JP2004361136A - 干渉計 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、撮像素子が1つでありながらもアライメントずれを高精度に検出可能な干渉計を提供する。
【解決手段】この干渉計は、光源からの射出光束を被検物及び参照物に投光する投光光学系(11,12,13,14)と、前記被検物からの被検光束(LW)と前記参照物からの参照光束(LR)とを所定の観察面(15b)上に導光する受光光学系(14,13,12,15a)と、前記観察面の光強度分布を検出する撮像素子(15d)とを備え、前記受光光学系は、前記被検光束及び前記参照光束を前記観察面上に集光するための正の屈折力を有した前側光学系(14)と、前記前側光学系を通過した前記被検光束及び前記参照光束を略平行光束にする負の屈折力を有し、かつ光路に対し挿脱可能な後側光学系(15a)とを、光束の入射側から順に配置してなる。
【選択図】 図1
【解決手段】この干渉計は、光源からの射出光束を被検物及び参照物に投光する投光光学系(11,12,13,14)と、前記被検物からの被検光束(LW)と前記参照物からの参照光束(LR)とを所定の観察面(15b)上に導光する受光光学系(14,13,12,15a)と、前記観察面の光強度分布を検出する撮像素子(15d)とを備え、前記受光光学系は、前記被検光束及び前記参照光束を前記観察面上に集光するための正の屈折力を有した前側光学系(14)と、前記前側光学系を通過した前記被検光束及び前記参照光束を略平行光束にする負の屈折力を有し、かつ光路に対し挿脱可能な後側光学系(15a)とを、光束の入射側から順に配置してなる。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、干渉計に関する。
【0002】
【従来の技術】
現在、干渉計を用いた測定は、高精度な測定手段として広く利用されている。この干渉計は、同一光源から射出した測定光束を被検面と既知形状の参照面とにそれぞれ投光し、被検面にて反射した被検光束と参照面にて反射した参照光束とを受光光学系で所定の観察面に導光し、その観察面に形成される干渉縞を撮像素子で検出するものである。その干渉縞のパターンと参照面の既知形状とから、被検面の形状が求まる。
【0003】
この干渉計では、被検面の形状を的確に反映した干渉縞を生起させるために、被検面や参照面をアライメントする必要がある。
特許文献1に記載の干渉計におけるアライメント、特許文献2に記載の干渉計におけるアライメントは、それぞれ次のとおりである。
特許文献1の干渉計では、被検光束及び参照光束は一旦集光され、撮像素子はその集光点よりも後側に配置される。アライメントでは、その集光点の像(集光像)は目視観察、若しくは別の撮像素子(モニターカメラ)によって検出される。この撮像素子によって検出される被検光束や参照光束の集光像の位置ずれが、アライメントずれを示す。アライメントは、それらの位置ずれが無くなるよう被検面や参照面の姿勢を調整するものである。
【0004】
【特許文献1】
特開平5−157531号公報(図1,図3)
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、特許文献1の干渉計は、干渉縞の生成位置と集光像の生成位置とが別の面なので、アライメントずれの検出に専用の撮像素子(モニターカメラ)が必要であり、構成要素が多い。
【0006】
なお、専用の撮像素子を追加しなくとも測定者は、集光像の生成位置に挿入されたスクリーン上でアライメントずれを目視できるが、高精度な検出は困難である。
そこで本発明は、撮像素子が1つでありながらも被検面及び/又は参照面のアライメントずれを高精度に検出可能な干渉計を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の干渉計は、光源からの射出光束を被検物及び参照物に投光する投光光学系と、前記被検物からの被検光束と前記参照物からの参照光束とを所定の観察面上に導光する受光光学系と、前記観察面の光強度分布を検出する撮像素子とを備え、前記受光光学系は、前記被検光束及び前記参照光束を前記観察面上に集光する正の屈折力を有する前側光学系と、前記前側光学系を通過した前記被検光束及び前記参照光束を略平行光束にする負の屈折力を有し、かつ光路に対し挿脱可能な後側光学系とを、光束の入射側から順に配置してなることを特徴とする。
【0008】
請求項2に記載の干渉計は、請求項1に記載の干渉計において、前記後側光学系が前記光路から離脱されている状態で前記撮像素子から出力される信号に応じて前記被検物又は/及び前記参照物の姿勢を調整する手段をさらに備えたことを特徴とする。
【0009】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
【0010】
[第1実施形態]
図1、図2、図3を参照して本発明の第1実施形態について説明する。
