JP2004509430A - 材料の熱パターン形成における電子活性プライマー層の使用 - Google Patents

Abstract

本発明は、バインダー中に分散した電子活性材料を有する活性プライマーを提供する。本発明の活性プライマーは、熱転写供与体シートと受容体との間に配置され、受容体上に電子デバイスの少なくとも一部を形成するために供与体シートから受容体への材料の選択的熱転写を促進することができる。活性プライマーのバインダーは、受容体への転写材料の接着性を向上させるか、あるいはその他の転写特性を向上させるように選択することができる。活性プライマーの電子活性材料は、受容体上にパターン形成される電子デバイスに関して所望のレベルの機能が維持されるように選択することができる。

Description

【０００１】
本発明は、供与体シートから受容体基材への放射物質の熱転写に関する。
【０００２】
背景
供与体シートから受容体基材へのパターン形成されるような材料の熱転写は、広範囲の用途で提案されている。例えば、材料を選択的に熱転写して、電子ディスプレイおよび他の装置に有用な要素を形成することができる。特に、カラーフィルター、ブラックマトリックス、スペーサー、偏光子、導電層、トランジスタ、蛍光体、および有機エレクトロルミネセンス材料の選択的熱転写は、すべて提案されている。
【０００３】
発明の概要
一部の材料の熱転写は、特に、高解像度用途、および転写による受容体への転写材料の接着（またはその他の同様の転写関連の特性）が問題となる転写工程の場合に問題となりうる。かかる問題に対処するために、接着層、または他の転写補助層と呼ばれる層を、熱転写前の受容体または転写層に付着させることができる。しかし、トランジスタや有機エレクトロルミネセンス素子などの電子活性素子を調製するために材料を転写する場合、接着層または転写補助層が完成した素子の層の間に残ることが多い。かかる場合、転写補助層も機能を付与するか、あるいは少なくとも素子の操作性に悪影響を与えないことが重要となりうる。本発明は、転写特性と素子の機能の維持との両方を向上させる活性プライマー層を提供する。さらに、本発明は、バインダー中に分散した電子活性材料を有する活性プライマーを目的としており、電子活性材料は機能（例えば、所与の具体的な製造される素子、素子の構成、素子の材料など）に応じて選択することができ、バインダーは転写補助特性（例えば、所与の転写される材料、受容体基材の詳細など）に応じて選択することができる。本発明は、ポリマー主鎖に活性材料ペンダントを有するポリマー、すなわち活性材料が共有結合することによって官能化されたポリマーを有する活性プライマーも目的としている。本発明を説明する目的のため、語句「バインダー中に分散した活性材料」および活性プライマーに関する他の同様の説明は、特に活性材料で官能化されたポリマーを含んでいる。
【０００４】
例えば、プライマー層の活性材料が電荷輸送機能を付与する場合、本発明の活性プライマー層は、有機エレクトロルミネセンス素子を形成するための発光ポリマーの転写を改良するために有用となりうる。
【０００５】
実施態様の１つでは、本発明は、受容体基材と熱転写供与体の間に活性プライマーを配置する工程と、電子デバイスの材料成分を有する転写層の一部を供与体から受容体に選択的に熱転写して電子デバイスの少なくとも一部を形成する工程とを有する、電子デバイスの層をパターン形成する方法を提供する。活性プライマーはバインダー中に分散した電子活性材料を含み、バインダーは転写層の受容体への選択的熱転写が促進されるように選択され、電子活性材料は電子デバイスの操作性が維持されるように選択される。
【０００６】
別の実施態様では、本発明は、受容体上に複数の有機エレクトロルミネセンス素子をパターン形成する方法を提供する。本発明の方法では、受容体は表面上に複数のアノードが配置されるように提供され、熱転写供与体要素はベース基材と転写層を含むように提供される。転写層は有機エレクトロルミネセンス材料を含む。次に、活性プライマーが、受容体基材のアノード表面と、供与体要素の転写層との間に配置される。活性プライマーはバインダー中に分散した電子活性材料を含み、バインダーは転写層の受容体への熱転写が促進されるように選択される。次に、転写層が供与体要素から受容体に選択的に熱転写され、受容体上に有機エレクトロルミネセンス材料のパターンが形成される。続いて、カソード材料が有機エレクトロルミネセンス材料のパターン上に配置されて、受容体上に複数の有機エレクトロルミネセンス素子が形成され、各素子は１つのアノード、活性プライマーの一部、有機エレクトロルミネセンス材料の一部、およびカソードの一部をこの順序で含む。
【０００７】
さらに別の実施態様では、本発明は、ベース基材と、供与体要素から選択的に熱転写されることで電子デバイスの少なくとも一部を形成可能な熱転写層と、供与体要素の最外層として熱転写層上に配置された活性プライマーとを有する熱転写供与体要素を提供する。活性プライマーはバインダー中に分散した電子活性材料を有し、バインダーは転写層の受容体への選択的熱転写が促進されるように選択され、電子活性材料は電子デバイスの操作性が維持されるように選択される。
【０００８】
添付の図面とともに本発明の種々の実施態様の詳細な説明を検討することによって、本発明をより十分に理解できるであろう。
【０００９】
本発明は種々の変更形態および代替形態が可能であるが、それらの詳細は図面によって例示されており、以下に詳細に説明される。しかしながら、記載の特定の実施態様に本発明が限定されるべきではないことを理解されたい。逆に、本発明は、本発明の意図および範囲内にあるすべての変更、同等物、および代替物を包含している。
【００１０】
詳細な説明
本発明は、供与体要素から受容体に材料を熱物質転写して、電子デバイスまたはその一部を形成するために適用可能であると考えられる。特に、本発明は、有機エレクトロルミネセンス素子（ＯＬＥＤ）またはその一部を形成するための材料の熱物質転写を目的とし、特に、有機エレクトロルミネセンス材料の熱転写を目的とする。本発明は、転写を促進し素子の機能を維持するために熱転写供与体要素と受容体基材の間にプライマー層を提供する。本発明は熱転写による電子デバイスのパターン形成を目的としているため、活性プライマー層は、転写特性を向上させるとともに、機能が維持または付与されるように選択することができる。本発明によると、供与体と受容体との間にある活性プライマー層はバインダー中に分散した活性材料を含むことができ、このバインダーは転写材料の受容体への接着が促進され（またはその他の転写特性が向上され）るように選択することができ、活性材料は機能が得られるように選択することができる。例えば、活性材料は、ＯＬＥＤ中で電荷輸送機能または電荷注入機能を果たすように選択することができ、バインダー材料は、供与体シートから受容体への有機エレクトロルミネセンス材料の転写忠実度が向上するように選択することができる。転写忠実度は、供与媒体から受容体に実際に転写された材料のパターンが意図する転写パターンと一致する度合いを意味する。
【００１１】
本発明の活性プライマーは、相溶性バインダー（またはポリマー）と活性材料を独立に選択することもできる。相溶性バインダーと活性材料を独立に選択できるために、プライマー層の設計に自由度が得られ、より広範囲の電子デバイス用材料をより高い忠実度でパターン形成することが可能となる。このことは、発光ポリマーまたは素子に機能を付与する他の材料を熱転写する場合に特に有用となりうる。場合によっては、物理的および機械的特性（高分子量、剛性、高フィルム内凝集性など）のためにかかる材料の熱転写は困難となりうる。かかる材料は機能を付与するため、熱パターン形成作業における転写性を向上させるために純粋な形態に改質することが常に望ましいわけではないが、本願と同じ譲受人に譲渡された米国特許出願第０９／６６２，９８０号（代理人整理番号第５６００１ＵＳＡ６Ａ．００２号、発明の名称「Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ　Ｔｈｅｒｍａｌ　Ｔｒａｎｓｆｅｒ　ｏｆ　Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｂｌｅｎｄｓ（発光ポリマーブレンドの選択的熱転写）」）に開示されているようにかかる改質が成功している。本発明は、所望の素子機能を維持しながら、意図する特定の転写材料との転写補助特性に応じて選択可能な活性プライマーを提供する。
