JP2004356356A - Method for judging completion of cleaning and cleaning apparatus - Google Patents

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Kazuhisa Takayama
和久 高山
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沖電気工業株式会社
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for judging the completion of cleaning by which the completion of cleaning treatment can be judged without repeating experiments and a cleaning apparatus adopting the method for judging the completion of cleaning. <P>SOLUTION: The cleaning apparatus 10 uses a cyclic-use cleaning liquid to remove an adherent sticking to an object to be cleaned, and it is provided with a first sensor 11 that generates a signal indicating the contamination status of the cleaning liquid before the object is cleaned, a second sensor 13 that generates a signal indicating the contamination status of the cleaning liquid after the object is cleaned by using the cleaning liquid, and a completion judging part 20 that obtains a difference between the signals from the first and second sensors, and judges that the cleaning is completed when the obtained difference is smaller than a specified threshold. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】 [0001]
【発明の属する技術分野】 BACKGROUND OF THE INVENTION
本発明は、半導体装置の製造において付着する付着物を洗浄する洗浄処理に関し、特に洗浄処理の洗浄終了判定方法と洗浄装置とに関する。 The present invention relates to a cleaning process for cleaning deposits adhering in the manufacture of semiconductor devices, and to a a cleaning device in particular washing end determining process of cleaning.
【0002】 [0002]
【従来の技術】 BACKGROUND OF THE INVENTION
半導体集積回路や液晶表示回路などの半導体装置の製造工程で、パターン加工を施すべくレジストを用いたエッチング処理や、アッシングと称される灰化処理などで前記半導体装置(以降、単に被洗浄物と称す)に付着する付着物を洗浄する方法が特許文献1、特許文献2および特許文献3に開示されている。 In the manufacturing process of semiconductor integrated circuits and liquid crystal display circuit semiconductor device such as an etching process or using a resist to performing pattern processing, the semiconductor device (or later ashing called ashing, and simply to be washed method for cleaning deposits adhering to the called) is disclosed in Patent Document 1, Patent Document 2 and Patent Document 3.
特許文献1は、洗浄液で被洗浄物を洗浄することで発生する気体の濃度を測定し、該測定値と所定の値とを比較判定することにより洗浄処理の終了を判断することを開示しており、また特許文献2は循環利用する洗浄液で被洗浄物を洗浄し、被洗浄物から剥離した付着物の粒子数をカウントし、該カウント値と所定の値とを比較判定することにより、洗浄処理の終了を判断することを開示している。 Patent Document 1, the concentration of the gas generated by washing the object to be cleaned with the cleaning liquid was measured, discloses to determine the end of the cleaning process by comparing determining a measured value with a predetermined value cage, also by Patent Document 2 is that washing the object to be cleaned with a cleaning liquid for recycling, by counting the number of particles deposit peeled from the object to be cleaned, comparing determines the count value with a predetermined value, washing It discloses the determine the end of the process.
【0003】 [0003]
更に、特許文献3は洗浄機能を有する気体を用いて被洗浄物を洗浄することで生じる過酸化水素濃度を測定し、該測定値と所定の値とを比較することにより、洗浄処理の終了を判定することを開示している。 Furthermore, Patent Document 3 measures the concentration of hydrogen peroxide caused by washing the object to be cleaned by using a gas having a cleaning function, by comparing the measured values ​​with a predetermined value, the completion of the cleaning process It discloses the determination.
【0004】 [0004]
【特許文献1】 [Patent Document 1]
特開平6−168929号公報【特許文献2】 JP 6-168929 [Patent Document 2]
特開平10−321589号公報【特許文献3】 JP 10-321589 [Patent Document 3]
特開平8−236494号公報【0005】 JP-A-8-236494 [0005]
【発明が解決しようとする課題】 [Problems that the Invention is to Solve
ところで、前記した洗浄処理における終了の判定方法は、測定値と、所定の値つまり洗浄終了のための基準値とを比較判定することにより洗浄処理の終了を判断する。 Incidentally, the end of the determination method in the above-mentioned washing treatment, the measured value, to determine the end of the cleaning by comparing determining a reference value for the predetermined value, that washing finished.
従って、前記基準値は、例えば付着物の量、付着物の成分、洗浄液の成分、洗浄液の温度および一括的に洗浄する被洗浄物の個数など、多種多様な条件に基づいて決定する必要があることから、様々な条件毎に基準値を決定するための多くのサンプルを用いて洗浄処理の終了を見極める実験を繰り返す必要があった。 Therefore, the reference value, for example the amount of the deposit, components of the deposit, components of the cleaning liquid, such as the number of temperature and collectively cleaned to be cleaned of the cleaning solution should be determined based on a wide variety of conditions since it was necessary to repeat the experiment to ascertain the end of the cleaning process using a number of samples for determining the reference value for each different conditions.
【0006】 [0006]
従って、本発明の目的は、実験を繰り返すことなく洗浄処理の終了を見極め得る洗浄終了判定方法と、該洗浄終了判定方法を採用した洗浄装置とを提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a cleaning completion determining method may identify the end of the cleaning process without repeating the experiment, and a cleaning device employing the cleaning completion determining method.
【0007】 [0007]
【課題を解決するための手段】 In order to solve the problems]
本発明は、以上の点を解決するために、次の構成を採用する。 The present invention, in order to solve the above points, adopts the following configuration.
本発明の洗浄終了判定方法は、循環利用する前記洗浄液を用いて被洗浄物に付着する付着物を取り除く洗浄処理の終了を判定する方法であって、前記被洗浄物を洗浄液により洗浄する前後の該洗浄液の汚染状態の差を取得すること、取得した差が所定の閾値以下のとき、洗浄処理の終了と判定することを特徴とする。 Cleaning end determining process of the present invention, using the cleaning solution for recycling a cleaning method for determining the end of removing deposits adhering to the cleaning object, before and after the object to be cleaned is washed by the washing liquid obtaining a difference in the contamination state of the cleaning liquid, the obtained difference is when more than a predetermined threshold value, and judging the end of the cleaning process with.
【0008】 [0008]
本発明の洗浄終了判定方法は、循環利用する洗浄液を用いて被洗浄物に付着する付着物を取り除く洗浄処理の終了を判定する方法であって、前記被洗浄物を前記洗浄液により洗浄する前後の該洗浄液の汚染状態の差を取得すること、取得した差に変化が見られないとき、洗浄処理の終了と判定することを特徴とする。 Cleaning end determining process of the present invention, by using a washing liquid recycled to a cleaning method for determining the end of removing deposits adhering to the cleaning object, the object to be cleaned before and after washing by the washing liquid obtaining a difference in the contamination state of the cleaning liquid, when no change is observed in the obtained difference, and judging the end of the cleaning process with.
【0009】 [0009]
前記汚染状態は、前記洗浄液に含まれる残渣物の量であることを特徴とする。 The contaminated is characterized in that the amount of residue contained in the washing solution.
前記汚染状態は、前記洗浄液のpH値であることを特徴とする。 The contamination condition, wherein said a pH value of the washing liquid.