本実施形態は、干渉計の実施形態である。
図1は、本実施形態の干渉計の構成を示す図である。
図1に示すように、本実施形態の干渉計は、干渉計本体1にフィゾーレンズ2をセットしてなるフィゾー型干渉計である(なお、本発明は、トワイマン・グリーン型などの他のタイプの干渉計にも適用できるが、ここでは代表してフィゾー型干渉計について説明する。)。
【0011】
被検物3は、その被検面(以下、設計形状が球面である被検面とする。)3Aがフィゾーレンズ(請求項における参照物に対応。)2の最終面である参照面2Aに対向するよう配置される。
干渉計には、可干渉性の高いレーザ光源11a、スペイシャルフィルタを成す集光レンズ11b及びピンホール11c、偏光ビームスプリッタ12、1/4波長板13、正レンズ(請求項における前側光学系に対応。)14、負レンズ(請求項における後側光学系に対応。)15a、スクリーン15b、結像レンズ15c、撮像素子15dなどが備えられる。
【0012】
このうち、レーザ光源11a、集光レンズ11b、ピンホール11c、偏光ビームスプリッタ12、1/4波長板13、正レンズ14が投光光学系を構成している。
また、正レンズ14、1/4波長板13、偏光ビームスプリッタ12、負レンズ15aが受光光学系を構成している。
【0013】
これらの投光光学系及び受光光学系に兼用された正レンズ14は、投光光学系においてコリメータの働きをし、受光光学系において集光レンズの働きをする。受光光学系としての正レンズ14の後側焦点面(投光光学系としての正レンズ14の前側焦点面)は、スクリーン15bの配置面に一致している。
また、受光光学系の負レンズ15aは、図1中(A)及び(B)で示したように光路に対し挿脱可能である(なお、挿脱の方向については、図示したものに限られない)。
【0014】
本実施形態の干渉計では、この負レンズ15aが挿入された状態(図1中(A))で測定が行われ、負レンズ15aが離脱された状態(図1中(B))でアライメントが行われる。
以下、負レンズ15aが挿入された状態(A)を「測定モード」、負レンズ15aが離脱された状態(B)を「アライメントモード」という。これらを順に説明する。
【0015】
先ず、測定モードでは、レーザ光源11aから射出した偏光ビームスプリッタ12の偏光分離膜に対してS偏光の光束は、集光レンズ11b及びピンホール11cを介して発散しつつ偏光ビームスプリッタ12に入射し、その偏光ビームスプリッタ12にて反射する。偏光ビームスプリッタ12にて反射した光束は、1/4波長板13を介して正レンズ14に入射し、適当な口径の平行光束となってフィゾーレンズ2に投光される。
【0016】
フィゾーレンズ2に投光された光束の一部は参照面2Aで反射し、他の一部は参照面3Aを透過して被検物3に投光され、被検面3Aで反射する。
フィゾーレンズ2の参照面2Aで反射した参照光束LR、及び被検物3の被検面3Aで反射した被検光束LWは、入射光路をそれぞれ反対向きに戻り、正レンズ14、及び1/4波長板13を介して集光しつつ偏光ビームスプリッタ12に入射する。
【0017】
この入射した参照光束LR及び被検光束LWは、1/4波長板13を往復したのでP偏光になっており、偏光ビームスプリッタ12を透過する。
偏光ビームスプリッタ12を透過した参照光束LR及び被検光束LWは、負レンズ15aにより平行光束に近づけられた状態で、スクリーン15b上に干渉縞Fを形成する。
【0018】
この干渉縞Fのパターンが、参照面2Aを基準とした被検面3Aの形状に対応している。
この干渉縞Fの像は、結像レンズ15cを介して適当なサイズに変換されてから、撮像素子15dにより撮像される(なお、結像レンズ15cの位置に倍率の異なる複数の結像レンズを選択的に挿入可能に構成したり、結像レンズ15cをズームレンズにしたりすれば、所望の倍率で干渉縞Fの像を撮像することができる。)。
【0019】
撮像素子15dからの出力信号は、必要に応じて不図示のコンピュータにおいて解析される。
次に、アライメントモードでも、レーザ光源11aからの射出光束は、測定モードと同様に参照面2A及び被検面3Aに入射する。
【0020】
また、参照面2Aで反射した参照光束LR、被検面3Aで反射した被検光束LWは、それぞれ測定モードと同様に集光しつつ偏光ビームスプリッタ12を透過する。
但し、アライメントモードでは、光路から負レンズ15aが離脱されているので、それらの参照光束LR及び被検光束LWは、スクリーン15b上にそれぞれ集光する。
【0021】
よって、スクリーン15b上には、参照光束LRによる集光像CR、及び被検光束LWによる集光像CWが形成される。
これら集光像CR,CWは、結像レンズ15cを介して撮像素子15dにより撮像される。
撮像素子15dからの出力信号は、必要に応じて不図示のモニタなどに送出され、集光像CR,CWは、測定者によって観察される。
【0022】