【００１２】
図１は、ベース基材１１０、任意の下層１１２、光−熱変換層（ＬＴＨＣ層）１１４、任意の中間層１１８、および転写層１１６を有する熱転写供与体１００の一例を示している。その他の層が存在してもよい。ある供与体の一部の例は、米国特許第６，１１４，０８８号、第５，９９８，０８５号、および第５，７２５，９８９号、国際公開第００／４１８９３号、および本願と同じ譲受人に譲渡された米国特許出願第０９／４７３，１１４号および第０９／４７４，００２号に開示されている。
【００１３】
供与体要素の転写層を受容体と隣接させ、ＬＴＨＣ層が吸収して熱に変換することができる画像形成性放射線を供与体要素に照射することによって、熱物質転写供与体要素の転写層から受容体基材に材料を転写することができる。供与体は、供与体基材を通して画像形成性放射線に曝露することができるし、受容体を通して曝露することもできるし、あるいはその両方も可能である。放射線は、可視光、赤外線、または紫外線などの１つ以上の波長を含むことができ、例えばレーザーランプまたは他の同様の放射線源からの放射線であってよい。この方法によって、受容体上に転写された材料が画像的にパターン形成されるように、熱転写層からの材料を受容体に選択的に転写することができる。多くの場合、ランプまたはレーザーなどからの光を使用した熱転写は、正確さおよび精度が得られることが多いので好都合である。転写パターンのサイズおよび形状（例えば、線、円、正方形、またはその他の形状）は、例えば、光線のサイズ、光線の曝露パターン、熱物質転写要素と接触する入射ビームの曝露時間、および／または熱物質転写要素の材料を選択することによって制御可能である。転写パターンは、マスクを通して供与体要素に照射することでも制御可能である。
【００１４】
あるいは、感熱印刷ヘッドまたは他の加熱要素（パターン形成されているなど）を使用して、供与体要素を直接選択的に加熱して、それによってパターン形成されるように転写層の一部を転写することができる。このような場合、供与体シート中のＬＴＨＣ層の使用は任意である。感熱印刷ヘッドまたはその他の加熱要素は、低解像度のセグメント化ディスプレイ、発光性アイコンなどのパターン形成された装置に特に好適となりうる。
【００１５】
熱物質転写の方式は、照射の種類、ＬＴＨＣ層の材料の種類および特性、転写層の材料の種類などによって変動する場合があり、一般に１つ以上の機構によって行われ、これらの１つ以上の機構は画像形成条件、供与体の構成などに依存して転写中に強調されたり弱まったりしうる。熱転写の機構の１つとして熱溶融−粘着転写が挙げられ、この機構では、熱転写層と供与体要素の残部との間の界面で局所的に加熱することで、選択された領域における熱転写層の供与体への接着性を低下させることができる。熱転写層の選択された部分は、供与体に接着するよりも強く受容体に接着することができるため、供与体要素が取り外されると、転写層の選択された部分は受容体上に残留する。熱転写のもう１つの機構としてはアブレーション転写が挙げられ、この機構では、局所化された熱を使用して転写層の一部を供与体要素からアブレーションし、それによってアブレーションされた材料を受容体に向けることができる。熱転写のさらに別の機構としては昇華が挙げられ、この機構では、転写層に分散した材料を供与体要素で発生した熱によって昇華させることができる。昇華した材料の一部は、受容体上で凝縮させることができる。本発明は、熱物質転写供与体要素のＬＴＨＣ層で発生した熱を転写層から受容体表面に材料を転写するために使用することができるこれらの１つ以上およびその他の機構を含む転写方式を目的としている。
【００１６】
供与体要素の熱物質転写のために種々の放射線放出源を使用することができる。類似技術（例えば、マスクを通した曝露）の場合、高出力光源（例えば、キセノンフラッシュランプやレーザー）が有用である。デジタル画像形成技術では、赤外レーザー、可視レーザー、および紫外レーザーが特に有用である。好適なレーザーとしては、例えば、高出力（≧１００ｍＷ）シングルモードレーザーダイオード、ファイバー結合レーザーダイオード、およびダイオードポンピング固体レーザー（例えば、Ｎｄ：ＹＡＧやＮｄ：ＹＬＦ）が挙げられる。レーザー曝露時間は、例えば、数百分の１マイクロ秒〜数十マイクロ秒またはそれ以上で広範囲に変動させることができ、レーザーフルエンスは、例えば、約０．０１〜約５Ｊ／ｃｍ^２またはそれ以上の範囲をとりうる。他の放射線源および照射条件は、特に、供与体要素の構成、転写層材料、熱物質転写方式、および他の同様の要因に基づいて好適となりうる。
【００１７】
広い基材領域にわたって高精度のスポット配置が要求される（例えば、高情報量フルカラーディスプレイ用途）場合、放射線源としてレーザーが特に有用である。さらにレーザー源は、大型剛性基材（例えば、１ｍ×１ｍ×１．１ｍｍのガラス）と、連続またはシート状のフィルム基材（例えば、厚さ１００μｍのポリイミドシート）の両方に適合性である。
【００１８】
画像形成中、熱物質転写要素を受容体と密接に接触させることができるし（熱溶融−粘着転写機構の場合に一般的となりうる）、あるいは熱物質転写要素を受容体からある間隔をおいて配置することもできる（アブレーション転写機構または転写材料昇華機構の場合に起こりうる）。少なくとも一部の場合では、熱転写要素を受容体と密接に接触させ続けるために加圧または減圧を使用することができる。場合によっては、熱転写要素と受容体の間にマスクを配置することができる。このようなマスクは着脱自在の場合もあるし、転写後も受容体上に残る場合もある。次に、放射線源を使用して、画像形成される方法（例えば、デジタル的、またはマスクを通したアナログ的曝露によって）でＬＴＨＣ層（および／または放射線吸収剤を含有する他の層）を加熱して、熱転写要素から受容体への転写層の画像的転写および／またはパターン形成を行うことができる。
【００１９】
一般的に、転写層の選択された部分が受容体に転写されるが、熱物質転写要素の別の層（例えば、任意の中間層またはＬＴＨＣ層）の有意な部分が転写されることはない。任意の中間層が存在することによって、ＬＴＨＣ層から受容体への材料の転写が解消または軽減されることがあり、および／または転写層の転写した部分の変形が軽減される場合がある。好ましくは、画像形成条件において、任意の中間層のＬＴＨＣ層に対する接着力が、中間層の転写層に対する接着力よりも強い。場合によっては、反射性中間層を使用して、中間層を通って透過する画像形成性放射線量を減少させ、透過放射線と転写層および／または受容体との相互作用によって発生しうる転写層の転写部分の損傷を減少させることができる。これは、受容体の画像形成性放射線の吸収性が高い場合に発生しうる熱的損傷を減少させるために特に有益である。
【００２０】
長さや幅が１ｍ以上である熱転写要素などの大型の熱転写要素を使用することができる。作業中、大型熱転写要素全体にレーザーをラスタしたり他の方法で移動させ、所望のパターンにしたがって熱転写素子の一部に照射されるようにレーザーを選択的に操作することができる。あるいは、レーザーを固定して、熱転写要素および／または受容体基材をレーザーの下で移動させることもできる。
【００２１】
場合によっては、２種類以上の異なる熱転写要素を連続して使用して受容体上に電子デバイスを形成することが、必要であったり、望ましかったり、および／または好都合であったりすることもある。例えば、多層素子は、異なる熱転写要素の独立した層または独立した層のスタックを転写することによって形成することができる。多層スタックは、１種類の供与体要素から１種類の転写単位として転写することもできる。多層素子の例としては、有機電界効果トランジスタ（ＯＦＥＴ）などのトランジスタ、有機エレクトロルミネセンスのピクセルおよび／またはＯＬＥＤなどの素子を挙げることができる。複数の供与体シートを使用して、受容体の同じ層中に独立した成分を形成することもできる。例えば、異なる色（例えば、赤、緑、および青）を発光する有機エレクトロルミネセンス材料を含む転写層をそれぞれ有する３種類の異なる供与体を使用して、カラー電子ディスプレイ用のＲＧＢサブピクセルＯＬＥＤ要素を形成することができる。また、多層転写層をそれぞれ有する別々の供与体シートを使用して、異なる多層素子（例えば、異なる色を発光するＯＬＥＤ、連結してアドレス指定可能なピクセルを形成するＯＬＥＤとＯＦＥＴなど）のパターンを形成することともできる。一般的に、別々の供与体シートの材料は、隣接する素子、隣接する素子の一部、または同じ素子の異なる部分を形成するために、受容体上の異なる材料と隣接するように転写される。あるいは、別々の供与体シートの材料は、熱転写または別の転写方法のいずれかで受容体上にあらかじめパターン形成された他の層または材料の上に直接転写したり、それらと位置合わせして部分的に重なるように転写したりすることができる。２種類以上の熱転写要素の種々の他の組合せを使用して、各熱転写要素がその素子の１つ以上の部分を構成するように１つの素子を形成することができる。フォトリソグラフィー法、インクジェット法、および種々の他の印刷法またはマスクを使用する方法などの任意の好適な方法によって、受容体上のこれらの素子の別の部分または他の素子の全体または一部を形成することができることを理解されたい。
