
により記録媒体の冷却過程において、図３（ｅ）に示す
ような記録マーク列が形成される。

【００５９】なお、図３（ｅ）において、斜線部と白抜
き部とは互いに逆の磁化の向きを持つ磁区を表してい
る。

【００６０】図４，図５は、補正量決定回路１２におい
て記録補正量Ｙを演算するための定数をＡ＝０．２５，
Ｂ＝０．５とした場合のパターン依存性の計測結果を示
す図である。

【００６１】Ａ≠Ｂとなる係数を選ぶことにより、直前
の磁化状態からの浮遊磁界のエッジシフトの影響と更に
１つ前の磁化状態からエッジシフトの影響とに重み付け
を持たせることができる。

【００６２】図４には、横軸はタイムインターバルアナ
ライザにより計測されたＮ番目のマーク長、縦軸はＮ＋
１番目のマーク長を示しており、１×１０⁵の計測デー
タがドットでプロットされている。

【００６３】図４に示されるグリッドの交点が理想位置
である。ここでは、１−７変調符号を採用しており、た
とえば（Ｎ,Ｎ＋１）：（８Ｔ、２Ｔ）を見ると、記録
補正無しの場合（図１４）に比べてタイムインターバル
分布がグリッド交点を中心に分布しておりエッジシフト
が改善していることが確認できる。

【００６４】また、図５はこのときのタイムインターバ
ルのヒストグラムを示すものである。図５には、比較の
ために記録補正を行わない場合のヒストグラムを併せて
示している。この結果からも各マーク長における度数分
布のピーク位置がより理想値（各グリッド位置）に近づ
いていることが確認できる。

【００６５】本実施形態では、記録補正により、各マー
ク長で規格化したジッタ分布の足し合わせのジッタ値σ
ｓｕｍが、記録補正を行わない場合のσｓｕｍ＝３．５
ｎｓに対して、σｓｕｍ=３．１５ｎｓに改善されたと
ことが確認できた。

【００６６】（実施形態２）本発明の実施形態２の光磁
気記録再生装置は、補正量決定回路１２において記録補
正量Ｙを演算するための定数をＡ＝Ｂ＝０．５としてい
る。記録補正量Ｙは、 Ｙ＝−Ａ×Ｔ_K-1＋Ａ×Ｔ_K＝−Ａ (Ｔ_K-1−Ｔ_K） としており、Ｔ_K-1とＴ_Kとの差分を用いて演算を行える
ようにして、パターン検出回路１０及び補正量決定回路
１２を簡素化している。なお、本実施形態の光磁気記録
再生装置の他の部分は、図１と同様である。

【００６７】この場合の記録補正量Ｙは、直前の磁化状
態からの浮遊磁界のエッジシフトの影響と更に１つ前の
磁化状態からエッジシフトの影響とに重み付けを持たせ
ていない状態となる。

【００６８】記録パターン検出回路１０により記録信号
列の“１”レベル、“０”レベル変化毎に計数結果(Ｔ
_K-1,Ｔ_K）の差分ΔＴ_Kを取り、差分ΔＴ_Kを符号を含め
てメモリ（１）に順次格納することにより、記録補正量
Ｙ Ｙ＝−Ａ×Ｔ_K-1＋Ａ×Ｔ_K＝−Ａ (Ｔ_K-1−Ｔ_K）＝−Ａ
(ΔＴ_K） に基づいてディレイライン１３の選択点を決定する。

【００６９】こうして、記録信号補正回路１１から記録
補正された記録信号列が磁気ヘッドドライバ８へ出力さ
れる。

【００７０】図６，図７は、補正量決定回路１２におい
て記録補正量Ｙを演算するための定数をＡ＝Ｂ＝０．５
とした場合のパターン依存性の計測結果をに示す図であ
る。

【００７１】図６には、横軸はタイムインターバルアナ
ライザにより計測されたＮ番目のマーク長、縦軸はＮ＋
１番目のマーク長を示しており、１×１０⁵の計測デー
タがドットでプロットされている。

【００７２】図６に示されるグリッドの交点が理想位置
である。ここでは、１−７変調符号を採用しており、た
とえば（Ｎ,Ｎ＋１）：（８Ｔ、２Ｔ）を見ると、記録
補正無しの場合（図１４）に比べてタイムインターバル
分布がグリッド交点を中心に分布しておりエッジシフト
が改善していることが確認できる。