ここで、集光像CRの形成位置は、参照光束LRが光軸に対し平行な方向に進行した場合には光軸上となり、平行な方向からずれて進行した場合にはそのずれに応じて光軸上からずれる。
このため、撮像素子15dの中心を予め光軸に一致させておけば、参照光束LRの集光像CRの中心からの位置ずれ方向及びずれ量が、フィゾーレンズ2のアライメントずれ、すなわち、フィゾーレンズ2の傾斜方向及び傾斜量を示す。
【0023】
同様に、集光像CWの形成位置は、被検光束LWが光軸に対し平行な方向に進行した場合には光軸上となり、平行な方向からずれて進行した場合にはそのずれに応じて光軸上からずれる。
このため、撮像素子15dの中心を予め光軸に一致させておけば、被検光束LWの集光像CWの中心からの位置ずれ方向及びずれ量が、被検物3のアライメントずれ、すなわち、被検物3の傾斜方向及び傾斜量を示す。
【0024】
よって、アライメントでは、測定者は、2つの集光像CR,CWが撮像素子15dの略中心に重なるよう、フィゾーレンズ2、及び被検物3の傾斜方向及び傾斜量を調整すればよい。
また、そのアライメント後、フィゾーレンズ2を固定して被検物3のみを交換したときには、集光像CWが集光像CRに重なるよう、被検物3の傾斜方向及び傾斜量を調整すればよい。
【0025】
以上説明した本実施形態の干渉計は、光束の入射側から順に配置された正レンズ14と負レンズ15aとにより受光光学系が構成されているので、その負レンズ15aを光路から離脱させるだけで、測定モードからアライメントモードへと移行できる。
しかも、正レンズ14の後側焦点面がスクリーン15bの配置面に一致するので、アライメントモードにおける集光像CR,CWは、測定モードにおける干渉縞Fの形成面と同じ面に形成される。このため、アライメントモードにおける集光像CR,CWの検出に、干渉縞Fの検出用の撮像素子15dを兼用できる。
【0026】
したがって、本実施形態の干渉計は、光学系がシンプルな構成であり、撮像素子も1つであるが、被検物3及びフィゾーレンズ2のアライメントずれを高精度に検出可能であり、価格も低くすることができる。
(その他)
なお、図1では、測定モードにおいてスクリーン15b上に入射する参照光束LR及び被検光束LWがそれぞれ平行光束となっている。すなわち、負レンズ15aの前側焦点面がスクリーン15b上にあり、受光光学系(ここでは、正レンズ14,及び負レンズ15a)がアフォーカル光学系となっている。
【0027】
しかし、図2(A’),又は図2(A”)に示すように、負レンズ15aの前側焦点面をスクリーン15b上からずらして、スクリーン15b上に入射する参照光束LR及び被検光束LWを非平行な光束としてもよい。
また、図1、図2では、前側光学系(ここでは、正レンズ14)、後側光学系(ここでは、負レンズ15a)がそれぞれ単一レンズであるかのごとく示したが、それぞれ正の屈折力、負の屈折力を有しているのであれば、複数枚のレンズから構成されていてもよい。
【0028】
また、本実施形態では、受光光学系の集光レンズ(ここでは、正レンズ14)を投光光学系のコリメータに兼用し、かつビームエキスパンダを省略した干渉計を説明したが、受光光学系の集光レンズ(ここでは、正レンズ14)を投光光学系のコリメータに兼用していない干渉計や、ビームエキスパンダを備えた干渉計にも本発明は適用可能である。
【0029】
因みに、図3に示す干渉計は、受光光学系の集光レンズ(ここでは、正レンズ14)を投光光学系のコリメータに兼用せず、かつビームエキスパンダを備えた干渉計に本発明を適用したものである。
この干渉計では、投光光学系にコリメータとしての正レンズ11d、受光光学系に集光レンズとしての正レンズ15eがそれぞれ備えられる。また、ビームエキスパンダ17が追加されている。
【0030】
この場合も、受光光学系としての正レンズ15eの後側焦点面は、スクリーン15bの配置面に一致している。
[第2実施形態]
図4を参照して本発明の第2実施形態について説明する。
本実施形態も、干渉計の実施形態である。ここでは、第1実施形態の干渉計との相違点についてのみ説明する。相違点は、アライメントが自動化された点にある。
【0031】
なお、ここでは、簡単のため、フィゾーレンズ2はアライメントされた状態で固定されており、被検物3のみアライメントする場合について説明する。
図4は、本実施形態の干渉計の構成を示す図である。
図4において、符号5で示すのは負レンズ15aを光路に対し挿脱する挿脱機構、符号4で示すのは被検物3を支持するステージ、符号7で示すのは、干渉計内のレーザ光源11aや撮像素子15dなどを駆動したり撮像素子15dの出力信号を取り込んだりする回路部である(なお、これら挿脱機構5、ステージ4、回路部7は、図1、図2、図3に示した各干渉計にも同様に備えられるが、これらの図では省略してある。)。
【0032】
本実施形態の回路部7は、レーザ光源11a、撮像素子15dの他、少なくともステージ4、挿脱機構5を駆動する。
