JP2004507438A - 液晶性トリフルオロ置換化合物 - Google Patents
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Abstract
広範囲の液晶表示装置で使用される下記式(式I)の化合物が提供され、式中、nは0、1または2であることができ;A1、A2、A3は独立に、1,4−ジ置換ベンゼン、2,5−ジ置換ピリジン、2,6−ジ置換ナフタレン;側方置換された1,4−ジ置換ベンゼン、側方置換された2,5−ジ置換ピリミジン、側方置換された2,5−ジ置換ピリジン、側方置換された2,6−ジ置換ナフタレンであって、前記側方置換基が独立にF、Cl、BrまたはCNから選択され、使用可能ないかなる置換位置に存在していても良いもの;1,4−ジ置換ビシクロ(2.2.2)オクタン、トランス−1,4−ジ置換シクロヘキサン、トランス−2,5−ジ置換ジオキサン、1,4−ジ置換ピペリジンから選択され;Z1、Z2は独立に、直接結合、COO、OOC、C2H4、CH2O、OCH2、C4H8、C3H6O、(E)−CH=CHC2H4、(Z)−CH2CH=CHCH2、(E)−CH=CHCH2O、−C≡C−から選択され;Z3はC4H8、OC3H6、(E)−CH=CHC2H4、(Z)−CH2CH=CHCH2、(E)−OCH2CH=CH、−C≡C−、C2H4であることができ;Rはアルキル、アルコキシ、アルケニル、アルケニルオキシ、アルカノイルオキシ、アルケノイルオキシまたはOCmF2m+1であることができ;Rは1〜20個の炭素原子を有することができ、分岐または直鎖であることができ;mは1〜20である。
Description
【0001】
(技術分野)
本発明は新規化合物について説明するものである。詳細には本発明は、液晶混合物で使用される化合物および液晶ディスプレイ(LCD)で使用される化合物あるいは特にネマチック液晶またはキラルネマチック液晶混合物を利用するサーモグラフィーに関する利用分野で使用される化合物について説明するものである。
【0002】
(背景技術)
コンピュータモニター、ラップトップもしくはノート型コンピュータ、携帯電話、ビデオ電話、携帯情報端末などに向けて、多重ねじれネマチックTN−LCD、超ねじれネマチックSTN−LCD、超複屈折SBE−LCD、電気制御複屈折ECB−LCDまたはフレキソエレクトリック(flexoelectric)LCDなどのLCDが現在使用されているか開発中である。コントラスト、閾値および駆動電圧ならびに応答時間などのそのようなディスプレイの光学的、電気的および時間的性能は全く、弾性定数(k33、k22、k11)の比とセル間隙dによって決まる。STN−LCDなどの複雑な大量情報LCD用に現在市販のネマチック混合物には、シクロヘキサン環に直接結合した末端アルケニル鎖を有する(すなわち、炭素−炭素二重結合を有する)トランス−1,4−ジ置換−シクロヘキシル誘導体が組み込まれて、短い応答時間、高い多重化速度および低い駆動電圧を得る上で必要な弾性定数比を得るようになっている。そのような材料はコストが高く、1,4−ジ置換シクロヘキサン環のトランス配置が必要であることならびにそのトランス−1,4−ジ置換−シクロヘキシル中間体からの段階的な炭素−炭素二重結合合成が必要であるために合成が困難である。炭素−炭素二重結合に両方の炭素原子で置換がある場合、それはトランス(E)配置を有して、有利な弾性定数の組合せを示し、許容できる程度に高いネマチック−等方性転移温度(N−I)を有するようになっていなければならない。次に、前段階のウィティッヒ反応によって生じたシス(Z)型の異性化によってトランス配置を形成する。それらの材料は、飽和シクロヘキサン環が存在するために、示す複屈折値(Δn)が低いか中程度である。比d.ΔnがTN−LCDの光学特性を決定し、第1または第2の極小でLCDを駆動するよう固定されることから、Δnの値が低いほどセル間隙が小さくなると考えられることは明らかである。TN−LCDの応答時間tonはd2に反比例することから、セル間隙の減少はtonに大きく影響する。tonが低値であるとさらに、フレーム時間が短縮されるために色またはより強い色の濃さを使用することができる。さらに、アクティブアドレス指定用の背面板として薄膜トランジスタ(TFT)を用いるTN−LCDは、正の誘電異方性(Δε)および非常に高い抵抗(保持率(holding ratio)≧98%)を有するネマチック液晶混合物を使用することで、絶縁破壊やディスプレイ性能低下を回避する必要がある。末端シアノ基を有する標準的なネマチック液晶は、一部には配列(alignment)層および電極に存在するイオンを溶媒和する能力が原因で抵抗値を低くすることから、TN−TFT−LCDには適さないことが明らかになっている。これによって、末端トリフルオロメトキシ(DE373284A1)、ジフルオロメチル(WO90/01056)またはフッ素末端基(JP2−233626、EPA0568040A1、EPA0563981A2)および/またはいくつかの側方のフッ素置換基を有する「超フッ素化」ネマチック液晶が広く使用されるようになった。しかしながらそれによって、2環式化合物においてネマチック−等方性転移温度(N−I)が低くなる。それには3環式化合物の不均一な使用が必要となり、ネマチック混合物の粘度が高くなる。従って、正の誘電異方性、高抵抗および比較的高いN−I値の合成的に容易に製造可能なネマチック液晶が必要とされている。
【0003】
トリフルオロメチル基を有する液晶が公知であり、例えばラ・バーネイらの報告(P. Le Barney, G. Ravaux, J. C. Dubois and J. P. Pameix, Mol. Cryst. Liq. Cryst., (1985), Vol.127, pp413)およびEPA0480217に記載されている。
【0004】
含フッ素末端基を有する液晶材料は、WO98/13321、WO96/05159、WO90/13610、DE4415882およびDE4222371に記載されている。
【0005】
上記のいずれの特許出願においても通常は、単一の化合物が全ての特性において改善されていることはなく、混合した場合に所望の相および必要な特性を誘導する化合物の混合物を用いるのが普通である。
【0006】
本発明は、上記の問題の一部を克服または軽減することを目的とするものである。
【0007】
(発明の開示)
本発明によれば、下記式Iの化合物が提供される。
【0008】
【化3】
式中、
nは0、1または2であることができ;
A1、A2、A3は独立に、1,4−ジ置換ベンゼン、2,5−ジ置換ピリミジン、2,5−ジ置換ピリジン、2,6−ジ置換ナフタレン;側方置換された1,4−ジ置換ベンゼン、側方置換された2,5−ジ置換ピリミジン、側方置換された2,5−ジ置換ピリジン、側方置換された2,6−ジ置換ナフタレンであって、前記側方置換基が独立にF、Cl、BrまたはCNから選択され、使用可能ないかなる置換位置に存在していても良いもの;1,4−ジ置換ビシクロ(2.2.2)オクタン、トランス−1,4−ジ置換シクロヘキサン、トランス−2,5−ジ置換ジオキサン、1,4−ジ置換ピペリジンから選択され;
Z1、Z2は独立に、直接結合、COO、OOC、C2H4、CH2O、OCH2、C4H8、C3H6O、(E)−CH=CHC2H4、(Z)−CH2CH=CHCH2、(E)−CH=CHCH2O、−C≡C−から選択され;
Z3はC4H8、OC3H6、(E)−CH=CHC2H4、(Z)−CH2CH=CHCH2、(E)−OCH2CH=CH、−C≡C−、C2H4であることができ;
Rはアルキル、アルコキシ、アルケニル、アルケニルオキシ、アルカノイルオキシ、アルケノイルオキシまたはOCmF2m+1であることができ;Rは1〜20個の炭素原子を有することができ、分岐または直鎖であることができ;
mは1〜20である。
【0009】
(発明を実施するための最良の形態)
特に望ましい液晶特性、詳細にはネマチック相での誘電率および高抵抗、高ネマチック−等方性液転移温度および市販の原料(その一部はすでに所望の配置および位置で1以上の炭素−炭素二重結合を有していても良い)からの容易な合成からなる特性の有利な組合せに基づいて、構造的およびその他の点で好ましいものを以下に示す。
【0010】
式Iについて概略的な好ましい構造を以下に挙げる。
【0011】
【化4】
好ましくはnは0または1である。
好ましくはA1、A2、A3は、1,4−ジ置換ベンゼン、2,5−ジ置換ピリミジン、トランス−2,5−ジ置換ジオキサン、1,4−ジ置換ピペリジンまたはトランス−1,4−ジ置換シクロヘキサンであり;
好ましくはZ1、Z2は、直接結合、C2H4または−C≡C−であり;
好ましくはZ3は(E)−CH=CHC2H4または(E)−OCH2CH=CHであり;
好ましくはRはアルキル、アルコキシ、アルケニルまたはアルケニルオキシであって、1〜7個の炭素原子を有する。
【0012】
式Iについて特に好ましい構造を以下に挙げる。
【0013】
【化5】
好ましくはZ3は(E)−CH=CHC2H4または(E)−OCH2CH=CHであり;
好ましくはRはアルキル、アルコキシ、アルケニルまたはアルケニルオキシであって、1〜7個の炭素原子を有する。
【0014】
式Iの化合物は各種経路で製造することができる。代表的にはエーテルは、トリフェニルホスフィン、ジエチルアゾジカルボキシレートなどの脱水剤およびテトラヒドロフランもしくはN,N’−ジメチルホルムアミドなどの好適な溶媒存在下に、フェノール化合物とω,ω,ω−トリフルオロアルコールとのミツノブ反応(Synthesis, (1981) pp1)によって製造することができる。別法としてそれは、カリウムtert−ブトキシドなどの好適な塩基およびtert−ブチル−メチルエーテルもしくは1,2−ジメトキシエタンなどの好適な溶媒存在下に、ω,ω,ω−トリフルオロアルキルブロマイドもしくは適切なω,ω,ω−トリフルオロアルコールのトシレートを用いた2級アルカノールのアルキル化によって合成することができる(J. Mater. Chem., (1994) Vol.4, pp1673)。別法としてそれは、炭酸カリウムなどの好適な塩基およびエチルメチルケトンもしくはシクロヘキサノンなどの好適な溶媒存在下に、ウィリアムソンのエーテル合成でω,ω,ω−トリフルオロアルキルブロマイドもしくは適切なω,ω,ω−トリフルオロアルコールのトシレートを用いたフェノール化合物のアルキル化によって合成することができる。ジオキサン類は、水の共沸除去を行いながら、硫酸もしくはトルエン−4−スルホン酸などの少量の酸を触媒として、トルエンなどの好適な溶媒中にてアルデヒドと2−置換1,3−ジオールとを反応させることで製造することができる。N−アリールピペリジン類は、アセトニトリルまたはヘキサメチルホスホリックトリアミドなどの好適な溶媒中、炭酸カリウムなどの適切な塩基を用いて、4−置換ピペリジンとアリールフルオライドとを縮合させることで得ることができる(Synthesis, (1981), pp606)。(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル置換化合物は、カリウムtert−ブトキシドまたはブチルリチウムなどの適切な塩基とともにテトラヒドロフランまたはジメトキシエタンなどの好適な溶媒中で4,4,4−トリフルオロブタナールおよび適切なウィティッヒ塩(EPA0480217A2)が関与するウィティッヒ反応を用いて製造することができる。相当する5,5,5−トリフルオロペンチル置換化合物は、トルエンまたは酢酸エチルなどの適切な溶媒中、パラジウム/活性炭などの好適な触媒で水素を用いて(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル置換化合物を水素化することで製造することができる。1,2−ジ置換アセチレン類およびトラン類は、トリエチルアミンなどの適切な塩基ならびにテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)およびヨウ化銅(I)もしくは酢酸パラジウム(II)およびトリオルトトルイルホスフィン配位子類などの適切な金属に基づく触媒の存在下、アリールおよびシクロヘキシルハライド類もしくはトリフレート類とモノ置換アセチレン類との金属触媒交差カップリング反応によって製造することができる(Mol. Cryst. Liq. Cryst., (1990), Vol. 148, pp193; Mol. Cryst. Liq. Cryst., (1995), Vol. 260, pp93)。エステル類は、4−(ジメチルアミノ)ピリジン、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミドなどの脱水剤ならびに塩化メチレンもしくはN,N’−ジメチルホルムアミドなどの好適な溶媒の存在下、適切なフェノール化合物または2級アルコールをアルカン酸もしくはアルケン酸によってエステル化することで製造することができる(Angewandte Chemie (1978) Vol. 90, pp556)。別法としてそれは、ピリジンもしくはトリエチルアミンなどの塩基およびトルエンもしくは塩化メチレンなどの好適な溶媒の存在下、適切なフェノール化合物または2級アルコールをアルカン酸もしくはアルケン酸の塩化物(例えば、相当するアルカン酸もしくはアルケン酸から、塩化チオニルもしくはオキサリルクロライドの作用によって製造)によってエステル化することで合成することができる。
【0015】
以下、例示のみを目的として実施例および図面を参照しながら、本発明について説明する。
【0016】
図1は、マトリクス多重アドレス指定液晶ディスプレイの平面図である。
図2は、透過モードで使用される図1などのディスプレイの断面図である。
図3は、図2と同様であるが反射モードで動作する。
【0017】
以下の実施例において、Kは結晶状態を指し、Nはネマチック相を指し、SmAはスメクチックA相を指し、SmBはスメクチックB相を指し、SmXは不確定の結晶スメクチック相を指す。括弧[ ]内にある値は、個々の化合物および市販の(Merck, Darmstadt)ネマチック混合物ZLI3086の混合物から外挿されるネマチック−等方性転移温度である。
【0018】
実施例1:1−(4−ペンチルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼンの製造
4,4,4−トリフルオロ−1−ブロモブタン(0.19g)、4−(4−ペンチルビシクロ[2.2.2]オクチル)フェノール(0.25g)[Mol. Cryst. Liq. Cryst., (1985) Vol.129, pp301]、炭酸カリウム(0.50g)およびブタノン(40cm3)の混合物を終夜加熱還流し、濾過して無機物を除去し、溶媒留去した。残留物について、溶離液を95:5ヘキサン/酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、1−(4−ペンチルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン、K65℃、N51℃、I(0.04g)を得た。
【0019】
以下の化合物を同様にして得ることができた。
【0020】
1−(4−プロピルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(4−ヘプチルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
4−プロピル−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル、K97℃、SmB108℃、SmA116℃、I;
4−ペンチル−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル、K63℃、SmB99℃、SmA103℃、I:[N63℃、I];
4−ヘプチル−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル、K29℃、SmX40℃、SmB98℃、I:[N36℃、I];
4−プロピル−3’−フルオロ−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−ペンチル−3’−フルオロ−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−ヘプチル−3’−フルオロ−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル、K56℃、SmA52℃、I:[N−5℃、I];
1−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン、K50℃、I;
1−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン、K49℃、I:[N21℃、I];