【００２２】
これより再び図１を参照しながら、熱物質転写供与体要素１００の種々の層について説明する。
【００２３】
供与体基材１１０はポリマーフィルムであってもよい。ポリマーフィルムの好適な種類の１つはポリエステルフィルムであり、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルムやポリエチレンナフタレートフィルムである。しかし、特定の光の高い透過性などの十分な光学的特性、ならびに特定の用途における十分な機械的安定性および熱安定性を有する他のフィルムも使用することができる。少なくとも一部の用途では、供与体基材は平坦であり、そのため均一なコーティングを形成することができる。供与体基材も、ＬＴＨＣ層の熱でも安定性を維持する材料から一般的に選択される。しかし後述するように、基材とＬＴＨＣ層の間に下層を挿入して、画像形成中にＬＴＨＣ層で発生する熱から基材を断熱することができる。供与体基材の標準的な厚さは０．０２５〜０．１５ｍｍの範囲であり、好ましくは０．０５〜０．１ｍｍの範囲であるが、より厚いまたはより薄い供与体基材を使用してもよい。
【００２４】
供与体基材および隣接する下層の形成に使用される材料は、供与体基材と下層の接着性を向上させたり、基材と下層の間の熱輸送を制御したり、ＬＴＨＣ層に送られる画像形成性放射線を制御したり、画像形成の欠陥を減少させたりするように選択することができる。任意にプライマー層を使用して、基材上に後に形成される層のコーティング中の均一性を向上させることができ、供与体基材と隣接する層の間の接合強度を増大させることもできる。プライマー層を有する好適な基材の一例は、Ｔｅｉｊｉｎ　Ｌｔｄ．（製品番号ＨＰＥ１００、大阪、日本）より入手可能である。
【００２５】
任意の下層１１２を、コーティングやその他の方法で供与体基材とＬＴＨＣ層の間に配置することによって、例えば、画像形成中の基材とＬＴＨＣ層の間の熱流の制御、および／または保管、取り扱い、供与体の加工、および／または画像形成の場合に供与体要素の機械的安定性の付与が可能となる。好適な下層および下層の提供方法の例は、本願と同じ譲受人に譲渡された米国特許出願０９／，７４３，１１４号（代理人整理番号５４３９７ＵＳＡ１Ａ号、発明の名称「Ｔｈｅｒｍａｌ　Ｔｒａｎｓｆｅｒ　Ｄｏｎｏｒ　Ｅｌｅｍｅｎｔ　ｈａｖｉｎｇ　ａ　Ｈｅａｔ　Ｍａｎａｇｅｍｅｎｔ　Ｕｎｄｅｒｌａｙｅｒ（熱管理下層を有する熱転写供与体要素）」）に開示されている。
【００２６】
下層は、所望の機械的および／または熱的性質を供与体要素に付与する材料を含むことができる。例えば下層は、供与体基材と比べると低い（比熱×密度）および／または低熱伝導率を示す材料を含むことができる。このような下層は、供与体の画像形成感受性を向上させるためなどで転写層への熱流を増加させる目的で使用することができる。
【００２７】
下層は、基材とＬＴＨＣの間の機械的特性、または接着性と関連する材料を含むこともできる。基材とＬＴＨＣ層の間の接着性を向上させる下層を使用すると、転写画像の歪みが小さくなる場合がある。例えば、場合によっては、供与体媒体の画像形成中などに発生しうるＬＴＨＣ層の層間剥離または分離を、下層を使用することで軽減または解消することができる。これは、転写層の転写部分に見られる物理的歪みの量を減少させうる。しかし別の場合では、画像形成中に断熱作用を付与しうる空隙を形成させるなどの理由で、画像形成中に少なくともある程度の層間の分離を促進する下層を使用することが望ましいこともある。画像形成中に分離することで、画像形成中のＬＴＨＣ層の熱によって発生しうる気体が放出される経路を提供する場合もある。かかる経路が形成されることで、画像形成の欠陥がより少なくなりうる。
【００２８】
下層は、画像形成波長に対して実質的に透明の場合もあるし、あるいは画像形成性放射線を少なくとも部分的に吸収または反射する場合もある。画像形成中に発生する熱を調節するために、下層による画像形成性放射線の減衰および／または反射が使用されることもある。
【００２９】
下層は、熱硬化（架橋）したポリマー、熱硬化性（架橋性）ポリマー、または熱可塑性ポリマーなど多数の公知のポリマーのいずれかで構成されてよく、そのようなものとしては、アクリレート（メタクリレート、ブレンド、混合物、コポリマー、ターポリマー、テトラポリマー、オリゴマー、マクロマーなどを含む）、ポリオール（ポリビニルアルコールを含む）、エポキシ樹脂（コポリマー、ブレンド、混合物、ターポリマー、テトラポリマー、オリゴマー、マクロマーなども含む）、シラン、シロキサン（それらのあらゆる種類の変形体）、ポリビニルピロリジノン、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミド、ポリ（フェニレンスルフィド）、ポリスルホン、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、セルロースエーテルおよびエステル（例えば、酢酸セルロース、酢酸セルロースブチレートなど）、ニトロセルロース、ポリウレタン、ポリエステル（例えば、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリカーボネート、ポリオレフィンポリマー（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリクロロプレン、ポリイソブチレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリ（ｐ−クロロスチレン）、ポリフッ化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレンなど）、およびコポリマー（例えば、ポリイソブテン−コ−イソプレンなど）、かかる重合性活性基の混合物を含む重合性組成物（例えば、エポキシ−シロキサン、エポキシ−シラン、アクリロイル−シラン、アクリロイル−シロキサン、アクリロイル−エポキシなど）、フェノール樹脂（例えば、ノボラック樹脂およびレゾール樹脂）、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリレート、ニトロセルロース、ポリカーボネート、ならびにそれらの混合物が挙げられる。下層は、ホモポリマーまたはコポリマー（ランダムコポリマー、グラフトコポリマー、ブロックコポリマーなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない）を含むことができる。
【００３０】
下層は、コーティング、積層、押出成形、真空蒸着または蒸着、電気めっきなどを含む任意の好適な手段で形成することができる。例えば、架橋した下層は、供与体基材上に未架橋材料をコーティングして、そのコーティングを架橋させることで形成することができる。あるいは架橋した下層を最初に形成してから、架橋後に基材に積層することもできる。放射線、および／または熱エネルギー、および／または化学的硬化剤（水や酸素など）への曝露を含む当技術分野で公知のあらゆる手段によって架橋させることができる。
【００３１】
一般的に下層の厚さは、従来の接着プライマーおよび剥離層コーティングの厚さよりも厚く、好ましくは０．１μｍを超え、より好ましくは０．５μｍを超え、最も好ましくは１μｍを超える。場合によっては、特に無機または金属下層の場合に、下層はこれよりはるかに薄くなりうる。例えば、画像形成波長を少なくとも部分的に反射する薄い金属下層は、供与体要素が転写層側から照射される画像形成システムにおいて有用となりうる。別の場合では、供与体要素中である程度の機械的支持構造を付与するために下層が含まれる場合になどには、下層はこれらの範囲よりもはるかに厚いことがある。