測定者が被検物3を干渉計にセットすると、回路部7は以下のとおりアライメントの手順を実行する。
先ず、挿脱機構5が駆動され、負レンズ15aが光路から離脱され、干渉計がアライメントモードに設定される。
【0033】
この状態で、レーザ光源11a及び撮像素子15dが駆動され、撮像素子15dの出力信号が回路部7に取り込まれる。
回路部7は、撮像素子15dの出力信号から、被検光束LWによる集光像CWの形成位置の撮像素子15d上の座標を認識する。
回路部7は、その座標と、参照光束LRによる集光像CRの形成位置の撮像素子15d上の座標との間のずれを算出する。その座標のずれは、被検物3のアライメントずれを示している。
【0034】
なお、参照光束LRによる集光像CRの座標については、フィゾーレンズ2のアライメント時などに予め測定することができる。通常、フィゾーレンズ3のアライメントにより、集光像CRの座標は、撮像素子15d上の中心座標に一致している。
次に、回路部7は、前記算出した座標のずれを0とするために必要なステージ4の駆動量を求め、ステージ4をその駆動量だけ駆動する。
【0035】
なお、算出した座標のずれと最適な駆動量との関係は、回路部7が予め記憶している。その関係は、干渉計の設計データや測定データなどから予め求められる。
その後、挿脱機構5が駆動され、負レンズ15aが光路に挿入され、干渉計が測定モードに設定される。これにより、アライメントが終了する。
以上、本実施形態の干渉計によれば、アライメントずれの高精度な検出結果がアライメントの自動化に有効利用される。
【0036】
なお、上述した回路部7の動作の一部又は全部は、干渉計に接続されたコンピュータに実行させることもできる。さらに干渉縞の解析結果に基づきより高精度のアライメントを行うことも可能である。
なお、図4に示す干渉計は、図1に示した干渉計のアライメントを自動化したものであるが、本実施形態と同様に、図2、図3に示した干渉計のアライメントを自動化することもできる。
【0037】
また、本実施形態の干渉計は、被検物3のアライメントが自動化されているが、同様に、フィゾーレンズ2のアライメントを自動化することもできる。
そのアライメントでは、参照光束LRによる集光像CRの形成位置の撮像素子15d上の座標が中心座標に一致するよう、フィゾーレンズ2を支持するステージ(不図示)が駆動される。
【0038】
[その他]
図5は、干渉計のバリエーションを説明する図である。
上述した各実施形態では、被検面3Aの設計形状が球面である場合(図5(A))を説明したが、図5(A’)に示すように平面である場合にも本発明は同様に適用可能である。
【0039】
なお、図5(A’)には、設計形状が平面である被検面3A’を有した被検物3’、及びそれに対応した平面用フィゾーレンズ2’(平面の参照面2A’を有している。)がセットされた様子を示した。
また、上述した各実施形態の干渉計は、偏光ビームスプリッタ12と1/4波長板13との組み合わせにより光量ロスが抑えられているが(図5(B))、光量ロスを許容できるときなどには、図5(B’)に示すように、1/4波長板13を省略すると共に、偏光ビームスプリッタ12に代えてハーフミラー12’を用いてもよい。
【0040】
また、上述した各実施形態の干渉計は、スクリーン15b上の干渉縞F、又は集光像CR,CWを、一旦、スクリーン15b上に形成し、かつそれを結像レンズ15cなどにより適当なサイズに変換してから撮像素子15dにより撮像しているが(図5(C))、干渉計のさらなる省スペース化を図るならば、図5(C’)に示すように、スクリーン15b及び結像レンズ15cを省略すると共に、撮像素子15dをそのスクリーン15bの配置面に直接配置してもよい。
【0041】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、撮像素子が1つでありながらも被検面及び/又は参照面のアライメントずれを高精度に検出可能な干渉計が実現する。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施形態の干渉計の構成を示す図である。
【図2】第1実施形態の変形例を説明する図である。
【図3】第1実施形態の変形例を説明する図である。
【図4】第2実施形態の干渉計の構成を示す図である。
【図5】干渉計のバリエーションを説明する図である。
【符号の説明】
1 干渉計本体
2 フィゾーレンズ
2A 参照面
3 被検物
3A 被検面
4 ステージ
5 挿脱機構
7 回路部
11a レーザ光源
11b 集光レンズ
11c ピンホール
11d コリメータレンズ
12 偏光ビームスプリッタ
13 1/4波長板
14 正レンズ
15a 負レンズ
15b スクリーン
15c 結像レンズ
15d 撮像素子
15e 集光レンズ
17 ビームエキスパンダ
【発明の属する技術分野】
本発明は、干渉計に関する。
【0002】
【従来の技術】
