JP2004347874A - 感光性絶縁樹脂組成物およびその硬化物 - Google Patents
感光性絶縁樹脂組成物およびその硬化物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004347874A JP2004347874A JP2003145066A JP2003145066A JP2004347874A JP 2004347874 A JP2004347874 A JP 2004347874A JP 2003145066 A JP2003145066 A JP 2003145066A JP 2003145066 A JP2003145066 A JP 2003145066A JP 2004347874 A JP2004347874 A JP 2004347874A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin composition
- meth
- insulating resin
- photosensitive insulating
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明における感光性絶縁樹脂組成物は、オキシラン環含有樹脂（Ａ）、分子中に少なくとも２つ以上のエチレン性不飽和二重結合を含有する化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、および溶剤（Ｄ）を含有することを特徴としている。また、本発明の硬化物はこのような感光性絶縁樹脂組成物を熱硬化してなることを特徴としている。
【効果】本発明によれば、解像性、電気絶縁性、熱衝撃性に優れるとともに、良好な耐薬品性を有する硬化物が得られる感光性絶縁樹脂組成物を得ることができる。
【選択図】 なし
【効果】本発明によれば、解像性、電気絶縁性、熱衝撃性に優れるとともに、良好な耐薬品性を有する硬化物が得られる感光性絶縁樹脂組成物を得ることができる。
【選択図】 なし
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体素子などの表面保護膜（オーバーコート膜）や層間絶縁膜（パッシベーション膜）などに用いられる感光性絶縁樹脂組成物およびそれを硬化してなる硬化物に関する。永久膜レジストとして解像性に優れているとともに電気絶縁性、熱衝撃性、耐薬品性等の特性に優れた硬化物、およびそのような硬化物が得られる感光性絶縁樹脂組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、電子機器の半導体素子に用いられる表面保護膜、層間絶縁膜などには耐熱性や機械的特性などに優れたポリイミド系樹脂が広く使用されている。また、半導体素子の高集積化によって膜形成精度の向上にために感光性を付与した感光性ポリイミド系樹脂が種々提案されている。例えば、ポリイミド前駆体にイオン結合により光架橋基を導入したタイプ（特公昭５９−５２８２２号公報）やエステル結合で導入したタイプ（特開平３−１８６８４７号公報）の組成物が記載されている。しかしながら、これらの系はイミド化の閉環工程のため高温処理を必要とし、プロセス面で扱いづらいという欠点を有している。
【０００３】
【特許文献１】
特公昭５９−５２８２２号公報
【特許文献２】
特開平３−１８６８４７号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は上記のような従来技術に伴う問題点を解決し、解像性、電気絶縁性、熱衝撃性、耐薬品性等の諸特性に優れた硬化物を得ることができる表面保護膜や層間絶縁膜用途に適した感光性絶縁樹脂組成物を提供することを目的としている。
【０００５】
さらに、本発明はこのような感光性絶縁樹脂組成物を硬化させた硬化物を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記問題点を解決すべく鋭意研究した結果、優れた特性を有する感光性絶縁樹脂組成物を見出すに至った。即ち、本発明は（Ａ）オキシラン環含有樹脂、（Ｂ）分子中に少なくとも２つ以上のエチレン性不飽和二重結合を含有する化合物、（Ｃ）光重合開始剤、および（Ｄ）溶剤から構成される感光性絶縁樹脂組成物を特徴とする。
【０００７】
【発明の具体的説明】
以下、本発明にかかる感光性絶縁樹脂組成物、およびその硬化物について具体的に説明する。
【０００８】
［ 感光性絶縁樹脂組成物 ］
本発明における感光性絶縁樹脂組成物は、（Ａ）オキシラン環含有樹脂、（Ｂ）分子中に少なくとも２つ以上のエチレン性不飽和二重結合を含有する化合物、（Ｃ）光重合開始剤、および（Ｄ）溶剤とから構成される。また、本発明の感光性絶縁樹脂組成物は必要に応じ、その他の添加剤としてオキシラン環含有化合物、硬化剤、架橋微粒子、熱重合禁止剤、界面活性剤、密着助剤、光重合促進剤などのその他添加剤などを含有することもできる。
【０００９】
（Ａ）オキシラン環含有樹脂；
本発明において用いられるオキシラン環含有樹脂（以下、「エポキシ樹脂（Ａ）」という。）は、オキシラン環を分子内に含有していれば特に制限されないが、具体的にはフェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、トリスフェノール型エポキシ樹脂、テトラフェノール型エポキシ樹脂、フェノール−キシリレン型エポキシ樹脂、ナフトール−キシリレン型エポキシ樹脂、フェノール−ナフトール型エポキシ樹脂、フェノール−ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、またエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を共重合させた樹脂（以下、「共重合樹脂」という。）などが挙げられる。
【００１０】
共重合樹脂は、分子中にエチレン性不飽和基を含有する化合物をラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合、熱重合して得られる樹脂であり、エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基を持つ（メタ）アクリレート化合物、もしくはビニル基を持つ化合物が好ましく用いられる。
具体的には、スチレン−グリシジルメタクリレート共重合体（スチレン／グリシジルメタクリレートモル比＝１０〜５０／５０〜９０）、スチレン−ｎ−ブチルアクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体（スチレン／ｎ−ブチルアクリレート／グリシジルメタクリレートモル比＝１０〜５０／５〜８５／５〜８５）などが挙げられる。
【００１１】
これらのエポキシ樹脂（Ａ）は、その分子量は特に限定されないが、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法で測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）が、たとえば２，０００〜５００，０００、好ましくは３，０００〜１００，０００であることが望ましい。
これらのエポキシ樹脂（Ａ）は２種以上を組合せて用いることもでき、特にシクロペンタジエン型エポキシ樹脂とスチレン−グリシジルメタクリレート共重合体との混合物（シクロペンタジエン型エポキシ樹脂／スチレン−グリシジルメタクリレートとの混合重量比＝２５〜７５／２５〜７５）が好ましい。
【００１２】
また、上記エポキシ樹脂（Ａ）のオキシラン環部位の一部 が（メタ）アクリル化して得られる樹脂も用いることができる。
【００１３】
エポキシ樹脂（Ａ）の配合量は、エポキシ樹脂（Ａ）と分子中に少なくとも２つ以上のエチレン性不飽和二重結合を含有する化合物（Ｂ）の合計１００重量部に対して、５〜９０重量部、好ましくは１０〜７０重量部である。配合量が５重量部未満では、得られる硬化膜の耐薬品性が低下し、９０重量部を超えると解像性が低下したりする場合がある。
【００１４】
（Ｂ）分子中に少なくとも２つ以上のエチレン性不飽和二重結合を含有する化合物；
本発明で用いられる少なくとも２つ以上のエチレン性不飽和二重結合を含有する化合物（以下、「エチレン性不飽和化合物（Ｂ）」という。）は、分子中にエチレン性不飽和基を少なくとも２つ含有する常温で液体または固体の化合物であり、一般にはエチレン性不飽和基として（メタ）アクリロイル基を持つ（メタ）アクリレート化合物、もしくはビニル基を持つ化合物が好ましく用いられる。
【００１５】
多官能性（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；
両末端ヒドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトン等の両末端ヒドロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレート類；
グリセリン、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロールアルカン、テトラメチロールアルカン、ジペンタエリスリトール等の３価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類；
３価以上の多価アルコールのポリアルキレングリコール付加物のポリ（メタ）アクリレート類；
１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ベンゼンジオール類等の環式ポリオールのポリ（メタ）アクリレート類；
ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、アルキド樹脂（メタ）アクリレート、シリコーン樹脂（メタ）アクリレート、スピラン樹脂（メタ）アクリレート等のオリゴ（メタ）アクリレート類；
等を挙げることができる。
【００１６】
また、前記エポキシ樹脂（Ａ）のオキシラン環部位に全量（メタ）アクリル化して得られる化合物も用いることができる。
【００１７】
これらエチレン性不飽和化合物（Ｂ）は、市販されているものをそのまま用いることもできる。市販されているエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の具体例としては、アロニックスＭ−２１０、同Ｍ−３０９、同Ｍ−３１０、同Ｍ−４００、同Ｍ−７１００、同Ｍ−８０３０、同Ｍ−８０６０、同Ｍ−８１００、同Ｍ−９０５０、同Ｍ−２４０、同Ｍ−２４５、同Ｍ−６１００、同Ｍ−６２００、同Ｍ−６２５０、同Ｍ−６３００、同Ｍ−６４００、同Ｍ−６５００（以上、東亜合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−５５１、同Ｒ−７１２、同ＴＭＰＴＡ、同ＨＤＤＡ、同ＴＰＧＤＡ、同ＰＥＧ４００ＤＡ、同ＭＡＮＤＡ、同ＨＸ−２２０、同ＨＸ−６２０、同Ｒ−６０４、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＤＰＣＡ−１２０（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート＃２９５、同３００、同２６０、同３１２、同３３５ＨＰ、同３６０、同ＧＰＴ、同３ＰＡ、同４００（以上、大阪有機化学工業（株）製）等の商品名で市販されているものを挙げることができる。
【００１８】
これらは単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００１９】
これらのエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の配合量は、エポキシ樹脂（Ａ）とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の合計１００重量部に対して、５〜９０重量部、好ましくは１０〜７０重量部である。配合量が５重量部未満では、得られる硬化膜の耐薬品性が低下し、９０重量部を超えると熱衝撃性が低下したりする場合がある。
【００２０】
（Ｃ）光重合開始剤；
本発明に用いられる光重合開始剤（Ｃ）としては、エチレン性化合物を反応させることが可能な光ラジカル開始剤、または光ラジカル開始剤と光カチオン重合開始剤を共に使用することができる。
【００２１】