前記汚染状態は、前記洗浄液の成分比であることを特徴とする。 The contaminated is characterized in that the a component ratio of the cleaning liquid.
【0010】 [0010]
本発明の洗浄装置は、循環利用する洗浄液を用いて、被洗浄物に付着する付着物を取り除く洗浄装置であって、前記被洗浄物を洗浄する前の該洗浄液の汚染状態を示す信号を生成する第1のセンサと、前記被洗浄物を洗浄した後の該洗浄液の汚染状態を示す信号を生成する第2のセンサと、前記第1のセンサからの信号と前記第2のセンサからの信号との差を求め、求めた差が所定の閾値以下のとき、洗浄処理の終了と判定する終了判定部と、を備えることを特徴とする。 Cleaning apparatus of the present invention, by using a washing liquid recycled, a cleaning apparatus for removing deposits adhering to the cleaning object, generating a signal indicating a contamination state before of the cleaning liquid for cleaning the object to be cleaned first sensor and said second sensor for generating a signal indicating a contamination state of the washing liquid after washing the object to be cleaned, the signal from the signal and the second sensor from the first sensor that obtains the difference between, when the obtained difference is equal to or smaller than a predetermined threshold value, characterized in that it comprises a completion and determining end determining unit of the cleaning process, the.
【0011】 [0011]
本発明の洗浄装置は、循環利用する洗浄液を用いて、被洗浄物に付着する付着物を取り除く洗浄装置であって、前記被洗浄物を洗浄する前の該洗浄液の汚染状態を示す信号を出力する第1のセンサと、前記被洗浄物を洗浄した液の該洗浄液の汚染状態を示す信号を出力する第2のセンサと、前記第1のセンサからの信号と前記第2のセンサからの信号との差を求め、求めた差に変化が見られないとき、洗浄処理の終了と判定する終了判定部と、を備えることを特徴とする。 Cleaning apparatus of the present invention, by using a washing liquid recycled, a cleaning apparatus for removing deposits adhering to the cleaning object, and outputs a signal indicating a contamination state before of the cleaning liquid for cleaning the object to be cleaned first sensor and the second sensor for outputting a signal indicating a contamination state of the cleaning liquid in the liquid washing the object to be cleaned, the signal from the signal and the second sensor from the first sensor that It obtains the difference between, when no change is observed in the obtained difference, characterized in that it comprises a completion and determining end determining unit of the cleaning process, the.
【0012】 [0012]
前記第1のセンサおよび前記第2のセンサは、前記洗浄液に含まれる残渣物の量を示す信号を出力することを特徴とする。 The first sensor and the second sensor, and outputs a signal indicative of the amount of residue contained in the washing solution.
前記第1のセンサおよび前記第2のセンサは、前記洗浄液のpH値を示す信号を出力することを特徴とする。 The first sensor and the second sensor, and outputs a signal indicating the pH value of the cleaning solution.
前記第1のセンサおよび前記第2のセンサは、前記洗浄液の成分比を示す信号を出力することを特徴とする。 The first sensor and the second sensor, and outputs a signal indicating the component ratio of the washing liquid.
【0013】 [0013]
前記第1のセンサおよび前記第2のセンサは、光源からの光の強さに基づいて汚染状態を示す信号を出力する測定装置であって、該測定装置は、前記光源を前記第1のセンサと前記第2のセンサとに共用するための光源共用部を備えることを特徴とする。 The first sensor and the second sensor is a measuring device that outputs a signal indicating a contamination state on the basis of the intensity of the light from the light source, the measuring apparatus, the first sensor the light source characterized in that it comprises a light source common unit for sharing the said second sensor and.
前記第1のセンサおよび前記第2のセンサは、光源からの光の強さに基づいて汚染状態を示す信号を出力する測定装置であって、該測定装置は、前記第1のセンサと前記第2のセンサとに前記光源を均等に分配する光源分配部を備えることを特徴とする。 The first sensor and the second sensor is a measuring device that outputs a signal indicating a contamination state on the basis of the intensity of the light from the light source, the measuring device, the said first sensor first characterized in that it comprises a light source distributor for even distribution of the light source into a second sensor.
【0014】 [0014]
【発明の実施の形態】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
〈具体例1〉 <Example 1>
以下、本発明の実施形態を図を用いて詳細に説明する。 Hereinafter, the embodiments of the present invention will be described in detail with reference to FIG.
本発明の洗浄装置10は、図1に示されているように、循環利用される洗浄液に含まれる塵片(パーティクル)の量を測定する第1のセンサ11と、該第1のセンサ11で測定された後の洗浄液が供給され、被洗浄物である半導体装置を洗浄するための洗浄槽12と、該洗浄槽12から排出された洗浄液に含まれるパーティクルの量を測定する第2のセンサ13と、該センサで測定された洗浄液を廃棄または循環利用するための三方弁14と、該三方弁14の制御により循環利用すべき洗浄液を備蓄するタンク15と、該タンク15の洗浄液を圧送するためのポンプ16と、該ポンプ16により圧送される洗浄液に含まれるパーティクルを濾過するためのフィルタ17と、該フィルタ17を経た洗浄のパーティクルを希釈すべく新規な洗浄液 Cleaning apparatus 10 of the present invention, as shown in Figure 1, a first sensor 11 for measuring the amount of dust particles contained in the cleaning liquid is recycled (particles), by the first sensor 11 cleaning liquid after being measured is supplied, a second sensor 13 for measuring the cleaning tank 12 for cleaning a semiconductor device to be cleaned, the amount of particles contained in the cleaning liquid discharged from the cleaning tank 12 When a three-way valve 14 for disposal or recycling of the cleaning liquid measured by the sensor, a tank 15 for stockpiling cleaning liquid to be recycled under the control of the three-way valve 14, for pumping the washing liquid of the tank 15 a pump 16, a novel cleaning solution in order to dilute and filter 17 for filtering particles contained in the cleaning liquid is pumped by the pump 16, the particles of cleaning a via the filter 17 備蓄する洗浄液供給タンク18とを備え、これらの各構成が循環パイプで接続されている。 And a cleaning liquid supply tank 18 to stockpile, the structure of which are connected in a circular pipe.
更に本発明の洗浄装置10は、第1のセンサ11および第2のセンサ13のそれぞれから出力される信号に基づいて洗浄処理の終了を判定する終了判定部20を備える。 Further cleaning apparatus 10 of the present invention includes a termination determination unit 20 determines the completion of the cleaning process based on the signal output from the first sensor 11 and second sensor 13.
【0015】 [0015]
前記洗浄液は、例えば、商品名「ST−106」(東京応化工業株式会社製)などの薬液である。 The cleaning solution is, for example, trade name "ST-106" (manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) is a chemical solution, such as. 該薬液の温度を適宜調整する温度調整部を洗浄装置10に設けることにより、洗浄効率の向上を図ることができる。 By providing the temperature adjusting unit to appropriately adjust the temperature of the chemical solution in the cleaning device 10, it is possible to improve the cleaning efficiency.