現在、干渉計を用いた測定は、高精度な測定手段として広く利用されている。この干渉計は、同一光源から射出した測定光束を被検面と既知形状の参照面とにそれぞれ投光し、被検面にて反射した被検光束と参照面にて反射した参照光束とを受光光学系で所定の観察面に導光し、その観察面に形成される干渉縞を撮像素子で検出するものである。その干渉縞のパターンと参照面の既知形状とから、被検面の形状が求まる。
【0003】
この干渉計では、被検面の形状を的確に反映した干渉縞を生起させるために、被検面や参照面をアライメントする必要がある。
特許文献1に記載の干渉計におけるアライメント、特許文献2に記載の干渉計におけるアライメントは、それぞれ次のとおりである。
特許文献1の干渉計では、被検光束及び参照光束は一旦集光され、撮像素子はその集光点よりも後側に配置される。アライメントでは、その集光点の像(集光像)は目視観察、若しくは別の撮像素子(モニターカメラ)によって検出される。この撮像素子によって検出される被検光束や参照光束の集光像の位置ずれが、アライメントずれを示す。アライメントは、それらの位置ずれが無くなるよう被検面や参照面の姿勢を調整するものである。
【0004】
【特許文献1】
特開平5−157531号公報(図1,図3)
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、特許文献1の干渉計は、干渉縞の生成位置と集光像の生成位置とが別の面なので、アライメントずれの検出に専用の撮像素子(モニターカメラ)が必要であり、構成要素が多い。
【0006】
なお、専用の撮像素子を追加しなくとも測定者は、集光像の生成位置に挿入されたスクリーン上でアライメントずれを目視できるが、高精度な検出は困難である。
そこで本発明は、撮像素子が1つでありながらも被検面及び/又は参照面のアライメントずれを高精度に検出可能な干渉計を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の干渉計は、光源からの射出光束を被検物及び参照物に投光する投光光学系と、前記被検物からの被検光束と前記参照物からの参照光束とを所定の観察面上に導光する受光光学系と、前記観察面の光強度分布を検出する撮像素子とを備え、前記受光光学系は、前記被検光束及び前記参照光束を前記観察面上に集光する正の屈折力を有する前側光学系と、前記前側光学系を通過した前記被検光束及び前記参照光束を略平行光束にする負の屈折力を有し、かつ光路に対し挿脱可能な後側光学系とを、光束の入射側から順に配置してなることを特徴とする。
【0008】
請求項2に記載の干渉計は、請求項1に記載の干渉計において、前記後側光学系が前記光路から離脱されている状態で前記撮像素子から出力される信号に応じて前記被検物又は/及び前記参照物の姿勢を調整する手段をさらに備えたことを特徴とする。
【0009】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
【0010】
[第1実施形態]
図1、図2、図3を参照して本発明の第1実施形態について説明する。
本実施形態は、干渉計の実施形態である。
図1は、本実施形態の干渉計の構成を示す図である。
図1に示すように、本実施形態の干渉計は、干渉計本体1にフィゾーレンズ2をセットしてなるフィゾー型干渉計である(なお、本発明は、トワイマン・グリーン型などの他のタイプの干渉計にも適用できるが、ここでは代表してフィゾー型干渉計について説明する。)。
【0011】
被検物3は、その被検面(以下、設計形状が球面である被検面とする。)3Aがフィゾーレンズ(請求項における参照物に対応。)2の最終面である参照面2Aに対向するよう配置される。
干渉計には、可干渉性の高いレーザ光源11a、スペイシャルフィルタを成す集光レンズ11b及びピンホール11c、偏光ビームスプリッタ12、1/4波長板13、正レンズ(請求項における前側光学系に対応。)14、負レンズ(請求項における後側光学系に対応。)15a、スクリーン15b、結像レンズ15c、撮像素子15dなどが備えられる。
【0012】
このうち、レーザ光源11a、集光レンズ11b、ピンホール11c、偏光ビームスプリッタ12、1/4波長板13、正レンズ14が投光光学系を構成している。
また、正レンズ14、1/4波長板13、偏光ビームスプリッタ12、負レンズ15aが受光光学系を構成している。
【0013】
これらの投光光学系及び受光光学系に兼用された正レンズ14は、投光光学系においてコリメータの働きをし、受光光学系において集光レンズの働きをする。受光光学系としての正レンズ14の後側焦点面(投光光学系としての正レンズ14の前側焦点面)は、スクリーン15bの配置面に一致している。
また、受光光学系の負レンズ15aは、図1中(A)及び(B)で示したように光路に対し挿脱可能である(なお、挿脱の方向については、図示したものに限られない)。
【0014】
本実施形態の干渉計では、この負レンズ15aが挿入された状態(図1中(A))で測定が行われ、負レンズ15aが離脱された状態(図1中(B))でアライメントが行われる。