【００３２】
再び図１を参照すると、熱転写要素に照射エネルギーを伝えるために、本発明の熱物質転写要素中にＬＴＨＣ層１１４を含むことができる。好ましくはＬＴＨＣ層は、入射放射線（例えば、レーザー光）を吸収して入射放射線の少なくとも一部を熱に変換する放射線吸収剤を含み、この熱によって熱転写要素から受容体への転写層の転写が可能になる。
【００３３】
一般的に、ＬＴＨＣ層中の放射線吸収剤は、電磁スペクトルの赤外領域、可視領域、および／または紫外領域の光を吸収して、その吸収した放射線を熱に変換する。一般的に、放射線吸収材料は選択された画像形成性放射線の吸収性が高く、画像形成性放射線の波長で光学濃度が約０．２〜３以上の範囲のＬＴＨＣ層が得られる。光学濃度は、層を透過する光の強度の層に入射する光の強度に対する比の対数（底１０）の絶対値である。
【００３４】
放射線吸収材料はＬＴＨＣ層全体に均一に分散する場合があるし、不均一に分散する場合もある。例えば、本願と同じ譲受人に譲渡された米国特許出願第０９／４７４，００２号（代理人整理番号５４９９２ＵＳＡ９Ａ、発明の名称「Ｔｈｅｒｍａｌ　Ｍａｓｓ　Ｔｒａｎｓｆｅｒ　Ｄｏｎｏｒ　Ｅｌｅｍｅｎｔｓ（熱物質転写供与体要素）」）に記載されるように、供与体要素の温度プロファイルを調節するために不均一のＬＴＨＣ層を使用することができる。これによって、熱転写要素の転写特性を向上させることができる（例えば、意図する転写パターンと実際の転写パターンの間のより高い忠実性）。
【００３５】
好適な放射線吸収材料としては、例えば、染料（例えば、可視染料、紫外染料、赤外染料、蛍光染料、および放射線偏光染料）、顔料、金属、金属化合物、金属フィルム、および他の他の好適な吸収材料を挙げることができる。好適な放射線吸収剤の例としては、カーボンブラック、金属酸化物、および金属硫化物が挙げられる。好適なＬＴＨＣ層の一例は、カーボンブラックなどの顔料と、有機ポリマーなどのバインダーを含むことができる。別の好適なＬＴＨＣ層は、金属、または薄膜として形成された金属／金属酸化物を含み、例えば黒色アルミニウム（すなわち、黒色の外観を有する部分酸化アルミニウム）を含む。金属または金属化合物のフィルムは、例えばスパッタリングや蒸着などの技術によって形成することができる。バインダーと任意の好適な乾式または湿式コーティング技術を使用して粒子コーティングを形成してもよい。ＬＴＨＣ層は、類似または異種の材料を含む２種類以上のＬＴＨＣ層を組み合わせて形成することもできる。例えば、バインダー中に分散したカーボンブラックを含有するコーティングの上に黒色アルミニウムの薄層を蒸着することによってＬＴＨＣ層を形成することができる。
【００３６】
ＬＴＨＣ層中の放射線吸収剤としての使用に好適な染料は、バインダー材料中に溶解して粒子形態で存在してもよいし、またはバインダー材料中に少なくとも部分的に分散して存在してもよい。分散した粒子放射線吸収剤が使用される場合、粒径は少なくともある場合には約１０μｍ以下であってよく、約１μｍ以下になりうる。好適な染料としては、スペクトルのＩＲ領域を吸収する染料が挙げられる。例えば、Ｇｌｅｎｄａｌｅ　Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ、Ｉｎｃ．、（Ｌａｋｅｌａｎｄ、Ｆｌａ．）より商品名ＣＹＡＳＯＲＢ　ＩＲ−９９、ＩＲ−１２６、およびＩＲ−１６５で販売されるＩＲ吸収剤を使用することができる。具体的な染料は、溶解性、相溶性、具体的なバインダーおよび／またはコーティング溶剤、ならびに吸収波長範囲などの要因に応じて選択することができる。
【００３７】
顔料材料も放射線吸収剤としてＬＴＨＣ層中に使用することができる。好適な顔料の例としては、カーボンブラックおよび黒鉛、さらにはフタロシアニン、ニッケルジチオレン、ならびに米国特許第５，１６６，０２４号および第５，３５１，６１７号に記載の他の顔料が挙げられる。さらに、例えばピラゾロンイエロー、ジアニシジンレッド、およびニッケルアゾイエローなどの銅またはクロム錯体を主成分とする黒色アゾ顔料が有用となりうる。アルミニウム、ビスマス、スズ、インジウム、亜鉛、チタン、クロム、モリブデンタングステン、コバルト、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀、金、ジルコニウム、鉄、鉛、およびテルルなどの金属の酸化物および硫化物などの無機顔料も使用することができる。金属ホウ化物、炭化物、窒化物、炭窒化物、ブロンズ構造酸化物、およびブロンズ系と関連する構造の酸化物（例えば、ＷＯ_２．９）も使用することができる。
【００３８】
金属放射線吸収剤は、米国特許第４，２５２，６７１号などに記載されるように粒子の形態で使用することができるし、あるいは米国特許第５，２５６，５０６号に開示されるようにフィルムの形態で使用することもできる。好適な金属としては、例えば、アルミニウム、ビスマス、スズ、インジウム、テルル、および亜鉛が挙げられる。
【００３９】
ＬＴＨＣ層中に使用すると好適なバインダーとしては、例えば、フェノール樹脂（例えば、ノボラック樹脂およびレゾール樹脂）、ポリビニルブチラール樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリレート、セルロースエーテルおよびエステル、ニトロセルロース、ならびにポリカーボネートなどのフィルム形成性ポリマーが挙げられる。好適なバインダーは、重合または架橋が起こったまたは重合または架橋が可能なモノマー、オリゴマー、またはポリマーを含むことができる。ＬＴＨＣバインダーの架橋の促進させるために、光開始剤などの添加剤を加えることができる。ある実施態様では、架橋性モノマーおよび／またはオリゴマーと任意にポリマーを使用してバインダーが最初に形成される。
【００４０】
熱可塑性樹脂（例えば、ポリマー）を混入することによって、少なくとも一部の場合にＬＴＨＣ層の性能（例えば、転写特性および／またはコーティング性）を向上させることがある。熱可塑性樹脂は、ＬＴＨＣ層の供与体基材に対する接着性を向上させうると考えられる。実施態様の１つでは、バインダーは２５〜５０重量％（重量％の計算時には溶剤は除外する）の熱可塑性樹脂、好ましくは３０〜４５重量％の熱可塑性樹脂を含むが、より少量の熱可塑性樹脂を使用することもできる（例えば、１〜１５重量％）。一般的に、熱可塑性樹脂は、バインダーの他の材料と相溶性（すなわち１相の混合物を形成する）となるように選択される。少なくとも一部の実施態様では、溶解度パラメーターが９〜１３（ｃａｌ／ｃｍ^３）^１／２の範囲、好ましくは９．５〜１２（ｃａｌ／ｃｍ^３）^１／２である熱可塑性樹脂がバインダー用に選択される。好適な熱可塑性樹脂の例としては、ポリアクリル酸樹脂、スチレン−アクリルポリマーおよび樹脂、ならびにポリビニルブチラールが挙げられる。
【００４１】
界面活性剤や分散剤などの従来のコーティング助剤を、コーティング工程を促進するために加えることができる。当技術分野で公知の種々のコーティング方法を使用して、ＬＴＨＣ層を供与体基材上にコーティングすることができる。ポリマーまたは有機ＬＴＨＣ層は、少なくとも一部の場合では０．０５μｍ〜２０μｍの厚さにコーティングされ、好ましくは０．５μｍ〜１０μｍ、より好ましくは１μｍ〜７μｍの厚さにコーティングされる。無機ＬＴＨＣ層は、少なくとも一部の場合では０．０００５〜１０μｍの範囲の厚さにコーティングされ、好ましくは０．００１〜１μｍの範囲の厚さにコーティングされる。
【００４２】
また図１を参照すると、ＬＴＨＣ層１１４と転写層１１６の間に任意に中間層１１８を配置することができる。中間層は、例えば転写層の転写部分の損傷および汚染を最小限にするために使用することができるし、転写層の転写部分の歪みを軽減するために使用することもできる。中間層 は、熱転写供与体要素の残りの部分に対する転写層の接着性にも影響しうる。一般的に、中間層は耐熱性が高い。好ましくは、中間層は、特に転写された画像が機能しないほどには画像形成条件下で歪んだり化学分解したりしない。一般的に、中間層は転写工程中にＬＴＨＣ層と接触し続け、転写層ともに転写されることは実質的にない。
【００４３】