第1のセンサ11および第2のセンサ13は、共に所定量の洗浄液に含まれるパーティクルの量を測定し、測定量に対応させて電気的な信号で出力する機能を有しており、例えば洗浄液に含まれるパーティクル量の増加に伴い、出力する信号レベル(信号強度)が低減する。 The first sensor 11 and second sensor 13, both measuring the amount of particles contained in a predetermined amount of cleaning solution has a function of outputting an electrical signal in correspondence to the measured quantity, for example washing liquid with the increase in the amount of particles contained in the output signal level (signal strength) is reduced.
洗浄槽12は、洗浄液で洗浄すべき半導体装置を収容するための槽であり、収容する半導体装置の数は、一つでも複数でもよく、収容する半導体装置の一部、または全体が洗浄液に浸される。 Cleaning tank 12 is a tank for accommodating the semiconductor device to be cleaned with a washing liquid, the number of semiconductor devices to be accommodated, may be a plurality even one part of the semiconductor device that accommodates, or entirely immersed in the cleaning solution It is. この洗浄槽12内の洗浄液を流動させる流動部を洗浄槽12に設けることにより、洗浄効果を向上させることができる。 By providing a flow part for flowing the cleaning liquid in the cleaning tank 12 to the cleaning tank 12, thereby improving the cleaning effect. また、洗浄槽12内に浸された半導体装置を揺動させる揺動部を洗浄槽12に設けることにより、同様な効果を得ることができる。 Further, by providing the swing unit for swinging the semiconductor device immersed in the cleaning tank 12 to the cleaning tank 12, it is possible to obtain the same effect.
洗浄槽12は、前記した半導体装置を洗浄液に浸すバス式に限ることなく、洗浄液を半導体装置にスプレーするスプレー式でもよい。 Cleaning tank 12, a semiconductor device with the present invention is not limited to the bus type immersed in the cleaning liquid, it may be a spray type which spray a cleaning liquid to the semiconductor device.
【0016】 [0016]
フィルタ17は、洗浄液で半導体装置を洗浄することにより、該半導体装置から剥離する付着物、つまりパターンニングで用いたレジスト片や、アッシングと称される灰化処理で生成される物質片などを除去する機能を有する。 Filter 17 is removed by washing the semiconductor device in the cleaning solution, deposits separated from the semiconductor device, i.e. the resist used in the patterning pieces and the like substances pieces generated by the called ashing ashing It has a function of. このフィルタ17で除去しきれない微塵がパーティクルとして循環利用する洗浄液に含まれており、該パーティクルの量を示す信号が前記した第1のセンサ11および第2のセンサ13により出力される。 Speck which can not be removed by this filter 17 is included in the cleaning liquid to cyclic use as particles, it is output by the first sensor 11 and second sensor 13 a signal indicating the amount of the particles described above.
【0017】 [0017]
洗浄液供給タンク18は新規な洗浄液を備蓄しており、該タンク18の洗浄液をパーティクルを含む洗浄液に供給することにより、単位量あたりのパーティクル量を低減することができ、パーティクルで汚染された洗浄液の汚染状態を改善することができる。 Cleaning liquid supply tank 18 is stockpiled new washing liquid, by supplying the cleaning liquid of the tank 18 to the cleaning liquid containing particles, it is possible to reduce the amount of particles per unit volume, contaminated with particles was of the cleaning solution it is possible to improve the pollution state.
タンク15、ポンプ16、フィルタ17および洗浄液供給タンク18のそれぞれは、洗浄液のパーティクル数をカウントする第1のセンサ11から洗浄槽12で洗浄された洗浄液のパーティクル数をカウントする第2のセンサ13までの間以外であれば、循環利用のためのパイプ間の何れの箇所に配置してもよい。 Tank 15, pump 16, each of the filters 17 and the cleaning liquid supply tank 18, to a second sensor 13 for counting the number of particles cleaned cleaning liquid in the cleaning tank 12 from the first sensor 11 for counting the number of particles washings if non- between, it may be disposed in any position between the pipe for recycling.
終了判定部20は、第1のセンサ11から出力される信号強度と第2のセンサ13から出力される信号強度との差を求める比較部21と、該比較部21で求めた信号強度の差が所定の閾値以下のとき、洗浄処理の終了と判定する判定部22とで構成されている。 Termination determination unit 20 includes a comparator 21 for obtaining a difference between the signal intensity outputted from the first sensor 11 and the signal intensity outputted from the second sensor 13, the difference in signal intensity determined by said comparing section 21 when it is less than a predetermined threshold value, and a termination of the cleaning process and the determination unit 22.
【0018】 [0018]
次に、本発明の洗浄装置10の動作を説明する。 Next, the operation of the cleaning apparatus 10 of the present invention.
タンク15に保持される循環利用される洗浄液が、ポンプ16によりフィルタ17を介して圧送される。 Washing liquid recycled is held in the tank 15 is pumped through a filter 17 by a pump 16. このとき、圧送される洗浄液に洗浄液供給タンク18で保持する新規な洗浄液が供給される。 At this time, new cleaning liquid is supplied to hold the cleaning liquid pumped by the cleaning liquid supply tank 18. この供給される新規な洗浄液により、循環利用される洗浄液の汚染状態が改善、つまり単位量あたりに含まれるパーティクル量の濃度が希釈される。 The novel cleaning solution that is the feed, contaminated cleaning liquid being recycled is improved, the concentration of that is the amount of particles contained per unit amount is diluted. この循環利用される洗浄液に対し、第1のセンサ11は該洗浄液に含まれるパーティクルを示す信号(パーティクルの量の増加に伴い信号強度が低減する信号)を終了判定部20へ出力する。 To the cleaning liquid to be this recycling, the first sensor 11 outputs a signal indicating the particles contained in the cleaning liquid (the signal signal strength with increasing amount of particles is reduced) to the end determining unit 20. 第1のセンサ11を経た洗浄液は、被洗浄物としての半導体装置を収容した洗浄槽12へ注がれる。 Cleaning liquid through the first sensor 11 is poured into the cleaning tank 12 containing a semiconductor device as an object to be cleaned. 洗浄槽12に収容された半導体装置が洗浄液にさらされることにより、該半導体装置に付着する付着物が剥離する。 By the semiconductor device contained in the cleaning tank 12 is exposed to the cleaning solution, deposits adhering to the semiconductor device is peeled. 剥離した付着物はパーティクルとして洗浄液に含まれており、該洗浄液が洗浄槽12の排出口から排出され、第2のセンサ13を介して三方弁14に送られる。 Peeled deposits are included in the cleaning liquid as particles, the cleaning liquid is discharged from the discharge port of the cleaning tank 12, it is sent to the three-way valve 14 through the second sensor 13. 三方弁14に送られた洗浄液は、該三方弁の制御により、廃棄処分されるべく廃液処理装置(図示せず)へ送られるか、もしくは再利用するためのタンク15へ送られる。 The cleaning liquid fed to the three-way valve 14 is controlled by the said three-way valve, or sent to waste treatment unit (not shown) are discarded, or sent to the tank 15 for reuse.