光ラジカル重合開始剤としては、たとえばベンジル、ジアセチル等のα−ジケトン類；ベンゾイン等のアシロイン類；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のアシロインエーテル類；チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、チオキサントン−４−スルホン酸、ベンゾフェノン、４，４（−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類；アセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、α，α’−ジメトキシアセトキシベンゾフェノン、２，２’−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−メトキシアセトフェノン、２−メチル［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン等のアセトフェノン類；アントラキノン、１，４−ナフトキノン等のキノン類；フェナシルクロライド、トリブロモメチルフェニルスルホン、トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等のハロゲン化合物；ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド等の過酸化物；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドなどのアシルフォスフィンオキサイド類等が挙げられる。また、市販品としては、イルガキュア１８４、６５１，５００，９０７、ＣＧ１３６９、ＣＧ２４−６１、ダロキュア１１１６，１１７３（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、ルシリンＬＲ８７２８，ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）、ユベクリルＰ３６（ＵＣＢ社製）等を挙げることができる。また、光カチオン重合開始剤としては、以下に示すような市販品を使用することができる。ジアゾニウム塩であるアデカウルトラセットＰＰ−３３（旭電化工業（株）製）、スルホニウム塩であるオプトマーＳＰ−１５０，１７０（旭電化工業（株）製）、メタロセン化合物であるイルガキュア２６１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）等を挙げることができる。
【００２２】
本発明においては、これらの光重合開始剤（Ｃ）を１種単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。また、光重合開始剤（Ｃ）の配合量は本発明の樹脂組成物の感度、解像度、パターン形状などを確保する観点からエポキシ樹脂（Ａ）とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の合計１００重量部に対して０．１〜６０重量部、好ましくは０．３〜５０重量部である。この場合、光重合開始剤（Ｃ）の配合量が０．１重量部未満では硬化が不十分になり、耐熱性が低下し、６０重量部を超えると、放射線に対する透明性が低下し、パターン形状の劣化をまねくおそれがある。
【００２３】
（Ｄ）溶剤；
有機溶媒（Ｆ）は、樹脂組成物の取り扱い性を向上させたり、粘度や保存安定性を調節するために添加される。このような有機溶媒の種類は、特に制限されるものではないが、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールジブチルエーテル等のプロピレングリコールジアルキルエーテル類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類、ブチルカルビトール等のカルビトール類；乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ｎ−プロピル、乳酸イソプロピル等の乳酸エステル類；酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｎ−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸イソプロピル、プロピオン酸ｎ−ブチル、プロピオン酸イソブチル等の脂肪族カルボン酸エステル類；３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル等の他のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、シクロヘキサノン等のケトン類；Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類；γ−ブチロラクン等のラクトン類を挙げることができる。これらの有機溶媒は、１種単独あるいは２種以上を混合して使用することもできる。
【００２４】
（その他の添加剤）
前述の通り、本発明の感光性絶縁樹脂組成物は必要に応じ、その他の添加剤としてオキシラン環含有化合物、硬化触媒、架橋微粒子、熱重合禁止剤、界面活性剤、密着助剤、光重合促進剤などのその他添加剤などを含有することもできる。
【００２５】
オキシラン環含有化合物；
本発明において用いられるオキシラン環含有化合物は、オキシラン環を分子内に含有していれば特に制限されないが、その分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法で測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）が、２，０００未満のものを言う。また、オキシラン環を分子内に２つ以上有するものが好ましい。
【００２６】
具体的には、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ソルビトールジグリシジルエーテル、ソルビトールトリグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル、ソルビタンジグリシジルエーテル、ソルビタントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、トリグリシジルトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、レゾルシンジグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、ハイドロキノンジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、テレフタル酸ジグリシジルエステルなどが挙げられる。
【００２７】
硬化触媒；
本発明において用いられる硬化触媒は、特に制限されないが、たとえば、アミン類、カルボン酸類、酸無水物、ジシアンジアミド、二塩基酸ジヒドラジド、イミダゾール類、有機ボロン、有機ホスフィン、グアニジン類およびこれらの塩などが挙げられる。
【００２８】
また、放射線などの照射または加熱により酸を発生する光感応性酸発生剤や熱酸発生剤も用いることができる。光感応性酸発生剤や熱酸発生剤は放射線などの照射または加熱により酸を発生する化合物であれば特に限定されないが、例えばオニウム塩化合物、ハロゲン含有化合物、ジアゾケトン化合物、スルホン化合物、スルホン酸化合物、スルホンイミド化合物、ジアゾメタン化合物などを挙げることができる。以下、具体例を示す。
【００２９】
オニウム塩化合物：
オニウム塩化合物としては、例えばヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、ピリジニウム塩などを挙げることができる。
【００３０】
好ましいオニウム塩の具体例としては、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムｐ−トルエンスルホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムトリフリオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムｐ−トルエンスルホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−ｔ−ブチルフェニル・ジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ｔ−ブチルフェニル・ジフェニルスルホニウムｐ−トルエンスルホネート、４，７−ジ−ｎ−ブトキシナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフリオロメタンスルホネートなどを挙げることができる。
【００３１】
ハロゲン含有化合物：
ハロゲン含有化合物としては、例えばハロアルキル基含有炭化水素化合物、ハロアルキル基含有複素環式化合物などを挙げることができる。好ましいハロゲン含有化合物の具体例としては、１，１０−ジブロモ−ｎ−デカン、１，１−ビス（４−クロロフェニル）−２，２，２−トリクロロエタン、フェニル−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−メトキシフェニル−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、スチリル−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、ナフチル−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンなどのｓ−トリアジン誘導体を挙げることができる。
【００３２】
ジアゾケトン化合物：
ジアゾケトン化合物としては、例えば１，３−ジケト−２−ジアゾ化合物、ジアゾベンゾキノン化合物、ジアゾナフトキノン化合物などを挙げることができ、具体例としてはフェノール類の１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル化合物が挙げられる。
【００３３】
スルホン化合物：
スルホン化合物としては、例えばβ−ケトスルホン化合物、β−スルホニルスルホン化合物およびこれらの化合物のα−ジアゾ化合物を挙げることができ、具体例としては、４−トリスフェナシルスルホン、メシチルフェナシルスルホン、ビス（フェナシルスルホニル）メタンなどを挙げることができる。
【００３４】
スルホン酸化合物：
スルホン酸化合物としては、例えばアルキルスルホン酸エステル類、ハロアルキルスルホン酸エステル類、アリールスルホン酸エステル類、イミノスルホネート類などを挙げることができる。
【００３５】
好ましい具体例としては、ベンゾイントシレート、ピロガロールトリストリフルオロメタンスルホネート、ｏ−ニトロベンジルトリフルオロメタンスルホネート、ｏ−ニトロベンジルｐ−トルエンスルホネートなどを挙げることができる。
【００３６】
スルホンイミド化合物：
スルホンイミド化合物の具体例としては、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ナフチルイミドなどを挙げることができる。
【００３７】
ジアゾメタン化合物：
ジアゾメタン化合物の具体例としては、ビス（トリフルオロメチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス［（１’，３’−ジオキソランスピロ−１−シクロヘキサン−３−イル）スルホニル］ジアゾメタンなどを挙げることができる。
【００３８】
硬化触媒として上記に挙げた化合物は、１種単独または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３９】
また、硬化触媒の添加量は、エポキシ樹脂（Ａ）とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の合計１００重量部に対して、０．１〜２０重量部、好ましくは０．５〜１５重量部の範囲内である。また、必要に応じて硬化触媒とともに、硬化反応を促進する目的で硬化促進剤を併用することもできる。
【００４０】
架橋微粒子；
本発明にかかる架橋微粒子としては、Ｔｇが０℃以下であれば特に限定されるものではないが、好ましくは、不飽和重合性基を２個以上有する架橋性モノマー（以下、「架橋性モノマー」と称す。）および、架橋微粒子のＴｇが０℃以下となる様に選択される１種以上のその他モノマー（以下、「その他モノマー」と称す。）を共重合したもの、さらに好ましくは、その他モノマーとして、重合性基以外の官能基、例えば、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、イソシアネート基、水酸基等の官能基を有するモノマーを含むモノマーを共重合したものが用いられる。
【００４１】
架橋性モノマーの例としては、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなどの重合性不飽和基を複数有する化合物を挙げることができる。なかでも、ジビニルベンゼンが好ましい。