1−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−3−フルオロ−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−3−フルオロ−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−3−フルオロ−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−[2−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−1−エチル]−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−[4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−1−ブチル]−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−[4−(E)−(4−トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−1−ブト−1−エニル]−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−[3−(E)−(4−トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−1−プロプ−2−エニルオキシ]−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(トランス−4[(E)−プロプ−1−エニル]シクロヘキシル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(トランス−4−[(E)−ペント−1−エニル]シクロヘキシル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(トランス−4−[(Z)−ペント−2−エニル]シクロヘキシル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(トランス−4−[(E)−ペント−3−エニル]シクロヘキシル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(トランス−4−[ペント−4−エニル]シクロヘキシル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
4−(4−プロピルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(4−ペンチルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル、K80℃、SmB205℃、SmA247℃;
4−(4−ヘプチルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−プロピル−4”−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)−p−テルフェニル;
4−ペンチル−4”−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)−p−テルフェニル、K203℃、SmA267℃、I;
4−ヘプチル−4”−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)−p−テルフェニル;
4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル、K54℃、SmB113℃、SmA167℃、N171℃、I;
4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−3’−フルオロ−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−3’−フルオロ−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル、K76℃、SmB119℃、SmA177℃、I;
4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−3’−フルオロ−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
1−(5−プロピルピリミジン−2−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(5−ペンチルピリミジン−2−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(5−ヘプチルピリミジン−2−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(5−プロピルピリジン−2−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(5−ペンチルピリジン−2−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(5−ヘプチルピリジン−2−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
4−(5−プロピルピリミジン−2−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(5−ペンチルピリミジン−2−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(5−ヘプチルピリミジン−2−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(5−プロピルピリジン−2−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(5−ペンチルピリジン−2−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(5−ヘプチルピリジン−2−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル。
【0021】
実施例2:1−(4−ペンチルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼンの製造
トルエン−4−スルホン酸(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニル(0.7g)、4−(4−ペンチルビシクロ[2.2.2]オクチル)フェノール(0.5g)、炭酸カリウム(1.1g)およびブタノン(40cm3)の混合物を終夜加熱還流し、濾過して無機物を除去し、溶媒留去した。残留物について、溶離液を95:5ヘキサン/酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、1−(4−ペンチルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン、K68℃、N42℃、I(0.05g)を得た。
【0022】
原料として必要なトルエン−4−スルホン酸(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルは、以下のようにして製造することができた。
【0023】
トルエン−4−スルホニルクロライド(11.4g)の塩化メチレン(10cm3)溶液を、(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エン−1−オール(0.40g)、ピリジン(6.3g)および塩化メチレン(40cm3)の溶液に0℃でゆつくりと加えた。反応混合物を0℃で24時間撹拌し、希塩酸(50cm3で2回)、水(50cm3で2回)および希炭酸ナトリウム溶液(50cm3で2回)で洗浄し、脱水し(MgSO4)、濾過し、溶媒留去して、所望のトシル酸エステル5.4gを得た。それはそれ以上精製しなかった。
【0024】
以下の化合物を同様にして得ることができた。
【0025】
1−(4−プロピルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
1−(4−ヘプチルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
4−プロピル−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル、K<25℃、SmX106℃、SmB136℃、I;
4−ペンチル−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル、K66℃、SmX116℃、SmB123℃、I:[N53℃、I];
4−ヘプチル−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル、K<25℃、SmX107℃、SmB117℃、I:[N48℃、I];
4−プロピル−3’−フルオロ−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−ペンチル−3’−フルオロ−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−ヘプチル−3’−フルオロ−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル、K64℃、SmB60℃、SmA63℃、I:[N20℃、I];
1−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン、K50℃、I;
1−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン、K41℃、I:[N15℃、I];
1−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−3−フルオロ−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
1−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−3−フルオロ−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
1−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−3−フルオロ−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
4−(4−プロピルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(4−ペンチルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル、K111℃、SmA169℃、N235℃;
4−(4−ヘプチルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−プロピル−4”−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]−p−テルフェニル;
4−ペンチル−4”−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]−p−テルフェニル、K239℃、SmB245℃、SmA270℃、I;
4−ヘプチル−4”−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]−p−テルフェニル;
4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル、K91℃、SmB167℃、N269℃、I;
4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−3’−フルオロ−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−3’−フルオロ−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル、K94℃、SmB110℃、SmA161、I;
4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−3’−フルオロ−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
1−(5−プロピルピリミジン−2−イル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
1−(5−ペンチルピリミジン−2−イル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
1−(5−ヘプチルピリミジン−2−イル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
1−(5−プロピルピリジン−2−イル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
1−(5−ペンチルピリジン−2−イル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
1−(5−ヘプチルピリジン−2−イル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
4−(5−プロピルピリミジン−2−イル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(5−ペンチルピリミジン−2−イル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(5−ヘプチルピリミジン−2−イル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(5−プロピルピリジン−2−イル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(5−ペンチルピリジン−2−イル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(5−ヘプチルピリジン−2−イル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル。
【0026】
実施例3:1−(4−プロピルピペリド−1−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼンの製造
4−プロピルピペリジン(0.7g)、1−フルオロ−4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]ベンゼン(0.5g)、炭酸カリウム(1.1g)、アリクアット(Aliquat)333(4滴)およびアセトニトリル(40cm3)の混合物を90℃で終夜加熱し、水(500cm3)に投入する。有機層を分液し、水層を酢酸エチルで抽出する(100cm3で4回)。合わせた有機層をブラインで洗浄し(200cm3で2回)、脱水し(MgSO4)、濾過および溶媒留去を行った。残留物について、溶離液を95:5ヘキサン/酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、1−(4−プロピルピペリド−1−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン0.6gを得る。
【0027】
原料として必要な1−フルオロ−4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]ベンゼンは以下のようにして製造することができた。
【0028】
4,4,4−トリフルオロブチルブロマイド(0.7g)、4−フルオロフェノール(1.0g)、炭酸カリウム(1.1g)およびブタノン(40cm3)の混合物を終夜加熱還流し、濾過して無機物を除去し、溶媒留去を行う。残留物について、溶離液を95:5ヘキサン/酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行って、1−フルオロ−4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]ベンゼン0.8gを得る。
【0029】
以下の化合物を同様にして得ることができた。
【0030】
1−(4−ブチルピペリド−1−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(4−ペンチルピペリド−1−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(4−ヘキシルピペリド−1−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(4−ヘプチルピペリド−1−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(4−オクチルピペリド−1−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
4−(4−プロピルピペリド−1−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(4−ブチルピペリド−1−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(4−ペンチルピペリド−1−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(4−ヘキシルピペリド−1−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(4−ヘプチルピペリド−1−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(4−オクチルピペリド−1−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
1−(4−プロピルピペリド−1−イル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
1−(4−ブチルピペリド−1−イル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
1−(4−ペンチルピペリド−1−イル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
1−(4−ヘキシルピペリド−1−イル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
1−(4−ヘプチルピペリド−1−イル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
1−(4−オクチルピペリド−1−イル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