第2のセンサ13は、洗浄槽12から排出された洗浄液に含まれるパーティクルの量を示す信号(パーティクル量の増加に伴い信号強度が低減する信号)を終了判定部20へ出力する。 The second sensor 13 outputs a signal indicative of the amount of particles contained in the cleaning liquid discharged from the cleaning tank 12 (the signal signal strength with increasing the amount of particles is reduced) to the end determining unit 20.
【0019】 [0019]
次に、第1のセンサ11からの信号と第2のセンサ13からの信号とを受ける終了判定部20の動作を図2のフローと図3の信号強度を示すグラフとに沿って説明する。 Next will be explained with reference to the graph showing the signal intensity of the flow and 3 of Figure 2 the operation of the end determining unit 20 which receives signals from the first sensor 11 and a signal from the second sensor 13.
終了判定部20は、各センサ11および13からの信号を取得する(ステップS11)。 Termination determination unit 20 acquires the signals from the sensors 11 and 13 (step S11). 第1のセンサ11からの信号強度を時系列に示すグラフが図3(a)に示されている。 Graph showing the signal strength from the first sensor 11 in time series is illustrated in FIG. 3 (a). 図3(a)のグラフに示されているように、該洗浄時間の経過に伴い、循環利用される洗浄液の信号強度が次第に低減した後、ある期間を過ぎると一定の強度を保持する。 As shown in the graph of FIG. 3 (a), with the passage of the cleaning time, the signal intensity of the cleaning liquid to be recycled is then reduced gradually, to maintain a constant strength and too a certain period.
【0020】 [0020]
一方、第2のセンサ13からの信号強度を時系列に示すグラフが図3(b)に示されている。 Meanwhile, a graph showing the signal strength from the second sensor 13 in time series is illustrated in FIG. 3 (b). 図3(b)のグラフに示されているように、洗浄時間の経過に伴い、図3(a)のグラフより急激に信号強度が低減する。 As shown in the graph of FIG. 3 (b), with the passage of cleaning time, suddenly the signal strength is reduced from the graph of FIG. 3 (a). これは、第1のセンサ11からの信号は、循環利用される洗浄液をフィルタ17で濾し、かつ新規な洗浄液で希釈した後のパーティクルの量を示しているのに対し、第2のセンサ13からの信号は、濾過も希釈もされていない洗浄直後の洗浄液に含まれるパーティクルの量を示しているからである。 This signal from the first sensor 11, the cleaning liquid is recycled strainer in filter 17, and while indicates the amount of particles was diluted in a novel cleaning solution from the second sensor 13 the signal is because indicates the amount of particles contained in the cleaning liquid after cleaning the filtration nor is also diluted. また、図3(b)のグラフが次第に上昇するのは、前回測定した単位量あたりのパーティクル量よりも、付着物が半導体装置から洗浄されつつも濾過され希釈されたことにより今回測定した単位量あたりのパーティクル量が低減したことにより、洗浄液の汚染状態が改善されているからである。 Further, the graph rises gradually in FIG. 3 (b), than the particles per volume unit of the previously determined, the unit amount measured this time by the deposits is also filtered diluted while being washed from the semiconductor device by particle amount per is reduced, because the contaminated cleaning solution is improved. この汚染状態が所定の状態まで改善されたところで希釈を中止すると、フィルタ17の濾過規格よりも微細なパーティクルが含まれる洗浄液で洗浄処理が行われる。 When this contaminated ceases diluted with was improved to a predetermined state, the cleaning process is performed with a washing liquid containing the finer particles than filtration standard filter 17. このとき、半導体装置から洗浄すべき付着物が取り除かれていれば、該洗浄液を循環利用しても、新たなパーティクルが発生しないので汚染状態が変化することがない。 In this case, if the deposit to be cleaned are removed from the semiconductor device, it is circulated utilizing the cleaning liquid, never contaminated state changes because new particles does not occur. よって、単位量あたりのパーティクル量が一定となり、第2のセンサ13からの信号強度は一定の値となる。 Therefore, it amount of particles per unit volume is constant, the signal strength from the second sensor 13 becomes a constant value.
【0021】 [0021]
受信した信号が、終了判定部20の比較部21へ送られ、該比較部21は、第1のセンサ11からの信号強度と第2のセンサ13からの信号強度との差を算出する(ステップS12)。 Received signal is sent to the comparator 21 of the end determining unit 20, the comparison unit 21 calculates the signal strength from the first sensor 11 the difference between the signal strength from the second sensor 13 (step S12). この算出結果を時間経過で示すグラフが図3(c)に示されている。 Graph showing the calculated results over time are shown in Figure 3 (c).
求めた信号強度の差が比較部21から判定部22へ送られ、該判定部22は、図3(c)のa′に示されているように、求めた信号強度の差と予め保持する閾値とを比較し、信号強度差が閾値以下であるか否かを判定し(ステップS13)、この判定で信号強度差が閾値以下であるとき、図3(c)のb′に示す時間で洗浄処理の終了と判断する(ステップS14)。 Difference in signal intensity determined is sent to the judging section 22 from the comparator 21, the determination unit 22, as shown in a 'of FIG. 3 (c), held in advance the difference in signal strength obtained comparing the threshold value, it determines whether the signal intensity difference is equal to or less than the threshold (step S13), and when the signal intensity difference in this determination is equal to or less than the threshold, at the times indicated in b 'shown in FIG. 3 (c) Exit to determine the cleaning process (step S14). 一方、判定部22は、求めた差が所定の閾値以上のとき、洗浄処理の継続と判断する(ステップS14)。 On the other hand, the determination unit 22, the obtained difference is when more than a predetermined threshold value, it is determined that continuation of the cleaning process (step S14).
判定部22での判定結果が図示しない制御部に送られ、該制御部は判定結果に基づいて洗浄処理の継続制御か洗浄処理の終了制御かの何れか一方の制御を行う。 Determination in the determination section 22 is sent to a controller (not shown), it performs one of the control end control of the continuous control or cleaning process of the cleaning processing based on the control unit is a determination result.
【0022】 [0022]
本発明の洗浄装置10によれば、洗浄液で半導体装置を洗浄する前後で、該洗浄液に含まれるパーティクルの量を示す信号の差を求め、求めた差が所定の閾値以下であるとき、洗浄処理の終了と判定することから、使用する洗浄液の成分や、洗浄液の温度毎にサンプルを用意して洗浄処理の終了を見極めるための実験を行う必要がないことから、経済的であり効率的である。 According to the cleaning apparatus 10 of the present invention, when before and after washing the semiconductor device in the washing solution, obtains the difference signal indicating the amount of particles contained in the washing solution, calculated difference is below a predetermined threshold, the cleaning process since the determination of the completion of the components and of the cleaning liquid to be used, it is not necessary to perform experiments to determine the termination of the cleaning process to prepare a sample for each temperature of the cleaning liquid, which is economical and efficient .