好適な中間層としては、例えば、ポリマーフィルム、金属層（例えば蒸着金属層）、無機層（例えば、無機酸化物（例えば、シリカ、チタニア、およびその他の金属酸化物）のゾル−ゲル付着層および蒸着層）、および有機／無機複合層が挙げられる。中間層材料として好適な有機材料としては、熱硬化性材料と熱可塑性材料の両方が挙げられる。好適な熱硬化性材料としては、熱、放射線、または化学処理によって架橋しうる樹脂が挙げられ、架橋または架橋性のポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリエステル、エポキシ、およびポリウレタンが挙げられるが、これらに限定されるものではない。熱硬化性材料は、例えば熱可塑性前駆物質としてＬＴＨＣ層にコーティングされ、後に架橋して架橋中間層を形成する場合がある。
【００４４】
好適な熱可塑性材料としては、例えば、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリスチレン、ポリウレタン、ポリスルホン、ポリエステル、およびポリイミドが挙げられる。これらの熱可塑性有機材料は、従来のコーティング方法（例えば、溶剤コーティング、スプレーコーティング、または押出コーティング）によって適用することができる。一般的に、中間層への使用に好適な熱可塑性材料のガラス転移温度（Ｔ_ｇ）は２５℃以上であり、好ましくは５０℃以上であり、より好ましくは１００℃以上であり、最も好ましくは１５０℃以上である。ある実施態様では、中間層は、画像形成中に転写層が到達する温度よりも高いＴ_ｇを有する熱可塑性材料を含む。画像形成性放射線の波長で、中間層は透過性、吸収性、反射性、またはそれらのある組合せのいずれかとなりうる。
【００４５】
中間層材料として好適な無機材料としては、例えば、金属、金属酸化物、金属硫化物、および無機炭素のコーティングが挙げられ、画像形成光の波長で高い透過性または反射性がある材料が含まれる。かかる材料は、従来技術（例えば、真空スパッタリング、真空蒸着、またはプラズマジェット）によって光−熱変換層に適用することができる。
【００４６】
中間層によって多数の利点が得られる場合がある。中間層は、光−熱変換層からの材料の転写に対するバリアとなりうる。中間層によて転写層が到達する温度を調節することもでき、それによって熱的に不安定な材料を転写することができる。例えば、中間層は、ＬＴＨＣ層が到達する温度に対して中間層と転写層間の界面の温度を制御する熱拡散体として機能しうる。これによって、転写された層の品質（すなわち、表面粗さやエッジ粗さなど）が向上する場合がある。中間層が存在することによって、転写材料の塑性復元力も向上しうる。
【００４７】
中間層は、例えば、光開始剤、界面活性剤、顔料、可塑剤、およびコーティング助剤などの添加剤を含んでもよい。中間層の厚さは、例えば、中間層の材料、ＬＴＨＣ層の材料および特性、転写層の材料および特性、画像形成性放射線の波長、および熱転写要素の画像形成性放射線への曝露時間などの要因によって変動しうる。ポリマー中間層の場合、中間層の厚さは一般的に０．０５μｍ〜１０μｍの範囲内である。無機中間層（例えば、金属または金属化合物の中間層）の場合、中間層の厚さは一般的に０．００５μｍ〜１０μｍの範囲内である。
【００４８】
もう一度図１を参照すると、熱転写層１１６は、本発明の熱物質転写供与体要素に含まれる。転写層１１６は、供与体要素が直接熱に曝露するか、またはＬＴＨＣ層によって吸収されて熱に変換可能な画像形成性放射線に曝露すると、任意の好適な転写機構によって単位または部分として選択的に転写されうる、バインダーを使用するまたは使用しない１つ以上の層中に配置された任意の好適な材料を含むことができる。
【００４９】
熱物質転写供与体要素から選択的にパターン形成されうる転写層の例としては、着色剤（例えば、バインダー中に分散した顔料および／または染料）、偏光子、液晶材料、粒子（例えば、液晶ディスプレイのスペーサー、磁性粒子、絶縁粒子、導電性粒子などで、一般的にはバインダー中に分散される）、放射物質（例えば、蛍光体、有機エレクトロルミネセンス材料など）、疎水性材料（例えば、インクジェット受容体のパーティションバンク）、親水性材料、多層スタック（例えば、有機エレクトロルミネセンス素子などの多層素子構造体）、微細構造または超微細構造層、フォトレジスト、金属、ポリマー、接着剤、バインダー、酵素および他の生体材料、ならびに他の好適な材料または材料の組合せが挙げられる。これらおよびその他の転写層は、米国特許第６，１１４，０８８号、第５，９９８，０８５号、第５，７２５，９８９号、第５，７１０，０９７号、第５，６９３，４４６号、第５，６９１，０９８号、第５，６８５，９３９号、および第５，５２１，０３５号、国際公開ＷＯ９７／１５１７３号、ＷＯ９９／４６９６１号、およびＷＯ００／４１８９３号の文献に開示されている。
【００５０】
特に好適な転写層としては、電子デバイスおよびディスプレイの製造に有用な材料が挙げられる。本発明による熱物質転写は、フォトリソグラフィーを使用するパターン形成方法よりも少なく工程段階を使用して高精度および精密度で受容体上に１種類以上の材料をパターン形成することができ、これに加えてフォトリソグラフィーパターン形成に好適ではない材料（例えば、発光ポリマー）で本発明による熱物質転写を行うことができるため、ディスプレイ製造などの用途に特に有用となりうる。例えば、受容体に熱転写することによって、転写された材料が単独、または同様の方法でパターン形成可能または不可能な他の用途と組み合わせることで、カラーフィルター、ブラックマトリックス、スペーサー、バリア、パーティション、偏光子、遅延層、波長板、有機導体または半導体、無機導体または半導体、有機エレクトロルミネセンス層、蛍光層、ＯＬＥＤ、ＯＦＥＴなどの有機トランジスタ、およびディスプレイで有用となりうる他の同様の要素、素子、またはそれらの一部を形成するように、転写層を製造することができる。
【００５１】
特に好適な実施態様では、転写層は、ＯＬＥＤディスプレイなどの発光ディスプレイに有用な１種類以上の材料を含むことができる。例えば、転写層は、発光ポリマー、有機小分子発光体、有機電荷輸送材料、ならびに他の有機導電性または半導体材料を含むことができる。発光ポリマー（ＬＥＰ）の種類の例としては、ポリ（フェニレンビニレン）（ＰＰＶ）、ポリ−ｐ−フェニレン（ＰＰＰ）、ポリフルオレン（ＰＦ）、それらのコポリマー、およびこれらのＬＥＰを含有するブレンドまたはコポリマーが挙げられる。発光有機化合物の他の例としては、有機小分子発光体、分子ドープＬＥＰ、蛍光染料で分散された発光有機化合物などが挙げられる。ポリマー系放射物質の他の例としては、ポリマーマトリックス中に分散した小分子発光体が挙げられる。例えば、ＰＶＫ、ＰＶＣｚ、またはポリビニルカルバゾールとして一般に知られているポリ（９−ビニルカルバゾール）は、複合ＯＬＥＤの小分子を分散させるポリマーマトリックスとしてしばしば使用される。発光ディスプレイおよび発光装置用途での供与体シートから受容体への材料の熱転写は、米国特許第６、１１４、０８８号および第５、９９８、０８５号、ならびに国際公開００／４１８９３号に開示されている。
【００５２】
少なくとも一部の場合には、ＯＬＥＤは、カソードとアノードの間に挟まれる１種類以上の有機材料の薄い１層以上の層を有する。電子がカソードから有機層に注入され、ホールがアノードから有機層に注入される。注入された電荷が反対の電荷の電極に向かって移動すると、これらは再結合して電子−ホール対（一般的には励起子と呼ばれる）を形成する。かかる励起子、すなわち励起状態の種は、崩壊して基底状態に戻るときに光の形態のエネルギーを放出しうる（例えば、Ｔ．Ｔｓｕｔｓｕｉ、ＭＲＳ　Ｂｕｌｌｅｔｉｎ、２２、ｐｐ．３９−４５（１９９７）参照）。ＯＬＥＤに有用な材料は、Ｊ．Ｌ．Ｓｅｇｕｒａ、「Ｔｈｅ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　ｏｆ　Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ」、Ａｃｔａ　Ｐｏｌｙｍ．、４９、ｐｐ．３１９−３４４（１９９８）、およびＡ．Ｋｒａｆｔら、「Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ　Ｃｏｎｊｕｇａｔｅｄ　Ｐｏｌｙｍｅｒｓ−Ｓｅｅｉｎｇ　Ｐｏｌｙｍｅｒｓ　ｉｎ　ａ　Ｎｅｗ　Ｌｉｇｈｔ」、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．、３７、ｐｐ．４０２−４２８（１９９８）に開示されている。
【００５３】