4−(4−プロピルピペリド−1−イル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(4−ブチルピペリド−1−イル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(4−ペンチルピペリド−1−イル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(4−ヘキシルピペリド−1−イル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(4−ヘプチルピペリド−1−イル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(4−オクチルピペリド−1−イル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル。
【0031】
実施例4:1−(トランス−5−プロピルジオキサン−2−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼンの製造
1,3−ジヒドロキシ−2−プロピルプロパン(0.3g)、4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]ベンズアルデヒド(0.5g)、トルエン−4−スルホン酸(0.1g)およびトルエン(40cm3)の混合物を、水が共沸しなくなるまで加熱還流し、溶媒を留去する。残留物について、溶離液を95:5ヘキサン/酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、1−(トランス−5−プロピルジオキサン−2−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン0.3gを得る。
【0032】
原料として必要な4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]ベンズアルデヒドは以下のようにして製造することができた。
【0033】
4,4,4−トリフルオロブチルブロマイド(0.7g)、4−ヒドロキシベンズアルデヒド(0.5g)、炭酸カリウム(1.1g)およびブタノン(40cm3)の混合物を終夜加熱還流し、濾過して無機物を除去し、溶媒留去を行う。残留物について、溶離液を95:5ヘキサン/酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]ベンズアルデヒド0.6gを得る。
【0034】
以下の化合物を同様にして得ることができた。
【0035】
1−(トランス−5−ブチルジオキサン−2−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(トランス−5−ペンチルジオキサン−2−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(トランス−5−ヘキシルジオキサン−2−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(トランス−5−ヘプチルジオキサン−2−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(トランス−5−オクチルジオキサン−2−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
4−(トランス−5−プロピルジオキサン−2−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(トランス−5−ブチルジオキサン−2−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(トランス−5−ペンチルジオキサン−2−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(トランス−5−ヘキシルジオキサン−2−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(トランス−5−ヘプチルジオキサン−2−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(トランス−5−オクチルジオキサン−2−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル。
【0036】
実施例5:トランス−1−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]シクロヘキサンの製造
4,4,4−トリフルオロブタナール(1.0g)、4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)フェニル)メチルホスホニウムブロマイド(3.1g)およびテトラヒドロフラン(100cm3)の混合物に、カリウムtert−ブチレート(2.9g)の混合物を0℃で滴下する。反応液をさらに室温で2時間撹拌し、水(500cm3)に投入する。有機層を分液し、水層をジエチルエーテル抽出する(100cm3で4回)。合わせた有機層をブラインで洗浄し(200cm3で2回)、脱水し(MgSO4)、濾過し、溶媒留去する。トランス−1−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4−[(E/Z)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]シクロヘキサンの粗異性体混合物をエタノール(50cm3)、水(1cm3)および製造したばかりのベンゼンスルフィン酸(2g)の混合物に溶かし、65℃で48時間加熱し、水(500cm3)に投入する。有機層を分液し、水層をジエチルエーテル抽出する(100cm3で4回)。合わせた有機層をブラインで洗浄し(200cm3で2回)、脱水し(MgSO4)、濾過し、溶媒留去する。残留物について、溶離液を95:5ヘキサン/酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、トランス−1−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]シクロヘキサン1.3gを得る。
【0037】
原料として必要な4,4,4−トリフルオロブタナールは次のようにして製造することができた。
【0038】
4,4,4−トリフルオロブタノール(10g)の塩化メチレン(20cm3)溶液を、クロロギ酸ピリジン(15g)および塩化メチレン(100cm3)の懸濁液に室温で滴下する。反応混合物を室温で2時間撹拌し、ジエチルエーテル(50cm3)を加える。反応混合物をさらに15分間撹拌してから有機層を傾斜法によって除去し、残留物をエーテルで洗浄する。合わせた有機層をブラインで洗浄し(100cm3で2回)、脱水し(MgSO4)、濾過し、溶媒留去して、4,4,4−トリフルオロブタナール(6.2g)を得る。それをそれ以上精製せずに使用する。
【0039】
以下の化合物を同様にして得ることができた。
【0040】
トランス−1−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]シクロヘキサン;
トランス−1−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]シクロヘキサン;
トランス−1−(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル)4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]シクロヘキサン;
トランス−1−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]シクロヘキサン;
トランス−1−(トランス−4−オクチルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]シクロヘキサン;
1−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]ベンゼン;
1−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]ベンゼン;
1−(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]ベンゼン;
1−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]ベンゼン;
1−(トランス−4−オクチルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]ベンゼン;
4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4’−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]ビフェニル;
4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]ビフェニル;
4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]ビフェニル;
4−(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]ビフェニル;
4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]ビフェニル;
4−(トランス−4−オクチルシクロヘキシル)−4’−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]ビフェニル。
【0041】
実施例6:1−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)ベンゼンの製造
1−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]ベンゼン(1.0g)、10%パラジウム/活性炭(0.2g)およびトルエン(20cm3)の混合物を、水素吸収が終了するまで水素化する。無機物を濾去し、濾液を溶媒留去する。残留物について、溶離液を95:5ヘキサン/酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、1−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)ベンゼン0.7gを得る。
【0042】
以下の化合物を同様にして得ることができた。
【0043】
1−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)ベンゼン;
1−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)ベンゼン;
1−(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)ベンゼン;
1−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)ベンゼン;
1−(トランス−4−オクチルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)ベンゼン;
4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4’−(5,5,5−トリフルオロペンチル)ビフェニル;
4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)ビフェニル;
4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4’−(5,5,5−トリフルオロペンチル)ビフェニル;
4−(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−4’−(5,5,5−トリフルオロペンチル)ビフェニル;
4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)ビフェニル;
4−(トランス−4−オクチルシクロヘキシル)−4’−(5,5,5−トリフルオロペンチル)ビフェニル;
トランス−1−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)シクロヘキサン;
トランス−1−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)シクロヘキサン;
トランス−1−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)シクロヘキサン;
トランス−1−(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)シクロヘキサン;
トランス−1−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)シクロヘキサン;
トランス−1−(トランス−4−オクチルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)シクロヘキサン。
【0044】
実施例7:1−(4−テトラデシルフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレンの製造
1−ヨード−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]ベンゼン(0.50g)、4−テトラデシルフェニルアセチレン(0.65g)、ヨウ化銅(I)(0.01g)およびトリエチルアミン(20cm3)の混合物を90℃で終夜加熱し、水(500cm3)に投入し、ジエチルエーテルで抽出する(100cm3で4回)。合わせた有機層をブラインで洗浄し(200cm3で2回)、脱水し(MgSO4)、濾過し、溶媒留去する。残留物について、溶離液を95:5ヘキサン/酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、1−(4−テトラデシルフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン0.7gを得る。
【0045】
以下の化合物を同様にして得ることができた。
【0046】
1−(4−プロピルフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン、K106℃、I:[N83℃、I];
1−(4−ブチルフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−ペンチルフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン、K98℃、SmX86℃、I:[N85℃、I];
1−(4−ヘキシルフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−ヘプチルフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン、K76℃、SmX91℃、I:[N85℃、I];
1−(4−オクチルフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−ノニルフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−デシルフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−プロピルフェニル)−2−(4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]フェニル)アセチレン、K130℃、I:[67℃];
1−(4−ブチルフェニル)−2−(4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−ペンチルフェニル)−2−(4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]フェニル)アセチレン、K106℃、SmB120℃、I:[N74℃、I];
1−(4−ヘキシルフェニル)−2−(4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−ヘプチルフェニル)−2−(4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]フェニル)アセチレン、K87℃、SmB121℃、I:[N76℃、I];
1−(4−オクチルフェニル)−2−(4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−ノニルフェニル)−2−(4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−デシルフェニル)−2−(4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−プロピルフェニル)−2−(4−[5,5,5−トリフルオロペンチル]フェニル)アセチレン;
1−(4−ブチルフェニル)−2−(4−[5,5,5−トリフルオロペンチル]フェニル)アセチレン;
1−(4−ペンチルフェニル)−2−(4−[5,5,5−トリフルオロペンチル]フェニル)アセチレン;
1−(4−ヘキシルフェニル)−2−(4−[5,5,5−トリフルオロペンチル]フェニル)アセチレン;
1−(4−ヘプチルフェニル)−2−(4−[5,5,5−トリフルオロペンチル]フェニル)アセチレン;
1−(4−オクチルフェニル)−2−(4−[5,5,5−トリフルオロペンチル]フェニル)アセチレン;
1−(4−ノニルフェニル)−2−(4−[5,5,5−トリフルオロペンチル]フェニル)アセチレン;