【００４２】
その他モノマーの例としては、ブタジエン、イソプレン、ジメチルブタジエン、クロロプレン、１，３−ペンタジエン、（メタ）アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、α−クロロメチルアクリロニトリル、α−メトキシアクリロニトリル、α−エトキシアクリロニトリル、クロトン酸ニトリル、ケイ皮酸ニトリル、イタコン酸ジニトリル、マレイン酸ジニトリル、フマル酸ジニトリルなどの不飽和ニトリル化合物類、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−メチレンビス（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−エチレンビス（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、クロトン酸アミド、ケイ皮酸アミド等の不飽和アミド類、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸エステル類、スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−メトキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｐ−イソプロペニルフェノールなどの芳香族ビニル化合物、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル、グリコールのジグリシジルエーテルなどと（メタ）アクリル酸、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートなどとの反応によって得られるエポキシ（メタ）アクリレートおよび、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとポリイソシアナートとの反応によって得られるウレタン（メタ）アクリレート類、グリシジル（メタ）アクリレート、（メタ）アリルグリシジルエーテルなどのエポキシ基含有不飽和化合物、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、コハク酸−β−（メタ）アクリロキシエチル、マレイン酸−β−（メタ）アクリロキシエチル、フタル酸−β−（メタ）アクリロキシエチル、ヘキサヒドロフタル酸−β−（メタ）アクリロキシエチルなどの不飽和酸化合物。ジメチルアミノ（メタ）アクリレート、ジエチルアミノ（メタ）アクリレート等のアミノ基含有不飽和化合物、（メタ）アクリルアミド、ジメチル（メタ）アクリルアミド等のアミド基含有不飽和化合物、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等の水酸基含有不飽和化合物などを例示することができる。これらのその他モノマーとしては、ブタジエン、イソプレン、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリル酸アルキルエステル類、スチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｐ−イソプロペニルフェノール、グリシジル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類などが好ましく用いられる。
【００４３】
本発明における架橋微粒子を構成する架橋モノマーの比率としては、共重合に用いる全モノマーに占める架橋性モノマーの比率が１〜２０ｗｔ％の範囲が好ましく、より好ましくは２〜１０ｗｔ％の範囲である。
【００４４】
本発明において架橋微粒子成分の粒子の大きさは通常３０〜５００ｎｍ、好ましくは４０〜２００ｎｍのものが使用される。架橋微粒子の粒径コントロール方法は、特に限定されるものではないが、乳化重合により架橋微粒子を合成する場合、使用する乳化剤の量により、乳化重合中のミセルの数を制御し、粒径をコントロールする方法が例示できる。
【００４５】
また、架橋微粒子の配合量は、エポキシ樹脂（Ａ）とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の合計１００重量部に対して、好ましくは５０重量部以下である。５０重量部を越えると耐熱性が低下したり、他成分との相溶性が低下する。
【００４６】
熱重合禁止剤；
本発明の感光性絶縁樹脂組成物には、熱重合禁止剤を添加することができる。このような熱重合禁止剤としては、ピロガロール、ベンゾキノン、ヒドロキノン、メチレンブルー、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、モノベンジルエーテル、メチルヒドロキノン、アミルキノン、アミロキシヒドロキノン、ｎ−ブチルフェノール、フェノール、ヒドロキノンモノプロピルエーテル、４，４’−（１−メチルエチリデン）ビス（２−メチルフェノール）、４，４’−（１−メチルエチリデン）ビス（２，６−ジメチルフェノール）、４，４’−［１−〔４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）フェニル〕エチリデン］ビスフェノール、４，４’，４”−エチリデントリス（２−メチルフェノール）、４，４’，４”−エチリデントリスフェノール、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパンなどを挙げることができる。
【００４７】
これら熱重合禁止剤の使用量は、エポキシ樹脂（Ａ）とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の合計１００重量部に対して好ましくは５重量部以下である。
【００４８】
界面活性剤；
本発明の感光性絶縁樹脂組成物には、塗布性、消泡性、レベリング性などを向上させる目的で界面活性剤を配合することもできる。
【００４９】
界面活性剤としては、例えばＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００、（以上、ＢＭケミー社製）、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３（以上、大日本インキ化学工業（株）製）、フロラードＦＣ−１３５、同ＦＣ−１７０Ｃ、同ＦＣ−４３０、同ＦＣ−４３１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−１１２、同Ｓ−１１３、同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１、同Ｓ−１４５（以上、旭硝子（株）製）、ＳＨ−２８ＰＡ、同−１９０、同−１９３、ＳＺ−６０３２、ＳＦ−８４２８（以上、東レダウコーニングシリコーン（株）製）などの商品名で市販されているフッ素系界面活性剤を使用することができる。
【００５０】
密着助剤；
本発明の感光性絶縁樹脂組成物には、基板との密着性を向上させるために密着助剤を使用することもできる。密着助剤としては、官能性シランカップリング剤が有効である。ここで、官能性シランカップリング剤とは、カルボニル基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポキシ基などの反応性置換基を有するシランカップリング剤を意味し、具体例としては、トリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどを挙げることができる。
【００５１】
密着助剤の配合量は、エポキシ樹脂（Ａ）とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の合計１００重量部に対して１０重量部以下が好ましい。
【００５２】
光重合促進剤；
本発明の感光性絶縁樹脂組成物には、紫外線照射による光重合を促進させるために光重合促進剤を使用することもできる。光重合促進剤としては特に制限はないが、３級アミンが好ましく、特にアニリン誘導体が好ましい。具体例としては、４−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステルなどが挙げられる。
【００５３】
［ 硬化物 ］
本発明にかかる感光性絶縁樹脂組成物は、（Ａ）オキシラン環含有化合物、（Ｂ）分子中に少なくとも２つ以上のエチレン性不飽和二重結合を含有する化合物、（Ｃ）光重合開始剤、および（Ｄ）溶剤、および必要に応じ、その他添加剤を含有し、解像性に優れているとともに、その硬化物は電気絶縁性、熱衝撃性、耐薬品性に優れている。
【００５４】
従って、本発明の感光性絶縁樹脂組成物は、特に、半導体素子の表面保護膜や層間絶縁膜などとして好適に使用することができる。
【００５５】
本発明にかかる感光性絶縁樹脂組成物を支持体（樹脂付き銅箔、銅張り積層板や金属スパッタ膜を付けたシリコンウエハーやアルミナ基板など）に塗工し、乾燥して溶剤などを揮発させて塗膜を形成する。その後所望のマスクパターンを介して露光し、加熱処理（以下、この加熱処理を「ＰＥＢ」という。）を行い、重合反応を促進させる。次いで、溶剤現像液により現像して、未露光部を溶解、除去することにより所望のパターンを得ることができる。さらに、絶縁膜特性を発現させるために加熱処理を行うことにより、硬化膜を得ることができる。
【００５６】
樹脂組成物を支持体に塗工する方法としては、例えば、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、またはスピンコート法などの塗布方法を用いることができる。また、塗布の厚さは、塗布手段、組成物溶液の固形分濃度や粘度を調節することにより、適宜制御することができる。
【００５７】
露光に用いられる放射線としては、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、ｇ線ステッパー、ｉ線ステッパーなどの紫外線や電子線、レーザー光線などが挙げられ、露光量としては使用する光源や樹脂膜厚などによって適宜選定されるが、例えば高圧水銀灯からの紫外線照射の場合、樹脂膜厚１０〜５０μｍでは、５００〜２０，０００Ｊ／ｍ２程度である。
【００５８】
露光後は、発生したラジカルによる重合反応を促進させるために、好ましくはＰＥＢ処理を行う。その条件は樹脂組成物の配合量や使用膜厚などによって異なるが、通常、７０〜１５０℃、好ましくは８０〜１２０℃で、１〜６０分程度である。
【００５９】
その後、溶剤現像液により現像して、未露光部を溶解、除去することによって所望のパターンを形成する。この場合の現像方法としては、シャワー現像法、スプレー現像法、浸漬現像法、パドル現像法などを挙げることができ、現像条件としては通常、２０〜４０℃で１〜１０分程度である。
【００６０】
前記溶剤現像液としては、前述の溶剤（Ｅ）を１種または２種以上混合して使用することができる。また、溶剤現像液には、水や界面活性剤などを適量添加することもできる。なお、溶剤現像液で現像した後は、水または前記の溶剤（Ｅ）を１種または２種以上混合したもので洗浄し、乾燥する。
【００６１】
さらに、現像後に絶縁膜としての特性を十分に発現させるために、加熱処理を行うことによって十分に硬化させることができる。このような硬化条件は特に制限されるものではないが、硬化物の用途に応じて、５０〜２００℃の温度で、３０分〜１０時間程度加熱し、組成物を硬化させることができる。
【００６２】
また、硬化を十分に進行させたり、得られたパターン形状の変形を防止するために二段階で加熱することもでき、たとえば、第一段階では、５０〜１２０℃の温度で、５分〜２時間程度加熱し、さらに８０〜２００℃の温度で、１０分〜１０時間程度加熱して硬化させることもできる。
【００６３】
このような硬化条件であれば、加熱設備として一般的なオーブンや、赤外線炉などを使用することができる。
【００６４】
本発明の感光性絶縁樹脂組成物を用いた半導体素子について、図面により説明する。
【００６５】
図１に示すように、パターン状の金属パッド２が形成された基板１上に、本発明の樹脂組成物を用いてパターン状の絶縁膜３を形成する。次いで金属パッド２と接続するように金属配線４を形成すると、半導体素子が得られる。
【００６６】
さらに図２に示すように、この金属配線４上に、本発明の樹脂組成物を用いてパターン状の絶縁膜５を形成してもよい。
【００６７】
このようにして本発明では、上記のような感光性絶縁樹脂組成物を用いて形成された絶縁樹脂層を有する半導体素子が得られる。
【００６８】
【実施例】
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではない。なお、以下の実施例、比較例における部は特に断らない限り重量部の意味で用いる。