以下、負レンズ15aが挿入された状態(A)を「測定モード」、負レンズ15aが離脱された状態(B)を「アライメントモード」という。これらを順に説明する。
【0015】
先ず、測定モードでは、レーザ光源11aから射出した偏光ビームスプリッタ12の偏光分離膜に対してS偏光の光束は、集光レンズ11b及びピンホール11cを介して発散しつつ偏光ビームスプリッタ12に入射し、その偏光ビームスプリッタ12にて反射する。偏光ビームスプリッタ12にて反射した光束は、1/4波長板13を介して正レンズ14に入射し、適当な口径の平行光束となってフィゾーレンズ2に投光される。
【0016】
フィゾーレンズ2に投光された光束の一部は参照面2Aで反射し、他の一部は参照面3Aを透過して被検物3に投光され、被検面3Aで反射する。
フィゾーレンズ2の参照面2Aで反射した参照光束LR、及び被検物3の被検面3Aで反射した被検光束LWは、入射光路をそれぞれ反対向きに戻り、正レンズ14、及び1/4波長板13を介して集光しつつ偏光ビームスプリッタ12に入射する。
【0017】
この入射した参照光束LR及び被検光束LWは、1/4波長板13を往復したのでP偏光になっており、偏光ビームスプリッタ12を透過する。
偏光ビームスプリッタ12を透過した参照光束LR及び被検光束LWは、負レンズ15aにより平行光束に近づけられた状態で、スクリーン15b上に干渉縞Fを形成する。
【0018】
この干渉縞Fのパターンが、参照面2Aを基準とした被検面3Aの形状に対応している。
この干渉縞Fの像は、結像レンズ15cを介して適当なサイズに変換されてから、撮像素子15dにより撮像される(なお、結像レンズ15cの位置に倍率の異なる複数の結像レンズを選択的に挿入可能に構成したり、結像レンズ15cをズームレンズにしたりすれば、所望の倍率で干渉縞Fの像を撮像することができる。)。
【0019】
撮像素子15dからの出力信号は、必要に応じて不図示のコンピュータにおいて解析される。
次に、アライメントモードでも、レーザ光源11aからの射出光束は、測定モードと同様に参照面2A及び被検面3Aに入射する。
【0020】
また、参照面2Aで反射した参照光束LR、被検面3Aで反射した被検光束LWは、それぞれ測定モードと同様に集光しつつ偏光ビームスプリッタ12を透過する。
但し、アライメントモードでは、光路から負レンズ15aが離脱されているので、それらの参照光束LR及び被検光束LWは、スクリーン15b上にそれぞれ集光する。
【0021】
よって、スクリーン15b上には、参照光束LRによる集光像CR、及び被検光束LWによる集光像CWが形成される。
これら集光像CR,CWは、結像レンズ15cを介して撮像素子15dにより撮像される。
撮像素子15dからの出力信号は、必要に応じて不図示のモニタなどに送出され、集光像CR,CWは、測定者によって観察される。
【0022】
ここで、集光像CRの形成位置は、参照光束LRが光軸に対し平行な方向に進行した場合には光軸上となり、平行な方向からずれて進行した場合にはそのずれに応じて光軸上からずれる。
このため、撮像素子15dの中心を予め光軸に一致させておけば、参照光束LRの集光像CRの中心からの位置ずれ方向及びずれ量が、フィゾーレンズ2のアライメントずれ、すなわち、フィゾーレンズ2の傾斜方向及び傾斜量を示す。
【0023】
同様に、集光像CWの形成位置は、被検光束LWが光軸に対し平行な方向に進行した場合には光軸上となり、平行な方向からずれて進行した場合にはそのずれに応じて光軸上からずれる。
このため、撮像素子15dの中心を予め光軸に一致させておけば、被検光束LWの集光像CWの中心からの位置ずれ方向及びずれ量が、被検物3のアライメントずれ、すなわち、被検物3の傾斜方向及び傾斜量を示す。
【0024】
よって、アライメントでは、測定者は、2つの集光像CR,CWが撮像素子15dの略中心に重なるよう、フィゾーレンズ2、及び被検物3の傾斜方向及び傾斜量を調整すればよい。
また、そのアライメント後、フィゾーレンズ2を固定して被検物3のみを交換したときには、集光像CWが集光像CRに重なるよう、被検物3の傾斜方向及び傾斜量を調整すればよい。
【0025】
以上説明した本実施形態の干渉計は、光束の入射側から順に配置された正レンズ14と負レンズ15aとにより受光光学系が構成されているので、その負レンズ15aを光路から離脱させるだけで、測定モードからアライメントモードへと移行できる。
しかも、正レンズ14の後側焦点面がスクリーン15bの配置面に一致するので、アライメントモードにおける集光像CR,CWは、測定モードにおける干渉縞Fの形成面と同じ面に形成される。このため、アライメントモードにおける集光像CR,CWの検出に、干渉縞Fの検出用の撮像素子15dを兼用できる。
【0026】