1−(4−デシルフェニル)−2−(4−[5,5,5−トリフルオロペンチル]フェニル)アセチレン;
1−(4−ペンチルフェニル)−2−(3,5−ジフルオロ−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−ペンチルフェニル)−2−(3−フルオロ4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(2−フルオロ−4−ペンチルフェニル)−2−(3−フルオロ−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(2,6−ジフルオロ−4−ペンチルフェニル)−2−(3−フルオロ−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−ペンチルフェニル)−2−(3,5−ジフルオロ−4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−ペンチルフェニル)−2−(3−フルオロ−4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(2−フルオロ−4−ペンチルフェニル)−2−(3−フルオロ−4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(2,6−ジフルオロ−4−ペンチルフェニル)−2−(3−フルオロ−4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン。
【0047】
実施例8:1−(4−[(E)−ヘキス−2−エノイルオキシ]フェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレンの製造
(E)−2−ヘキセン酸(0.10g)、1−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン(0.32g)、4−(ジメチルアミノ)ピリジン(0.04g)の塩化メチレン(20cm3)溶液に、窒素雰囲気下で氷浴(0℃)で冷却しながらN,N−ジシクロヘキシルカルボジイミド(0.22g)の塩化メチレン(10cm3)溶液を加える。反応混合物を終夜撹拌し、濾過して沈殿物を除去し、濾液を減圧下に溶媒留去する。粗生成物について、溶離液を9:1石油エーテル(40〜60℃)/酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、次にエタノールからの再結晶を行って、1−(4−[(E)−ヘキス−2−エノイルオキシ]フェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン(0.26g)を得る。
【0048】
原料として必要な1−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレンは次のようにして製造することができた。
【0049】
ナトリウムエトキシド(0.7g)、1,2−ジ(4−ヒドロキシフェニル)アセチレン(0.5g)およびトルエン(40cm3)の混合物を2時間撹拌し、4,4,4−トリフルオロブチルブロマイド(0.7g)を加え、得られる混合物を3時間加熱還流する。反応混合物を水(500cm3)に投入し、有機層を分液する。水層をトルエンで抽出する(50cm3で2回)。合わせた有機層を水で洗浄し(200cm3で2回)、脱水し(MgSO4)、濾過し、溶媒留去する。残留物について、溶離液を95:5ヘキサン/酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、1−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン0.3gを得る。
【0050】
以下の化合物を同様にして得ることができた。
【0051】
1−(4−[(E)−ブト−2−エノイルオキシ]フェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−[(E)−ペント−2−エノイルオキシ]フェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−[(E)−ヘプト−2−エノイルオキシ]フェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−[(E)−オクト−2−エノイルオキシ]フェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−アセトキシフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−プロパノイルオキシフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−ブタノイルオキシフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−ペンタノイルオキシフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−ヘキサノイルオキシフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−ヘプタノイルオキシフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−オクタノイルオキシフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン。
【0052】
実施例9:1−(4−[トランス−4−ペンチルシクロヘキシル]フェニル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピル)アセチレンの製造
1−ヨード−3,3,3−トリフルオロプロパン(0.50g)、(4−[トランス−4−ペンチルシクロヘキシル]フェニル)アセチレン(0.65g)、ヨウ化銅(I)(0.01g)およびトリエチルアミン(20cm3)の混合物を90℃で終夜加熱し、水(500cm3)に投入し、ジエチルエーテルで抽出する(100cm3で4回)。合わせた有機層をブラインで洗浄し(200cm3で2回)、脱水し(MgSO4)、濾過し、溶媒留去する。残留物について、溶離液を95:5ヘキサン/酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、1−(4−[トランス−4−ペンチルシクロヘキシル]フェニル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピル)アセチレン0.7gを得る。
【0053】
以下の化合物を同様にして得ることができた。
【0054】
1−(4−[トランス−4−プロピルシクロヘキシル]フェニル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピル)アセチレン;
1−(4−[トランス−4−ブチルシクロヘキシル]フェニル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピル)アセチレン;
1−(4−[トランス−4−ペンチルシクロヘキシル]フェニル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピル)アセチレン;
1−(4−[トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル]フェニル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピル)アセチレン;
1−(4−[トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル]フェニル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピル)アセチレン;
1−(トランス−4−[トランス−4−プロピルシクロヘキシル]シクロヘキシル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピル)アセチレン;
1−(トランス−4−[トランス−4−ブチルシクロヘキシル]シクロヘキシル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピル)アセチレン;
1−(トランス−4−[トランス−4−ペンチルシクロヘキシル]シクロヘキシル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピル)アセチレン;
1−(トランス−4−[トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル]シクロヘキシル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピル)アセチレン;
1−(トランス−4−[トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル]シクロヘキシル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピル)アセチレン。
【0055】
本発明によって記載の化合物の一部について、アルキルシクロヘキシル−COO−フェニルORとアルキルシクロヘキシルフェニルCNの混合物であるホスト混合物DOP−017中で調べた。
【0056】
その化合物を個別にホスト中に10%ドープし、透明点を測定した。化合物の構造および混合物の相挙動を表1に詳細に示してある。比較のため化合物WD30を示してある。
【0057】
【表1】
【0058】
誘電率および弾性定数を測定し、表2に示した。
【0059】
【表2】
【0060】
混合物の複屈折率および屈折率を測定し、結果を比較のためのDOP−017とともに表3に示した。
【0061】
【表3】
【0062】
本発明の材料を組み入れることができる一つの公知の機器は、スライドガラス間にネマチック材料の薄層を用いるねじれネマチック(TN)装置である。スライドガラスは一方向にラビング処理し、ラビング方向が直交するように組み立てる。ラビングによって、液晶分子に対して表面配列が与えられて、層を横切る方向に漸進的に90°のねじれが生じる。光学軸がラビング方向に対して垂直または平行となるように偏光子間に置くと、装置はそれのOFF状態では偏光面を回転させ、ON状態では回転させずに透過させる。少量のコレステリック材料をネマチック材料に加えることで、英国特許1472247号および1478592号に記載のように、90°ねじれが装置の全面積にわたって同様となるようにすることができる。
【0063】
大きく複雑なネマチックLCDの性能における改善が1982に行われたが、その際には、180°〜270°の範囲のねじれ角を有するネマチックLC層の透過の電圧依存性が無限に急峻になり得ることが認められている(C. M. Waters, V. Brimmell and E. P. Raynes, Proc. 3rd Int. Display Res. Conf., Kobe, Japan, 1983, 396参照)。表面配列と少量のキラルねじれ剤(twisting agent)添加によるネマチック混合物の長ピッチコレステリック混合物への変化とを組み合わせることで、さらに大きいねじれ角が得られる。ねじれ角を大きくすると、それが270°ねじれについて双安定性となるまで透過/電圧曲線が急峻となる。225°〜270°の特定のねじれ角の場合、曲線は無限に急峻となり、多重化に好適である。ねじれ角が大きくなったことで、そのLCDについては高次ねじれネマチック(STN)と称されるようになった。
【0064】
STNの使用について記載の液晶装置は、特許出願GB8218821および米国特許4596446号などの結果的に授与された特許にある。
【0065】
SID M6/1−37第1巻セミナー講義ノート(1998年5月)には、本発明の材料を組み込むことができるアクティブおよびパッシブの両方のSTNが記載されている。
【0066】
パッシブマトリクスおよびアクティブマトリクス液晶装置としては、2種類の装置が一般に知られている。
【0067】
図1および2のディスプレイは、ガラス壁3、4間に封じ込まれた,コレステリック液晶材料層2によって形成された液晶セル1を有する。スペーサーリング5が、これらの壁を代表的には6μm離れた状態に維持している。パッシブマトリクス装置の場合、例えばSnO2のストライプ状の行電極61〜6mを一方の壁3上に形成し、同様の列電極71〜7nを他方の壁4上に形成する。m−行電極とn−列電極により、これはm×n行列のアドレス可能素子を形成する。各素子は、列と行の電極の相互作用によって形成される。アクティブマトリクス装置の場合、トランジスターまたはダイオードのような別個の非線形装置が各画素に関係する。
【0068】
パッシブマトリクス装置の場合、列ドライバーが各列電極6に電圧を供給する。同様に、行ドライブ9が各行電極7に電圧を供給する。印加電圧の制御は、電圧源11からの電力とクロック12からのタイミングを受信する制御ロジック10からのものである。
【0069】
薄膜トランジスターアクティブマトリクス液晶装置(TFT AMLCD)などのアクティブ装置の場合、画素電極、走査電極および信号電極という3種類の電極が存在し、さらには液晶の反対側には共通電極がある。制御電極は、信号電極上の電圧が関連する画素電極に印加されるようにゲートの動作を行う。
【0070】
以下、本発明を具体化する材料および装置の使用例について図2を参照しながら説明する。
【0071】
液晶装置は、例えばガラス製である2枚の透明プレート3および4からなり、アクティブマトリクス装置の場合にはそれらはアルミノケイ酸塩(アルカリを含まない)ガラス製であるのが普通であり、多くの場合SiO2のパッシベーション層を有する。アクティブマトリクスディスプレイの場合、薄膜トランジスタなどのアクティブ装置を製造し、フルカラーディスプレイの場合にはカラーフィルター層を加える。これらのプレートは、内側面に透明導電性電極6および7がコーティングしてあり、それは多くの場合、フォトリソグラフィー法を用いてパターニングされたITOである。配列層をセルの内側表面に組み入れることで、液晶材料を構成する分子の面配向がガラスプレート3および4に対してほぼ平行となる。これは、ガラスプレート3、4を導電性電極で完全にコーティングすることで行われる。各列・行電極間の交差部がアドレス可能素子または画素のx,y行列を形成する。一部の種類のディスプレイの場合、配列方向は直交している。セルを構築する前に、配列層を布(例:ベルベット製)で覆ったローラーで所定方向にラビングし、そのラビング方向はセル構築時に平行に配置する(同一または反対方向)。例えばポリメタクリル酸メチル製のスペーサー5によって、ガラスプレート3および4を好適な距離、例えば2〜7μm、好ましくは4〜6μmだけ離す。ガラスプレート3、4間に、プレート間の空隙を充填することで液晶材料2を導入する。これは、標準的な方法を用いてセルを流動充填(flow filling)することで行うことができる。スペーサー5を、既存の方法を用いて減圧下に接着剤で封止する。偏光子13をセルの前後に配置することができる。
【0072】
ラビング、斜方蒸着(oblique evaporation)などの1以上の標準的な表面処理法によって、あるいは前述のようにポリマー配列層を用いることで、1以上のセル上に配列層を設けることができる。
【0073】
別の実施態様において、上に配列層を有する基板について加熱・剪断を行うか、別法として配列層を有する基板を、電場印加との併用でガラス転移温度より高く、液晶から等方相転移を起こす温度より低く熱的にアニールする。これらの併用の中には、配列層が必要ないものもある。さらには、本発明によって記載のパッシブおよびアクティブの両方の装置において、いわゆる非接触配列層を用いることもできる。
【0074】
前記装置は透過モードまたは反射モードで動作することができる。前者では、例えばタングステン電球から装置を通る光を選択的に透過または遮断することで、所望の表示を形成する。反射モードでは、鏡または拡散反射器(16)が第2の偏光子13の背後に配置されていることで、セルおよび2個の偏光子から周囲光を反射する。鏡を部分的に反射させることで装置は、透過および反射の両方のモードで動作させることができる。
【0075】
配列層には2つの機能があり、一方の機能は接触する液晶分子を好ましい方向に配列するというものであり、他方の機能はその分子に対して数度、代表的には4°または5°程度の傾斜、いわゆる表面傾斜を与えるというものである。配列層は、セル壁上に数滴のポリイミドを乗せ、均一な厚さが得られるまで壁を回転させることで形成することができる。次に、所定の時間にわたり所定の温度まで加熱することでポリイミドを硬化させ、続いてナイロン布で覆ったローラーを用いて一方向ラビングを行う。別の実施態様では、1個の偏光子と染料材料を組み合わせることができる。本発明の材料は、例えば薄膜トランジスタなどのアクティブアドレスマトリクスを有するLCD(TFT−LCD)またはデュアル走査STNなどのパッシブアドレスマトリクスを有するLCDで用いることもできる。SID M3/1−52第1巻セミナー講義ノート(1998年5月)には、本発明の材料を組み込むことができる代表的なAMLCDが記載されている。
【図面の簡単な説明】
【図1】
マトリクス多重アドレス指定液晶ディスプレイの平面図である。
【図2】
透過モードで使用される図1などのディスプレイの断面図である。
【図3】
図2と同様のディスプレイであって、反射モードで動作するものの断面図である。
(技術分野)
本発明は新規化合物について説明するものである。詳細には本発明は、液晶混合物で使用される化合物および液晶ディスプレイ(LCD)で使用される化合物あるいは特にネマチック液晶またはキラルネマチック液晶混合物を利用するサーモグラフィーに関する利用分野で使用される化合物について説明するものである。
【0002】
(背景技術)