【００６９】
また、硬化物の各特性については、下記のようにして測定した。
【００７０】
解像性；
６インチのシリコンウエハーに感光性絶縁樹脂組成物をスピンコートし、ホットプレートで１２０℃、５分間加熱し、１０μｍ厚の均一な塗膜を作製した。その後、アライナー（Ｋａｒｌ Ｓｕｓｓ社製 ＭＡ−１００）を用い、パターンマスクを介して高圧水銀灯からの紫外線を波長３５０ｎｍにおける露光量が３，０００〜５，０００Ｊ／ｍ２となるように露光した。次いで、ホットプレートで１２０℃、５分間加熱（ＰＥＢ）し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを用いて２３℃で３００秒間、浸漬現像した。得られたパターンの最小寸法を解像度とした。
【００７１】
電気絶縁性（体積抵抗率）：
樹脂組成物をＳＵＳ基板に塗布し、ホットプレートで１２０℃、５分間加熱し、１０μｍ厚の均一な樹脂塗膜を作製した。その後、アライナーを用い、パターンマスクを介して高圧水銀灯からの紫外線を波長３５０ｎｍにおける露光量が３，０００〜５，０００Ｊ／ｍ２となるように露光した。次いで、ホットプレートで１２０℃、５分間加熱（ＰＥＢ）し、対流式オーブンで２００℃、１時間加熱して硬化膜を得た。この得られた硬化膜をプレッシャークッカー試験装置（タバイエスペック（株）社製）で、温度；１２１℃、湿度；１００％、圧力：２．１気圧の条件下で１６８時間処理した。試験前後での層間の体積抵抗率を測定し、耐性を確認した。
【００７２】
熱衝撃性：
樹脂組成物を図３および図４に示す基板に塗布し、ホットプレートで１２０℃、５分間加熱し、導体上で１０μｍ厚の樹脂塗膜を作製した。その後、アライナーを用い、パターンマスクを介して高圧水銀灯からの紫外線を波長３５０ｎｍにおける露光量が３，０００〜５，０００Ｊ／ｍ２となるように露光した。次いで、ホットプレートで１２０℃、５分間加熱（ＰＥＢ）し、対流式オーブンで２００℃、１時間加熱して硬化膜を得た。この基板を冷熱衝撃試験器（タバイエスペック（株）社製）で−５５℃／３０分〜１５０℃／３０分を１サイクルとして耐性試験を行った。硬化膜にクラックなどの欠陥が発生するまでのサイクル数を確認した。
【００７３】
耐薬品性：
６インチのシリコンウエハーに感光性絶縁樹脂組成物をスピンコートし、ホットプレートで１２０℃、５分間加熱し、１０μｍ厚の均一な塗膜を作製した。その後、アライナーを用い、パターンマスクを介して高圧水銀灯からの紫外線を波長３５０ｎｍにおける露光量が３，０００〜５，０００Ｊ／ｍ２となるように露光した。次いで、ホットプレートで１２０℃、５分間加熱（ＰＥＢ）し、対流式オーブンで２００℃、１時間加熱して硬化膜を得た。得られた基板をイソプロピルアルコール中、６０℃で１０分間浸漬し、硬化膜表面を光学顕微鏡で観察した。
【００７４】
合成例１（エポキシ樹脂（Ａ−２）の合成）
２Ｌセパラブルフラスコにスチレン３１５ｇ、グリシジルメタクリレート１８５ｇ、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（以下、「ＡＩＢＮ」という）１５ｇおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５００ｇを加え攪拌を開始した。溶解後、溶液に窒素を１５分間吹き込んだのち、加熱を開始し７０℃で３時間攪拌を続けた。その後ＡＩＢＮ１０ｇを加え同温度でさらに１時間攪拌を続けた。その後反応溶液を１００℃に昇温し、３時間攪拌を続けたのち加熱を止め反応を終了させることにより固形分４９％のエポキシ樹脂（Ａ−２）のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液１０１５ｇを得た。
【００７５】
合成例２ （エポキシ樹脂（Ａ−３）の合成）
２Ｌセパラブルフラスコにスチレン１７０ｇ、ｎ−ブチルアクリレート１５７ｇ、グリシジルメタクリレート１７４ｇ、ＡＩＢＮ１５ｇおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５００ｇを加え攪拌を開始した。溶解後、溶液に窒素を１５分間吹き込んだのち加熱を開始し、７０℃で３時間攪拌を続けた。その後ＡＩＢＮ１０ｇを加え同温度でさらに１時間攪拌を続けた。その後反応溶液を１００℃に昇温し、３時間攪拌を続けたのち加熱を止めた。次いで、溶液が室温まで下がったのち、メトキシハイドロキノン０．１７ｇ、アクリル酸７０ｇ、ベンジルジメチルアミン０．１７ｇを加え溶解したのち、反応溶液を１１０℃まで昇温し、同温度で７時間攪拌を続けた。その後、加熱を止め反応を終了させた。このようにして固形分５０％のエポキシ樹脂（Ａ−３）のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液１０８０ｇを得た。
【００７６】
合成例３ （エポキシ樹脂（Ａ−４）の合成）
１Ｌセパラブルフラスコにシクロペンタジエン型エポキシ樹脂（日本化薬（株）製 商品名；ＸＤ−１０００、エポキシ当量：２５４ｇ／ｅｑ）５００ｇ、トルエン２５０ｇを加え、加熱しながら攪拌を開始し溶解させた。次いで、メトキシハイドロキノン０．２１ｇ、アクリル酸１０６ｇ、ベンジルジメチルアミン０．２７ｇを加え溶解したのち、反応溶液を１１０℃まで昇温し、同温度で１２時間攪拌を続けた。その後、加熱を止め反応を終了させた。次いで減圧加熱下エバポレーターを用いてトルエンを留去したのち乳酸エチルを加え溶解させた。この操作を繰り返したのち、固形分７０％のエポキシ樹脂（Ａ−４）の乳酸エチル溶液８５０ｇを得た。
【００７７】
実施例１
表１に示すとおり、エポキシ樹脂（Ａ−１）５０重量部、エポキシ樹脂（Ａ−２）５０重量部、エチレン性不飽和化合物（Ｂ−１）３５重量部、エチレン性不飽和化合物（Ｂ−２）２５重量部、エチレン性不飽和化合物（Ｂ−４）５０重量部、光重合開始剤（Ｃ−１）２０重量部、光重合開始剤（Ｃ−２）１０重量部、光重合開始剤（Ｃ−３）５重量部、硬化触媒（Ｄ−２）２部および密着助剤（Ｅ−２）を溶剤（Ｆ−１）４０重量部、溶剤（Ｆ−２）１００重量部に溶解した。この組成物の特性を前記評価方法にしたがって測定した。得られた結果を表２に示す。
【００７８】
実施例２〜６
実施例１と同様にして、表１に示した組成の感光性絶縁樹脂組成物を調製し、これらの特性を実施例１と同様に測定した。得られた結果を表２に示す。
【００７９】
比較例１〜４
表１に示す各組成物を調製し、実施例１と同様に物性を測定した。結果を表２に示す。
【００８０】
【表１】
【００８１】
エポキシ樹脂；
Ａ−１：シクロペンダジエン型エポキシ樹脂（日本化薬（株）製 商品名；ＸＤ−１０００）
Ａ−２：合成例１で合成した化合物
Ａ−３：合成例２で合成した化合物
Ａ−４：合成例３で合成した化合物
エチレン性不飽和化合物；
Ｂ−１：ジ（２，２−ジアクリロイルオキシメチルブチル）ヘキサヒドロフタレート
Ｂ−２：トリメチロールプロパントリアクリレート
Ｂ−３：ジペンタエリスリトールの多感応アクリレート（日本化薬（株）製 商品名；ＫＡＹＡＲＡＤ ＭＡＸ３５１０）
Ｂ−４：シクロペンダジエン型エポキシ樹脂の１００％アクリレート変性体（日本化薬（株）製 商品名；ＫＡＹＡＲＡＤ ＺＣＡ−２２８）
光重合開始剤；
Ｃ−１：２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン
Ｃ−２：２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド
Ｃ−３：２，４−ジエチルチオキサントン
硬化触媒；
Ｄ−１：２−エチルイミダゾール
Ｄ−２：１−（２−シアノエチル）−２−エチル−４−メチルイミダゾール
Ｄ−３：ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン
硬化触媒；
Ｅ−１：グリシドキシメチルトリメトキシシラン
Ｅ−２：γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
溶剤；
Ｆ−１：乳酸エチル
Ｆ−２：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
【００８２】
【表２】
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明の半導体素子用ネガ型感光性樹脂組成物を用いて形成された絶縁樹脂層を有する半導体素子の模式断面図である。
【図２】図２は、本発明の半導体素子用ネガ型感光性樹脂組成物を用いて形成された絶縁樹脂層を有する半導体素子の模式断面図である。
【図３】図３は、本発明の半導体素子用ネガ型感光性樹脂組成物が塗布される基材の断面模式図である。
【図４】図４は、本発明の半導体素子用ネガ型感光性樹脂組成物が塗布される基材の表面模式図である。
【符号の説明】
１…基板
２…金属パッド
３…絶縁膜
４…金属配線
５…絶縁膜
６…基材
７…基板
８…銅箔
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体素子などの表面保護膜（オーバーコート膜）や層間絶縁膜（パッシベーション膜）などに用いられる感光性絶縁樹脂組成物およびそれを硬化してなる硬化物に関する。永久膜レジストとして解像性に優れているとともに電気絶縁性、熱衝撃性、耐薬品性等の特性に優れた硬化物、およびそのような硬化物が得られる感光性絶縁樹脂組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、電子機器の半導体素子に用いられる表面保護膜、層間絶縁膜などには耐熱性や機械的特性などに優れたポリイミド系樹脂が広く使用されている。また、半導体素子の高集積化によって膜形成精度の向上にために感光性を付与した感光性ポリイミド系樹脂が種々提案されている。例えば、ポリイミド前駆体にイオン結合により光架橋基を導入したタイプ（特公昭５９−５２８２２号公報）やエステル結合で導入したタイプ（特開平３−１８６８４７号公報）の組成物が記載されている。しかしながら、これらの系はイミド化の閉環工程のため高温処理を必要とし、プロセス面で扱いづらいという欠点を有している。
【０００３】
【特許文献１】
特公昭５９−５２８２２号公報
【特許文献２】
特開平３−１８６８４７号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は上記のような従来技術に伴う問題点を解決し、解像性、電気絶縁性、熱衝撃性、耐薬品性等の諸特性に優れた硬化物を得ることができる表面保護膜や層間絶縁膜用途に適した感光性絶縁樹脂組成物を提供することを目的としている。
【０００５】
さらに、本発明はこのような感光性絶縁樹脂組成物を硬化させた硬化物を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記問題点を解決すべく鋭意研究した結果、優れた特性を有する感光性絶縁樹脂組成物を見出すに至った。即ち、本発明は（Ａ）オキシラン環含有樹脂、（Ｂ）分子中に少なくとも２つ以上のエチレン性不飽和二重結合を含有する化合物、（Ｃ）光重合開始剤、および（Ｄ）溶剤から構成される感光性絶縁樹脂組成物を特徴とする。
【０００７】
【発明の具体的説明】
以下、本発明にかかる感光性絶縁樹脂組成物、およびその硬化物について具体的に説明する。
【０００８】
［ 感光性絶縁樹脂組成物 ］
本発明における感光性絶縁樹脂組成物は、（Ａ）オキシラン環含有樹脂、（Ｂ）分子中に少なくとも２つ以上のエチレン性不飽和二重結合を含有する化合物、（Ｃ）光重合開始剤、および（Ｄ）溶剤とから構成される。また、本発明の感光性絶縁樹脂組成物は必要に応じ、その他の添加剤としてオキシラン環含有化合物、硬化剤、架橋微粒子、熱重合禁止剤、界面活性剤、密着助剤、光重合促進剤などのその他添加剤などを含有することもできる。
【０００９】
（Ａ）オキシラン環含有樹脂；
本発明において用いられるオキシラン環含有樹脂（以下、「エポキシ樹脂（Ａ）」という。）は、オキシラン環を分子内に含有していれば特に制限されないが、具体的にはフェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、トリスフェノール型エポキシ樹脂、テトラフェノール型エポキシ樹脂、フェノール−キシリレン型エポキシ樹脂、ナフトール−キシリレン型エポキシ樹脂、フェノール−ナフトール型エポキシ樹脂、フェノール−ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、またエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を共重合させた樹脂（以下、「共重合樹脂」という。）などが挙げられる。
【００１０】