【0023】 [0023]
〈具体例2〉 <Example 2>
具体例1では、閾値を用いて終了判定を行ったが、閾値を用いず終了判定を行う具体例2の洗浄装置30を説明する。 In Example 1, it was subjected to end determination using the threshold, illustrating the cleaning device 30 of the embodiment 2 determines the termination without a threshold.
具体例2の洗浄装置30の構成は、図4に示されているように、具体例1と同じ第1のセンサ11と、洗浄槽12と、第2のセンサ13と、三方弁14と、タンク15と、ポンプ16と、フィルタ17と、洗浄液供給タンク18と、具体例1の終了判定部20に代わる終了判定部31とで構成されている。 Construction of the cleaning apparatus 30 of the embodiment 2, as shown in FIG. 4, the same first sensor 11 and the specific example 1, the cleaning tank 12, a second sensor 13, a three-way valve 14, a tank 15, a pump 16, a filter 17, a cleaning liquid supply tank 18, and a completion determination unit 31 replaces the end determining unit 20 of the embodiment 1.
終了判定部31の構成以外は、前記した具体例1と同じであることから、同じ構成の説明は割愛し、具体例2の特徴である終了判定部31を説明する。 Except for the configuration of the end determining unit 31, since it is the same as the embodiment 1 described above, description of the same configuration will be omitted, illustrating the end determining unit 31, which is a feature of the embodiment 2.
【0024】 [0024]
具体例2の終了判定部31は、第1のセンサ11からの信号強度と第2のセンサ13からの信号強度との差を求める比較部32と、該比較部32で求めた差に変化が見られないとき、洗浄処理の終了と判定する判定部33とを備える。 End determining unit 31 of the embodiment 2, a comparator 32 for obtaining a difference between the signal intensity from the signal intensity from the first sensor 11 second sensor 13, a change in difference obtained in the comparing unit 32 when not observed, and a termination of the cleaning process and the determination unit 33.
比較部32は、前記した具体例1と同じ機能であり、図3(a)のグラフで示される信号強度と、図3(b)のグラフで示される信号強度と差を算出し、図3(c)のグラフで示される算出結果が判定部33へ出力される。 Comparing unit 32 has the same function as the embodiment 1 mentioned above, and calculates the signal strength indicated by the graph of FIG. 3 (a), the signal strength and the difference represented by the graph of FIG. 3 (b), FIG. 3 calculation results shown in the graph of (c) is outputted to the determination unit 33.
判定部33は、比較部32からの差に対する時間変化を求める。 Determination unit 33 obtains the time variation with respect to the difference from the comparator 32. すなわち、所定の時間T1における信号強度をD1、そこからΔT時間経過した信号強度をD2とすると、ΔTでの信号強度の変化量dD1は、次の式で表すことができる。 That is, the signal strength in a predetermined time T1 D1, when the elapsed signal strength therefrom ΔT time and D2, variation dD1 signal strength at ΔT can be expressed by the following equation.
dD1=(D2−D1)/(ΔT) dD1 = (D2-D1) / (ΔT)
【0025】 [0025]
dD1の値は、ΔT時間における信号強度差の変化量を示しており、dD1が大きければ、ΔT時間における信号強度差の変化量が大きくなり、dD1が小さければ、ΔT時間における信号強度差の変化量が小さい。 The value of dD1 shows the variation of the signal intensity difference in ΔT time, the larger the dD1, the amount of change in the signal intensity difference becomes large at ΔT time, the smaller the dD1, change in signal intensity difference in ΔT time the amount is small. 判定部33は、この変化量が0のとき、つまり信号強度差の変化がなくなったとき、洗浄処理の終了と判定する。 Determining unit 33, when the amount of change is zero, i.e. when the change of the signal intensity difference has disappeared, it is determined that termination of the cleaning process. すなわち、図7のグラフに示すように、第1のセンサ11から出力するパーティクルの量を示す信号強度と、第2のセンサ13から出力するパーティクルの量を示す信号強度との差に変化が見られないとき、洗浄処理の終了(図7のb′に対応)と判定する。 That is, as shown in the graph of FIG. 7, viewed the signal strength indicating the amount of particles to be output from the first sensor 11, a change in the difference between the signal intensity indicative of the amount of particles to be output from the second sensor 13 when not, it is determined that termination of the cleaning process (corresponding to b 'in FIG. 7).
【0026】 [0026]
前記した具体例2の洗浄装置30によれば、洗浄液で半導体装置を洗浄する前後で、該洗浄液に含まれるパーティクルの量を示す信号の差を求め、求めた差に変化が見られないとき、洗浄処理の終了と判定することから、付着物の量、付着物の成分、洗浄液の成分、洗浄液の温度、および洗浄物の個数など多種多様な条件毎にサンプルを用意して、洗浄処理の終了を見極めるための実験を行う必要がなく、経済的かつ効率的である。 According to the cleaning apparatus 30 of the embodiment 2 mentioned above, before and after washing the semiconductor device in the washing solution, obtains the difference signal indicating the amount of particles contained in the washing solution, when no change is observed in the calculated difference, from determining completion of the cleaning process and the amount of deposit, components of the deposit, components of the cleaning liquid, cleaning liquid temperature, and the like number of washes were prepared sample every variety of conditions, completion of the cleaning process it is not necessary to perform experiments to determine the, is economical and efficient.
【0027】 [0027]
〈具体例3〉 <Example 3>
前記した具体例の第1のセンサ11および第2のセンサ13は、洗浄液に含まれる単位量あたりのパーティクル量を示す信号を出力したが、これに代えて例えば、洗浄液の過酸化水素水の濃度、つまりpH値を示す信号を出力するセンサを用いる構成であってもよい。 The first sensor 11 and second sensor 13 of the embodiment described above has been output a signal indicating the amount of particles per unit volume contained in the cleaning liquid, for example, instead of this, the concentration of hydrogen peroxide in the cleaning solution , that is, it may be configured to use a sensor that outputs a signal indicating the pH values.
例えば、半導体装置に付着する付着物が鉄であり、洗浄液が硫酸であるとき、鉄は硫酸と反応する。 For example, deposits adhering to the semiconductor device is iron, when the cleaning liquid is sulfuric acid, iron reacts with sulfuric acid. この時の反応式は、以下のように書き表すことができる。 Scheme at this time can be written as follows.
Fe+H SO (液中では、2H +SO −2 ) → FeSO +H Fe + H 2 SO 4 (in the liquid, 2H + + SO 4 -2) → FeSO 4 + H 2
つまり、鉄と硫酸が反応した場合、水素が発生し、液中のH 濃度(pH)が減少する。 That is, if the iron and sulfuric acid are reacted, the hydrogen is generated, H + concentration in the solution (pH) decreases.