コンピュータモニター、ラップトップもしくはノート型コンピュータ、携帯電話、ビデオ電話、携帯情報端末などに向けて、多重ねじれネマチックTN−LCD、超ねじれネマチックSTN−LCD、超複屈折SBE−LCD、電気制御複屈折ECB−LCDまたはフレキソエレクトリック(flexoelectric)LCDなどのLCDが現在使用されているか開発中である。コントラスト、閾値および駆動電圧ならびに応答時間などのそのようなディスプレイの光学的、電気的および時間的性能は全く、弾性定数(k33、k22、k11)の比とセル間隙dによって決まる。STN−LCDなどの複雑な大量情報LCD用に現在市販のネマチック混合物には、シクロヘキサン環に直接結合した末端アルケニル鎖を有する(すなわち、炭素−炭素二重結合を有する)トランス−1,4−ジ置換−シクロヘキシル誘導体が組み込まれて、短い応答時間、高い多重化速度および低い駆動電圧を得る上で必要な弾性定数比を得るようになっている。そのような材料はコストが高く、1,4−ジ置換シクロヘキサン環のトランス配置が必要であることならびにそのトランス−1,4−ジ置換−シクロヘキシル中間体からの段階的な炭素−炭素二重結合合成が必要であるために合成が困難である。炭素−炭素二重結合に両方の炭素原子で置換がある場合、それはトランス(E)配置を有して、有利な弾性定数の組合せを示し、許容できる程度に高いネマチック−等方性転移温度(N−I)を有するようになっていなければならない。次に、前段階のウィティッヒ反応によって生じたシス(Z)型の異性化によってトランス配置を形成する。それらの材料は、飽和シクロヘキサン環が存在するために、示す複屈折値(Δn)が低いか中程度である。比d.ΔnがTN−LCDの光学特性を決定し、第1または第2の極小でLCDを駆動するよう固定されることから、Δnの値が低いほどセル間隙が小さくなると考えられることは明らかである。TN−LCDの応答時間tonはd2に反比例することから、セル間隙の減少はtonに大きく影響する。tonが低値であるとさらに、フレーム時間が短縮されるために色またはより強い色の濃さを使用することができる。さらに、アクティブアドレス指定用の背面板として薄膜トランジスタ(TFT)を用いるTN−LCDは、正の誘電異方性(Δε)および非常に高い抵抗(保持率(holding ratio)≧98%)を有するネマチック液晶混合物を使用することで、絶縁破壊やディスプレイ性能低下を回避する必要がある。末端シアノ基を有する標準的なネマチック液晶は、一部には配列(alignment)層および電極に存在するイオンを溶媒和する能力が原因で抵抗値を低くすることから、TN−TFT−LCDには適さないことが明らかになっている。これによって、末端トリフルオロメトキシ(DE373284A1)、ジフルオロメチル(WO90/01056)またはフッ素末端基(JP2−233626、EPA0568040A1、EPA0563981A2)および/またはいくつかの側方のフッ素置換基を有する「超フッ素化」ネマチック液晶が広く使用されるようになった。しかしながらそれによって、2環式化合物においてネマチック−等方性転移温度(N−I)が低くなる。それには3環式化合物の不均一な使用が必要となり、ネマチック混合物の粘度が高くなる。従って、正の誘電異方性、高抵抗および比較的高いN−I値の合成的に容易に製造可能なネマチック液晶が必要とされている。
【0003】
トリフルオロメチル基を有する液晶が公知であり、例えばラ・バーネイらの報告(P. Le Barney, G. Ravaux, J. C. Dubois and J. P. Pameix, Mol. Cryst. Liq. Cryst., (1985), Vol.127, pp413)およびEPA0480217に記載されている。
【0004】
含フッ素末端基を有する液晶材料は、WO98/13321、WO96/05159、WO90/13610、DE4415882およびDE4222371に記載されている。
【0005】
上記のいずれの特許出願においても通常は、単一の化合物が全ての特性において改善されていることはなく、混合した場合に所望の相および必要な特性を誘導する化合物の混合物を用いるのが普通である。
【0006】
本発明は、上記の問題の一部を克服または軽減することを目的とするものである。
【0007】
(発明の開示)
本発明によれば、下記式Iの化合物が提供される。
【0008】
【化3】
式中、
nは0、1または2であることができ;
A1、A2、A3は独立に、1,4−ジ置換ベンゼン、2,5−ジ置換ピリミジン、2,5−ジ置換ピリジン、2,6−ジ置換ナフタレン;側方置換された1,4−ジ置換ベンゼン、側方置換された2,5−ジ置換ピリミジン、側方置換された2,5−ジ置換ピリジン、側方置換された2,6−ジ置換ナフタレンであって、前記側方置換基が独立にF、Cl、BrまたはCNから選択され、使用可能ないかなる置換位置に存在していても良いもの;1,4−ジ置換ビシクロ(2.2.2)オクタン、トランス−1,4−ジ置換シクロヘキサン、トランス−2,5−ジ置換ジオキサン、1,4−ジ置換ピペリジンから選択され;
Z1、Z2は独立に、直接結合、COO、OOC、C2H4、CH2O、OCH2、C4H8、C3H6O、(E)−CH=CHC2H4、(Z)−CH2CH=CHCH2、(E)−CH=CHCH2O、−C≡C−から選択され;
Z3はC4H8、OC3H6、(E)−CH=CHC2H4、(Z)−CH2CH=CHCH2、(E)−OCH2CH=CH、−C≡C−、C2H4であることができ;
Rはアルキル、アルコキシ、アルケニル、アルケニルオキシ、アルカノイルオキシ、アルケノイルオキシまたはOCmF2m+1であることができ;Rは1〜20個の炭素原子を有することができ、分岐または直鎖であることができ;
mは1〜20である。
【0009】
(発明を実施するための最良の形態)
特に望ましい液晶特性、詳細にはネマチック相での誘電率および高抵抗、高ネマチック−等方性液転移温度および市販の原料(その一部はすでに所望の配置および位置で1以上の炭素−炭素二重結合を有していても良い)からの容易な合成からなる特性の有利な組合せに基づいて、構造的およびその他の点で好ましいものを以下に示す。
【0010】
式Iについて概略的な好ましい構造を以下に挙げる。
【0011】
【化4】
好ましくはnは0または1である。
好ましくはA1、A2、A3は、1,4−ジ置換ベンゼン、2,5−ジ置換ピリミジン、トランス−2,5−ジ置換ジオキサン、1,4−ジ置換ピペリジンまたはトランス−1,4−ジ置換シクロヘキサンであり;
好ましくはZ1、Z2は、直接結合、C2H4または−C≡C−であり;
好ましくはZ3は(E)−CH=CHC2H4または(E)−OCH2CH=CHであり;
好ましくはRはアルキル、アルコキシ、アルケニルまたはアルケニルオキシであって、1〜7個の炭素原子を有する。
【0012】
式Iについて特に好ましい構造を以下に挙げる。
【0013】
【化5】
好ましくはZ3は(E)−CH=CHC2H4または(E)−OCH2CH=CHであり;
好ましくはRはアルキル、アルコキシ、アルケニルまたはアルケニルオキシであって、1〜7個の炭素原子を有する。
【0014】
式Iの化合物は各種経路で製造することができる。代表的にはエーテルは、トリフェニルホスフィン、ジエチルアゾジカルボキシレートなどの脱水剤およびテトラヒドロフランもしくはN,N’−ジメチルホルムアミドなどの好適な溶媒存在下に、フェノール化合物とω,ω,ω−トリフルオロアルコールとのミツノブ反応(Synthesis, (1981) pp1)によって製造することができる。別法としてそれは、カリウムtert−ブトキシドなどの好適な塩基およびtert−ブチル−メチルエーテルもしくは1,2−ジメトキシエタンなどの好適な溶媒存在下に、ω,ω,ω−トリフルオロアルキルブロマイドもしくは適切なω,ω,ω−トリフルオロアルコールのトシレートを用いた2級アルカノールのアルキル化によって合成することができる(J. Mater. Chem., (1994) Vol.4, pp1673)。別法としてそれは、炭酸カリウムなどの好適な塩基およびエチルメチルケトンもしくはシクロヘキサノンなどの好適な溶媒存在下に、ウィリアムソンのエーテル合成でω,ω,ω−トリフルオロアルキルブロマイドもしくは適切なω,ω,ω−トリフルオロアルコールのトシレートを用いたフェノール化合物のアルキル化によって合成することができる。ジオキサン類は、水の共沸除去を行いながら、硫酸もしくはトルエン−4−スルホン酸などの少量の酸を触媒として、トルエンなどの好適な溶媒中にてアルデヒドと2−置換1,3−ジオールとを反応させることで製造することができる。N−アリールピペリジン類は、アセトニトリルまたはヘキサメチルホスホリックトリアミドなどの好適な溶媒中、炭酸カリウムなどの適切な塩基を用いて、4−置換ピペリジンとアリールフルオライドとを縮合させることで得ることができる(Synthesis, (1981), pp606)。(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル置換化合物は、カリウムtert−ブトキシドまたはブチルリチウムなどの適切な塩基とともにテトラヒドロフランまたはジメトキシエタンなどの好適な溶媒中で4,4,4−トリフルオロブタナールおよび適切なウィティッヒ塩(EPA0480217A2)が関与するウィティッヒ反応を用いて製造することができる。相当する5,5,5−トリフルオロペンチル置換化合物は、トルエンまたは酢酸エチルなどの適切な溶媒中、パラジウム/活性炭などの好適な触媒で水素を用いて(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル置換化合物を水素化することで製造することができる。1,2−ジ置換アセチレン類およびトラン類は、トリエチルアミンなどの適切な塩基ならびにテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)およびヨウ化銅(I)もしくは酢酸パラジウム(II)およびトリオルトトルイルホスフィン配位子類などの適切な金属に基づく触媒の存在下、アリールおよびシクロヘキシルハライド類もしくはトリフレート類とモノ置換アセチレン類との金属触媒交差カップリング反応によって製造することができる(Mol. Cryst. Liq. Cryst., (1990), Vol. 148, pp193; Mol. Cryst. Liq. Cryst., (1995), Vol. 260, pp93)。エステル類は、4−(ジメチルアミノ)ピリジン、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミドなどの脱水剤ならびに塩化メチレンもしくはN,N’−ジメチルホルムアミドなどの好適な溶媒の存在下、適切なフェノール化合物または2級アルコールをアルカン酸もしくはアルケン酸によってエステル化することで製造することができる(Angewandte Chemie (1978) Vol. 90, pp556)。別法としてそれは、ピリジンもしくはトリエチルアミンなどの塩基およびトルエンもしくは塩化メチレンなどの好適な溶媒の存在下、適切なフェノール化合物または2級アルコールをアルカン酸もしくはアルケン酸の塩化物(例えば、相当するアルカン酸もしくはアルケン酸から、塩化チオニルもしくはオキサリルクロライドの作用によって製造)によってエステル化することで合成することができる。
【0015】
以下、例示のみを目的として実施例および図面を参照しながら、本発明について説明する。
【0016】
図1は、マトリクス多重アドレス指定液晶ディスプレイの平面図である。
図2は、透過モードで使用される図1などのディスプレイの断面図である。
図3は、図2と同様であるが反射モードで動作する。
【0017】
以下の実施例において、Kは結晶状態を指し、Nはネマチック相を指し、SmAはスメクチックA相を指し、SmBはスメクチックB相を指し、SmXは不確定の結晶スメクチック相を指す。括弧[ ]内にある値は、個々の化合物および市販の(Merck, Darmstadt)ネマチック混合物ZLI3086の混合物から外挿されるネマチック−等方性転移温度である。
【0018】
実施例1:1−(4−ペンチルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼンの製造
4,4,4−トリフルオロ−1−ブロモブタン(0.19g)、4−(4−ペンチルビシクロ[2.2.2]オクチル)フェノール(0.25g)[Mol. Cryst. Liq. Cryst., (1985) Vol.129, pp301]、炭酸カリウム(0.50g)およびブタノン(40cm3)の混合物を終夜加熱還流し、濾過して無機物を除去し、溶媒留去した。残留物について、溶離液を95:5ヘキサン/酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、1−(4−ペンチルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン、K65℃、N51℃、I(0.04g)を得た。
【0019】
以下の化合物を同様にして得ることができた。
【0020】
1−(4−プロピルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(4−ヘプチルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
4−プロピル−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル、K97℃、SmB108℃、SmA116℃、I;
4−ペンチル−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル、K63℃、SmB99℃、SmA103℃、I:[N63℃、I];
4−ヘプチル−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル、K29℃、SmX40℃、SmB98℃、I:[N36℃、I];
4−プロピル−3’−フルオロ−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−ペンチル−3’−フルオロ−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−ヘプチル−3’−フルオロ−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル、K56℃、SmA52℃、I:[N−5℃、I];
1−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン、K50℃、I;
1−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン、K49℃、I:[N21℃、I];
1−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−3−フルオロ−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−3−フルオロ−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−3−フルオロ−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−[2−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−1−エチル]−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−[4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−1−ブチル]−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−[4−(E)−(4−トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−1−ブト−1−エニル]−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−[3−(E)−(4−トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−1−プロプ−2−エニルオキシ]−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(トランス−4[(E)−プロプ−1−エニル]シクロヘキシル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(トランス−4−[(E)−ペント−1−エニル]シクロヘキシル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(トランス−4−[(Z)−ペント−2−エニル]シクロヘキシル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(トランス−4−[(E)−ペント−3−エニル]シクロヘキシル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(トランス−4−[ペント−4−エニル]シクロヘキシル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
4−(4−プロピルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(4−ペンチルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル、K80℃、SmB205℃、SmA247℃;
4−(4−ヘプチルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−プロピル−4”−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)−p−テルフェニル;
