WO2023120274A1

WO2023120274A1 - 光硬化性組成物及びパターン形成方法

Info

Publication number: WO2023120274A1
Application number: PCT/JP2022/045665
Authority: WO
Inventors: 竜馬水澤
Original assignee: 東京応化工業株式会社
Priority date: 2021-12-20
Filing date: 2022-12-12
Publication date: 2023-06-29
Also published as: TW202336133A; JPWO2023120274A1

Abstract

本発明は、アクリル樹脂（ＡＣ）と、エポキシ基含有化合物（但し、アクリル樹脂（ＡＣ）に該当するものを除く）と、カチオン重合開始剤と、を含有する光硬化性組成物を採用する。アクリル樹脂（ＡＣ）は、ガラス転移点が０℃以下であり、かつ、エポキシ基含有アクリルモノマーから誘導される構成単位（ａｃ１）を有する。構成単位（ａｃ１）の含有割合は、アクリル樹脂（ＡＣ）を構成する全構成単位の合計（１００質量％）に対して、０質量％超え５０質量％未満である。

Description

光硬化性組成物及びパターン形成方法

　本発明は、光硬化性組成物及びパターン形成方法に関する。
　本願は、２０２１年１２月２０日に日本に出願された、特願２０２１－２０６０８０号に基づき優先権主張し、その内容をここに援用する。

　電子部品の高性能化に伴い、半導体装置の小型化、動作速度の高速化、高密度配線化が進み、これらに対応する様々なパッケージ形態が提案されている。例えば、電極が形成された配線基板上が中空に保たれた中空構造を有するパッケージ（中空パッケージ）が利用されている。

　この中空パッケージは、以下のようにして製造することが可能である。
　電極を囲むように配線基板上に感光性組成物を塗布した後、フォトマスクを介して露光、ポストエクスポージャーベーク（ＰＥＢ）、現像をこの順に行い、スペーサとなる側壁を形成する。次に、前記側壁上に、天板部を接合することにより、中空構造体を作製する。次いで、モールド成型することにより、中空パッケージが製造される。

　前記感光性組成物として、例えば、光カチオン重合性化合物と、光照射又は加熱によりカチオン種を発生する重合開始剤とを含有する、光硬化性接着材料が提案されている（例えば、特許文献１参照）。

特開２００２－９７４４３号公報

　電子部品の製造において、感光性組成物には、種々の特性が求められる。
　上記の中空パッケージを製造する際、感光性組成物は、スペーサとなる側壁の材料として用いられている。この側壁においては、天板部との接着性が必要とされる。また、電子部品の製造では、薬液処理工程が含まれる場合が多く、この側壁においてはその薬液に対する耐薬品性も必要とされる。
　しかしながら、接着性と耐薬品性との両立の点で、従来の光硬化性接着材料においては、更なる特性の向上が求められる。

　本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、硬化膜とした際に対象物との接着性を高められ、かつ、耐薬品性に優れる光硬化性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを課題とする。

　上記の課題を解決するために、本発明は以下の構成を採用した。

　すなわち、本発明の第１の態様は、アクリル樹脂（ＡＣ）と、エポキシ基含有化合物（Ａ）（但し、前記アクリル樹脂（ＡＣ）に該当するものを除く）と、カチオン重合開始剤（Ｉ）と、を含有する光硬化性組成物であって、前記アクリル樹脂（ＡＣ）は、ガラス転移点が０℃以下であり、かつ、エポキシ基含有アクリルモノマーから誘導される構成単位（ａｃ１）を有し、前記構成単位（ａｃ１）の含有割合が、前記アクリル樹脂（ＡＣ）を構成する全構成単位の合計（１００質量％）に対して、０質量％超え５０質量％未満であることを特徴とする、光硬化性組成物である。

　本発明の第２の態様は、前記第１の態様に係る光硬化性組成物を用いて、支持体上に光硬化性膜を形成する工程と、前記光硬化性膜を露光する工程と、前記露光後の光硬化性膜を、有機溶剤を含有する現像液で現像して、ネガ型パターンを形成する工程と、を有することを特徴とする、パターン形成方法である。

　本発明によれば、硬化膜とした際に対象物との接着性を高められ、かつ、耐薬品性に優れる光硬化性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供することができる。

　本明細書及び本特許請求の範囲において、「脂肪族」とは、芳香族に対する相対的な概念であって、芳香族性を持たない基、芳香族性を持たない化合物等を意味するものと定義する。
　「アルキル基」は、特に断りがない限り、直鎖状、分岐鎖状及び環状の１価の飽和炭化水素基を包含するものとする。アルコキシ基中のアルキル基も同様である。
　「アルキレン基」は、特に断りがない限り、直鎖状、分岐鎖状及び環状の２価の飽和炭化水素基を包含するものとする。
　「ハロゲン化アルキル基」は、アルキル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換された基であり、該ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
　「フッ素化アルキル基」は、アルキル基の水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換された基をいう。
　「構成単位」とは、高分子化合物（樹脂、重合体、共重合体）を構成するモノマー単位（単量体単位）を意味する。
　「置換基を有していてもよい」と記載する場合、水素原子（－Ｈ）を１価の基で置換する場合と、メチレン基（－ＣＨ_２－）を２価の基で置換する場合と、の両方を含む。
　「露光」は、放射線の照射全般を含む概念とする。

（光硬化性組成物）
　本実施形態の光硬化性組成物は、アクリル樹脂（ＡＣ）と、エポキシ基含有化合物（Ａ）（但し、前記アクリル樹脂（ＡＣ）に該当するものを除く）と、カチオン重合開始剤（Ｉ）と、を含有する。
　以下、アクリル樹脂（ＡＣ）、エポキシ基含有化合物（Ａ）、カチオン重合開始剤（Ｉ）をそれぞれ（ＡＣ）成分、（Ａ）成分、（Ｉ）成分ともいう。

　かかる光硬化性組成物を用いて光硬化性膜を形成し、該光硬化性膜に対して選択的に露光を行うと、該光硬化性膜の露光部では、（Ｉ）成分のカチオン部が分解して酸が発生し、該酸の作用により、（Ａ）成分及び（ＡＣ）成分中のエポキシ基が開環重合して、有機溶剤を含有する現像液に対する該（Ａ）成分及び該（ＡＣ）成分の溶解性が減少する一方で、該光硬化性膜の未露光部では、有機溶剤を含有する現像液に対する該（Ａ）成分及び該（ＡＣ）成分の溶解性が変化しないため、光硬化性膜の露光部と未露光部との間で、有機溶剤を含有する現像液に対する溶解性の差が生じる。そのため、該光硬化性膜を、有機溶剤を含有する現像液で現像すると、未露光部が溶解除去されて、ネガ型のパターンが形成される。