したがって、本実施形態の干渉計は、光学系がシンプルな構成であり、撮像素子も1つであるが、被検物3及びフィゾーレンズ2のアライメントずれを高精度に検出可能であり、価格も低くすることができる。
(その他)
なお、図1では、測定モードにおいてスクリーン15b上に入射する参照光束LR及び被検光束LWがそれぞれ平行光束となっている。すなわち、負レンズ15aの前側焦点面がスクリーン15b上にあり、受光光学系(ここでは、正レンズ14,及び負レンズ15a)がアフォーカル光学系となっている。
【0027】
しかし、図2(A’),又は図2(A”)に示すように、負レンズ15aの前側焦点面をスクリーン15b上からずらして、スクリーン15b上に入射する参照光束LR及び被検光束LWを非平行な光束としてもよい。
また、図1、図2では、前側光学系(ここでは、正レンズ14)、後側光学系(ここでは、負レンズ15a)がそれぞれ単一レンズであるかのごとく示したが、それぞれ正の屈折力、負の屈折力を有しているのであれば、複数枚のレンズから構成されていてもよい。
【0028】
また、本実施形態では、受光光学系の集光レンズ(ここでは、正レンズ14)を投光光学系のコリメータに兼用し、かつビームエキスパンダを省略した干渉計を説明したが、受光光学系の集光レンズ(ここでは、正レンズ14)を投光光学系のコリメータに兼用していない干渉計や、ビームエキスパンダを備えた干渉計にも本発明は適用可能である。
【0029】
因みに、図3に示す干渉計は、受光光学系の集光レンズ(ここでは、正レンズ14)を投光光学系のコリメータに兼用せず、かつビームエキスパンダを備えた干渉計に本発明を適用したものである。
この干渉計では、投光光学系にコリメータとしての正レンズ11d、受光光学系に集光レンズとしての正レンズ15eがそれぞれ備えられる。また、ビームエキスパンダ17が追加されている。
【0030】
この場合も、受光光学系としての正レンズ15eの後側焦点面は、スクリーン15bの配置面に一致している。
[第2実施形態]
図4を参照して本発明の第2実施形態について説明する。
本実施形態も、干渉計の実施形態である。ここでは、第1実施形態の干渉計との相違点についてのみ説明する。相違点は、アライメントが自動化された点にある。
【0031】
なお、ここでは、簡単のため、フィゾーレンズ2はアライメントされた状態で固定されており、被検物3のみアライメントする場合について説明する。
図4は、本実施形態の干渉計の構成を示す図である。
図4において、符号5で示すのは負レンズ15aを光路に対し挿脱する挿脱機構、符号4で示すのは被検物3を支持するステージ、符号7で示すのは、干渉計内のレーザ光源11aや撮像素子15dなどを駆動したり撮像素子15dの出力信号を取り込んだりする回路部である(なお、これら挿脱機構5、ステージ4、回路部7は、図1、図2、図3に示した各干渉計にも同様に備えられるが、これらの図では省略してある。)。
【0032】
本実施形態の回路部7は、レーザ光源11a、撮像素子15dの他、少なくともステージ4、挿脱機構5を駆動する。
測定者が被検物3を干渉計にセットすると、回路部7は以下のとおりアライメントの手順を実行する。
先ず、挿脱機構5が駆動され、負レンズ15aが光路から離脱され、干渉計がアライメントモードに設定される。
【0033】
この状態で、レーザ光源11a及び撮像素子15dが駆動され、撮像素子15dの出力信号が回路部7に取り込まれる。
回路部7は、撮像素子15dの出力信号から、被検光束LWによる集光像CWの形成位置の撮像素子15d上の座標を認識する。
回路部7は、その座標と、参照光束LRによる集光像CRの形成位置の撮像素子15d上の座標との間のずれを算出する。その座標のずれは、被検物3のアライメントずれを示している。
【0034】
なお、参照光束LRによる集光像CRの座標については、フィゾーレンズ2のアライメント時などに予め測定することができる。通常、フィゾーレンズ3のアライメントにより、集光像CRの座標は、撮像素子15d上の中心座標に一致している。
次に、回路部7は、前記算出した座標のずれを0とするために必要なステージ4の駆動量を求め、ステージ4をその駆動量だけ駆動する。
【0035】
なお、算出した座標のずれと最適な駆動量との関係は、回路部7が予め記憶している。その関係は、干渉計の設計データや測定データなどから予め求められる。
その後、挿脱機構5が駆動され、負レンズ15aが光路に挿入され、干渉計が測定モードに設定される。これにより、アライメントが終了する。
以上、本実施形態の干渉計によれば、アライメントずれの高精度な検出結果がアライメントの自動化に有効利用される。
【0036】
なお、上述した回路部7の動作の一部又は全部は、干渉計に接続されたコンピュータに実行させることもできる。さらに干渉縞の解析結果に基づきより高精度のアライメントを行うことも可能である。
なお、図4に示す干渉計は、図1に示した干渉計のアライメントを自動化したものであるが、本実施形態と同様に、図2、図3に示した干渉計のアライメントを自動化することもできる。