4−ペンチル−4”−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)−p−テルフェニル、K203℃、SmA267℃、I;
4−ヘプチル−4”−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)−p−テルフェニル;
4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル、K54℃、SmB113℃、SmA167℃、N171℃、I;
4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−3’−フルオロ−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−3’−フルオロ−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル、K76℃、SmB119℃、SmA177℃、I;
4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−3’−フルオロ−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
1−(5−プロピルピリミジン−2−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(5−ペンチルピリミジン−2−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(5−ヘプチルピリミジン−2−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(5−プロピルピリジン−2−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(5−ペンチルピリジン−2−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(5−ヘプチルピリジン−2−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
4−(5−プロピルピリミジン−2−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(5−ペンチルピリミジン−2−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(5−ヘプチルピリミジン−2−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(5−プロピルピリジン−2−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(5−ペンチルピリジン−2−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(5−ヘプチルピリジン−2−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル。
【0021】
実施例2:1−(4−ペンチルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼンの製造
トルエン−4−スルホン酸(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニル(0.7g)、4−(4−ペンチルビシクロ[2.2.2]オクチル)フェノール(0.5g)、炭酸カリウム(1.1g)およびブタノン(40cm3)の混合物を終夜加熱還流し、濾過して無機物を除去し、溶媒留去した。残留物について、溶離液を95:5ヘキサン/酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、1−(4−ペンチルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン、K68℃、N42℃、I(0.05g)を得た。
【0022】
原料として必要なトルエン−4−スルホン酸(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルは、以下のようにして製造することができた。
【0023】
トルエン−4−スルホニルクロライド(11.4g)の塩化メチレン(10cm3)溶液を、(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エン−1−オール(0.40g)、ピリジン(6.3g)および塩化メチレン(40cm3)の溶液に0℃でゆつくりと加えた。反応混合物を0℃で24時間撹拌し、希塩酸(50cm3で2回)、水(50cm3で2回)および希炭酸ナトリウム溶液(50cm3で2回)で洗浄し、脱水し(MgSO4)、濾過し、溶媒留去して、所望のトシル酸エステル5.4gを得た。それはそれ以上精製しなかった。
【0024】
以下の化合物を同様にして得ることができた。
【0025】
1−(4−プロピルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
1−(4−ヘプチルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
4−プロピル−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル、K<25℃、SmX106℃、SmB136℃、I;
4−ペンチル−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル、K66℃、SmX116℃、SmB123℃、I:[N53℃、I];
4−ヘプチル−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル、K<25℃、SmX107℃、SmB117℃、I:[N48℃、I];
4−プロピル−3’−フルオロ−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−ペンチル−3’−フルオロ−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−ヘプチル−3’−フルオロ−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル、K64℃、SmB60℃、SmA63℃、I:[N20℃、I];
1−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン、K50℃、I;
1−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン、K41℃、I:[N15℃、I];
1−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−3−フルオロ−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
1−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−3−フルオロ−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
1−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−3−フルオロ−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
4−(4−プロピルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(4−ペンチルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル、K111℃、SmA169℃、N235℃;
4−(4−ヘプチルビシクロ[2.2.2]オクチル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−プロピル−4”−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]−p−テルフェニル;
4−ペンチル−4”−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]−p−テルフェニル、K239℃、SmB245℃、SmA270℃、I;
4−ヘプチル−4”−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]−p−テルフェニル;
4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル、K91℃、SmB167℃、N269℃、I;
4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−3’−フルオロ−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−3’−フルオロ−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル、K94℃、SmB110℃、SmA161、I;
4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−3’−フルオロ−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
1−(5−プロピルピリミジン−2−イル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
1−(5−ペンチルピリミジン−2−イル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
1−(5−ヘプチルピリミジン−2−イル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
1−(5−プロピルピリジン−2−イル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
1−(5−ペンチルピリジン−2−イル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
1−(5−ヘプチルピリジン−2−イル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
4−(5−プロピルピリミジン−2−イル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(5−ペンチルピリミジン−2−イル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(5−ヘプチルピリミジン−2−イル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(5−プロピルピリジン−2−イル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(5−ペンチルピリジン−2−イル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(5−ヘプチルピリジン−2−イル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル。
【0026】
実施例3:1−(4−プロピルピペリド−1−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼンの製造
4−プロピルピペリジン(0.7g)、1−フルオロ−4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]ベンゼン(0.5g)、炭酸カリウム(1.1g)、アリクアット(Aliquat)333(4滴)およびアセトニトリル(40cm3)の混合物を90℃で終夜加熱し、水(500cm3)に投入する。有機層を分液し、水層を酢酸エチルで抽出する(100cm3で4回)。合わせた有機層をブラインで洗浄し(200cm3で2回)、脱水し(MgSO4)、濾過および溶媒留去を行った。残留物について、溶離液を95:5ヘキサン/酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、1−(4−プロピルピペリド−1−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン0.6gを得る。
【0027】
原料として必要な1−フルオロ−4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]ベンゼンは以下のようにして製造することができた。
【0028】
4,4,4−トリフルオロブチルブロマイド(0.7g)、4−フルオロフェノール(1.0g)、炭酸カリウム(1.1g)およびブタノン(40cm3)の混合物を終夜加熱還流し、濾過して無機物を除去し、溶媒留去を行う。残留物について、溶離液を95:5ヘキサン/酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行って、1−フルオロ−4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]ベンゼン0.8gを得る。
【0029】
以下の化合物を同様にして得ることができた。
【0030】
1−(4−ブチルピペリド−1−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(4−ペンチルピペリド−1−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(4−ヘキシルピペリド−1−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(4−ヘプチルピペリド−1−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(4−オクチルピペリド−1−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
4−(4−プロピルピペリド−1−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(4−ブチルピペリド−1−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(4−ペンチルピペリド−1−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(4−ヘキシルピペリド−1−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(4−ヘプチルピペリド−1−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(4−オクチルピペリド−1−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
1−(4−プロピルピペリド−1−イル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
1−(4−ブチルピペリド−1−イル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
1−(4−ペンチルピペリド−1−イル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
1−(4−ヘキシルピペリド−1−イル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
1−(4−ヘプチルピペリド−1−イル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
1−(4−オクチルピペリド−1−イル)−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ベンゼン;
4−(4−プロピルピペリド−1−イル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(4−ブチルピペリド−1−イル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(4−ペンチルピペリド−1−イル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(4−ヘキシルピペリド−1−イル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(4−ヘプチルピペリド−1−イル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル;
4−(4−オクチルピペリド−1−イル)−4’−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]ビフェニル。
【0031】
実施例4:1−(トランス−5−プロピルジオキサン−2−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼンの製造
1,3−ジヒドロキシ−2−プロピルプロパン(0.3g)、4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]ベンズアルデヒド(0.5g)、トルエン−4−スルホン酸(0.1g)およびトルエン(40cm3)の混合物を、水が共沸しなくなるまで加熱還流し、溶媒を留去する。残留物について、溶離液を95:5ヘキサン/酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、1−(トランス−5−プロピルジオキサン−2−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン0.3gを得る。
【0032】