ＯＬＥＤ構造体の例としては、電荷運搬種および／または発光種がポリマーマトリックス中に分散する分子分散ポリマー素子（Ｊ．Ｋｉｄｏ「Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ　ｄｅｖｉｃｅｓ　Ｂａｓｅｄ　ｏｎ　Ｐｏｌｙｍｅｒｉｃ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ」、Ｔｒｅｎｄｓ　ｉｎ　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ、２、ｐｐ．３５０−３５５（１９９４）参照）、ポリフェニレンビニレンなどのポリマーの層が電荷運搬種および発光種として機能する共役ポリマー素子（Ｊ．Ｊ．Ｍ．Ｈａｌｌｓら、Ｔｈｉｎ　Ｓｏｌｉｄ　Ｆｉｌｍｓ、２７６、ｐｐ．１３−２０（１９９６）参照）、蒸着小分子ヘテロ構造素子（米国特許第５，０６１，５６９号、およびＣ．Ｈ．Ｃｈｅｎら、「Ｒｅｃｅｎｔ　Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔｓ　ｉｎ　Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ」、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌａｒ　Ｓｙｍｐｏｓｉａ、１２５、ｐｐ．１−４８（１９９７）参照）、発光電気化学セル（Ｑ．Ｐｅｉら、Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．、１１８、ｐｐ．３９２２−３９２９（１９９６）参照）、および複数の波長の光を発光可能な垂直積層有機発光ダイオード（米国特許第５，７０７，７４５号、およびＺ．Ｓｈｅｎら、Ｓｃｉｅｎｃｅ、２７６、ｐｐ．２００９−２０１１（１９９７）参照）が挙げられる。
【００５４】
図１を参照すると、供与体要素１００は任意に転写補助層（図示していない）も有することができ、最も一般的には、供与体要素１１６の最外層として転写層１１６の上にコーティングされる接着剤または接着促進剤の層として提供される。このような転写補助層を本発明の活性プライマー層に加えて設けることができる。転写補助層は、特に画像形成後の受容体基材からの供与体の分離中に、転写層の完全な転写を促進する機能を果たしうる。代表的な転写補助層としては、室温での粘着性がわずかであるか粘着性がない無色透明材料が挙げられ、例えば、ＩＣＩ　Ａｃｒｙｌｉｃｓより商品名Ｅｌｖａｃｉｔｅ（例えば、Ｅｌｖａｃｉｔｅ　２７７６）で販売される種類の樹脂族などが挙げられる。転写補助層も、画像形成レーザー源または光源と同じ周波数の光を吸収する放射線吸収剤を含んでよい。転写補助層は、供与体要素上に任意に配置されるのに加えて、あるいはこれとは別に、受容体上に任意に配置されてもよい。
【００５５】
受容体基材は、特定の用途に好適な任意の品目であってよく、例えばガラス、透明フィルム、反射フィルム、金属、半導体、種々の紙、およびプラスチックを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。例えば、受容体基材は、ディスプレイ用途に好適な任意の種類の基板またはディスプレイ要素であってよい。液晶ディスプレイや発光ディスプレイなどのディスプレイへの使用に好適な受容体基材としては、可視光を実質的に透過する剛性または可撓性の基材が挙げられる。好適な剛性受容体の例としては、酸化インジウムスズのコーティングまたはパターン形成、および／または低温ポリシリコン（ＬＴＰＳ）または有機トランジスタを含む他のトランジスタ構造の回路形成が行われたガラスおよび剛性プラスチックが挙げられる。好適な可撓性基材としては、実質的に透明で透過性のポリマーフィルム、反射フィルム、半透過フィルム、偏光フィルム、多層光学フィルムなどが挙げられる。可撓性基材は、電極材料またはトランジスタでコーティングまたはパターン形成することもできる。好適なポリマー基材としては、ポリエステル系（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリビニル樹脂（例えば、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアセタールなど）、セルロースエステル系（例えば、三酢酸セルロース、酢酸セルロース）、および支持体として使用される他の従来のポリマーフィルムが挙げられる。プラスチック基材上にＯＬＥＤを製造する場合、プラスチック基材の片面または両面上にバリアフィルムまたはコーティングを設けて、望ましくない量の水、酸素などへの曝露から有機発光素子およびその電極を保護することがしばしば望ましい。
【００５６】
電極、トランジスタ、コンデンサ、絶縁リブ、スペーサー、カラーフィルター、ブラックマトリックス、および電子ディスプレイまたは他の装置に有用な他の要素の１種類以上であらかじめ受容体基材にパターン形成することができる。
【００５７】
本発明は、特に、供与体と受容体の間に配置した活性プライマー層を使用して熱転写作業中に電子デバイスまたはその一部を形成するための材料の転写を促進することを目的としている。活性プライマーという概念は、パターン形成される電子デバイスの操作性を損なうことなく（したがって、用語「活性」が使用される）、接着性および／またはその他の転写特性を向上させる（したがって、用語「プライマー」が使用される）ように配置される材料を意味する。
【００５８】
説明のため、図２（ａ）および（ｂ）は、受容体２２０上への転写層２１６の選択的熱転写を示しており、この場合活性プライマー層２２２は転写層２１６と受容体２２０の間に配置されている。一般性を損なうものではないが、図２（ａ）および（ｂ）は、有機エレクトロルミネセンス材料、特に発光ポリマーを転写してＯＬＥＤを形成することに関して説明している。しかし、図示される概念は他の電子デバイスまたはその一部のパターン形成に適用可能であることを理解されたい。図２（ａ）では、レーザービーム２３０は、基材２１０、ＬＴＨＣ層２１２、中間層２１４、および転写層２１６を有する供与体シートに入射する。この場合、転写層２１６は発光ポリマーを含む。供与体は、受容体２２０上に配置された活性プライマー層２２２と接触する。実施では、活性プライマー層は、供与体シートの転写層上、受容体上、またはその両方にコーティングすることができる。また、活性プライマー層は供与体または受容体の上に１つの連続層を形成するようにコーティングすることができるし、供与体または受容体の上で活性プライマー層をパターン形成することもできる。活性プライマー層は、フォトリソグラフィー、スクリーン印刷、選択的熱転写、マスクによる付着などの任意の好適な技術によってパターン形成することができる。パターン形成された活性プライマー層を使用する場合、転写層が選択的に熱転写される受容体の領域上のみに、直接活性プライマーをパターン形成することが望ましいことがある。
【００５９】
本発明の活性プライマーでパターン形成された受容体上に異なる種類の材料が熱転写される場合、転写される材料の種類ごとに異なる活性プライマーを選択してパターン形成することが望ましいことがある。例えば、フルカラーＯＬＥＤディスプレイを製造する場合、赤色発光、青色発光、および緑色発光有機材料を、別々の供与体要素から受容体上に隣接するストライプでパターン形成することができる。転写される放射物質の種類ごとに特定的に配合した活性プライマーで、あらかじめ受容体にパターン形成することができる。例えば、転写される各放射物質の活性プライマーのバインダーは同じものであるが、活性プライマー中の活性材料は転写される各発光素子の性能に応じて異なる種類が特定的に選択されてもよい。
【００６０】
活性プライマー層２２２は、バインダーまたはマトリックス材料中に分散した活性材料、またはポリマーやポリマーブレンドと共有結合した活性材料を有する。活性材料は、その電子的性質が素子の操作性を維持するように選択される点において活性である。例えば、活性材料としては、電荷移動体、発光体、および／または導体として機能しうる電子活性分子、オリゴマー、またはポリマーを挙げることができる。代表的活性材料としては、ＯＬＥＤの発光体、ドーパント、および電荷輸送または電荷注入層材料として使用される有機小分子材料が挙げられる。活性材料の選択は、素子の種類、素子の構成、および素子の材料に依存しうる。バインダー材料または官能化可能なポリマーは、選択的熱転写中に転写層材料と受容体の間の接着性を向上させるように選択することができる。かかる材料としては、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）やポリスチレンなどの比較的不活性（例えば、不活性）のポリマー、ポリアニリンやポリチオフェンなどの導電性ポリマー、および／またはポリ−ｐ−フェニレンビニレン（ＰＰＶ）またはポリフルオレン（ＰＦ）などの共役（そして多くの場合は発光）ポリマーを挙げることができる。