【0037】
また、本実施形態の干渉計は、被検物3のアライメントが自動化されているが、同様に、フィゾーレンズ2のアライメントを自動化することもできる。
そのアライメントでは、参照光束LRによる集光像CRの形成位置の撮像素子15d上の座標が中心座標に一致するよう、フィゾーレンズ2を支持するステージ(不図示)が駆動される。
【0038】
[その他]
図5は、干渉計のバリエーションを説明する図である。
上述した各実施形態では、被検面3Aの設計形状が球面である場合(図5(A))を説明したが、図5(A’)に示すように平面である場合にも本発明は同様に適用可能である。
【0039】
なお、図5(A’)には、設計形状が平面である被検面3A’を有した被検物3’、及びそれに対応した平面用フィゾーレンズ2’(平面の参照面2A’を有している。)がセットされた様子を示した。
また、上述した各実施形態の干渉計は、偏光ビームスプリッタ12と1/4波長板13との組み合わせにより光量ロスが抑えられているが(図5(B))、光量ロスを許容できるときなどには、図5(B’)に示すように、1/4波長板13を省略すると共に、偏光ビームスプリッタ12に代えてハーフミラー12’を用いてもよい。
【0040】
また、上述した各実施形態の干渉計は、スクリーン15b上の干渉縞F、又は集光像CR,CWを、一旦、スクリーン15b上に形成し、かつそれを結像レンズ15cなどにより適当なサイズに変換してから撮像素子15dにより撮像しているが(図5(C))、干渉計のさらなる省スペース化を図るならば、図5(C’)に示すように、スクリーン15b及び結像レンズ15cを省略すると共に、撮像素子15dをそのスクリーン15bの配置面に直接配置してもよい。
【0041】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、撮像素子が1つでありながらも被検面及び/又は参照面のアライメントずれを高精度に検出可能な干渉計が実現する。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施形態の干渉計の構成を示す図である。
【図2】第1実施形態の変形例を説明する図である。
【図3】第1実施形態の変形例を説明する図である。
【図4】第2実施形態の干渉計の構成を示す図である。
【図5】干渉計のバリエーションを説明する図である。
【符号の説明】
1 干渉計本体
2 フィゾーレンズ
2A 参照面
3 被検物
3A 被検面
4 ステージ
5 挿脱機構
7 回路部
11a レーザ光源
11b 集光レンズ
11c ピンホール
11d コリメータレンズ
12 偏光ビームスプリッタ
13 1/4波長板
14 正レンズ
15a 負レンズ
15b スクリーン
15c 結像レンズ
15d 撮像素子
15e 集光レンズ
17 ビームエキスパンダ
Claims (2)
- 光源からの射出光束を被検物及び参照物に投光する投光光学系と、
前記被検物からの被検光束と前記参照物からの参照光束とを所定の観察面上に導光する受光光学系と、
前記観察面の光強度分布を検出する撮像素子とを備え、
前記受光光学系は、
前記被検光束及び前記参照光束を前記観察面上に集光する正の屈折力を有する前側光学系と、前記前側光学系を通過した前記被検光束及び前記参照光束を略平行光束にする負の屈折力を有し、かつ光路に対し挿脱可能な後側光学系とを、光束の入射側から順に配置してなる
ことを特徴とする干渉計。 - 請求項1に記載の干渉計において、
前記後側光学系が前記光路から離脱されている状態で前記撮像素子から出力される信号に応じて前記被検物又は/及び前記参照物の姿勢を調整する手段をさらに備えた
ことを特徴とする干渉計。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP2003157073A JP2004361136A (ja) | 2003-06-02 | 2003-06-02 | 干渉計 |
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Family Applications (1)
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---|---|---|---|
JP2003157073A Pending JP2004361136A (ja) | 2003-06-02 | 2003-06-02 | 干渉計 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2004361136A (ja) |
-
2003
- 2003-06-02 JP JP2003157073A patent/JP2004361136A/ja active Pending
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