共重合樹脂は、分子中にエチレン性不飽和基を含有する化合物をラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合、熱重合して得られる樹脂であり、エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基を持つ（メタ）アクリレート化合物、もしくはビニル基を持つ化合物が好ましく用いられる。
具体的には、スチレン−グリシジルメタクリレート共重合体（スチレン／グリシジルメタクリレートモル比＝１０〜５０／５０〜９０）、スチレン−ｎ−ブチルアクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体（スチレン／ｎ−ブチルアクリレート／グリシジルメタクリレートモル比＝１０〜５０／５〜８５／５〜８５）などが挙げられる。
【００１１】
これらのエポキシ樹脂（Ａ）は、その分子量は特に限定されないが、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法で測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）が、たとえば２，０００〜５００，０００、好ましくは３，０００〜１００，０００であることが望ましい。
これらのエポキシ樹脂（Ａ）は２種以上を組合せて用いることもでき、特にシクロペンタジエン型エポキシ樹脂とスチレン−グリシジルメタクリレート共重合体との混合物（シクロペンタジエン型エポキシ樹脂／スチレン−グリシジルメタクリレートとの混合重量比＝２５〜７５／２５〜７５）が好ましい。
【００１２】
また、上記エポキシ樹脂（Ａ）のオキシラン環部位の一部 が（メタ）アクリル化して得られる樹脂も用いることができる。
【００１３】
エポキシ樹脂（Ａ）の配合量は、エポキシ樹脂（Ａ）と分子中に少なくとも２つ以上のエチレン性不飽和二重結合を含有する化合物（Ｂ）の合計１００重量部に対して、５〜９０重量部、好ましくは１０〜７０重量部である。配合量が５重量部未満では、得られる硬化膜の耐薬品性が低下し、９０重量部を超えると解像性が低下したりする場合がある。
【００１４】
（Ｂ）分子中に少なくとも２つ以上のエチレン性不飽和二重結合を含有する化合物；
本発明で用いられる少なくとも２つ以上のエチレン性不飽和二重結合を含有する化合物（以下、「エチレン性不飽和化合物（Ｂ）」という。）は、分子中にエチレン性不飽和基を少なくとも２つ含有する常温で液体または固体の化合物であり、一般にはエチレン性不飽和基として（メタ）アクリロイル基を持つ（メタ）アクリレート化合物、もしくはビニル基を持つ化合物が好ましく用いられる。
【００１５】
多官能性（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；
両末端ヒドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトン等の両末端ヒドロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレート類；
グリセリン、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロールアルカン、テトラメチロールアルカン、ジペンタエリスリトール等の３価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類；
３価以上の多価アルコールのポリアルキレングリコール付加物のポリ（メタ）アクリレート類；
１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ベンゼンジオール類等の環式ポリオールのポリ（メタ）アクリレート類；
ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、アルキド樹脂（メタ）アクリレート、シリコーン樹脂（メタ）アクリレート、スピラン樹脂（メタ）アクリレート等のオリゴ（メタ）アクリレート類；
等を挙げることができる。
【００１６】
また、前記エポキシ樹脂（Ａ）のオキシラン環部位に全量（メタ）アクリル化して得られる化合物も用いることができる。
【００１７】
これらエチレン性不飽和化合物（Ｂ）は、市販されているものをそのまま用いることもできる。市販されているエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の具体例としては、アロニックスＭ−２１０、同Ｍ−３０９、同Ｍ−３１０、同Ｍ−４００、同Ｍ−７１００、同Ｍ−８０３０、同Ｍ−８０６０、同Ｍ−８１００、同Ｍ−９０５０、同Ｍ−２４０、同Ｍ−２４５、同Ｍ−６１００、同Ｍ−６２００、同Ｍ−６２５０、同Ｍ−６３００、同Ｍ−６４００、同Ｍ−６５００（以上、東亜合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−５５１、同Ｒ−７１２、同ＴＭＰＴＡ、同ＨＤＤＡ、同ＴＰＧＤＡ、同ＰＥＧ４００ＤＡ、同ＭＡＮＤＡ、同ＨＸ−２２０、同ＨＸ−６２０、同Ｒ−６０４、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＤＰＣＡ−１２０（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート＃２９５、同３００、同２６０、同３１２、同３３５ＨＰ、同３６０、同ＧＰＴ、同３ＰＡ、同４００（以上、大阪有機化学工業（株）製）等の商品名で市販されているものを挙げることができる。
【００１８】
これらは単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００１９】
これらのエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の配合量は、エポキシ樹脂（Ａ）とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の合計１００重量部に対して、５〜９０重量部、好ましくは１０〜７０重量部である。配合量が５重量部未満では、得られる硬化膜の耐薬品性が低下し、９０重量部を超えると熱衝撃性が低下したりする場合がある。
【００２０】
（Ｃ）光重合開始剤；
本発明に用いられる光重合開始剤（Ｃ）としては、エチレン性化合物を反応させることが可能な光ラジカル開始剤、または光ラジカル開始剤と光カチオン重合開始剤を共に使用することができる。
【００２１】
光ラジカル重合開始剤としては、たとえばベンジル、ジアセチル等のα−ジケトン類；ベンゾイン等のアシロイン類；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のアシロインエーテル類；チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、チオキサントン−４−スルホン酸、ベンゾフェノン、４，４（−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類；アセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、α，α’−ジメトキシアセトキシベンゾフェノン、２，２’−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−メトキシアセトフェノン、２−メチル［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン等のアセトフェノン類；アントラキノン、１，４−ナフトキノン等のキノン類；フェナシルクロライド、トリブロモメチルフェニルスルホン、トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等のハロゲン化合物；ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド等の過酸化物；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドなどのアシルフォスフィンオキサイド類等が挙げられる。また、市販品としては、イルガキュア１８４、６５１，５００，９０７、ＣＧ１３６９、ＣＧ２４−６１、ダロキュア１１１６，１１７３（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、ルシリンＬＲ８７２８，ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）、ユベクリルＰ３６（ＵＣＢ社製）等を挙げることができる。また、光カチオン重合開始剤としては、以下に示すような市販品を使用することができる。ジアゾニウム塩であるアデカウルトラセットＰＰ−３３（旭電化工業（株）製）、スルホニウム塩であるオプトマーＳＰ−１５０，１７０（旭電化工業（株）製）、メタロセン化合物であるイルガキュア２６１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）等を挙げることができる。
【００２２】
本発明においては、これらの光重合開始剤（Ｃ）を１種単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。また、光重合開始剤（Ｃ）の配合量は本発明の樹脂組成物の感度、解像度、パターン形状などを確保する観点からエポキシ樹脂（Ａ）とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の合計１００重量部に対して０．１〜６０重量部、好ましくは０．３〜５０重量部である。この場合、光重合開始剤（Ｃ）の配合量が０．１重量部未満では硬化が不十分になり、耐熱性が低下し、６０重量部を超えると、放射線に対する透明性が低下し、パターン形状の劣化をまねくおそれがある。
【００２３】
（Ｄ）溶剤；
有機溶媒（Ｆ）は、樹脂組成物の取り扱い性を向上させたり、粘度や保存安定性を調節するために添加される。このような有機溶媒の種類は、特に制限されるものではないが、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールジブチルエーテル等のプロピレングリコールジアルキルエーテル類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類、ブチルカルビトール等のカルビトール類；乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ｎ−プロピル、乳酸イソプロピル等の乳酸エステル類；酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｎ−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸イソプロピル、プロピオン酸ｎ−ブチル、プロピオン酸イソブチル等の脂肪族カルボン酸エステル類；３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル等の他のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、シクロヘキサノン等のケトン類；Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類；γ−ブチロラクン等のラクトン類を挙げることができる。これらの有機溶媒は、１種単独あるいは２種以上を混合して使用することもできる。
【００２４】
（その他の添加剤）
前述の通り、本発明の感光性絶縁樹脂組成物は必要に応じ、その他の添加剤としてオキシラン環含有化合物、硬化触媒、架橋微粒子、熱重合禁止剤、界面活性剤、密着助剤、光重合促進剤などのその他添加剤などを含有することもできる。
【００２５】
オキシラン環含有化合物；
本発明において用いられるオキシラン環含有化合物は、オキシラン環を分子内に含有していれば特に制限されないが、その分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法で測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）が、２，０００未満のものを言う。また、オキシラン環を分子内に２つ以上有するものが好ましい。
【００２６】