【００６１】
本発明の活性プライマー中の活性材料として有用となりうる放射物質（ｅｍｉｔｔｅｒ　ｍａｔｅｒｉａｌｓ）の例としては、４，４’−ビス（２，２−ジフェニルエテン−１−イル）ビフェニル、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−（２，２−ジフェニルエテン−１−イル）フェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（フェニル）ベンジジン、およびペンタフェニルシクロペンタジエンが挙げられる。本発明の活性プライマー中の活性材料として有用となりうるドーパントの例としては、Ｎ，Ｎ’−ジメチルキナクリドン、４−（ジシアノメチレン）−２−メチル−６−（ジュロリジン−４−イル−ビニル）−４Ｈ−ピラン、および３−（２−ベンゾチアゾリル）−７−（ジエチルアミノ）クマリンが挙げられる。本発明の活性プライマー中の活性材料として有用となりうる電荷輸送材料の代表例としては、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン（ＴＰＤ）、１，１−ビス（（ジ−４−トリルアミノ）フェニル）シクロヘキサン、およびＮ，Ｎ’−ビス（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジンなどのホール移動剤、ならびに３−（ビフェニル−４−イル）−４−フェニル−５−ｔ−ブチルフェニル−１，２，４−トリアゾール、２−（４−ｔ−ブチルフェニル）−５−（４−ビフェニル−４−イル）−１，３，４−オキサジアゾール、およびトリス（８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウムなどの電子移動剤が挙げられる。
【００６２】
本発明の活性プライマー用の官能化可能なポリマーとして有用となりうるペンダント活性基を有するポリマーの例としては、ポリ（４−（ｍ−トリルフェニルアミノ−４’−（ｍ−トリル−ｐ−ビニルフェニルアミノ）ビフェニル）、ポリ（４−ビニルトリフェニルアミン）、ポリ（ビニルカルバゾール）、およびスチレンなどのモノマーとこれらとのコポリマーが挙げられる。
【００６３】
図２（ａ）では、レーザービーム２３０がＬＴＨＣ層の領域２３２を加熱する。供与体の選択的加熱によって、転写層の一部２３４が受容体２２０に熱転写される。活性プライマー層２２２は、転写層の一部２３４の受容体２２０への接着性を向上させることができ、そのため、供与体シートが受容体から取り外されたときに、転写層の一部２３４は受容体上に残留し、意図する転写パターンと十分に適合する。図２（ｂ）に示されるように、複数の部分を同一または別々の供与体シートから転写して、同じ受容体２２０上に異なる転写部分２３６を形成させることができる。図２には示されていないが、受容体２２０は、他の層、素子、素子の一部、あるいはトランジスタアレイなどの別のパターン、パターン形成されたまたはされていないアノード、パターン形成されたまたはされていない電荷輸送材料、パターン形成されたまたはされていない絶縁リブ、パターン形成されたまたはされていないバッファ層、パターン形成されたまたはされていないカラーフィルター、パターン形成されたまたはされていない偏光子、ブラックマトリックス、電子バスラインなどを有することができる。
【００６４】
発光材料の転写後に、他の素子層の付着および／またはパターン形成が可能である。かかる他の素子層としては、電荷輸送材料、カソード層などを挙げることができる。ある素子層を転写した後で、共通カソードを付着させる前に絶縁リブをパターン形成して、隣接する素子を電気的に絶縁することもできる。かかる他の層のパターン形成は、フォトリソグラフィー、熱転写、マスクを通した付着などの任意の好適な方法によって行うことができる。ＯＬＥＤの場合、パターン形成された素子が影響を受けうる環境中で水、酸素、およびその他の要素に対するバリアを形成する１つ以上の層で完成素子をコーティングすることによって、素子を封入することが望ましいことが多い。
【００６５】
実施例
以下の実施例で、ＯＬＥＤの形成のための発光ポリマーの熱転写における活性プライマー層の使用について説明する。
【００６６】
実施例１：活性プライマー層を有する受容体の調製
活性プライマー層を有する受容体基材を以下の方法で調製した。
【００６７】
酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）のストライプの付いた基材に、ポリ（３、４−エチレンジオキシチオフェン）／ポリ（スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＴ／ＰＳＳ）の脱イオン水溶液からなるバッファ溶液（水対ＰＥＤＴ／ＰＳＳの重量比７０：３０）を２０００ｒｐｍでスピンコーティングした。ＰＥＤＴ／ＰＳＳバッファ材料は、Ｂａｙｅｒ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎより商品名Ｂａｙｔｒｏｎ　Ｐ　４０８３で市販されるＰＥＤＴ／ＰＳＳであった。ＰＥＤＴ／ＰＳＳをコーティングした基材を、空気中においてホットプレート上で１１０℃に５分間加熱した。このＰＥＤＴ／ＰＳＳコーティングは、パターン形成されたＯＬＥＤ（実施例４参照）のホール注入バッファ層として機能した。次にＰＥＤＴ／ＰＳＳコーティングの上に活性プライマー層をコーティングした。この活性プライマー層は、ビス（３−メチルフェニル）Ｎ、Ｎ’−ジメチルベンジジン（ＴＰＤ）のポリスチレン分散液（１：１）であった。ＴＰＤは、Ａｌｄｒｉｃｈ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｍｉｌｗａｕｋｅｅ、ＷＩ）より入手した。使用したポリスチレンは分子量が５０、０００であり、Ｐｏｌｙｓｃｉｅｎｃｅｓ（Ｗａｒｒｉｎｇｔｏｎ、ＰＡ）より入手した。この活性プライマーを、１．５％（重量体積比）のトルエン溶液としてＰＥＤＴ／ＰＳＳ層上にスピンコーティングした。
【００６８】
実施例２：供与体シートの調製
発光ポリマー転写層を有する熱転写供与体シートを以下の方法で調製した。
【００６９】
表Ｉに示されるＬＴＨＣ溶液を、厚さ０．１ｍｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム基材上にコーティングした。コーティングは、Ｙａｓｕｉ　Ｓｅｉｋｉ　Ｌａｂ　Ｃｏａｔｅｒ、Ｍｏｄｅｌ　ＣＡＧ−１５０を使用し、直線１インチ当たり１５０のらせん型セルを有するマイクログラビアロールを使用して行った。得られたＬＴＨＣコーティングを８０℃でインライン乾燥して、紫外線（ＵＶ）下で硬化させた。
【００７０】
【表１】

【００７１】
次に、、直線１インチ当たり１８０のらせん型セルを有するマイクログラビアロールを有するＹａｓｕｉ　Ｓｅｉｋｉ　Ｌａｂ　Ｃｏａｔｅｒ、Ｍｏｄｅｌ　ＣＡＧ−１５０を使用した回転グラビアコーティング法によって、硬化したＬＴＨＣ層上に中間層（表ＩＩに示される処方）をコーティングした。このコーティングを６０℃でインライン乾燥して、ＵＶ硬化させた。
【００７２】
【表２】

【００７３】
次に、ＰＰＶ発光ポリマーを、０．５％（重量体積比）のトルエン溶液として、硬化した中間層コーティング上にスピンコーティングした。このＰＰＶは、Ｃｏｖｉｏｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒｓ　ＧｍｂＨ（Ｆｒａｎｋｆｕｒｔ、ドイツ）より市販される名称ＣＯＶＩＯＮ　ＰＤＹ　１３２であった。
【００７４】
実施例３：活性プライマー受容体上へのＰＰＶの熱画像形成
以下の方法で、活性プライマー層を有する受容体上に発光ポリマーをあるパターンで熱転写した。
【００７５】