＜アクリル樹脂（ＡＣ）＞
　本実施形態の光硬化性組成物が含有するアクリル樹脂（ＡＣ）は、ガラス転移点が０℃以下であり、かつ、エポキシ基含有アクリルモノマーから誘導される構成単位（ａｃ１）を有する。
　前記構成単位（ａｃ１）の含有割合は、前記（ＡＣ）成分を構成する全構成単位の合計（１００質量％）に対して、０質量％超え５０質量％未満である。すなわち、（ＡＣ）成分は、構成単位（ａｃ１）と、これ以外の構成単位（ａｃ２）とを有する。

　「アクリル樹脂（ＡＣ）」とは、モノマーとして少なくともアクリル酸エステルが重合して生成する重合体をいう。
　「エポキシ基含有アクリルモノマー」とは、側鎖にエポキシ基を含むアクリル酸エステルをいう。
　「アクリル酸エステル」は、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよい。該α位の炭素原子に結合した水素原子を置換する置換基（Ｒ^αｘ）は、水素原子以外の原子又は基である。なお、アクリル酸エステルのα位の炭素原子とは、特に断りがない限り、アクリル酸のカルボニル基が結合している炭素原子のことである。
　置換基（Ｒ^αｘ）としては、炭素原子数１～５のアルキル基、ハロゲン原子又は炭素原子数１～５のハロゲン化アルキル基などが挙げられる。

　アクリル樹脂のガラス転移点Ｔｇは、下式（Ｆｏｘの式）より算出される。
　１／（Ｔｇ＋２７３）
　＝｛Ｗ１／（Ｔｇ１＋２７３）＋Ｗ２／（Ｔｇ２＋２７３）＋・・・｝／１００
　　Ｔｇ：アクリル樹脂である共重合体のガラス転移点（℃）
　　Ｔｇ１：モノマー（１）から誘導される構成単位（１）の繰り返し構造からなるホモポリマーのガラス転移点（℃）
　　Ｔｇ２：モノマー（２）から誘導される構成単位（２）の繰り返し構造からなるホモポリマーのガラス転移点（℃）
　　Ｗ１：アクリル樹脂を構成する構成単位（１）の割合（質量％）
　　Ｗ２：アクリル樹脂を構成する構成単位（２）の割合（質量％）
　　Ｗ１＋Ｗ２＋・・・＝１００

　ホモポリマーのガラス転移点は、株式会社ＫＴＲ（梶テストリサーチ）のホームページ（ｗｗｗ．ｋａｊｉ－ｔｒ．ｃｏｍ）、高分子材料便覧（高分子学会編　コロナ社，初版，１９７３年２月２０日発行）、共栄社化学株式会社アクリル製品カタログ、及び高分子データ・ハンドブック基礎編（高分子学会編　培風館，１９８６年１月３０日発行）に開示されている値を採用する。

　例えば、アクリル酸２－メトキシエチルから誘導される構成単位と、アクリル酸ｎ－ブチルから誘導される構成単位と、の共重合体であるアクリル樹脂のガラス転移点Ｔｇ（℃）は、以下のようにして算出することができる。
　モノマー（１）をアクリル酸２－メトキシエチルとする。このモノマー（１）から誘導される構成単位（１）の繰り返し構造からなるホモポリマーのガラス転移点は－５０℃であり、構成単位（１）の割合を７３質量％とする。
　モノマー（２）をアクリル酸ｎ－ブチルとする。このモノマー（２）から誘導される構成単位（２）の繰り返し構造からなるホモポリマーのガラス転移点は－５６℃であり、構成単位（２）の割合を２７質量％とする。
　かかる構成単位（１）と構成単位（２）との共重合体であるアクリル樹脂のガラス転移点Ｔｇ（℃）は、下式より算出される。
　１／（Ｔｇ＋２７３）
　　　＝｛７３／（－５０＋２７３）＋２７／（－５６＋２７３）｝／１００
　Ｔｇ≒－５２℃

　（ＡＣ）成分のガラス転移点Ｔｇは、０℃以下であり、－１００℃以上０℃以下が好ましく、－７５℃以上－５℃以下がより好ましく、－６５℃以上－１０℃以下がさらに好ましい。
　（ＡＣ）成分のガラス転移点Ｔｇが、前記範囲の上限値以下であれば、硬化膜とした際に対象物との接着性を高められ、また、信頼性が向上する。一方、前記範囲の下限値以上であれば、樹脂パターンの耐薬品性をより高められ、また、パターン形成の際のリソグラフィー特性が向上する。

　（ＡＣ）成分のガラス転移点Ｔｇは、（ＡＣ）成分を構成する構成単位の種類を選択したり、その構成単位の含有割合を調整したりすることで制御できる。

　≪構成単位（ａｃ１）≫
　（ＡＣ）成分は、エポキシ基含有アクリルモノマーから誘導される構成単位（ａｃ１）を有する。
　「エポキシ基含有アクリルモノマーから誘導される構成単位」とは、エポキシ基含有アクリルモノマーのエチレン性二重結合が開裂して構成される構成単位を意味する。

　構成単位（ａｃ１）としては、側鎖に、エポキシ基含有基を含む構成単位が挙げられる。ここでいう「エポキシ基含有基」としては、特に限定されるものではなく、エポキシ基のみからなる基；脂環式エポキシ基のみからなる基；エポキシ基又は脂環式エポキシ基と、２価の連結基とを有する基が挙げられる。

　脂環式エポキシ基とは、３員環エーテルであるオキサシクロプロパン構造を有する脂環式基であって、具体的には、脂環式基とオキサシクロプロパン構造とを有する基である。
　脂環式エポキシ基の基本骨格となる脂環式基としては、単環であっても多環であってもよい。単環の脂環式基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。また、多環の脂環式基としては、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基等が挙げられる。また、これら脂環式基の水素原子は、アルキル基、アルコキシ基、水酸基等で置換されていてもよい。
　エポキシ基又は脂環式エポキシ基と、２価の連結基とを有する基の場合、式中の酸素原子（－Ｏ－）に結合した２価の連結基を介してエポキシ基又は脂環式エポキシ基が結合することが好ましい。

　ここで、２価の連結基としては、特に限定されないが、置換基を有していてもよい２価の炭化水素基、ヘテロ原子を含む２価の連結基等が好適なものとして挙げられる。

　置換基を有していてもよい２価の炭化水素基について：
　かかる２価の炭化水素基は、脂肪族炭化水素基であってもよく、芳香族炭化水素基であってもよい。
　２価の炭化水素基における脂肪族炭化水素基は、飽和であってもよく、不飽和であってもよく、通常は飽和であることが好ましい。
　該脂肪族炭化水素基として、より具体的には、直鎖状若しくは分岐鎖状の脂肪族炭化水素基、又は構造中に環を含む脂肪族炭化水素基等が挙げられる。

　前記直鎖状の脂肪族炭化水素基は、炭素原子数が１～１０であることが好ましく、１～６がより好ましく、１～４がさらに好ましく、１～３が最も好ましい。直鎖状の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、メチレン基［－ＣＨ_２－］、エチレン基［－（ＣＨ_２）_２－］、トリメチレン基［－（ＣＨ_２）_３－］、テトラメチレン基［－（ＣＨ_２）_４－］、ペンタメチレン基［－（ＣＨ_２）_５－］等が挙げられる。
　前記分岐鎖状の脂肪族炭化水素基は、炭素原子数が２～１０であることが好ましく、２～６がより好ましく、２～４がさらに好ましく、２又は３が最も好ましい。分岐鎖状の脂肪族炭化水素基としては、分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、－ＣＨ（ＣＨ_３）－、－ＣＨ（ＣＨ_２ＣＨ_３）－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－Ｃ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２ＣＨ_３）－、－Ｃ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３）－、－Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ_３）_２－等のアルキルメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ（ＣＨ_３）－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_２ＣＨ_３）ＣＨ_２－、－Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ_３）_２－ＣＨ_２－等のアルキルエチレン基；－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２－等のアルキルトリメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２－等のアルキルテトラメチレン基などのアルキルアルキレン基等が挙げられる。アルキルアルキレン基におけるアルキル基としては、炭素原子数１～５の直鎖状のアルキル基が好ましい。

　前記構造中に環を含む脂肪族炭化水素基としては、脂環式炭化水素基（脂肪族炭化水素環から水素原子を２個除いた基）、脂環式炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の末端に結合した基、脂環式炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の途中に介在する基などが挙げられる。前記直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基としては、前記と同様のものが挙げられる。
　前記脂環式炭化水素基は、炭素原子数が３～２０であることが好ましく、３～１２であることがより好ましい。
　前記脂環式炭化水素基は、多環式基であってもよく、単環式基であってもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、モノシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素原子数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。
　多環式の脂環式炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては、炭素原子数７～１２のものが好ましく、具体的にはアダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等が挙げられる。

　２価の炭化水素基における芳香族炭化水素基は、芳香環を少なくとも１つ有する炭化水素基である。この芳香環は、（４ｎ＋２）個のπ電子をもつ環状共役系であれば特に限定されず、単環式でも多環式でもよい。芳香環の炭素原子数は、５～３０であることが好ましく、５～２０がより好ましく、６～１５がさらに好ましく、６～１２が特に好ましい。芳香環として具体的には、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環；前記芳香族炭化水素環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環等が挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。芳香族複素環として具体的には、ピリジン環、チオフェン環等が挙げられる。
　芳香族炭化水素基として具体的には、前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環から水素原子を２つ除いた基（アリーレン基またはヘテロアリーレン基）；２以上の芳香環を含む芳香族化合物（例えばビフェニル、フルオレン等）から水素原子を２つ除いた基；前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環から水素原子を１つ除いた基（アリール基またはヘテロアリール基）の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、１－ナフチルメチル基、２－ナフチルメチル基、１－ナフチルエチル基、２－ナフチルエチル基等のアリールアルキル基におけるアリール基から水素原子をさらに１つ除いた基）等が挙げられる。前記アリール基またはヘテロアリール基に結合するアルキレン基の炭素原子数は、１～４であることが好ましく、１～２であることがより好ましく、１であることが特に好ましい。

　２価の炭化水素基は、置換基を有していてもよい。
　２価の炭化水素基としての、直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基は、置換基を有していてもよく、有していなくてもよい。該置換基としては、フッ素原子、フッ素原子で置換された炭素原子数１～５のフッ素化アルキル基、カルボニル基等が挙げられる。

　２価の炭化水素基としての、構造中に環を含む脂肪族炭化水素基における脂環式炭化水素基は、置換基を有していてもよいし、有していなくてもよい。該置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、カルボニル基等が挙げられる。
　前記置換基としてのアルキル基としては、炭素原子数１～５のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基であることが最も好ましい。
　前記置換基としてのアルコキシ基としては、炭素原子数１～５のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉｓｏ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基が最も好ましい。
　前記置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
　前記置換基としてのハロゲン化アルキル基としては、前記アルキル基の水素原子の一部または全部が前記ハロゲン原子で置換された基が挙げられる。
　脂環式炭化水素基は、その環構造を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子を含む置換基で置換されてもよい。該ヘテロ原子を含む置換基としては、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｓ（＝Ｏ）_２－、－Ｓ（＝Ｏ）_２－Ｏ－が好ましい。

　２価の炭化水素基としての、芳香族炭化水素基は、当該芳香族炭化水素基が有する水素原子が置換基で置換されていてもよい。例えば当該芳香族炭化水素基中の芳香環に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよい。該置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基等が挙げられる。
　前記置換基としてのアルキル基としては、炭素原子数１～５のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基であることが最も好ましい。
　前記置換基としてのアルコキシ基、ハロゲン原子およびハロゲン化アルキル基としては、前記脂環式炭化水素基が有する水素原子を置換する置換基として例示したものが挙げられる。

　ヘテロ原子を含む２価の連結基について：
　ヘテロ原子を含む２価の連結基におけるヘテロ原子とは、炭素原子および水素原子以外の原子であり、例えば酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ハロゲン原子等が挙げられる。

　ヘテロ原子を含む２価の連結基において、該連結基として好ましいものとしては、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－；－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、－ＮＨ－、－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＮＨ－Ｃ（＝ＮＨ）－（Ｈはアルキル基、アシル基等の置換基で置換されていてもよい。）；－Ｓ－、－Ｓ（＝Ｏ）_２－、－Ｓ（＝Ｏ）_２－Ｏ－、一般式－Ｙ^２１－Ｏ－Ｙ^２２－、－Ｙ^２１－Ｏ－、－Ｙ^２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｙ^２１、－［Ｙ^２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ］_ｍ”－Ｙ^２２－または－Ｙ^２１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｙ^２２－で表される基［式中、Ｙ^２１およびＹ^２２はそれぞれ独立して置換基を有していてもよい２価の炭化水素基であり、Ｏは酸素原子であり、ｍ”は０～３の整数である。］等が挙げられる。
　前記へテロ原子を含む２価の連結基が－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、－ＮＨ－、－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＮＨ－Ｃ（＝ＮＨ）－の場合、そのＨはアルキル基、アシル等の置換基で置換されていてもよい。該置換基（アルキル基、アシル基等）は、炭素原子数が１～１０であることが好ましく、１～８であることがさらに好ましく、１～５であることが特に好ましい。
　式－Ｙ^２１－Ｏ－Ｙ^２２－、－Ｙ^２１－Ｏ－、－Ｙ^２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｙ^２１－、－［Ｙ^２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ］_ｍ”－Ｙ^２２－または－Ｙ^２１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｙ^２２－中、Ｙ^２１およびＹ^２２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい２価の炭化水素基である。該２価の炭化水素基としては、上述した２価の連結基としての説明で挙げた「置換基を有していてもよい２価の炭化水素基」と同様のものが挙げられる。
　Ｙ^２１としては、直鎖状の脂肪族炭化水素基が好ましく、直鎖状のアルキレン基がより好ましく、炭素原子数１～５の直鎖状のアルキレン基がさらに好ましく、メチレン基またはエチレン基が特に好ましい。
　Ｙ^２２としては、直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基が好ましく、メチレン基、エチレン基またはアルキルメチレン基がより好ましい。該アルキルメチレン基におけるアルキル基は、炭素原子数１～５の直鎖状のアルキル基が好ましく、炭素原子数１～３の直鎖状のアルキル基がより好ましく、メチル基が最も好ましい。
　式－［Ｙ^２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ］_ｍ”－Ｙ^２２－で表される基において、ｍ”は０～３の整数であり、０～２の整数であることが好ましく、０または１がより好ましく、１が特に好ましい。つまり、式－［Ｙ^２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ］_ｍ”－Ｙ^２２－で表される基としては、式－Ｙ^２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｙ^２２－で表される基が特に好ましい。なかでも、式－（ＣＨ_２）_ａ’－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｂ’－で表される基が好ましい。該式中、ａ’は、１～１０の整数であり、１～８の整数が好ましく、１～５の整数がより好ましく、１または２がさらに好ましく、１が最も好ましい。ｂ’は、１～１０の整数であり、１～８の整数が好ましく、１～５の整数がより好ましく、１または２がさらに好ましく、１が最も好ましい。

　なかでも、エポキシ基含有基としては、グリシジル基が好ましい。

　構成単位（ａｃ１）としては、例えば、下記一般式（ａ１－１）～（ａ１－２）でそれぞれ表されるエポキシ基含有単位が挙げられる。

［式中、Ｒは水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基、又は炭素原子数１～５のハロゲン化アルキル基である。Ｖａ^４１は、置換基を有していてもよい２価の炭化水素基である。ｎａ^４１は０～２の整数である。Ｒ^ａ４１及びＲ^ａ４２はそれぞれエポキシ基含有基である。ｎａ^４２は、０又は１である。Ｗａ^４１は、（ｎａ^４３＋１）価の脂肪族炭化水素基である。ｎａ^４３は１～３の整数である。］

　前記式（ａ１－１）中、Ｒにおける、炭素原子数１～５のアルキル基は、直鎖状または分岐鎖状が好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基等が挙げられる。
　Ｒにおける、炭素原子数１～５のハロゲン化アルキル基は、前記炭素原子数１～５のアルキル基の水素原子の一部または全部がハロゲン原子で置換された基である。該ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、特にフッ素原子が好ましい。
　Ｒとしては、水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基又は炭素原子数１～５のフッ素化アルキル基が好ましく、工業上の入手の容易さから、水素原子又はメチル基がより好ましい。

　前記式（ａ１－１）中、Ｖａ^４１は、置換基を有していてもよい２価の炭化水素基であり、上述の「エポキシ基含有基」において説明した、置換基を有していてもよい２価の炭化水素基と同様の基が挙げられる。
　上記の中でも、Ｖａ^４１の炭化水素基は、脂肪族炭化水素基が好ましく、直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基がより好ましく、直鎖状の脂肪族炭化水素基がさらに好ましく、直鎖状のアルキレン基が特に好ましい。

　前記式（ａ１－１）中、ｎａ^４１は、０～２の整数であり、０又は１が好ましい。

　前記の式（ａ１－１）、（ａ１－２）中、Ｒ^ａ４１、Ｒ^ａ４２は、エポキシ基含有基であり、上述の「エポキシ基含有基」と同様であり、なかでもグリシジル基が好ましい。

　前記式（ａ１－２）中、Ｗａ^４１における（ｎａ^４３＋１）価の脂肪族炭化水素基は、芳香族性を持たない炭化水素基を意味し、飽和であってもよく、不飽和であってもよく、通常は飽和であることが好ましい。
　前記脂肪族炭化水素基としては、直鎖状もしくは分岐鎖状の脂肪族炭化水素基、構造中に環を含む脂肪族炭化水素基、又は、直鎖状もしくは分岐鎖状の脂肪族炭化水素基と構造中に環を含む脂肪族炭化水素基とを組み合わせた基が挙げられる。

　前記式（ａ１－２）中、ｎａ^４３は、１～３の整数であり、１又は２が好ましい。

　以下に、前記の式（ａ１－１）又は（ａ１－２）で表される構成単位の具体例を示す。
　下記の式中、Ｒ^αは、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。
　Ｒ^ａ５１は、炭素原子数１～８の２価の炭化水素基を示す。Ｒ^ａ５２は、炭素原子数１～２０の２価の炭化水素基を示す。Ｒ^ａ５３は、水素原子又はメチル基を示す。ｎａ^５１は、０～１０の整数である。
　Ｒ^ａ５１、Ｒ^ａ５２、Ｒ^ａ５３は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。

　（ＡＣ）成分が有する構成単位（ａｃ１）は、１種でもよく２種以上でもよい。
　構成単位（ａｃ１）としては、上記一般式（ａ１－１）で表されるエポキシ基含有単位が好ましい。

　前記構成単位（ａｃ１）の含有割合は、前記（ＡＣ）成分を構成する全構成単位の合計（１００質量％）に対して、０質量％超え５０質量％未満であり、０．０５質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、０．０５質量％以上２０質量％以下であることがより好ましく、０．１０質量％以上１０質量％以下であることがさらに好ましく、０．２０質量％以上５質量％以下であることが特に好ましい。
　構成単位（ａｃ１）の含有割合が、前記範囲の下限値超えであれば、樹脂パターンの耐薬品性をより高められ、硬化膜の強度が高まり、また、パターン形成の際のリソグラフィー特性が向上する。一方、前記範囲の上限値未満であれば、樹脂パターンの耐薬品性をより高められ、硬化膜とした際に対象物との接着性を高められ、また、信頼性が向上する。

　≪構成単位（ａｃ２）≫
　（ＡＣ）成分は、上述の構成単位（ａｃ１）に加え、これ以外の構成単位（ａｃ２）を有する。
　構成単位（ａｃ２）としては、構成単位（ａｃ１）との共重合体である（ＡＣ）成分のガラス転移点が０℃以下となるものであればよく、エポキシ基含有アクリルモノマー以外のアクリル酸エステルから誘導される構成単位、アクリル酸から誘導される構成単位、その他重合性化合物から誘導される構成単位などが挙げられる。

　ここでいう「アクリル酸エステル」及び「アクリル酸」は、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよい。該α位の炭素原子に結合した水素原子を置換する置換基（Ｒ^αｘ）としては、炭素原子数１～５のアルキル基、ハロゲン原子又は炭素原子数１～５のハロゲン化アルキル基などが挙げられる。

　構成単位（ａｃ２）が由来するモノマーとしては、例えば、アクリル酸２－エチルヘキシル、アクリル酸ｎ－ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸エチル、アクリル酸メチル、メタクリル酸ｎ－ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸メチル等の（メタ）アクリル酸アルキルエステル；アクリル酸２－ヒドロキシエチル、アクリル酸２－ヒドロキシプロピル、メタクリル酸２－ヒドロキシエチル、メタクリル酸２－ヒドロキシプロピル等の（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル；アクリル酸２－メトキシエチル、メタクリル酸２－メトキシエチル等の（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステル；アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等のモノカルボン酸；マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等のジカルボン酸類；２－メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２－メタクリロイルオキシエチルマレイン酸、２－メタクリロイルオキシエチルフタル酸、２－メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸等のカルボキシル基もしくはエステル結合を有するメタクリル酸誘導体；フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、フェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート等の（メタ）アクリル酸アリールエステル；マレイン酸ジエチル、フマル酸ジブチル等のジカルボン酸ジエステル；スチレン、α－メチルスチレン、クロロスチレン、クロロメチルスチレン、ビニルトルエン、ヒドロキシスチレン、α－メチルヒドロキシスチレン、α－エチルヒドロキシスチレン等のビニル基含有芳香族化合物；酢酸ビニル等のビニル基含有脂肪族化合物；ブタジエン、イソプレン等の共役ジオレフィン；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のニトリル基含有重合性化合物；塩化ビニル、塩化ビニリデン等の塩素含有重合性化合物；アクリルアミド、メタクリルアミド等のアミド結合含有重合性化合物等が挙げられる。
　なお、「（メタ）アクリル酸」との表記は、アクリル酸及びメタクリル酸の一方又は両方を意味する。

　（ＡＣ）成分が有する構成単位（ａｃ２）は、１種でもよく２種以上でもよい。
　上述した中でも、構成単位（ａｃ２）が由来するモノマーとしては、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル、（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルが好ましい。
　（メタ）アクリル酸アルキルエステルにおいて、アルキルエステル部のアルキルの炭素原子数は、好ましくは１～５である。
　（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルにおいて、ヒドロキシアルキルエステル部のアルキルの炭素原子数は、好ましくは１～５である。
　（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルにおいて、アルコキシアルキルエステル部のアルコキシの炭素原子数は、好ましくは１～３であり、アルキルの炭素原子数は、好ましくは１～５である。

　前記構成単位（ａｃ２）の含有割合は、前記（ＡＣ）成分を構成する全構成単位の合計（１００質量％）に対して、５０質量％以上であり、６０質量％以上９９．９５質量％以下であることが好ましく、８０質量％以上９９．９５質量％以下であることがより好ましく、９０質量％以上９９．９０質量％以下であることがさらに好ましく、９５質量％以上９９．８０質量％以下であることが特に好ましい。
　構成単位（ａｃ２）の含有割合が、前記範囲の下限値以上であれば、樹脂パターンの耐薬品性をより高められる。一方、前記範囲の上限値以下であれば、樹脂パターンの耐薬品性をより高められ、また、パターン形成の際のリソグラフィー特性が向上する。

　本実施形態の光硬化性組成物が含有するアクリル樹脂（ＡＣ）は、ガラス転移点が０℃以下であり、かつ、上述した構成単位（ａｃ１）の含有割合が０質量％超え５０質量％未満である共重合体を含むものであり、この共重合体の１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　かかる（ＡＣ）成分は、「アクリル酸エステル」から誘導される構成単位の含有割合が、（ＡＣ）成分を構成する全構成単位の合計（１００質量％）に対して、５０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましく、９０質量％以上であることがさらに好ましく、１００質量％であってもよい。
　構成単位（ａｃ１）の含有割合が０質量％超え５０質量％未満である共重合体の好ましいものとしては、構成単位（ａｃ１）と（メタ）アクリル酸アルキルエステルから誘導される構成単位とを有する共重合体、構成単位（ａｃ１）と（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルから誘導される構成単位とを有する共重合体、構成単位（ａｃ１）と（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルから誘導される構成単位とを有する共重合体が挙げられる。
　あるいは、構成単位（ａｃ１）の含有割合が０質量％超え５０質量％未満である共重合体の好ましいものとしては、構成単位（ａｃ１）と（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルから誘導される構成単位と（メタ）アクリル酸アルキルエステルから誘導される構成単位とを有する共重合体、構成単位（ａｃ１）と（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルから誘導される構成単位と（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルから誘導される構成単位とを有する共重合体、構成単位（ａｃ１）と（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルから誘導される構成単位と（メタ）アクリル酸アルキルエステルから誘導される構成単位とを有する共重合体が挙げられる。

　例えば、構成単位（ａｃ１）とこれ以外の構成単位（ａｃ２）とを有する共重合体において、当該共重合体を構成する全構成単位の合計（１００質量％）に対し、構成単位（ａｃ１）の含有割合は、０質量％超え５質量％以下であり、（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルから誘導される構成単位の含有割合は、３０質量％以上９９質量％以下であり、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルから誘導される構成単位の含有割合は、０．５質量％以上５質量％以下であり、（メタ）アクリル酸アルキルエステルから誘導される構成単位の含有割合は、２０質量％以上７０質量％以下であるものが挙げられる。

　（ＡＣ）成分は、構成単位（ａｃ１）が由来するモノマーと、構成単位（ａｃ２）が由来するモノマーと、を重合溶媒に溶解し、ここに、例えばアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、アゾビスイソ酪酸ジメチル（例えばＶ－６０１など）等のラジカル重合開始剤を加えて重合を行うことにより製造することができる。

　（ＡＣ）成分の重量平均分子量（Ｍｗ）（ゲル浸透クロマトグラフィーＧＰＣ測定による標準ポリスチレン換算基準）は、特に限定されるものではないが、５００００～４０００００が好ましく、６００００～３８００００がより好ましく、７００００～３６００００がさらに好ましい。
　（ＡＣ）成分の分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、特に限定されないが、１．０～３．０が好ましく、１．０～２．５がより好ましく、１．０～２．０が特に好ましい。Ｍｎは数平均分子量を示す。

　本実施形態の光硬化性組成物中、（ＡＣ）成分の含有量は、後述のエポキシ基含有化合物（Ａ）の含有量１００質量部に対して、１～４５質量部であることが好ましく、１～４０質量部であることがより好ましく、５～３０質量部であることがさらに好ましく、１０～２５質量部であることが特に好ましい。

　本実施形態の光硬化性組成物中、（ＡＣ）成分の含有量は、光硬化性組成物の固形分総量（１００質量％）に対して、１～４０質量％であることが好ましく、３～３０質量％であることがより好ましく、５～２０質量％であることがさらに好ましい。

＜エポキシ基含有化合物（Ａ）＞
　本実施形態の光硬化性組成物が含有するエポキシ基含有化合物（Ａ）は、露光によってネガ型のパターンを形成するのに充分なエポキシ基を１分子中に有する化合物が挙げられる。
　かかる（Ａ）成分としては、ノボラック型エポキシ樹脂（以下「（Ａ１）成分」ともいう）、ビスフェノール型エポキシ樹脂（以下「（Ａ２）成分」ともいう）、脂肪族エポキシ樹脂等が挙げられる。
　前記（Ａ）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　但し、前記（Ａ）成分は、上述のアクリル樹脂（ＡＣ）に該当するものを除くものとする。

　≪ノボラック型エポキシ樹脂≫
　ノボラック型エポキシ樹脂（（Ａ１）成分）としては、下記一般式（ａｎｖ０）で表されるエポキシ樹脂が好適に挙げられる。

［式中、Ｒ^ｐ１及びＲ^ｐ２は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１～５のアルキル基である。複数のＲ^ｐ１は、互いに同一であってもよく異なっていてもよい。複数のＲ^ｐ２は、互いに同一であってもよく異なっていてもよい。ｎ_１は、１～５の整数である。Ｒ^ＥＰは、エポキシ基含有基である。複数のＲ^ＥＰは、互いに同一であってもよく異なっていてもよい。］

　前記式（ａｎｖ０）中、Ｒ^ｐ１、Ｒ^ｐ２の炭素原子数１～５のアルキル基は、例えば、炭素原子数１～５の直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基である。直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基等が挙げられる。環状のアルキル基としては、シクロブチル基、シクロペンチル基等が挙げられる。
　なかでもＲ^ｐ１、Ｒ^ｐ２としては、水素原子又は直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基が好ましく、水素原子又は直鎖状のアルキル基がより好ましく、水素原子又はメチル基が特に好ましい。
　式（ａｎｖ０）中、複数のＲ^ｐ１は、互いに同一であってもよく異なっていてもよい。複数のＲ^ｐ２は、互いに同一であってもよく異なっていてもよい。

　前記式（ａｎｖ０）中、ｎ_１は、１～５の整数であり、好ましくは２又は３であり、より好ましくは２である。

　前記式（ａｎｖ０）中、Ｒ^ＥＰは、エポキシ基含有基である。
　Ｒ^ＥＰのエポキシ基含有基としては、特に限定されるものではなく、エポキシ基のみからなる基；脂環式エポキシ基のみからなる基；エポキシ基又は脂環式エポキシ基と、２価の連結基とを有する基が挙げられる。
　Ｒ^ＥＰのエポキシ基含有基についての説明は、上述の「エポキシ基含有基」についての説明と同様である。
　なかでも、Ｒ^ＥＰにおけるエポキシ基含有基としては、グリシジル基が好ましい。

　また、（Ａ１）成分としては、下記一般式（ａｎｖ１）で表される構成単位を有する樹脂も好適に挙げられる。

［式中、Ｒ^ＥＰは、エポキシ基含有基である。Ｒ^ａ２２及びＲ^ａ２３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基又はハロゲン原子である。］

　前記式（ａｎｖ１）中、Ｒ^ａ２２、Ｒ^ａ２３の炭素原子数１～５のアルキル基は、前記式（ａｎｖ０）中のＲ^ｐ１、Ｒ^ｐ２の炭素原子数１～５のアルキル基と同様である。
　Ｒ^ａ２２、Ｒ^ａ２３のハロゲン原子は、塩素原子又は臭素原子であることが好ましい。
　前記式（ａｎｖ１）中、Ｒ^ＥＰは、前記式（ａｎｖ０）中のＲ^ＥＰと同様であって、グリシジル基が好ましい。

　以下に、前記式（ａｎｖ１）で表される構成単位の具体例を示す。

　（Ａ１）成分は、前記構成単位（ａｎｖ１）のみからなる樹脂であってもよく、構成単位（ａｎｖ１）と他の構成単位とを有する樹脂であってもよい。
　この他の構成単位としては、例えば、下記一般式（ａｎｖ２）～（ａｎｖ３）でそれぞれ表される構成単位が挙げられる。

［式中、Ｒ^ａ２４は、置換基を有していてもよい炭化水素基である。Ｒ^ａ２５～Ｒ^ａ２６、Ｒ^ａ２８～Ｒ^ａ３０は、それぞれ独立に水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基又はハロゲン原子である。Ｒ^ａ２７は、エポキシ基含有基又は置換基を有していてもよい炭化水素基である。］

　前記式（ａｎｖ２）中、Ｒ^ａ２４は、置換基を有していてもよい炭化水素基である。置換基を有していてもよい炭化水素基としては、直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基、又は環状の炭化水素基が挙げられる。
　該直鎖状のアルキル基は、炭素原子数が１～５であることが好ましく、１～４がより好ましく、１または２がさらに好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基等が挙げられる。これらの中でも、メチル基、エチル基またはｎ－ブチル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。

　該分岐鎖状のアルキル基は、炭素原子数が３～１０であることが好ましく、３～５がより好ましい。具体的には、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１，１－ジエチルプロピル基、２，２－ジメチルブチル基等が挙げられ、イソプロピル基であることが好ましい。

　Ｒ^ａ２４が環状の炭化水素基となる場合、該炭化水素基は、脂肪族炭化水素基でも芳香族炭化水素基でもよく、また、多環式基でも単環式基でもよい。
　単環式基である脂肪族炭化水素基としては、モノシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素原子数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。
　多環式基である脂肪族炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては、炭素原子数７～１２のものが好ましく、具体的にはアダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等が挙げられる。

　Ｒ^ａ２４の環状の炭化水素基が芳香族炭化水素基となる場合、該芳香族炭化水素基は、芳香環を少なくとも１つ有する炭化水素基である。
　この芳香環は、４ｎ＋２個のπ電子をもつ環状共役系であれば特に限定されず、単環式でも多環式でもよい。芳香環の炭素原子数は５～３０であることが好ましく、５～２０がより好ましく、６～１５がさらに好ましく、６～１２が特に好ましい。芳香環として具体的には、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環；前記芳香族炭化水素環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環等が挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。芳香族複素環として具体的には、ピリジン環、チオフェン環等が挙げられる。
　Ｒ^ａ２４における芳香族炭化水素基として具体的には、前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環から水素原子を１つ除いた基（アリール基またはヘテロアリール基）；２以上の芳香環を含む芳香族化合物（例えばビフェニル、フルオレン等）から水素原子を１つ除いた基；前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、１－ナフチルメチル基、２－ナフチルメチル基、１－ナフチルエチル基、２－ナフチルエチル基等のアリールアルキル基など）等が挙げられる。前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環に結合するアルキレン基の炭素原子数は、１～４であることが好ましく、１～２であることがより好ましく、１であることが特に好ましい。