原料として必要な4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]ベンズアルデヒドは以下のようにして製造することができた。
【0033】
4,4,4−トリフルオロブチルブロマイド(0.7g)、4−ヒドロキシベンズアルデヒド(0.5g)、炭酸カリウム(1.1g)およびブタノン(40cm3)の混合物を終夜加熱還流し、濾過して無機物を除去し、溶媒留去を行う。残留物について、溶離液を95:5ヘキサン/酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]ベンズアルデヒド0.6gを得る。
【0034】
以下の化合物を同様にして得ることができた。
【0035】
1−(トランス−5−ブチルジオキサン−2−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(トランス−5−ペンチルジオキサン−2−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(トランス−5−ヘキシルジオキサン−2−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(トランス−5−ヘプチルジオキサン−2−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
1−(トランス−5−オクチルジオキサン−2−イル)−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ベンゼン;
4−(トランス−5−プロピルジオキサン−2−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(トランス−5−ブチルジオキサン−2−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(トランス−5−ペンチルジオキサン−2−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(トランス−5−ヘキシルジオキサン−2−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(トランス−5−ヘプチルジオキサン−2−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル;
4−(トランス−5−オクチルジオキサン−2−イル)−4’−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)ビフェニル。
【0036】
実施例5:トランス−1−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]シクロヘキサンの製造
4,4,4−トリフルオロブタナール(1.0g)、4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)フェニル)メチルホスホニウムブロマイド(3.1g)およびテトラヒドロフラン(100cm3)の混合物に、カリウムtert−ブチレート(2.9g)の混合物を0℃で滴下する。反応液をさらに室温で2時間撹拌し、水(500cm3)に投入する。有機層を分液し、水層をジエチルエーテル抽出する(100cm3で4回)。合わせた有機層をブラインで洗浄し(200cm3で2回)、脱水し(MgSO4)、濾過し、溶媒留去する。トランス−1−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4−[(E/Z)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]シクロヘキサンの粗異性体混合物をエタノール(50cm3)、水(1cm3)および製造したばかりのベンゼンスルフィン酸(2g)の混合物に溶かし、65℃で48時間加熱し、水(500cm3)に投入する。有機層を分液し、水層をジエチルエーテル抽出する(100cm3で4回)。合わせた有機層をブラインで洗浄し(200cm3で2回)、脱水し(MgSO4)、濾過し、溶媒留去する。残留物について、溶離液を95:5ヘキサン/酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、トランス−1−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]シクロヘキサン1.3gを得る。
【0037】
原料として必要な4,4,4−トリフルオロブタナールは次のようにして製造することができた。
【0038】
4,4,4−トリフルオロブタノール(10g)の塩化メチレン(20cm3)溶液を、クロロギ酸ピリジン(15g)および塩化メチレン(100cm3)の懸濁液に室温で滴下する。反応混合物を室温で2時間撹拌し、ジエチルエーテル(50cm3)を加える。反応混合物をさらに15分間撹拌してから有機層を傾斜法によって除去し、残留物をエーテルで洗浄する。合わせた有機層をブラインで洗浄し(100cm3で2回)、脱水し(MgSO4)、濾過し、溶媒留去して、4,4,4−トリフルオロブタナール(6.2g)を得る。それをそれ以上精製せずに使用する。
【0039】
以下の化合物を同様にして得ることができた。
【0040】
トランス−1−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]シクロヘキサン;
トランス−1−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]シクロヘキサン;
トランス−1−(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル)4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]シクロヘキサン;
トランス−1−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]シクロヘキサン;
トランス−1−(トランス−4−オクチルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]シクロヘキサン;
1−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]ベンゼン;
1−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]ベンゼン;
1−(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]ベンゼン;
1−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]ベンゼン;
1−(トランス−4−オクチルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]ベンゼン;
4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4’−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]ビフェニル;
4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]ビフェニル;
4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]ビフェニル;
4−(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]ビフェニル;
4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]ビフェニル;
4−(トランス−4−オクチルシクロヘキシル)−4’−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]ビフェニル。
【0041】
実施例6:1−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)ベンゼンの製造
1−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4−[(E)−5,5,5−トリフルオロペント−1−エニル]ベンゼン(1.0g)、10%パラジウム/活性炭(0.2g)およびトルエン(20cm3)の混合物を、水素吸収が終了するまで水素化する。無機物を濾去し、濾液を溶媒留去する。残留物について、溶離液を95:5ヘキサン/酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、1−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)ベンゼン0.7gを得る。
【0042】
以下の化合物を同様にして得ることができた。
【0043】
1−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)ベンゼン;
1−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)ベンゼン;
1−(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)ベンゼン;
1−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)ベンゼン;
1−(トランス−4−オクチルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)ベンゼン;
4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4’−(5,5,5−トリフルオロペンチル)ビフェニル;
4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)ビフェニル;
4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4’−(5,5,5−トリフルオロペンチル)ビフェニル;
4−(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−4’−(5,5,5−トリフルオロペンチル)ビフェニル;
4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)ビフェニル;
4−(トランス−4−オクチルシクロヘキシル)−4’−(5,5,5−トリフルオロペンチル)ビフェニル;
トランス−1−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)シクロヘキサン;
トランス−1−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)シクロヘキサン;
トランス−1−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)シクロヘキサン;
トランス−1−(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)シクロヘキサン;
トランス−1−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)シクロヘキサン;
トランス−1−(トランス−4−オクチルシクロヘキシル)−4−(5,5,5−トリフルオロペンチル)シクロヘキサン。
【0044】
実施例7:1−(4−テトラデシルフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレンの製造
1−ヨード−4−(4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]ベンゼン(0.50g)、4−テトラデシルフェニルアセチレン(0.65g)、ヨウ化銅(I)(0.01g)およびトリエチルアミン(20cm3)の混合物を90℃で終夜加熱し、水(500cm3)に投入し、ジエチルエーテルで抽出する(100cm3で4回)。合わせた有機層をブラインで洗浄し(200cm3で2回)、脱水し(MgSO4)、濾過し、溶媒留去する。残留物について、溶離液を95:5ヘキサン/酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、1−(4−テトラデシルフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン0.7gを得る。
【0045】
以下の化合物を同様にして得ることができた。
【0046】
1−(4−プロピルフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン、K106℃、I:[N83℃、I];
1−(4−ブチルフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−ペンチルフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン、K98℃、SmX86℃、I:[N85℃、I];
1−(4−ヘキシルフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−ヘプチルフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン、K76℃、SmX91℃、I:[N85℃、I];
1−(4−オクチルフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−ノニルフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−デシルフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−プロピルフェニル)−2−(4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]フェニル)アセチレン、K130℃、I:[67℃];
1−(4−ブチルフェニル)−2−(4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−ペンチルフェニル)−2−(4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]フェニル)アセチレン、K106℃、SmB120℃、I:[N74℃、I];
1−(4−ヘキシルフェニル)−2−(4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−ヘプチルフェニル)−2−(4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]フェニル)アセチレン、K87℃、SmB121℃、I:[N76℃、I];
1−(4−オクチルフェニル)−2−(4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−ノニルフェニル)−2−(4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−デシルフェニル)−2−(4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−プロピルフェニル)−2−(4−[5,5,5−トリフルオロペンチル]フェニル)アセチレン;
1−(4−ブチルフェニル)−2−(4−[5,5,5−トリフルオロペンチル]フェニル)アセチレン;
1−(4−ペンチルフェニル)−2−(4−[5,5,5−トリフルオロペンチル]フェニル)アセチレン;
1−(4−ヘキシルフェニル)−2−(4−[5,5,5−トリフルオロペンチル]フェニル)アセチレン;
1−(4−ヘプチルフェニル)−2−(4−[5,5,5−トリフルオロペンチル]フェニル)アセチレン;
1−(4−オクチルフェニル)−2−(4−[5,5,5−トリフルオロペンチル]フェニル)アセチレン;
1−(4−ノニルフェニル)−2−(4−[5,5,5−トリフルオロペンチル]フェニル)アセチレン;
1−(4−デシルフェニル)−2−(4−[5,5,5−トリフルオロペンチル]フェニル)アセチレン;
1−(4−ペンチルフェニル)−2−(3,5−ジフルオロ−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−ペンチルフェニル)−2−(3−フルオロ4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(2−フルオロ−4−ペンチルフェニル)−2−(3−フルオロ−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(2,6−ジフルオロ−4−ペンチルフェニル)−2−(3−フルオロ−4−[(E)−4,4,4−トリフルオロブト−2−エニルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−ペンチルフェニル)−2−(3,5−ジフルオロ−4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−ペンチルフェニル)−2−(3−フルオロ−4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(2−フルオロ−4−ペンチルフェニル)−2−(3−フルオロ−4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(2,6−ジフルオロ−4−ペンチルフェニル)−2−(3−フルオロ−4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン。
【0047】
実施例8:1−(4−[(E)−ヘキス−2−エノイルオキシ]フェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレンの製造