実施例２で調製した供与体シートを、実施例１で調製した受容体基材と接触させた。受容体をくぼみのある真空枠に固定し、供与体シートは受容体と接触するように置き、減圧することでその位置に固定した。供与体の転写層（ＰＰＶ発光ポリマー）は受容体の活性プライマー層と接触した状態となった。次に、２台のシングルモードＮｄ：ＹＡＧレーザーを使用して供与体に画像形成した。ほぼテレセントリックの配置の一部としてｆ−θスキャンレンズを使用して画像平面上に二つのレーザービームの焦点が合うようにして、リニアガルバノメーター装置を使用してスキャニングを実施した。レーザーのエネルギー密度は０．５５Ｊ／ｃｍ^２であった。強度１／ｅ^２で測定したレーザーのスポットサイズは３０μｍ×３５０μｍであった。レーザースポットの線速度は、画像平面で測定して１０〜３０ｍ／秒の間となるように調節した。レーザースポットは主移動方向に対して垂直方向に振幅約１００μｍで振動させた。転写層を受容体上に線として転写し、それらの線の意図する幅は約９０μｍであった。
【００７６】
ＰＰＶ転写層は、受容体基材のＩＴＯストライプと一致して重なる一連の線として転写した。各方向で数ｃｍ測定した場合に、パターン形成されたＰＰＶの線は均一であり基材全体で欠陥がないことが観察された。
【００７７】
実施例４：ＯＬＥＤの調製
以下の方法でＯＬＥＤを調製した。
【００７８】
実施例３で調製した受容体上にパターン形成されたＰＰＶ線の上とそれぞれの線の間に絶縁リブのストライプパターンを形成した。供与体要素から実施例３で調製した受容体に絶縁性高充填熱硬化ポリマー配合物をレーザー誘発熱で画像形成することによって、絶縁リブのパターン形成を行った。転写された絶縁リブは高さ約１．６μｍであり、ＰＰＶ線の両側に約１０μｍずつ重なった。次に、絶縁リブおよびＰＰＶストライプの上に厚さ４００Åのカルシウムコーティングを蒸着させた。続いて、このカルシウムコーティングの上に厚さ４０００Åのアルミニウムコーティングを蒸着させた。このカルシウム／アルミニウム構造は、ＯＬＥＤの二重層カソードとして機能した。絶縁リブは、ＯＬＥＤ素子間の電気的絶縁を維持する。これによって、ガラス受容体上にパターン形成された一連のＯＬＥＤが得られ、各ＯＬＥＤは、ＩＴＯアノード、ＰＥＤＴ／ＰＳＳバッファ層、ホール移動層および転写補助層として機能する活性プライマー層、発光ポリマー層、およびＯＬＥＤの間に位置する絶縁リブによって絶縁された共通二重層カソードを有した。アノードとカソードの間にバイアス電圧を印加すると、パターン形成された各ＯＬＥＤから明るいエレクトロルミネセンスが観察された。
【００７９】
本発明は、上述の特定の実施例に限定されるものと見なすべきではなく、むしろ添付の請求項に明確に記載される本発明のすべての態様を網羅するものと理解されたい。本発明が適用可能な種々の変更、同等の方法、ならびに多数の構造は本明細書を検討することによって、本発明の意図する当業者には容易に明らかとなるであろう。
【図面の簡単な説明】
【図１】
供与体シートの概略断面図である。
【図２（ａ）】
供与体と受容体との間にある本発明の活性プライマーを使用した、供与体シートの画像の受容体への熱転写の概略断面図である。
【図２（ｂ）】
活性プライマー層を有する受容体上に熱転写された１つ以上の転写層の一部の概略断面図である。

Claims (22)

1. 電子デバイスの層のパターン形成方法であって、
   受容体基材と熱転写供与体との間に活性プライマーを配置する工程と、
   前記電子デバイスの材料成分を含む転写層の一部を前記供与体から前記受容体に選択的に熱転写して、前記電子デバイスの少なくとも一部を形成する工程と、を含み、
   前記活性プライマーはバインダー中に分散した電子活性材料を含み、前記バインダーは前記転写層の前記受容体への選択的熱転写を促進するように選択され、前記電子活性材料は前記電子デバイスの操作性が維持されるように選択される方法。
2. 受容体上に複数の有機エレクトロルミネセンス素子をパターン形成する方法であって、
   表面に配置された複数のアノードを含む受容体を提供する工程と、
   ベース基材と転写層とを含み、前記転写層が有機エレクトロルミネセンス材料を含む熱転写供与体要素を提供する工程と、
   前記受容体基材の表面に配置された前記アノードと、前記供与体要素の前記転写層との間に活性プライマーを配置する工程であって、前記活性プライマーはバインダー中に分散した電子活性材料を含み、前記バインダーは前記転写層の前記受容体への熱転写を促進するように選択される工程と、
   前記供与体要素から前記受容体に前記転写層を選択的に熱転写して、前記受容体上に有機エレクトロルミネセンス材料のパターンを形成する工程と、
   前記有機エレクトロルミネセンス材料の前記パターン上にカソード材料を付着させて、前記受容体上に複数の有機エレクトロルミネセンス素子を形成する工程と、を含み、前記素子のそれぞれは、前記アノードの中の１つ、前記活性プライマーの一部、前記有機エレクトロルミネセンス材料の一部、および前記カソードの一部をこの順序で含む方法。
3. ベース基材と、
   供与体要素から選択的に熱転写されて、電子デバイスの少なくとも一部を形成することができる熱転写層と、
   前記供与体要素の最外層として前記熱転写層上に配置された活性プライマーと、
   を含む熱転写供与体要素であって、前記活性プライマーはバインダー中に分散した電子活性材料を含み、前記バインダーは前記転写層の受容体への選択的熱転写を促進するように選択され、前記電子活性材料は前記電子デバイスの操作性が維持されるように選択される、熱転写供与体要素。
4. 前記電子デバイスが有機エレクトロルミネセンス素子である、請求項１に記載の方法。
5. 前記転写層が有機エレクトロルミネセンス材料を含む、請求項１に記載の方法または請求項３に記載の供与体要素。
6. 前記有機エレクトロルミネセンス材料が発光ポリマーを含む、請求項２に記載の方法、あるいは請求項５に記載の方法または供与体要素。
7. 前記有機エレクトロルミネセンス材料が小分子発光体を含む、請求項６に記載の方法または供与体要素。
8. 前記供与体と前記受容体との間に前記活性プライマーを配置する工程が、前記受容体上に前記活性プライマーを配置して、前記供与体の前記転写層を前記受容体上の前記活性プライマーと近接させる工程を含む、請求項１または２に記載の方法。
9. 前記供与体と前記受容体との間に前記活性プライマーを配置する工程が、前記供与体の前記転写層上に前記活性プライマーを配置して、前記供与体を前記受容体と近接させる工程を含む、請求項１または２に記載の方法。
10. 前記供与体と前記受容体との間に前記活性プライマーを配置する工程が、前記受容体上に前記活性プライマーをパターン形成する工程を含む、請求項１または２に記載の方法。
11. 前記活性プライマーの前記電子活性材料が導電性材料を含む、請求項１ま
    たは２に記載の方法、あるいは請求項３に記載の供与体要素。
12. 前記活性プライマーの前記電子活性材料が電荷輸送材料を含む、請求項１または２に記載の方法、あるいは請求項３に記載の供与体要素。
13. 前記活性プライマーの前記電子活性材料がホール輸送材料を含む、請求項１または２に記載の方法、あるいは請求項３に記載の供与体要素。
14. 前記活性プライマーの前記電子活性材料が発光材料を含む、請求項１または２に記載の方法、あるいは請求項３に記載の供与体要素。
15. 前記活性プライマーの前記バインダーが不活性ポリマーを含む、請求項１または２に記載の方法、あるいは請求項３に記載の供与体要素。
16. 前記活性プライマーの前記バインダーが導電性ポリマーを含む、請求項１または２に記載の方法、あるいは請求項３に記載の供与体要素。
17. 前記活性プライマーの前記バインダーが共役ポリマーを含む、請求項１または２に記載の方法、あるいは請求項３に記載の供与体要素。
18. 前記受容体が、前記アノード上にコーティングされたバッファ材料をさらに含む、請求項２に記載の方法。
19. 前記カソード材料を付着させる工程が、共通カソードを付着させる工程を含む、請求項２に記載の方法。
20. 前記共通カソードの付着時に隣接する有機エレクトロルミネセンス素子が電気的に絶縁されるようにするため、前記共通カソードを付着させる工程の前であって、前記転写層を選択的熱転写する工程の後に、複数の絶縁体をパターン形成する工程をさらに含む、請求項１９に記載の方法。
21. 前記ベース基材と前記熱転写層との間に光−熱変換層をさらに有する、請求項３に記載の供与体要素。
22. 前記光−熱変換層と前記転写層との間に配置された中間層をさらに有する、請求項２１に記載の供与体要素。