具体的には、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ソルビトールジグリシジルエーテル、ソルビトールトリグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル、ソルビタンジグリシジルエーテル、ソルビタントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、トリグリシジルトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、レゾルシンジグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、ハイドロキノンジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、テレフタル酸ジグリシジルエステルなどが挙げられる。
【００２７】
硬化触媒；
本発明において用いられる硬化触媒は、特に制限されないが、たとえば、アミン類、カルボン酸類、酸無水物、ジシアンジアミド、二塩基酸ジヒドラジド、イミダゾール類、有機ボロン、有機ホスフィン、グアニジン類およびこれらの塩などが挙げられる。
【００２８】
また、放射線などの照射または加熱により酸を発生する光感応性酸発生剤や熱酸発生剤も用いることができる。光感応性酸発生剤や熱酸発生剤は放射線などの照射または加熱により酸を発生する化合物であれば特に限定されないが、例えばオニウム塩化合物、ハロゲン含有化合物、ジアゾケトン化合物、スルホン化合物、スルホン酸化合物、スルホンイミド化合物、ジアゾメタン化合物などを挙げることができる。以下、具体例を示す。
【００２９】
オニウム塩化合物：
オニウム塩化合物としては、例えばヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、ピリジニウム塩などを挙げることができる。
【００３０】
好ましいオニウム塩の具体例としては、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムｐ−トルエンスルホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムトリフリオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムｐ−トルエンスルホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−ｔ−ブチルフェニル・ジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ｔ−ブチルフェニル・ジフェニルスルホニウムｐ−トルエンスルホネート、４，７−ジ−ｎ−ブトキシナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフリオロメタンスルホネートなどを挙げることができる。
【００３１】
ハロゲン含有化合物：
ハロゲン含有化合物としては、例えばハロアルキル基含有炭化水素化合物、ハロアルキル基含有複素環式化合物などを挙げることができる。好ましいハロゲン含有化合物の具体例としては、１，１０−ジブロモ−ｎ−デカン、１，１−ビス（４−クロロフェニル）−２，２，２−トリクロロエタン、フェニル−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−メトキシフェニル−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、スチリル−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、ナフチル−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンなどのｓ−トリアジン誘導体を挙げることができる。
【００３２】
ジアゾケトン化合物：
ジアゾケトン化合物としては、例えば１，３−ジケト−２−ジアゾ化合物、ジアゾベンゾキノン化合物、ジアゾナフトキノン化合物などを挙げることができ、具体例としてはフェノール類の１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル化合物が挙げられる。
【００３３】
スルホン化合物：
スルホン化合物としては、例えばβ−ケトスルホン化合物、β−スルホニルスルホン化合物およびこれらの化合物のα−ジアゾ化合物を挙げることができ、具体例としては、４−トリスフェナシルスルホン、メシチルフェナシルスルホン、ビス（フェナシルスルホニル）メタンなどを挙げることができる。
【００３４】
スルホン酸化合物：
スルホン酸化合物としては、例えばアルキルスルホン酸エステル類、ハロアルキルスルホン酸エステル類、アリールスルホン酸エステル類、イミノスルホネート類などを挙げることができる。
【００３５】
好ましい具体例としては、ベンゾイントシレート、ピロガロールトリストリフルオロメタンスルホネート、ｏ−ニトロベンジルトリフルオロメタンスルホネート、ｏ−ニトロベンジルｐ−トルエンスルホネートなどを挙げることができる。
【００３６】
スルホンイミド化合物：
スルホンイミド化合物の具体例としては、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ナフチルイミドなどを挙げることができる。
【００３７】
ジアゾメタン化合物：
ジアゾメタン化合物の具体例としては、ビス（トリフルオロメチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス［（１’，３’−ジオキソランスピロ−１−シクロヘキサン−３−イル）スルホニル］ジアゾメタンなどを挙げることができる。
【００３８】
硬化触媒として上記に挙げた化合物は、１種単独または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３９】
また、硬化触媒の添加量は、エポキシ樹脂（Ａ）とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の合計１００重量部に対して、０．１〜２０重量部、好ましくは０．５〜１５重量部の範囲内である。また、必要に応じて硬化触媒とともに、硬化反応を促進する目的で硬化促進剤を併用することもできる。
【００４０】
架橋微粒子；
本発明にかかる架橋微粒子としては、Ｔｇが０℃以下であれば特に限定されるものではないが、好ましくは、不飽和重合性基を２個以上有する架橋性モノマー（以下、「架橋性モノマー」と称す。）および、架橋微粒子のＴｇが０℃以下となる様に選択される１種以上のその他モノマー（以下、「その他モノマー」と称す。）を共重合したもの、さらに好ましくは、その他モノマーとして、重合性基以外の官能基、例えば、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、イソシアネート基、水酸基等の官能基を有するモノマーを含むモノマーを共重合したものが用いられる。
【００４１】
架橋性モノマーの例としては、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなどの重合性不飽和基を複数有する化合物を挙げることができる。なかでも、ジビニルベンゼンが好ましい。
【００４２】
その他モノマーの例としては、ブタジエン、イソプレン、ジメチルブタジエン、クロロプレン、１，３−ペンタジエン、（メタ）アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、α−クロロメチルアクリロニトリル、α−メトキシアクリロニトリル、α−エトキシアクリロニトリル、クロトン酸ニトリル、ケイ皮酸ニトリル、イタコン酸ジニトリル、マレイン酸ジニトリル、フマル酸ジニトリルなどの不飽和ニトリル化合物類、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−メチレンビス（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−エチレンビス（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、クロトン酸アミド、ケイ皮酸アミド等の不飽和アミド類、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸エステル類、スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−メトキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｐ−イソプロペニルフェノールなどの芳香族ビニル化合物、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル、グリコールのジグリシジルエーテルなどと（メタ）アクリル酸、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートなどとの反応によって得られるエポキシ（メタ）アクリレートおよび、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとポリイソシアナートとの反応によって得られるウレタン（メタ）アクリレート類、グリシジル（メタ）アクリレート、（メタ）アリルグリシジルエーテルなどのエポキシ基含有不飽和化合物、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、コハク酸−β−（メタ）アクリロキシエチル、マレイン酸−β−（メタ）アクリロキシエチル、フタル酸−β−（メタ）アクリロキシエチル、ヘキサヒドロフタル酸−β−（メタ）アクリロキシエチルなどの不飽和酸化合物。ジメチルアミノ（メタ）アクリレート、ジエチルアミノ（メタ）アクリレート等のアミノ基含有不飽和化合物、（メタ）アクリルアミド、ジメチル（メタ）アクリルアミド等のアミド基含有不飽和化合物、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等の水酸基含有不飽和化合物などを例示することができる。これらのその他モノマーとしては、ブタジエン、イソプレン、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリル酸アルキルエステル類、スチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｐ−イソプロペニルフェノール、グリシジル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類などが好ましく用いられる。
【００４３】
本発明における架橋微粒子を構成する架橋モノマーの比率としては、共重合に用いる全モノマーに占める架橋性モノマーの比率が１〜２０ｗｔ％の範囲が好ましく、より好ましくは２〜１０ｗｔ％の範囲である。
【００４４】
本発明において架橋微粒子成分の粒子の大きさは通常３０〜５００ｎｍ、好ましくは４０〜２００ｎｍのものが使用される。架橋微粒子の粒径コントロール方法は、特に限定されるものではないが、乳化重合により架橋微粒子を合成する場合、使用する乳化剤の量により、乳化重合中のミセルの数を制御し、粒径をコントロールする方法が例示できる。
【００４５】
また、架橋微粒子の配合量は、エポキシ樹脂（Ａ）とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の合計１００重量部に対して、好ましくは５０重量部以下である。５０重量部を越えると耐熱性が低下したり、他成分との相溶性が低下する。
【００４６】
熱重合禁止剤；
本発明の感光性絶縁樹脂組成物には、熱重合禁止剤を添加することができる。このような熱重合禁止剤としては、ピロガロール、ベンゾキノン、ヒドロキノン、メチレンブルー、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、モノベンジルエーテル、メチルヒドロキノン、アミルキノン、アミロキシヒドロキノン、ｎ−ブチルフェノール、フェノール、ヒドロキノンモノプロピルエーテル、４，４’−（１−メチルエチリデン）ビス（２−メチルフェノール）、４，４’−（１−メチルエチリデン）ビス（２，６−ジメチルフェノール）、４，４’−［１−〔４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）フェニル〕エチリデン］ビスフェノール、４，４’，４”−エチリデントリス（２−メチルフェノール）、４，４’，４”−エチリデントリスフェノール、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパンなどを挙げることができる。
【００４７】
これら熱重合禁止剤の使用量は、エポキシ樹脂（Ａ）とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の合計１００重量部に対して好ましくは５重量部以下である。
【００４８】
界面活性剤；