従って、洗浄前のpH値を示す信号強度と洗浄後のpH値を示す信号強度との差を求め、該信号強度差が所定の閾値以下のとき、または該信号強度差に変化が見られないとき、洗浄処理の終了と判断する。 Thus, obtains the difference between the signal intensity indicated a pH value of washed and the signal strength indicating the pH value of the pre-wash, when the signal intensity difference is below a predetermined threshold value, or not change is observed on the signal intensity difference when, it is determined that termination of the cleaning process. これにより、多くのサンプルを用意して実験を行い、洗浄処理の終了を見極める必要がなく、実験のための費用と時間とを低減することができ、経済的であり効率的である。 Thus, performed experiments to prepare a number of samples, it is not necessary to determine the termination of the cleaning process, it is possible to reduce the cost and time for the experiment, which is economical and efficient.
【0028】 [0028]
〈具体例4〉 <Example 4>
更に、前記したpH値を示す信号に基づいて終了を判定する以外に、洗浄液の成分を示す信号に基づいて、洗浄処理の終了を判定してもよい。 Furthermore, in addition to determine the end based on the signal indicating the pH values ​​described above, based on a signal indicating the components of the cleaning solution, the termination of the cleaning process may be determined. 洗浄液の成分を検出するセンサが特開平6−331541号公報に開示されている。 A sensor for detecting components of the cleaning liquid is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 6-331541. 該センサは、洗浄液に照射した光源の透過光強度信号から各波長の光の吸光度を演算するとともに、演算した各波長の光の吸光度と多量解析法により予め求めた検量線式に基づいて洗浄液の成分を測定する。 The sensor, as well as calculating the absorbance of light of each wavelength from the transmitted light intensity signal of the light source irradiated to the cleaning liquid, the cleaning liquid on the basis of the previously determined calibration curve equation by absorbance and a large amount analysis of light of each wavelength was computed to measure the ingredients. 具体例4の洗浄装置は、被洗浄物を洗浄する前の洗浄液の成分を測定する第1のセンサと、洗浄した後の洗浄液の成分を検出する第2のセンサとの光源を共用する測定装置40を備えることを特徴とする。 Cleaning apparatus embodiment 4, the measurement device for sharing a first sensor for measuring components of the previous washing liquid for washing the object to be cleaned, the light source of the second sensor for detecting a component of the cleaning liquid after cleaning characterized in that it comprises a 40.
測定装置40以外の構成は、前記した具体例と同じであることからその説明を割愛し、本発明の測定装置40の特徴を示すブロック図を用いて、該測定装置を説明する。 Configuration other than the measurement apparatus 40, omitted the description because it is the same as the embodiment described above with reference to the block diagram showing the characteristics of the measuring apparatus 40 of the present invention will be described the measurement device.
【0029】 [0029]
測定装置40は、図5に示されているように第1のセンサ41と、第2のセンサ42と、各センサ41および42に供給する光源を発生する光源部43と、該光源部43からの光源を第1のセンサ41および第2のセンサ42で共用するための共用部44とを備える。 Measuring device 40 includes a first sensor 41 as shown in Figure 5, the second sensor 42, a light source unit 43 for generating a light source supplied to each sensor 41 and 42, from the light source unit 43 It comprises a light source and a common portion 44 to be shared by the first sensor 41 and second sensor 42. 光源部43からの光源の光路46は、プリズムやミラーや光ファイバーなどにより形成され、該光路46が光源部43からの光を各センサに設けられた受光部47もしくは48に向かって定められている。 Light source of the optical path 46 from the light source unit 43 is formed by a prism or a mirror or an optical fiber, the optical path 46 is defined toward the light receiving portion 47 or 48 provided the light from the light source unit 43 to each sensor .
受光部47および48は、光源が洗浄液を透過する吸光度を測定し、その測定値を図示しない演算部に出力する。 Light receiving portions 47 and 48, the light source and the absorbance measured for transmitting cleaning liquid, and outputs to the operation unit (not shown) the measured value. 測定値に基づいて演算部は演算を行い、演算結果を洗浄液の成分を示す信号として前記した具体例の終了判定部へ出力する。 Calculation unit based on the measurement value performs the operation, and outputs the calculation result to the end determining unit embodiments described above as a signal indicating a component of the cleaning solution.
【0030】 [0030]
共用部44は、光源部43からの光、つまり光路が第1のセンサ41の受光部47もしくは第2のセンサ42の受光部48の何れか一方へ向かうように選択的に切り替えるべく、例えば光路を制御可能なミラーやプリズムなどにより光の反射角度を調整したり、光源を受け入れた光ファイバーの出力端を、何れか一方の受光部へ光路が向かうように向きを変えたりする機能を有する。 Shared unit 44, light from the light source unit 43, i.e. to the optical path is switched selectively toward the one of the light receiving portion 48 of the light receiving portion 47 or second sensor 42 of the first sensor 41, for example, an optical path or adjust the reflection angle of the light due controllable mirrors and prism, the output end of the optical fiber received light sources, having one of the functions or change the direction so that the optical path is directed to the light receiving portion. これにより、第1のセンサ41の受光部47、もしくは第2のセンサ42の受光部48へ光路を選択的に変更することができることから、センサ毎に光源部を設ける必要がなく、測定装置40の簡素化を図ることができる。 Accordingly, since it is possible to light receiving portion 47 of the first sensor 41 or the light receiving portion 48 of the second sensor 42 to selectively change the light path, there is no need to provide a light source unit for each sensor, the measuring device 40 it is possible to simplify.
更に、第1のセンサ41および第2のセンサ42は同じ光源を用いて測定を行うことから、光源の違いで生じる光強度の差を補正する必要がなく、洗浄前の洗浄液と洗浄後の洗浄液との成分差を正確に測定することができる。 Furthermore, since the first sensor 41 and second sensor 42 to perform measurement using the same light source, it is not necessary to correct the difference in light intensity caused by the difference of the light source, the cleaning liquid after cleaning with the cleaning liquid before washing the component difference between can be measured accurately.
【0031】 [0031]
前記したように、第1のセンサ41と第2のセンサ42で光源を共有する共用部44を設けた測定装置を洗浄装置に備えることにより、洗浄前の洗浄液と洗浄後の洗浄液との成分差を正確に測定することができることから、該測定結果に基づいて終了判定を正確に行うことができる。 As mentioned above, component difference between the first sensor 41 by providing the cleaning device a measuring device provided with a shared unit 44 to share the light source in the second sensor 42, the cleaning liquid after cleaning with the cleaning liquid before washing from being able to accurately measure, it is possible to accurately perform end determination based on the measurement result.
【0032】 [0032]
〈具体例5〉 <Example 5>
次に、光源を共用する共用部44に代えて光源を均等に分配する分配部51を設けた測定装置50を図を用いて説明する。 Next, a measuring device 50 provided with the distribution unit 51 to uniformly distribute the light source in place of the duplexer 44 for sharing the light source will be described with reference to FIG.
測定装置50は、図6に示されているように、第1のセンサ41と、第2のセンサ42と、各センサ41および42に供給する光源を発生する光源部43と、該光源部43からの光源を第1のセンサ41および第2のセンサ42に分配するための分配部51とを備える。 Measuring device 50, as shown in FIG. 6, the first sensor 41, the second sensor 42, a light source unit 43 for generating a light source supplied to each sensor 41 and 42, the light source unit 43 a light source from and a distributing unit 51 for distributing the first sensor 41 and second sensor 42.