【００７３】また、図７はこのときのタイムインターバ
ルのヒストグラムを示すものである。図７には、比較の
ために記録補正を行わない場合のヒストグラムを併せて
示している。この結果からも各マーク長における度数分
布のピーク位置がより理想値（各グリッド位置）に近づ
いていることが確認できる。

【００７４】本実施形態では、記録補正により、各マー
ク長で規格化したジッタ分布の足し合わせのジッタ値σ
ｓｕｍが、記録補正を行わない場合のσｓｕｍ＝３．５
ｎｓに対して、σｓｕｍ=３．２１ｎｓに改善されたと
ことが確認できた。

【００７５】（実施形態３）本発明の実施形態３の光磁
気記録再生装置は、補正量決定回路１２において記録補
正量Ｙを演算するための定数をＡ＝０，Ｂ＝０．５とし
ている。記録補正量Ｙは、 Ｙ＝Ａ ×Ｔ_K としており、Ｔ_Kだけを用いて記録パターンの演算を行
えるように、すなわち、記録を行うマーク長を検出する
ことで、パターン検出回路１０及び補正量決定回路１２
を簡素化している。なお、本実施形態の光磁気記録再生
装置の他の部分は、図１と同様である。

【００７６】この場合の記録補正量Ｙは、直前の磁化状
態からの浮遊磁界のエッジシフトの影響のみを考慮した
状態となる。

【００７７】記録パターン検出回路１０により記録信号
列の“１”レベル、“０”レベルの変化毎に計数結果
(Ｔ_K）をメモリ（１）に格納更新することにより、記録
補正量Ｙ Ｙ＝Ａ×Ｔ_K に基づいてディレイライン１３の選択点を決定する。

【００７８】こうして、記録信号補正回路１１から記録
補正された記録信号列が磁気ヘッドドライバ８へ出力さ
れる。

【００７９】図８，図９は、補正量決定回路１２におい
て記録補正量Ｙを演算するための定数をＡ＝０，Ｂ＝
０．５とした場合のパターン依存性の計測結果を示す図
である。

【００８０】図８には、横軸はタイムインターバルアナ
ライザにより計測されたＮ番目のマーク長、縦軸はＮ＋
１番目のマーク長を示しており、１×１０⁵の計測デー
タがドットでプロットされている。

【００８１】図６に示されるグリッドの交点が理想位置
である。ここでは、１−７変調符号を採用しており、た
とえば（Ｎ,Ｎ＋１）：（８Ｔ、２Ｔ）を見ると、記録
補正無しの場合（図１４）に比べてタイムインターバル
分布がグリッド交点を中心に分布しておりエッジシフト
が改善していることが確認できる。

【００８２】また、図７はこのときのタイムインターバ
ルのヒストグラムを示すものである。図７には、比較の
ために記録補正を行わない場合のヒストグラムを併せて
示している。この結果からも各マーク長における度数分
布のピーク位置がより理想値（各グリッド位置）に近づ
いていることが確認できる。

【００８３】本実施形態では、記録補正により、各マー
ク長で規格化したジッタ分布の足し合わせのジッタ値σ
ｓｕｍが、記録補正を行わない場合のσｓｕｍ＝３．５
ｎｓに対して、σｓｕｍ=３．１７ｎｓに改善されたと
ことが確認できた。

【００８４】なお、実施形態１〜３における記録補正
は、記録時のレーザ光をパルス照射するパルス磁界変調
によるものであるが、ＤＣ光照射における磁界変調記録
においても同様の効果がある。

【００８５】また、本実施形態においては、変調磁界の
切り換え位置の補正により記録補正を行ったが、これに
限らず、磁壁形成部位での温度分布を変化させること、
たとえば、記録パルス光の強度・パルス幅・パルス位相
による記録補正により同様の効果がある。

【００８６】

【発明の効果】本発明による記録補正を施した光磁気記
録再生方法よれば、記録した磁界状態に依存して発生す
る浮遊磁界を要因として発生するエッジシフトを軽減す
ることができ、ＰＬＬ誤差の軽減、ビットエラーレート
の改善が可能となり、より高密度な情報記録装置を提供
することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態１の光磁気記録再生装置の模
式的な構成図である。