本発明の感光性絶縁樹脂組成物には、塗布性、消泡性、レベリング性などを向上させる目的で界面活性剤を配合することもできる。
【００４９】
界面活性剤としては、例えばＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００、（以上、ＢＭケミー社製）、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３（以上、大日本インキ化学工業（株）製）、フロラードＦＣ−１３５、同ＦＣ−１７０Ｃ、同ＦＣ−４３０、同ＦＣ−４３１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−１１２、同Ｓ−１１３、同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１、同Ｓ−１４５（以上、旭硝子（株）製）、ＳＨ−２８ＰＡ、同−１９０、同−１９３、ＳＺ−６０３２、ＳＦ−８４２８（以上、東レダウコーニングシリコーン（株）製）などの商品名で市販されているフッ素系界面活性剤を使用することができる。
【００５０】
密着助剤；
本発明の感光性絶縁樹脂組成物には、基板との密着性を向上させるために密着助剤を使用することもできる。密着助剤としては、官能性シランカップリング剤が有効である。ここで、官能性シランカップリング剤とは、カルボニル基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポキシ基などの反応性置換基を有するシランカップリング剤を意味し、具体例としては、トリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどを挙げることができる。
【００５１】
密着助剤の配合量は、エポキシ樹脂（Ａ）とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の合計１００重量部に対して１０重量部以下が好ましい。
【００５２】
光重合促進剤；
本発明の感光性絶縁樹脂組成物には、紫外線照射による光重合を促進させるために光重合促進剤を使用することもできる。光重合促進剤としては特に制限はないが、３級アミンが好ましく、特にアニリン誘導体が好ましい。具体例としては、４−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステルなどが挙げられる。
【００５３】
［ 硬化物 ］
本発明にかかる感光性絶縁樹脂組成物は、（Ａ）オキシラン環含有化合物、（Ｂ）分子中に少なくとも２つ以上のエチレン性不飽和二重結合を含有する化合物、（Ｃ）光重合開始剤、および（Ｄ）溶剤、および必要に応じ、その他添加剤を含有し、解像性に優れているとともに、その硬化物は電気絶縁性、熱衝撃性、耐薬品性に優れている。
【００５４】
従って、本発明の感光性絶縁樹脂組成物は、特に、半導体素子の表面保護膜や層間絶縁膜などとして好適に使用することができる。
【００５５】
本発明にかかる感光性絶縁樹脂組成物を支持体（樹脂付き銅箔、銅張り積層板や金属スパッタ膜を付けたシリコンウエハーやアルミナ基板など）に塗工し、乾燥して溶剤などを揮発させて塗膜を形成する。その後所望のマスクパターンを介して露光し、加熱処理（以下、この加熱処理を「ＰＥＢ」という。）を行い、重合反応を促進させる。次いで、溶剤現像液により現像して、未露光部を溶解、除去することにより所望のパターンを得ることができる。さらに、絶縁膜特性を発現させるために加熱処理を行うことにより、硬化膜を得ることができる。
【００５６】
樹脂組成物を支持体に塗工する方法としては、例えば、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、またはスピンコート法などの塗布方法を用いることができる。また、塗布の厚さは、塗布手段、組成物溶液の固形分濃度や粘度を調節することにより、適宜制御することができる。
【００５７】
露光に用いられる放射線としては、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、ｇ線ステッパー、ｉ線ステッパーなどの紫外線や電子線、レーザー光線などが挙げられ、露光量としては使用する光源や樹脂膜厚などによって適宜選定されるが、例えば高圧水銀灯からの紫外線照射の場合、樹脂膜厚１０〜５０μｍでは、５００〜２０，０００Ｊ／ｍ２程度である。
【００５８】
露光後は、発生したラジカルによる重合反応を促進させるために、好ましくはＰＥＢ処理を行う。その条件は樹脂組成物の配合量や使用膜厚などによって異なるが、通常、７０〜１５０℃、好ましくは８０〜１２０℃で、１〜６０分程度である。
【００５９】
その後、溶剤現像液により現像して、未露光部を溶解、除去することによって所望のパターンを形成する。この場合の現像方法としては、シャワー現像法、スプレー現像法、浸漬現像法、パドル現像法などを挙げることができ、現像条件としては通常、２０〜４０℃で１〜１０分程度である。
【００６０】
前記溶剤現像液としては、前述の溶剤（Ｅ）を１種または２種以上混合して使用することができる。また、溶剤現像液には、水や界面活性剤などを適量添加することもできる。なお、溶剤現像液で現像した後は、水または前記の溶剤（Ｅ）を１種または２種以上混合したもので洗浄し、乾燥する。
【００６１】
さらに、現像後に絶縁膜としての特性を十分に発現させるために、加熱処理を行うことによって十分に硬化させることができる。このような硬化条件は特に制限されるものではないが、硬化物の用途に応じて、５０〜２００℃の温度で、３０分〜１０時間程度加熱し、組成物を硬化させることができる。
【００６２】
また、硬化を十分に進行させたり、得られたパターン形状の変形を防止するために二段階で加熱することもでき、たとえば、第一段階では、５０〜１２０℃の温度で、５分〜２時間程度加熱し、さらに８０〜２００℃の温度で、１０分〜１０時間程度加熱して硬化させることもできる。
【００６３】
このような硬化条件であれば、加熱設備として一般的なオーブンや、赤外線炉などを使用することができる。
【００６４】
本発明の感光性絶縁樹脂組成物を用いた半導体素子について、図面により説明する。
【００６５】
図１に示すように、パターン状の金属パッド２が形成された基板１上に、本発明の樹脂組成物を用いてパターン状の絶縁膜３を形成する。次いで金属パッド２と接続するように金属配線４を形成すると、半導体素子が得られる。
【００６６】
さらに図２に示すように、この金属配線４上に、本発明の樹脂組成物を用いてパターン状の絶縁膜５を形成してもよい。
【００６７】
このようにして本発明では、上記のような感光性絶縁樹脂組成物を用いて形成された絶縁樹脂層を有する半導体素子が得られる。
【００６８】
【実施例】
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではない。なお、以下の実施例、比較例における部は特に断らない限り重量部の意味で用いる。
【００６９】
また、硬化物の各特性については、下記のようにして測定した。
【００７０】
解像性；
６インチのシリコンウエハーに感光性絶縁樹脂組成物をスピンコートし、ホットプレートで１２０℃、５分間加熱し、１０μｍ厚の均一な塗膜を作製した。その後、アライナー（Ｋａｒｌ Ｓｕｓｓ社製 ＭＡ−１００）を用い、パターンマスクを介して高圧水銀灯からの紫外線を波長３５０ｎｍにおける露光量が３，０００〜５，０００Ｊ／ｍ２となるように露光した。次いで、ホットプレートで１２０℃、５分間加熱（ＰＥＢ）し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを用いて２３℃で３００秒間、浸漬現像した。得られたパターンの最小寸法を解像度とした。
【００７１】
電気絶縁性（体積抵抗率）：
樹脂組成物をＳＵＳ基板に塗布し、ホットプレートで１２０℃、５分間加熱し、１０μｍ厚の均一な樹脂塗膜を作製した。その後、アライナーを用い、パターンマスクを介して高圧水銀灯からの紫外線を波長３５０ｎｍにおける露光量が３，０００〜５，０００Ｊ／ｍ２となるように露光した。次いで、ホットプレートで１２０℃、５分間加熱（ＰＥＢ）し、対流式オーブンで２００℃、１時間加熱して硬化膜を得た。この得られた硬化膜をプレッシャークッカー試験装置（タバイエスペック（株）社製）で、温度；１２１℃、湿度；１００％、圧力：２．１気圧の条件下で１６８時間処理した。試験前後での層間の体積抵抗率を測定し、耐性を確認した。
【００７２】
熱衝撃性：
樹脂組成物を図３および図４に示す基板に塗布し、ホットプレートで１２０℃、５分間加熱し、導体上で１０μｍ厚の樹脂塗膜を作製した。その後、アライナーを用い、パターンマスクを介して高圧水銀灯からの紫外線を波長３５０ｎｍにおける露光量が３，０００〜５，０００Ｊ／ｍ２となるように露光した。次いで、ホットプレートで１２０℃、５分間加熱（ＰＥＢ）し、対流式オーブンで２００℃、１時間加熱して硬化膜を得た。この基板を冷熱衝撃試験器（タバイエスペック（株）社製）で−５５℃／３０分〜１５０℃／３０分を１サイクルとして耐性試験を行った。硬化膜にクラックなどの欠陥が発生するまでのサイクル数を確認した。
【００７３】
耐薬品性：
６インチのシリコンウエハーに感光性絶縁樹脂組成物をスピンコートし、ホットプレートで１２０℃、５分間加熱し、１０μｍ厚の均一な塗膜を作製した。その後、アライナーを用い、パターンマスクを介して高圧水銀灯からの紫外線を波長３５０ｎｍにおける露光量が３，０００〜５，０００Ｊ／ｍ２となるように露光した。次いで、ホットプレートで１２０℃、５分間加熱（ＰＥＢ）し、対流式オーブンで２００℃、１時間加熱して硬化膜を得た。得られた基板をイソプロピルアルコール中、６０℃で１０分間浸漬し、硬化膜表面を光学顕微鏡で観察した。
【００７４】
合成例１（エポキシ樹脂（Ａ−２）の合成）
２Ｌセパラブルフラスコにスチレン３１５ｇ、グリシジルメタクリレート１８５ｇ、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（以下、「ＡＩＢＮ」という）１５ｇおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５００ｇを加え攪拌を開始した。溶解後、溶液に窒素を１５分間吹き込んだのち、加熱を開始し７０℃で３時間攪拌を続けた。その後ＡＩＢＮ１０ｇを加え同温度でさらに１時間攪拌を続けた。その後反応溶液を１００℃に昇温し、３時間攪拌を続けたのち加熱を止め反応を終了させることにより固形分４９％のエポキシ樹脂（Ａ−２）のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液１０１５ｇを得た。
【００７５】
合成例２ （エポキシ樹脂（Ａ−３）の合成）
２Ｌセパラブルフラスコにスチレン１７０ｇ、ｎ−ブチルアクリレート１５７ｇ、グリシジルメタクリレート１７４ｇ、ＡＩＢＮ１５ｇおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５００ｇを加え攪拌を開始した。溶解後、溶液に窒素を１５分間吹き込んだのち加熱を開始し、７０℃で３時間攪拌を続けた。その後ＡＩＢＮ１０ｇを加え同温度でさらに１時間攪拌を続けた。その後反応溶液を１００℃に昇温し、３時間攪拌を続けたのち加熱を止めた。次いで、溶液が室温まで下がったのち、メトキシハイドロキノン０．１７ｇ、アクリル酸７０ｇ、ベンジルジメチルアミン０．１７ｇを加え溶解したのち、反応溶液を１１０℃まで昇温し、同温度で７時間攪拌を続けた。その後、加熱を止め反応を終了させた。このようにして固形分５０％のエポキシ樹脂（Ａ−３）のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液１０８０ｇを得た。
【００７６】
合成例３ （エポキシ樹脂（Ａ−４）の合成）
１Ｌセパラブルフラスコにシクロペンタジエン型エポキシ樹脂（日本化薬（株）製 商品名；ＸＤ−１０００、エポキシ当量：２５４ｇ／ｅｑ）５００ｇ、トルエン２５０ｇを加え、加熱しながら攪拌を開始し溶解させた。次いで、メトキシハイドロキノン０．２１ｇ、アクリル酸１０６ｇ、ベンジルジメチルアミン０．２７ｇを加え溶解したのち、反応溶液を１１０℃まで昇温し、同温度で１２時間攪拌を続けた。その後、加熱を止め反応を終了させた。次いで減圧加熱下エバポレーターを用いてトルエンを留去したのち乳酸エチルを加え溶解させた。この操作を繰り返したのち、固形分７０％のエポキシ樹脂（Ａ−４）の乳酸エチル溶液８５０ｇを得た。
【００７７】
実施例１