　前記式（ａｎｖ２）、（ａｎｖ３）中、Ｒ^ａ２５～Ｒ^ａ２６、Ｒ^ａ２８～Ｒ^ａ３０は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基又はハロゲン原子である。
　炭素原子数１～５のアルキル基、ハロゲン原子は、それぞれ、前記Ｒ^ａ２２、Ｒ^ａ２３と同様である。

　前記式（ａｎｖ３）中、Ｒ^ａ２７は、エポキシ基含有基、又は置換基を有していてもよい炭化水素基である。Ｒ^ａ２７のエポキシ基含有基は、前記式（ａｎｖ０）中のＲ^ＥＰと同様である。Ｒ^ａ２７の置換基を有していてもよい炭化水素基は、前記式（ａｎｖ２）中のＲ^ａ２４と同様である。

　以下に、前記式（ａｎｖ２）～（ａｎｖ３）でそれぞれ表される構成単位の具体例を示す。

　（Ａ１）成分が、構成単位（ａｎｖ１）に加えて他の構成単位を有する場合、（Ａ１）成分中の各構成単位の割合は、特に限定されるものではないが、（Ａ１）成分を構成する全構成単位の合計に対して、エポキシ基を有する構成単位の合計が１０～９０モル％が好ましく、２０～８０モル％がより好ましく、３０～７０モル％がさらに好ましい。

　（Ａ１）成分の市販品としては、例えば、ノボラック型エポキシ樹脂として、ｊＥＲ－１５２、ｊＥＲ－１５４、ｊＥＲ－１５７Ｓ７０、ｊＥＲ－１５７Ｓ６５（以上、三菱ケミカル株式会社製）、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７４０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７４０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７７０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７７５、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６６０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６６５、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６７０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６７３、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６８０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９５、ＥＰＩＣＬＯＮ　ＨＰ５０００（以上、ＤＩＣ株式会社製）、ＥＯＣＮ－１０２０（以上、日本化薬株式会社製）等が挙げられる。

　（Ａ１）成分としては、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　本実施形態の光硬化性組成物中、（Ａ１）成分の含有量は、（Ａ）成分の総量１００質量％に対して、２５質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、５０質量％以上でもよいし、７５質量％以上でもよいし、９０質量％以上でもよいし、１００質量％でもよい。

　≪ビスフェノール型エポキシ樹脂≫
　ビスフェノール型エポキシ樹脂（以下「（Ａ２）成分」ともいう）としては、ビスフェノール骨格を含む構成単位を有する樹脂であればよく、そのなかでも固形ビスフェノール型エポキシ樹脂が好ましい。
　固形ビスフェノール型エポキシ樹脂とは、２５℃において固体状の、ビスフェノール骨格を含む構成単位を有する樹脂をいう。
　（Ａ２）成分におけるエポキシ当量は、例えば、５００ｇ／ｅｑ．以上であることが好ましく、５５０～１２００ｇ／ｅｑ．がより好ましく、６００～１０００ｇ／ｅｑ．がさらに好ましい。

　（Ａ２）成分としては、下記一般式（ａｂｐ１）で表されるエポキシ樹脂が好適に挙げられる。

［式中、Ｒ^ＥＰは、エポキシ基含有基である。複数のＲ^ＥＰは、互いに同一であってもよく異なっていてもよい。Ｒ^ａ３１及びＲ^ａ３２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基、又は炭素原子数１～５のフッ素化アルキル基である。ｎａ^３１は、１～５０の整数である。］

　前記式（ａｂｐ１）中、Ｒ^ＥＰは、前記式（ａｎｖ０）中のＲ^ＥＰと同様であり、グリシジル基が好ましい。
　前記式（ａｂｐ１）中、Ｒ^ａ３１、Ｒ^ａ３２における炭素原子数１～５のアルキル基は、前記式（ａｎｖ０）中のＲ^ｐ１、Ｒ^ｐ２における炭素原子数１～５のアルキル基と同様である。なかでもＲ^ａ３１、Ｒ^ａ３２としては、それぞれ、水素原子又はメチル基が好ましい。
　Ｒ^ａ３１、Ｒ^ａ３２における炭素原子数１～５のフッ素化アルキル基は、前記のＲ^ａ３１、Ｒ^ａ３２における炭素原子数１～５のアルキル基の水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換された基が挙げられる。
　前記式（ａｂｐ１）中、ｎａ^３１は、１～５０の整数であり、好ましくは４～１５の整数であり、より好ましくは５～８の整数である。

　（Ａ２）成分として使用可能な市販品は、例えば、ｊＥＲ－４００５、ｊＥＲ－４００７、ｊＥＲ－４０１０（以上、三菱ケミカル株式会社製）；ｊＥＲ－８２７、ｊＥＲ－８２８、ｊＥＲ－８３４、ｊＥＲ－１００１、ｊＥＲ－１００２、ｊＥＲ－１００３、ｊＥＲ－１０５５、ｊＥＲ－１００７、ｊＥＲ－１００９、ｊＥＲ－１０１０（以上、三菱ケミカル株式会社製）；ＥＰＩＣＬＯＮ８６０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５１、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５５（以上、ＤＩＣ株式会社製）等が挙げられる。

　（Ａ２）成分としては、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　本実施形態の光硬化性組成物中、（Ａ２）成分の含有量は、（Ａ）成分の総量１００質量％に対して、５０質量％以上であることが好ましく、６０質量％以上であることがより好ましく、７０質量％以上でもよいし、８０質量％以上でもよいし、９０質量％以上でもよいし、１００質量％でもよい。

　（Ａ１）成分と（Ａ２）成分とを併用する場合、（Ａ１）成分と（Ａ２）成分との比率は、（Ａ１）成分／（Ａ２）成分で表される質量比として、１／９以上７／３以下であることが好ましく、２／８以上６／４以下であることがより好ましく、３／７以上５／５以下であることがさらに好ましい。
　かかる質量比が前記の好ましい範囲内であれば、耐薬品性が向上しやすくなり、また、解像性がより高められる。

　≪脂肪族エポキシ樹脂≫
　脂肪族エポキシ樹脂としては、例えば、下記一般式（ｔａ１）で表される化合物（以下この化合物を「（Ａ３）成分」ともいう）が好適に挙げられる。

［式中、Ｒ^ＥＰは、エポキシ基含有基である。複数のＲ^ＥＰは、互いに同一であってもよく異なっていてもよい。］

　前記式（ｔａ１）中、Ｒ^ＥＰは、エポキシ基含有基であり、前記式（ａｎｖ０）中のＲ^ＥＰと同様である。

　（Ａ３）成分として使用可能な市販品は、例えば、ＴＥＰＩＣ、ＴＥＰＩＣ－ＶＬ、ＴＥＰＩＣ－ＰＡＳ、ＴＥＰＩＣ－Ｇ、ＴＥＰＩＣ－Ｓ、ＴＥＰＩＣ－ＳＰ、ＴＥＰＩＣ－ＳＳ、ＴＥＰＩＣ－ＨＰ、ＴＥＰＩＣ－Ｌ、ＴＥＰＩＣ－ＦＬ、ＴＥＰＩＣ－ＵＣ等のＴＥＰＩＣシリーズ（日産化学株式会社製）；ＭＡ－ＤＧＩＣ、ＤＡ－ＭＧＩＣ、ＴＯＩＣ（四国化成工業株式会社製）等が挙げられる。
　（Ａ３）成分としては、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