【0033】 [0033]
分配部51は、光源部43からの光源の光路49を第1のセンサ41の受光部47と第2のセンサ42の受光部とに分配すべく、例えば光ファイバー内を伝送する光を分岐するためのプリズムや、半透過型プリズムに照射されて分岐した光の光路を変えるためのミラーなどで構成される。 Distribution unit 51, in order to distribute the light path 49 of the light source from the light source unit 43 to the light receiving portion 47 of the first sensor 41 and the light receiving portion of the second sensor 42, for example, for branching the light transmitted through the optical fiber and the prism, and the like mirror for changing the optical path of the light branching is irradiated to the semi-transmissive prism.
分配部51は、光源部43からの光源の光路49上に設けられており、分配部51は、前記光源を均等に分配し、図6に示されているように分配された一方の光路49′を第1のセンサ41の受光部47へ向かって定め、分配された他方の光路49″を第2のセンサ42の受光部48へ向かって定める。 Distribution unit 51 is provided on the light source of the optical path 49 from the light source unit 43, distribution unit 51, the light source evenly distribute, one of the optical path 49 that is distributed as shown in FIG. 6 the 'set toward the light receiving portion 47 of the first sensor 41, defining toward the other optical path 49' which is distributed to the light receiving portion 48 of the second sensor 42.
これにより、センサ毎に光源部を設けなくてもよく、測定装置40の簡素化を図ることができる。 Accordingly, it is not necessary provided the light source unit for each sensor, it is possible to simplify the measuring apparatus 40. また、光源の違いで生じる光強度の差を補正する必要がなく、洗浄前の洗浄液と洗浄後の洗浄液との成分差を正確に測定することができる。 Further, there is no need to correct the difference in light intensity caused by the difference of the light source without accurately measuring the component difference between the washing liquid after washing with the washing solution before washing. 更に、光源からの光を分光することにより、各センサ41および42に継続的に光源を供給することができることから、連続的に洗浄液の成分を測定することができる。 Further, by dispersing the light from the light source, since it is possible to continuously supply a light source to each sensor 41 and 42 can be measured continuously components of the cleaning liquid.
【0034】 [0034]
前記したように、第1のセンサ41および第2のセンサ42へ光源を均等に分配する分配部51を設けた測定装置を洗浄装置に備えることにより、洗浄前の洗浄液と洗浄後の洗浄液との成分差を正確かつ連続的に測定することができることから、該測定結果に基づいて終了判定を正確、かつ速やかに行うことができる。 As described above, by providing a measuring apparatus provided with a distribution unit 51 which evenly distribute the light to the first sensor 41 and second sensor 42 to the cleaning device, the cleaning liquid after cleaning with the cleaning liquid before washing since it is possible to measure the component difference accurately and continuously, it is possible to perform the termination determination accurately, and quickly based on the measurement result.
【0035】 [0035]
前記した具体例の各センサから出力される信号強度は、図3(a)および図3(b)に示したように、洗浄液の汚染状態の悪化に伴って信号強度が低減する例で説明したが、これに限ることなく、例えば図8(a)および図8(b)に示すように、各センサは、汚染状態の悪化に伴って信号強度が増大するような信号を出力してもよく、該各センサからの信号を受ける終了判定部の比較部は、図8(c)に示されているように、汚染状態の悪化に伴って増大する信号強度に基づいて、その差を取得してもよい。 Signal strength output from each sensor of embodiment described above, as shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b), the signal intensity with the deterioration of the contaminated cleaning solution has been described in example reducing well but is not limited to this, for example, as shown in FIG. 8 (a) and 8 (b), each sensor may output a signal such as signal strength with the worsening of the contaminated increases , comparison of the end determining unit which receives the signals from the respective sensors, as shown in FIG. 8 (c), based on the signal intensity increases with the deterioration of the contaminated, obtains the difference it may be.
【0036】 [0036]
【発明の効果】 【Effect of the invention】
本発明の洗浄終了判定方法および洗浄装置によれば、被洗浄物に付着する付着物を洗浄する前の洗浄液の汚染状態を示す信号と、洗浄後の洗浄液の汚染状態を示す信号との差を求め、求めた差が所定の閾値以下のとき、もしくは求めた差に変化が見られないとき、洗浄処理の終了と判定することにより、様々な条件を再現するための多くのサンプルを用意して実験を行い、洗浄処理の終了を見極める必要がないことから、実験のための費用と時間とを低減することができ、経済的かつ作業効率を向上することができる。 According to the cleaning completion determining method and cleaning apparatus of the present invention, a signal indicating a contamination state before the cleaning liquid for cleaning deposits adhering to the cleaning object, the difference between the signal indicating the contamination state of the cleaning liquid after cleaning determined, when the obtained difference is equal to or smaller than a predetermined threshold value, or when no change is observed in the obtained difference by determining the end of the washing process and, to prepare a number of samples to reproduce various conditions conducted experiments, it is not necessary to determine the termination of the cleaning process, it is possible to reduce the cost and time for the experiment, it is possible to improve the economical and operational efficiency.
【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
【図1】具体例1の洗浄装置を示すブロック図である。 1 is a block diagram showing a cleaning device of the embodiment 1.
【図2】終了判定部の動作フローを示す図である。 2 is a diagram showing an operation flow of the end determination section.
【図3】(a)第1のセンサから出力される信号強度を示すグラフである。 3 (a) is a graph showing the signal intensity outputted from the first sensor.
(b)第2のセンサから出力される信号強度を示すグラフである。 (B) is a graph showing the signal intensity outputted from the second sensor.
(c)信号強度差の時間変化を示すグラフである。 (C) is a graph showing temporal changes of the signal intensity difference.
【図4】具体例2の洗浄装置を示すブロック図である。 4 is a block diagram showing a cleaning device of the embodiment 2.
【図5】具体例4の測定装置の特徴を示すブロック図である。 5 is a block diagram showing a characteristic of a measurement device of embodiment 4.
【図6】具体例5の測定装置の特徴を示すブロック図である。 6 is a block diagram showing the characteristics of the measuring apparatus of Example 5.
【図7】信号強度差の時間微分を示すグラフである。 7 is a graph showing the time derivative of the signal intensity difference.
【図8】(a)汚染状態の悪化に伴って信号強度が増大する第1のセンサから出力される信号強度を示すグラフである。 8 (a) is a graph showing the signal intensity outputted from the first sensor signal strength with the deterioration of the contaminated increases.
(b)汚染状態の悪化に伴って信号強度が増大する第2のセンサから出力される信号強度を示すグラフである。 (B) is a graph showing the signal strength signal intensity is output from the second sensor increases with the deterioration of the contaminated.
(c)汚染状態の悪化に伴って信号強度が増大する信号強度の差を時間変化と共に示したグラフである。 (C) is a graph showing a difference in signal strength the signal intensity with the deterioration of the contaminated increases with time change.