(E)−2−ヘキセン酸(0.10g)、1−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン(0.32g)、4−(ジメチルアミノ)ピリジン(0.04g)の塩化メチレン(20cm3)溶液に、窒素雰囲気下で氷浴(0℃)で冷却しながらN,N−ジシクロヘキシルカルボジイミド(0.22g)の塩化メチレン(10cm3)溶液を加える。反応混合物を終夜撹拌し、濾過して沈殿物を除去し、濾液を減圧下に溶媒留去する。粗生成物について、溶離液を9:1石油エーテル(40〜60℃)/酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、次にエタノールからの再結晶を行って、1−(4−[(E)−ヘキス−2−エノイルオキシ]フェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン(0.26g)を得る。
【0048】
原料として必要な1−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレンは次のようにして製造することができた。
【0049】
ナトリウムエトキシド(0.7g)、1,2−ジ(4−ヒドロキシフェニル)アセチレン(0.5g)およびトルエン(40cm3)の混合物を2時間撹拌し、4,4,4−トリフルオロブチルブロマイド(0.7g)を加え、得られる混合物を3時間加熱還流する。反応混合物を水(500cm3)に投入し、有機層を分液する。水層をトルエンで抽出する(50cm3で2回)。合わせた有機層を水で洗浄し(200cm3で2回)、脱水し(MgSO4)、濾過し、溶媒留去する。残留物について、溶離液を95:5ヘキサン/酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、1−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン0.3gを得る。
【0050】
以下の化合物を同様にして得ることができた。
【0051】
1−(4−[(E)−ブト−2−エノイルオキシ]フェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−[(E)−ペント−2−エノイルオキシ]フェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−[(E)−ヘプト−2−エノイルオキシ]フェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−[(E)−オクト−2−エノイルオキシ]フェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−アセトキシフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−プロパノイルオキシフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−ブタノイルオキシフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−ペンタノイルオキシフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−ヘキサノイルオキシフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−ヘプタノイルオキシフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン;
1−(4−オクタノイルオキシフェニル)−2−(4−[4,4,4−トリフルオロブチルオキシ]フェニル)アセチレン。
【0052】
実施例9:1−(4−[トランス−4−ペンチルシクロヘキシル]フェニル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピル)アセチレンの製造
1−ヨード−3,3,3−トリフルオロプロパン(0.50g)、(4−[トランス−4−ペンチルシクロヘキシル]フェニル)アセチレン(0.65g)、ヨウ化銅(I)(0.01g)およびトリエチルアミン(20cm3)の混合物を90℃で終夜加熱し、水(500cm3)に投入し、ジエチルエーテルで抽出する(100cm3で4回)。合わせた有機層をブラインで洗浄し(200cm3で2回)、脱水し(MgSO4)、濾過し、溶媒留去する。残留物について、溶離液を95:5ヘキサン/酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、1−(4−[トランス−4−ペンチルシクロヘキシル]フェニル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピル)アセチレン0.7gを得る。
【0053】
以下の化合物を同様にして得ることができた。
【0054】
1−(4−[トランス−4−プロピルシクロヘキシル]フェニル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピル)アセチレン;
1−(4−[トランス−4−ブチルシクロヘキシル]フェニル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピル)アセチレン;
1−(4−[トランス−4−ペンチルシクロヘキシル]フェニル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピル)アセチレン;
1−(4−[トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル]フェニル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピル)アセチレン;
1−(4−[トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル]フェニル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピル)アセチレン;
1−(トランス−4−[トランス−4−プロピルシクロヘキシル]シクロヘキシル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピル)アセチレン;
1−(トランス−4−[トランス−4−ブチルシクロヘキシル]シクロヘキシル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピル)アセチレン;
1−(トランス−4−[トランス−4−ペンチルシクロヘキシル]シクロヘキシル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピル)アセチレン;
1−(トランス−4−[トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル]シクロヘキシル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピル)アセチレン;
1−(トランス−4−[トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル]シクロヘキシル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピル)アセチレン。
【0055】
本発明によって記載の化合物の一部について、アルキルシクロヘキシル−COO−フェニルORとアルキルシクロヘキシルフェニルCNの混合物であるホスト混合物DOP−017中で調べた。
【0056】
その化合物を個別にホスト中に10%ドープし、透明点を測定した。化合物の構造および混合物の相挙動を表1に詳細に示してある。比較のため化合物WD30を示してある。
【0057】
【表1】
【0058】
誘電率および弾性定数を測定し、表2に示した。
【0059】
【表2】
【0060】
混合物の複屈折率および屈折率を測定し、結果を比較のためのDOP−017とともに表3に示した。
【0061】
【表3】
【0062】
本発明の材料を組み入れることができる一つの公知の機器は、スライドガラス間にネマチック材料の薄層を用いるねじれネマチック(TN)装置である。スライドガラスは一方向にラビング処理し、ラビング方向が直交するように組み立てる。ラビングによって、液晶分子に対して表面配列が与えられて、層を横切る方向に漸進的に90°のねじれが生じる。光学軸がラビング方向に対して垂直または平行となるように偏光子間に置くと、装置はそれのOFF状態では偏光面を回転させ、ON状態では回転させずに透過させる。少量のコレステリック材料をネマチック材料に加えることで、英国特許1472247号および1478592号に記載のように、90°ねじれが装置の全面積にわたって同様となるようにすることができる。
【0063】
大きく複雑なネマチックLCDの性能における改善が1982に行われたが、その際には、180°〜270°の範囲のねじれ角を有するネマチックLC層の透過の電圧依存性が無限に急峻になり得ることが認められている(C. M. Waters, V. Brimmell and E. P. Raynes, Proc. 3rd Int. Display Res. Conf., Kobe, Japan, 1983, 396参照)。表面配列と少量のキラルねじれ剤(twisting agent)添加によるネマチック混合物の長ピッチコレステリック混合物への変化とを組み合わせることで、さらに大きいねじれ角が得られる。ねじれ角を大きくすると、それが270°ねじれについて双安定性となるまで透過/電圧曲線が急峻となる。225°〜270°の特定のねじれ角の場合、曲線は無限に急峻となり、多重化に好適である。ねじれ角が大きくなったことで、そのLCDについては高次ねじれネマチック(STN)と称されるようになった。
【0064】
STNの使用について記載の液晶装置は、特許出願GB8218821および米国特許4596446号などの結果的に授与された特許にある。
【0065】
SID M6/1−37第1巻セミナー講義ノート(1998年5月)には、本発明の材料を組み込むことができるアクティブおよびパッシブの両方のSTNが記載されている。
【0066】
パッシブマトリクスおよびアクティブマトリクス液晶装置としては、2種類の装置が一般に知られている。
【0067】
図1および2のディスプレイは、ガラス壁3、4間に封じ込まれた,コレステリック液晶材料層2によって形成された液晶セル1を有する。スペーサーリング5が、これらの壁を代表的には6μm離れた状態に維持している。パッシブマトリクス装置の場合、例えばSnO2のストライプ状の行電極61〜6mを一方の壁3上に形成し、同様の列電極71〜7nを他方の壁4上に形成する。m−行電極とn−列電極により、これはm×n行列のアドレス可能素子を形成する。各素子は、列と行の電極の相互作用によって形成される。アクティブマトリクス装置の場合、トランジスターまたはダイオードのような別個の非線形装置が各画素に関係する。
【0068】
パッシブマトリクス装置の場合、列ドライバーが各列電極6に電圧を供給する。同様に、行ドライブ9が各行電極7に電圧を供給する。印加電圧の制御は、電圧源11からの電力とクロック12からのタイミングを受信する制御ロジック10からのものである。
【0069】
薄膜トランジスターアクティブマトリクス液晶装置(TFT AMLCD)などのアクティブ装置の場合、画素電極、走査電極および信号電極という3種類の電極が存在し、さらには液晶の反対側には共通電極がある。制御電極は、信号電極上の電圧が関連する画素電極に印加されるようにゲートの動作を行う。
【0070】
以下、本発明を具体化する材料および装置の使用例について図2を参照しながら説明する。
【0071】
液晶装置は、例えばガラス製である2枚の透明プレート3および4からなり、アクティブマトリクス装置の場合にはそれらはアルミノケイ酸塩(アルカリを含まない)ガラス製であるのが普通であり、多くの場合SiO2のパッシベーション層を有する。アクティブマトリクスディスプレイの場合、薄膜トランジスタなどのアクティブ装置を製造し、フルカラーディスプレイの場合にはカラーフィルター層を加える。これらのプレートは、内側面に透明導電性電極6および7がコーティングしてあり、それは多くの場合、フォトリソグラフィー法を用いてパターニングされたITOである。配列層をセルの内側表面に組み入れることで、液晶材料を構成する分子の面配向がガラスプレート3および4に対してほぼ平行となる。これは、ガラスプレート3、4を導電性電極で完全にコーティングすることで行われる。各列・行電極間の交差部がアドレス可能素子または画素のx,y行列を形成する。一部の種類のディスプレイの場合、配列方向は直交している。セルを構築する前に、配列層を布(例:ベルベット製)で覆ったローラーで所定方向にラビングし、そのラビング方向はセル構築時に平行に配置する(同一または反対方向)。例えばポリメタクリル酸メチル製のスペーサー5によって、ガラスプレート3および4を好適な距離、例えば2〜7μm、好ましくは4〜6μmだけ離す。ガラスプレート3、4間に、プレート間の空隙を充填することで液晶材料2を導入する。これは、標準的な方法を用いてセルを流動充填(flow filling)することで行うことができる。スペーサー5を、既存の方法を用いて減圧下に接着剤で封止する。偏光子13をセルの前後に配置することができる。
【0072】
ラビング、斜方蒸着(oblique evaporation)などの1以上の標準的な表面処理法によって、あるいは前述のようにポリマー配列層を用いることで、1以上のセル上に配列層を設けることができる。
【0073】
別の実施態様において、上に配列層を有する基板について加熱・剪断を行うか、別法として配列層を有する基板を、電場印加との併用でガラス転移温度より高く、液晶から等方相転移を起こす温度より低く熱的にアニールする。これらの併用の中には、配列層が必要ないものもある。さらには、本発明によって記載のパッシブおよびアクティブの両方の装置において、いわゆる非接触配列層を用いることもできる。
【0074】
前記装置は透過モードまたは反射モードで動作することができる。前者では、例えばタングステン電球から装置を通る光を選択的に透過または遮断することで、所望の表示を形成する。反射モードでは、鏡または拡散反射器(16)が第2の偏光子13の背後に配置されていることで、セルおよび2個の偏光子から周囲光を反射する。鏡を部分的に反射させることで装置は、透過および反射の両方のモードで動作させることができる。
【0075】
配列層には2つの機能があり、一方の機能は接触する液晶分子を好ましい方向に配列するというものであり、他方の機能はその分子に対して数度、代表的には4°または5°程度の傾斜、いわゆる表面傾斜を与えるというものである。配列層は、セル壁上に数滴のポリイミドを乗せ、均一な厚さが得られるまで壁を回転させることで形成することができる。次に、所定の時間にわたり所定の温度まで加熱することでポリイミドを硬化させ、続いてナイロン布で覆ったローラーを用いて一方向ラビングを行う。別の実施態様では、1個の偏光子と染料材料を組み合わせることができる。本発明の材料は、例えば薄膜トランジスタなどのアクティブアドレスマトリクスを有するLCD(TFT−LCD)またはデュアル走査STNなどのパッシブアドレスマトリクスを有するLCDで用いることもできる。SID M3/1−52第1巻セミナー講義ノート(1998年5月)には、本発明の材料を組み込むことができる代表的なAMLCDが記載されている。
【図面の簡単な説明】
【図1】
マトリクス多重アドレス指定液晶ディスプレイの平面図である。
【図2】
透過モードで使用される図1などのディスプレイの断面図である。
【図3】
図2と同様のディスプレイであって、反射モードで動作するものの断面図である。
Claims (8)
- 下記式Iで示されるる化合物。
nは0、1または2であることができ;
A1、A2、A3は独立に、1,4−ジ置換ベンゼン、2,5−ジ置換ピリミジン、2,5−ジ置換ピリジン、2,6−ジ置換ナフタレン;側方置換された1,4−ジ置換ベンゼン、側方置換された2,5−ジ置換ピリミジン、側方置換された2,5−ジ置換ピリジン、側方置換された2,6−ジ置換ナフタレンであって、前記側方置換基が独立にF、Cl、BrまたはCNから選択されて、使用可能ないかなる置換位置に存在していても良いもの;1,4−ジ置換ビシクロ(2.2.2)オクタン、トランス−1,4−ジ置換シクロヘキサン、トランス−2,5−ジ置換ジオキサン、1,4−ジ置換ピペリジンから選択され;
Z1、Z2は独立に、直接結合、COO、OOC、C2H4、CH2O、OCH2、C4H8、C3H6O、(E)−CH=CHC2H4、(Z)−CH2CH=CHCH2、(E)−CH=CHCH2O、−C≡C−から選択され;
Z3はC4H8、OC3H6、(E)−CH=CHC2H4、(Z)−CH2CH=CHCH2、(E)−OCH2CH=CH、−C≡C−、C2H4であることができ;
Rはアルキル、アルコキシ、アルケニル、アルケニルオキシ、アルカノイルオキシ、アルケノイルオキシまたはOCmF2m+1であることができ;Rは1〜20個の炭素原子を有することができ、分岐または直鎖であることができ;
mは1〜20である。] - 請求項1または請求項2に記載の1以上の化合物を含む液晶混合物。
- それぞれが電極構造を有し配列層を有する1以上の対向表面が処理されている2個の互いに隔たったセル壁、該セル壁間に封入された液晶材料層を有する装置であって、請求項1または2に記載の化合物を含む装置。
- それぞれが電極構造を有し配列層を有する1以上の対向表面が処理されている2個の互いに隔たったセル壁、該セル壁間に封入された液晶材料層を有する装置であって、請求項3に記載の液晶混合物を含む装置。
- 前記装置がアクティブマトリクス装置である請求項4または5に記載の液晶装置。
- 前記装置がSTN装置である請求項4、5および6のいずれかに記載の液晶装置。
- 前記装置がTN装置である請求項4、5および6のいずれかに記載の液晶装置。
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