表１に示すとおり、エポキシ樹脂（Ａ−１）５０重量部、エポキシ樹脂（Ａ−２）５０重量部、エチレン性不飽和化合物（Ｂ−１）３５重量部、エチレン性不飽和化合物（Ｂ−２）２５重量部、エチレン性不飽和化合物（Ｂ−４）５０重量部、光重合開始剤（Ｃ−１）２０重量部、光重合開始剤（Ｃ−２）１０重量部、光重合開始剤（Ｃ−３）５重量部、硬化触媒（Ｄ−２）２部および密着助剤（Ｅ−２）を溶剤（Ｆ−１）４０重量部、溶剤（Ｆ−２）１００重量部に溶解した。この組成物の特性を前記評価方法にしたがって測定した。得られた結果を表２に示す。
【００７８】
実施例２〜６
実施例１と同様にして、表１に示した組成の感光性絶縁樹脂組成物を調製し、これらの特性を実施例１と同様に測定した。得られた結果を表２に示す。
【００７９】
比較例１〜４
表１に示す各組成物を調製し、実施例１と同様に物性を測定した。結果を表２に示す。
【００８０】
【表１】
エポキシ樹脂；
Ａ−１：シクロペンダジエン型エポキシ樹脂（日本化薬（株）製 商品名；ＸＤ−１０００）
Ａ−２：合成例１で合成した化合物
Ａ−３：合成例２で合成した化合物
Ａ−４：合成例３で合成した化合物
エチレン性不飽和化合物；
Ｂ−１：ジ（２，２−ジアクリロイルオキシメチルブチル）ヘキサヒドロフタレート
Ｂ−２：トリメチロールプロパントリアクリレート
Ｂ−３：ジペンタエリスリトールの多感応アクリレート（日本化薬（株）製 商品名；ＫＡＹＡＲＡＤ ＭＡＸ３５１０）
Ｂ−４：シクロペンダジエン型エポキシ樹脂の１００％アクリレート変性体（日本化薬（株）製 商品名；ＫＡＹＡＲＡＤ ＺＣＡ−２２８）
光重合開始剤；
Ｃ−１：２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン
Ｃ−２：２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド
Ｃ−３：２，４−ジエチルチオキサントン
硬化触媒；
Ｄ−１：２−エチルイミダゾール
Ｄ−２：１−（２−シアノエチル）−２−エチル−４−メチルイミダゾール
Ｄ−３：ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン
硬化触媒；
Ｅ−１：グリシドキシメチルトリメトキシシラン
Ｅ−２：γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
溶剤；
Ｆ−１：乳酸エチル
Ｆ−２：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
【００８２】
【表２】
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明の半導体素子用ネガ型感光性樹脂組成物を用いて形成された絶縁樹脂層を有する半導体素子の模式断面図である。
【図２】図２は、本発明の半導体素子用ネガ型感光性樹脂組成物を用いて形成された絶縁樹脂層を有する半導体素子の模式断面図である。
【図３】図３は、本発明の半導体素子用ネガ型感光性樹脂組成物が塗布される基材の断面模式図である。
【図４】図４は、本発明の半導体素子用ネガ型感光性樹脂組成物が塗布される基材の表面模式図である。
【符号の説明】
１…基板
２…金属パッド
３…絶縁膜
４…金属配線
５…絶縁膜
６…基材
７…基板
８…銅箔
Claims (4)
- （Ａ）オキシラン環含有樹脂、（Ｂ）分子中に少なくとも２つ以上のエチレン性不飽和二重結合を含有する化合物、（Ｃ）光重合開始剤、および（Ｄ）溶剤を含有することを特徴とする感光性絶縁樹脂組成物。
- 前記オキシラン環含有樹脂が、スチレン−グリシジルメタクリレート共重合体またはフェノール−ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂である請求項１に記載の感光性絶縁樹脂組成物。
- 請求項１に記載の感光性絶縁樹脂組成物を硬化してなる硬化物。
- 請求項１に記載の感光性絶縁樹脂組成物から形成された絶縁樹脂硬化物を有する半導体素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003145066A JP4265282B2 (ja) | 2003-05-22 | 2003-05-22 | 感光性絶縁樹脂組成物およびその硬化物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003145066A JP4265282B2 (ja) | 2003-05-22 | 2003-05-22 | 感光性絶縁樹脂組成物およびその硬化物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004347874A true JP2004347874A (ja) | 2004-12-09 |
| JP4265282B2 JP4265282B2 (ja) | 2009-05-20 |
Family
ID=33532352
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003145066A Expired - Fee Related JP4265282B2 (ja) | 2003-05-22 | 2003-05-22 | 感光性絶縁樹脂組成物およびその硬化物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4265282B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007122929A1 (ja) * | 2006-03-30 | 2007-11-01 | Jsr Corporation | 感放射線性絶縁樹脂組成物 |
| WO2020241596A1 (ja) * | 2019-05-31 | 2020-12-03 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂フィルム、多層プリント配線板及び半導体パッケージ、並びに多層プリント配線板の製造方法 |
| WO2023120274A1 (ja) * | 2021-12-20 | 2023-06-29 | 東京応化工業株式会社 | 光硬化性組成物及びパターン形成方法 |
-
2003
- 2003-05-22 JP JP2003145066A patent/JP4265282B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007122929A1 (ja) * | 2006-03-30 | 2007-11-01 | Jsr Corporation | 感放射線性絶縁樹脂組成物 |
| WO2020241596A1 (ja) * | 2019-05-31 | 2020-12-03 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂フィルム、多層プリント配線板及び半導体パッケージ、並びに多層プリント配線板の製造方法 |
| WO2023120274A1 (ja) * | 2021-12-20 | 2023-06-29 | 東京応化工業株式会社 | 光硬化性組成物及びパターン形成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4265282B2 (ja) | 2009-05-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4983798B2 (ja) | 感光性絶縁樹脂組成物およびその硬化物 | |
| JP4029556B2 (ja) | 感光性絶縁樹脂組成物およびその硬化物 | |
| JP4677967B2 (ja) | ガラスエッチング用放射線硬化性レジスト樹脂組成物およびこれを用いたガラス基板の製造方法 | |
| JP4360242B2 (ja) | ネガ型感放射線性樹脂組成物 | |
| WO2003069410A1 (fr) | Composition a base de resine radiosensible | |
| KR101434010B1 (ko) | 감광성 절연 수지 조성물 및 그의 경화물 | |
| JP4765974B2 (ja) | ネガ型感放射線性樹脂組成物 | |
| JPWO2008117619A1 (ja) | 感光性絶縁樹脂組成物 | |
| JPWO2006006581A1 (ja) | 感光性絶縁樹脂組成物、その硬化物およびその用途 | |
| JP3575109B2 (ja) | バンプ形成用材料 | |
| JP2009047761A (ja) | ポジ型感光性絶縁樹脂組成物、その硬化物および回路基板 | |
| JP5223207B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、これを用いたレジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 | |
| JP2004302389A (ja) | 感光性樹脂膜およびこれからなる硬化膜 | |
| JP4296792B2 (ja) | ポジ型感光性樹脂組成物およびその硬化物 | |
| TWI452430B (zh) | Negative Sensitive Radiation Linear Resin Composition | |
| JP4306267B2 (ja) | ネガ型感光性樹脂組成物およびその硬化物 | |
| JPWO2008114635A1 (ja) | 感放射線性樹脂組成物 | |
| JP2006154780A (ja) | ポジ型感光性絶縁樹脂組成物およびその硬化物 | |
| JP5251424B2 (ja) | ネガ型感光性絶縁樹脂組成物及びその硬化物 | |
| JP5369420B2 (ja) | 絶縁膜形成用感光性樹脂組成物 | |
| JP4265282B2 (ja) | 感光性絶縁樹脂組成物およびその硬化物 | |
| EP1840654A1 (en) | Radiation-sensitive negative resin composition | |
| JPH0831733A (ja) | レジストパターンの形成方法及びこれを用いた金属パターンの形成方法 | |
| JP2007056109A (ja) | 感光性絶縁樹脂組成物およびその硬化物 | |
| JP2017107171A (ja) | 感光性樹脂組成物、レジストパターンの形成方法、および金属パターンの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051027 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051104 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080730 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080805 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081003 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081028 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081222 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090127 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090209 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4265282 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120227 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120227 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120227 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120227 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130227 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130227 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140227 Year of fee payment: 5 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |