JP2004531449A5 - - Google Patents

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  1. 基本形状を含み、その外表面の少なくとも1部に石英ガラスよりも高い軟化温度を有する安定化層を設けた高熱安定性の石英ガラス坩堝であって、前記安定化層(3;6;7;38)が、その化学組成において石英ガラスと異なり且つ熱スプレー法によって生成されていることを特徴とする石英ガラス坩堝
  2. 前記安定化層(3;6;7;38)が、酸化物、ケイ酸塩、リン酸塩および/またはケイ化物を含有することを特徴とする請求項1記載の石英ガラス坩堝
  3. 前記安定化層(3;6;7;38)が、Al2O3および/またはムライト、酸化ハフニウム、酸化タンタル、ケイ酸ジルコニウム、希土類リン酸塩、希土類酸化物を含有することを特徴とする請求項2記載の石英ガラス坩堝
  4. 前記安定化層(3;6;7;38)が、50μm〜1000μm範囲の層厚を有することを特徴とする前記請求項のいずれか1項記載の石英ガラス坩堝
  5. 前記安定化層が、異なる化学組成の複数の連続層(6;7)を含むことを特徴とする前記請求項のいずれか1項記載の石英ガラス坩堝
  6. 前記安定化層が、ムライトの層(6)とAl2O3のさらなる外層(7)を含むことを特徴とする請求項5記載の石英ガラス坩堝
  7. 高熱安定性の石英ガラス坩堝の基本形状を作成し、その外表面の少なくとも1部に、石英ガラスよりも高い軟化温度を有する安定化層を設ける石英ガラス坩堝の製造方法であって、石英ガラスと化学組成において異なる安定化層(3;6;7;38)を熱スプレー法によって塗布することを特徴とする製造方法。
  8. 前記安定化層(3;6;7;38)を、少なくとも10μmの平均表面粗さRaを有する表面に塗布することを特徴とする請求項7記載の方法。
  9. 前記安定化層(3)をプラズマスプレー法によって生成させることを特徴とする前記方法の請求項のいずれか1項記載の方法。
  10. 前記安定化層(6;7;38)をフレームスプレー法によって生成させることを特徴とする請求項7〜9のいずれか1項記載の方法。
  11. 高溶融性酸化物および/またはケイ酸塩、リン酸塩、ケイ化物を含有する安定化層(3;6;7;38)を生成させることを特徴とする前記方法の請求項のいずれか1項記載の方法。
  12. 前記安定化層(3;6;7;38)が、Al2O3および/またはムライト、酸化ハフニウム、酸化タンタル、ケイ酸ジルコニウム、希土類リン酸塩、希土類酸化物を含有することを特徴とする請求項11記載の方法。
  13. 前記安定化層(3;6;7;38)を、50μm〜1000μm範囲の層厚を有するように生成させることを特徴とする前記方法の請求項のいずれか1項記載の方法。
  14. 複合粉末を使用して前記安定化層を生成させることを特徴とする前記方法の請求項のいずれか1項記載の方法。
  15. 異なる化学組成の少なくとも2種の出発材料を使用して前記安定化層を生成させることを特徴とする前記方法の請求項のいずれか1項記載の方法。
  16. 異なる化学組成の複数の連続層(6;7)を前記外表面に塗布して前記安定化層を生成させることを特徴とする前記方法の請求項のいずれか1項記載の方法。
  17. Al2O3層(7)によって取り囲まれているムライト層(6)を生成させることを特徴とする請求項15記載の方法。
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