【図２】図１の記録信号補正回路の内部構成図である。

【図３】図１に示す光磁気記録再生装置の記録動作を示
す図である。

【図４】実施形態１のタイムインターバルアナライザに
より計測されたＮ番目のマーク長及びＮ＋１番目のマー
ク長を示す図である。

【図５】図４に係るタイムインターバルのヒストグラム
を示す図である。

【図６】実施形態２のタイムインターバルアナライザに
より計測されたＮ番目のマーク長及びＮ＋１番目のマー
ク長を示す図である。

【図７】図６に係るタイムインターバルのヒストグラム
を示す図である。

【図８】実施形態３のタイムインターバルアナライザに
より計測されたＮ番目のマーク長及びＮ＋１番目のマー
ク長を示す図である。

【図９】図８に係るタイムインターバルのヒストグラム
を示す図である。

【図１０】記録符号上最長・最短の記録マークを順次形
成する場合の図、記録符号上最短・最長の記録マークを
順次形成する場合の図、磁化及びそれを起因とする浮遊
磁界を示す図である。

【図１１】従来の光磁気記録再生装置の模式的な構成図
である。

【図１２】図１１の光磁気記録再生装置における記録動
作の説明図である。

【図１３】図１１に示す光学的除法記録再生装置の再生
動作の説明図である。

【図１４】従来技術のパターン依存性の結果を示す図で
ある。

【符号の説明】

１光磁気ディスク ５光ヘッド ６コントローラ ９磁気ヘッド １０パターン検出回路 １１記録信号補正回路 １２補正量決定回路 １３ディレイライン １４マルチプレクサ

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光磁気記録媒体に光ビームを照射すると
   共に、記録信号に対応した変調磁界を印加することによ
   り、情報の記録を行う光磁気記録方法において、 周囲からの浮遊磁界による記録マークエッジの変動をな
   くすように補正した記録マークパターンに基づいて記録
   マーク列を形成することを特徴とする光磁気記録方法。
2. 【請求項２】 前記記録マークパターン（Ｔ_K-1、Ｔ_K）
   は基準チャンネルクロックの周期の整数倍で表され、前
   記補正は前記記録マーク（Ｔ_K）の後端或いは前端を下
   記補正量Ｙ Ｙ＝−Ａ×Ｔ_K-1＋Ｂ×Ｔ_K （Ａ，Ｂ：定数、Ｔ_K-1，
   Ｔ_K：記録する正規のマーク長） で補正することにより行われることを特徴とする請求項
   １記載の光磁気記録方法。
3. 【請求項３】 前記補正量Ｙにおいて、Ａ＝Ｂであるこ
   とを特徴とする請求項２記載の光磁気記録方法。
4. 【請求項４】 前記補正量Ｙにおいて、Ａ＝０であるこ
   とを特徴とする請求項２記載の光磁気記録方法。
5. 【請求項５】 前記光磁気記録媒体が記録層、磁壁移動
   層等、多層構造を備え、再生光ビームを照射し、媒体の
   磁区に対する媒体の温度特性による温度分布の温度勾配
   を利用し、記録層の記録データを変化させることなく磁
   壁移動層の記録マークの磁壁を移動させ、該再生光ビー
   ム反射光の偏光面の変化を検出して記録マークを再生す
   る光磁気記録媒体であることを特徴とする請求項１から
   ４のいずれか１項記載の光磁気記録方法。
6. 【請求項６】 光磁気記録媒体に光ビームの照射すると
   共に、記録信号に対応した変調磁界を印加することによ
   り、情報の記録を行う光磁気記録再生装置において、 情報に応じた記録マークパターンを生成する手段と、前
   記記録マークパターンを周囲からの浮遊磁界による記録
   マークエッジの変動がなくなるように補正してから記録
   を行う手段とを備えることを特徴とする光磁気記録装
   置。
7. 【請求項７】 前記補正手段は、記録マークパターン
   （Ｔ_K-1，Ｔ_K）を検出する手段と、ディレイラインから
   なる変調磁界の位相を変化させる手段とを具備し、該検
   出した記録マークパターン（Ｔ_K-1，Ｔ_K）に対してマー
   クＴ_Kのマーク後端或いは前端を該変調磁界の位相を補
   正量Ｙ Ｙ＝−Ａ×Ｔ_K-1＋Ｂ×Ｔ_K （Ａ，Ｂ：定数、Ｔ_K-1，
   Ｔ_K：記録する正規のマーク長） で補正して記録を行うことを特徴とする請求項６記載の
   光磁気記録装置。