【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS
10 洗浄装置11 第1のセンサ12 洗浄槽13 第2のセンサ14 三方弁15 タンク16 ポンプ17 フィルタ18 洗浄液供給タンク20 終了判定部21 比較部22 判定部 10 cleaning device 11 first sensor 12 cleaning tank 13 and the second sensor 14 the three-way valve 15 tank 16 pump 17 filter 18 cleaning liquid supply tank 20 end determining unit 21 comparison unit 22 determination unit

Claims (12)

  1. 循環利用する洗浄液を用いて被洗浄物に付着する付着物を取り除く洗浄処理の終了を判定する方法において、 The method of determining completion of the cleaning process to remove deposits adhering to the cleaning object with a cleaning liquid for recycling,
    前記被洗浄物を前記洗浄液により洗浄する前後の該洗浄液の汚染状態の差を取得すること、 Obtaining a difference in the contamination state of the cleaning liquid before and after washing the object to be cleaned by the cleaning liquid,
    取得した差が所定の閾値以下のとき、洗浄処理の終了と判定することを特徴とする洗浄終了判定方法。 When the obtained difference is equal to or less than a predetermined threshold, the cleaning end determining method characterized by determining the end of the cleaning process with.
  2. 循環利用する洗浄液を用いて被洗浄物に付着する付着物を取り除く洗浄処理の終了を判定する方法において、 The method of determining completion of the cleaning process to remove deposits adhering to the cleaning object with a cleaning liquid for recycling,
    前記被洗浄物を前記洗浄液により洗浄する前後の該洗浄液の汚染状態の差を取得すること、 Obtaining a difference in the contamination state of the cleaning liquid before and after washing the object to be cleaned by the cleaning liquid,
    取得した差に変化が見られないとき、洗浄処理の終了と判定することを特徴とする洗浄終了判定方法。 When no change is observed in the obtained differential, cleaning end determining method characterized by determining the end of the cleaning process with.
  3. 前記汚染状態は、前記洗浄液に含まれる残渣物の量であることを特徴とする請求項1および請求項2記載の洗浄終了判定方法。 The contamination condition claims 1 and 2 cleaning completion determining method according to, characterized in that the amount of residue contained in the washing solution.
  4. 前記汚染状態は、前記洗浄液のpH値であることを特徴とする請求項1および請求項2記載の洗浄終了判定方法。 The contamination condition claims 1 and 2 cleaning completion determining method according to wherein a pH value of the washing liquid.
  5. 前記汚染状態は、前記洗浄液の成分比であることを特徴とする請求項1および請求項2記載の洗浄終了判定方法。 The contamination condition claims 1 and 2 cleaning completion determining method according to wherein a component ratio of the cleaning liquid.
  6. 循環利用する洗浄液を用いて、被洗浄物に付着する付着物を取り除く洗浄装置において、 Using the washing liquid recycled in the cleaning device for removing deposits adhering to the cleaning object,
    前記被洗浄物を洗浄する前の該洗浄液の汚染状態を示す信号を生成する第1のセンサと、 A first sensor for generating a signal indicating a contamination state before of the cleaning liquid for cleaning the object to be cleaned,
    前記被洗浄物を洗浄した後の該洗浄液の汚染状態を示す信号を生成する第2のセンサと、 A second sensor for generating a signal indicating a contamination state of the washing liquid after washing the object to be cleaned,
    前記第1のセンサからの信号と前記第2のセンサからの信号との差を求め、求めた差が所定の閾値以下のとき、洗浄処理の終了と判定する終了判定部と、を備えることを特徴とする洗浄装置。 It obtains the difference between the signal from the signal and the second sensor from the first sensor, when the calculated difference is below a predetermined threshold, the end of the cleaning process and the determining end determining unit, in that it comprises cleaning apparatus according to claim.
  7. 循環利用する洗浄液を用いて、被洗浄物に付着する付着物を取り除く洗浄装置において、 Using the washing liquid recycled in the cleaning device for removing deposits adhering to the cleaning object,
    前記被洗浄物を洗浄する前の該洗浄液の汚染状態を示す信号を出力する第1のセンサと、 A first sensor for outputting a signal indicating a contamination state before of the cleaning liquid for cleaning the object to be cleaned,
    前記被洗浄物を洗浄した液の該洗浄液の汚染状態を示す信号を出力する第2のセンサと、 A second sensor for outputting a signal indicating a contamination state of the cleaning liquid in the liquid washing the object to be cleaned,
    前記第1のセンサからの信号と前記第2のセンサからの信号との差を求め、求めた差に変化が見られないとき、洗浄処理の終了と判定する終了判定部と、を備えることを特徴とする洗浄装置。 Obtains the difference between the signal from the signal and the second sensor from the first sensor, when no change is observed in the obtained difference, the end of the cleaning process and the determining end determining unit, in that it comprises cleaning apparatus according to claim.
  8. 前記第1のセンサおよび前記第2のセンサは、前記洗浄液に含まれる残渣物の量を示す信号を出力することを特徴とする請求項6および請求項7記載の洗浄装置。 The first sensor and the second sensor, the cleaning device according to claim 6 and claim 7 and outputs a signal indicative of the amount of residue contained in the washing solution.
  9. 前記第1のセンサおよび前記第2のセンサは、前記洗浄液のpH値を示す信号を出力することを特徴とする請求項6および請求項7記載の洗浄装置。 The first sensor and the second sensor, the cleaning device according to claim 6 and claim 7 and outputs a signal indicating the pH value of the cleaning solution.
  10. 前記第1のセンサおよび前記第2のセンサは、前記洗浄液の成分比を示す信号を出力することを特徴とする請求項6および請求項7記載の洗浄装置。 The first sensor and the second sensor, the cleaning device according to claim 6 and claim 7 and outputs a signal indicating the component ratio of the washing liquid.
  11. 前記第1のセンサおよび前記第2のセンサは、光源からの光の強さに基づいて汚染状態を示す信号を出力する測定装置であって、 The first sensor and the second sensor is a measuring device that outputs a signal indicating a contamination state on the basis of the intensity of the light from the light source,
    該測定装置は、前記光源を前記第1のセンサと前記第2のセンサとに共用するための光源共用部を備えることを特徴とする請求項6および請求項7記載の洗浄装置。 The measuring device, the cleaning device according to claim 6 and claim 7, characterized in that it comprises a light source common unit for sharing the light source into said second sensor and the first sensor.
  12. 前記第1のセンサおよび前記第2のセンサは、光源からの光の強さに基づいて汚染状態を示す信号を出力する測定装置であって、 The first sensor and the second sensor is a measuring device that outputs a signal indicating a contamination state on the basis of the intensity of the light from the light source,
    該測定装置は、前記第1のセンサと前記第2のセンサとに前記光源を均等に分配する光源分配部を備えることを特徴とする請求項6および請求項7記載の洗浄装置。 The measuring device, the first sensor and the second cleaning device according to claim 6 and claim 7, characterized in that it comprises a light source distributor for even distribution of the light source and sensor.
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