JP2005003688A5

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Publication number: JP2005003688A5
Application number: JP2004176152A
Authority: JP
Filing date: 2004-06-14
Publication date: 2007-08-23
Anticipated expiration: 2024-06-14

Claims

制限された液量を取り扱うための装置であって、
少なくとも１つの基体（１）を含み、
前記基体（１）は異なる毛細管力が作用する表面領域（６，７）を有し、
１つまたは複数の第１の表面領域（６ａ〜６ｅ）はミクロおよび／またはナノ構造表面を有し、
前記ミクロおよび／またはナノ構造表面は規則的に配置された構造要素（Ａ〜Ｅ）を有し、
前記基体および前記構造要素は１つの材料からなり、互いに一体に結合され、
１つまたは複数の第１表面領域（６ａ〜６ｅ）は試薬を備え、
第２表面領域（７）は前記第１表面領域の少なくとも１つを包囲していることを特徴とする装置。
第２表面領域（７）の少なくとも１つは平坦に形成されていることを特徴とする請求項１記載の装置。
第１表面領域（６ａ〜６ｅ）において、特に第２表面領域におけるよりも異なる毛細管力が作用することを特徴とする請求項２記載の装置。
前記構造要素は柱体（Ｂ，Ｅ）を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の装置。
柱体（Ｂ，Ｅ）は０．１〜５００μｍの直径を有することを特徴とする請求項４記載の装置。
柱体同士（Ｂ，Ｅ）は０．１〜５００μｍだけ離れていることを特徴とする請求項４または５記載の装置。
柱体（Ｂ，Ｅ）は０．１〜５００μｍの直径を有することを特徴とする請求項４〜６のいずれか１項記載の装置。
柱体（Ｂ，Ｅ）は正方形、円形、三角形または六角形の断面を有することを特徴とする請求項４〜７のいずれか１項に記載の装置。
構造要素は溝（Ａ，Ｃ）を含むことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の装置。
溝（Ａ，Ｃ）は０．１〜５００μｍの幅を有することを特徴とする請求項９記載の装置。
溝（Ａ，Ｃ）は互いに０．１〜５００μｍだけ離れていることを特徴とする請求項９または１０記載の装置。
前記溝は０．１〜５００μｍの深さを有することを特徴とする請求項９〜１１のいずれか１項に記載の装置。
溝（Ａ）は切欠き状に形成されていることを特徴とする請求項９〜１２のいずれか１項に記載の装置。
前記溝は互いに接続されていることを特徴とする請求項９〜１３のいずれか１項に記載の装置。
前記溝は管路構造を形成することを特徴とする請求項９〜１４のいずれか１項に記載の装置。
前記管路構造は網構造またはメアンダ構造を含むことを特徴とする請求項１５記載の装置。
前記構造要素は小路（Ｄ）を含むことを特徴とする請求項１〜１６のいずれか１項に記載の装置。
小路（Ｄ）は０．１〜５００μｍの幅および０．１〜５００μｍの高さを有することを特徴とする請求項１７記載の装置。
小路（Ｄ）は互いに０．１〜５００μｍの間隔を有することを特徴とする請求項１７または１８記載の装置。
１つまたは複数の第１の表面領域は周囲表面に対して隆起していることを特徴とする請求項１〜１９のいずれか１項に記載の装置。
１つまたは複数の第１の表面領域は周囲表面に対して沈下していることを特徴とする請求項１〜２０のいずれか１項に記載の装置。
前記沈下した第１表面領域の縁は構造要素を形成する切欠きを有することを特徴とする請求項２１記載の装置。
前記第１表面領域（６）はマトリックス形状で配置されており、該第１表面領域は、好ましくは完全に、第２表面領域により包囲されていることを特徴とする請求項１〜２２のいずれか１項に記載の装置。
試薬は２つの構造要素間あるいは１つの構造要素内に埋め込まれた粒子を含むことを特徴とする請求項１〜２３のいずれか１項に記載の装置。
前記第１表面領域は正方形、円形、三角形あるいは六角形であることを特徴とする請求項１〜２４のいずれか１項に記載の装置。
関連する第１表面領域（６ａ〜６ｅ）および／または第２表面領域（７）の一部は周囲表面に対して沈下していることを特徴とする請求項１〜２５のいずれか１項に記載の装置。
前記一部は２つの基体によって形成された蓋（２）によって閉鎖され、該一部と蓋（２）との間に存在する空間は反応チャンバ（４）を形成することを特徴とする請求項１〜２６のいずれか１項に記載の装置。
該装置は第１の入口（３，３ａ，３ｂ）を有することを特徴とする請求項１〜２７のいずれか１項に記載の装置。
第１の入口（３，３ａ，３ｂ）は反応チャンバ（４）に開口する進入管路（３）を有することを特徴とする請求項２８記載の装置。
前記第１の入口（３，３ａ，３ｂ）は進入チャンバ（３ａ）を含むことを特徴とする請求項２８または２９記載の装置。
第１の入口（３，３ａ，３ｂ）は蓋（２）または基体（１）における進入開口（３ｂ）を含むことを特徴とする請求項２８〜３０のいずれか１項に記載の装置。
該装置は出口（５，５ａ，５ｂ）を有することを特徴とする請求項２７〜３１のいずれか１項に記載の装置。
出口（５，５ａ，５ｂ）は反応チャンバ（４）において始まる排出管路（５）を含むことを特徴とする請求項３２記載の装置。
出口（５，５ａ，５ｂ）は排出チャンバ（５ａ）を含むことを特徴とする請求項３２または３３記載の装置。
出口（５，５ａ，５ｂ）は蓋（２）または基体（１）における排出開口（５ｂ）を含むことを特徴とする請求項３２〜３４のいずれか１項に記載の装置。
該装置は１つまたは複数の第２の入口（８，８ａ，８ｂ）を有することを特徴とする請求項１〜３５のいずれか１項に記載の装置。
第２の入口（８，８ａ，８ｂ）は第１表面領域（６ｂ）と接続した進入管路（８）を含むことを特徴とする請求項３６記載の装置。
第２の入口（８，８ａ，８ｂ）は進入チャンバ（８ａ）を含むことを特徴とする請求項３６または３７記載の装置。
第２の入口（８，８ａ，８ｂ）は蓋（２）または基体（１）における進入開口（８ｂ）を含むことを特徴とする請求項３６〜３８のいずれか１項に記載の装置。
請求項１〜３９のいずれか１項に記載の制限された液量を取り扱うための装置の製造方法であって、
基体（１）の表面において、異なる毛細管力が作用する表面領域（６ａ〜６ｅ，７）を加工によって製造し、
前記加工の際に、第１表面領域（６ａ〜６ｅ）において規則的に配置された構造要素（Ａ〜Ｅ）によって形成されるミクロおよび／またはナノ構造表面を製造し、
さらに、第１表面領域の少なくとも１つを、それが第２の表面領域によって完全に包囲されるように、配置することを特徴とする方法。
第１表面領域（６ａ〜６ｅ）上に、試薬を含む液体が与えられることを特徴とする請求項４０記載の方法。
試薬は固定または乾燥されることを特徴とする請求項４０または４１記載の方法。
ミクロおよび／またはナノ構造表面は掘下げにおいて成形されることを特徴とする請求項４０〜４２のいずれか１項に記載の方法。
前記掘下げは蓋（２）によって閉鎖され、それによって掘下げが反応チャンバを形成することを特徴とする請求項４３記載の方法。
該装置において反応チャンバへの少なくとも１つの第１の入口が製造されることを特徴とする請求項４４記載の方法。
該装置において反応チャンバへの少なくとも１つの第２の入口が製造されることを特徴とする請求項４４または４５記載の方法。
前記第２の入口は液体および試薬の充填後に閉鎖されることを特徴とする請求項４６記載の方法。
請求項１〜３９のいずれか１項に記載の制限された液量を取り扱うための装置の使用であって、該装置の第１表面領域（６ａ〜６ｅ）上に試料が供給されることを特徴とする使用。
試料は第１表面領域上で固定または乾燥された試薬と反応することを特徴とする請求項４８に記載の使用。
試料は乾燥した試薬を溶解し、試料は試薬と共に反応チャンバから搬送されることを特徴とする請求項４８または４９記載の使用。
試料の供給前に、溶剤が第１表面領域へ与えられ、さらに好ましくは前記溶剤は乾燥した試薬を溶解し、溶剤は試薬と共に反応チャンバから搬送されることを特徴とする請求項４８〜５０のいずれか１項に記載の使用。
試料の一部は固定された試薬と反応し、該試薬において貯留されることを特徴とする請求項４８〜５０のいずれか１項に記載の使用。