　また、脂肪族エポキシ樹脂としては、下記一般式（ｍ１）で表される部分構造を含む化合物（以下「（ｍ１）成分」ともいう）も挙げられる。

［式中、ｎ_２は、１～４の整数である。＊は結合手を示す。］

　前記式（ｍ１）中、ｎ_２は、１～４の整数であり、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２である。

　（ｍ１）成分としては、２価の連結基又は単結合を介して、上記一般式（ｍ１）で表される部分構造の複数が結合した化合物が挙げられる。この中でも、２価の連結基を介して、上記一般式（ｍ１）で表される部分構造の複数が結合した化合物が好ましい。
　ここでの２価の連結基としては、特に限定されないが、置換基を有していてもよい２価の炭化水素基、ヘテロ原子を含む２価の連結基が好適なものとして挙げられる。
　ここでの、置換基を有していてもよい２価の炭化水素基、ヘテロ原子を含む２価の連結基については、上述の「エポキシ基含有基」において説明した、置換基を有していてもよい２価の炭化水素基、ヘテロ原子を含む２価の連結基とそれぞれ同様であり、この中でもヘテロ原子を含む２価の連結基が好ましく、－Ｙ^２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－で表される基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｙ^２１－で表される基がより好ましい。Ｙ^２１としては、直鎖状の脂肪族炭化水素基が好ましく、直鎖状のアルキレン基がより好ましく、炭素原子数１～５の直鎖状のアルキレン基がさらに好ましく、メチレン基またはエチレン基が特に好ましい。

　脂肪族エポキシ樹脂として使用可能な市販品は、例えば、ＡＤＥＫＡ　ＲＥＳＩＮ　ＥＰ－４０８０Ｓ、同ＥＰ－４０８５Ｓ、同ＥＰ－４０８８Ｓ（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）；セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、セロキサイド２０８３、セロキサイド２０８５、セロキサイド８０００、セロキサイド８０１０、ＥＨＰＥ－３１５０、ＥＰＯＬＥＡＤ　ＰＢ　３６００、同ＰＢ　４７００（以上、株式会社ダイセル製）；デナコール　ＥＸ－２１１Ｌ、ＥＸ－２１２Ｌ、ＥＸ－２１４Ｌ、ＥＸ－２１６Ｌ、ＥＸ－３２１Ｌ、ＥＸ－８５０Ｌ（以上、ナガセケムテックス株式会社製）等が挙げられる。

　また、エポキシ基含有化合物（Ａ）には、上述した樹脂以外に、下記化学式（Ａ４－１）で表される化合物、下記化学式（Ａ４－２）で表される化合物をそれぞれ使用してもよい。
　下記化学式（Ａ４－１）で表される化合物として使用可能な市販品は、例えば、ＴＥＣＨＭＯＲＥ　ＶＧ－３１０１Ｌ（プリンテック株式会社製）等が挙げられる。
　下記化学式（Ａ４－２）で表される化合物として使用可能な市販品は、例えば、ショウフリー（登録商標）ＢＡＴＧ（昭和電工株式会社製）等が挙げられる。

　また、エポキシ基含有化合物（Ａ）としては、例えば、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル；ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ジトリメチロールプロパンテトラグリシジルエーテル、ジグリセリンテトラグリシジルエーテル、エリスリトールテトラグリシジルエーテル；キシリトールペンタグリシジルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタグリシジルエーテル、イノシトールペンタグリシジルエーテル；ジペンタエリスリトールヘキサグリシジルエーテル、ソルビトールヘキサグリシジルエーテル、イノシトールヘキサグリシジルエーテル等も挙げられる。

　本実施形態の光硬化性組成物において、（Ａ）成分としては、ビスフェノール型エポキシ樹脂（Ａ２）及びノボラック型エポキシ樹脂（Ａ１）からなる群より選択される少なくとも一種のエポキシ樹脂を含むものが好ましい。
　この中でも、（Ａ）成分としては、固形ビスフェノール型エポキシ樹脂と（Ａ１）成分とを含むものがより好ましく、一般式（ａｂｐ１）で表されるエポキシ樹脂と、一般式（ａｎｖ０）で表されるエポキシ樹脂とを含むものがさらに好ましい。

　（Ａ）成分のポリスチレン換算重量平均分子量は、好ましくは１００～３０００００であり、より好ましくは２００～２０００００であり、さらに好ましくは３００～２０００００である。このような重量平均分子量とすることにより、樹脂パターンの耐薬品性が高められやすくなり、形成される硬化膜の強度が充分に高められる。

　本実施形態の光硬化性組成物中の（Ａ）成分の含有量は、形成しようとする光硬化性膜の膜厚等に応じて調整すればよい。
　本実施形態の光硬化性組成物中、（Ａ）成分の含有量は、光硬化性組成物の固形分総量（１００質量％）に対して、４０～９９質量％であることが好ましく、５０～９５質量％であることがより好ましく、６０～９０質量％であることがさらに好ましい。

　本実施形態の光硬化性組成物において、アクリル樹脂（ＡＣ）とエポキシ基含有化合物（Ａ）との混合比率は、質量比として、（Ａ）成分／（ＡＣ）成分＝６０／４０～９５／５であることが好ましく、６５／３５～９０／１０であることがより好ましく、７０／３０～９０／１０であることがさらに好ましい。
　かかる質量比が、前記の好ましい範囲の下限値以上であると、樹脂パターンの耐薬品性が高められやすくなり、形成される硬化膜の強度が充分に高められ、一方、前記の好ましい範囲の上限値以下であると、硬化膜とした際に対象物との接着性をより高められやすくなる。

＜カチオン重合開始剤（Ｉ）＞
　本実施形態の光硬化性組成物が含有するカチオン重合開始剤（Ｉ）は、紫外線、遠紫外線、ＫｒＦ、ＡｒＦ等のエキシマレーザー光、Ｘ線、電子線等といった活性エネルギー線の照射を受けてカチオンを発生し、そのカチオンが重合開始剤となり得る化合物である。
　この（Ｉ）成分としては、オニウムボレート塩（以下「（Ｉ１）成分」ともいう）、後述の一般式（Ｉ２－１）又は（Ｉ２－２）で表される化合物（以下「（Ｉ２）成分」ともいう）、後述の一般式（Ｉ３－１）又は（Ｉ３－２）で表される化合物（以下「（Ｉ３）成分」ともいう）が挙げられる。

　≪オニウムボレート塩≫
　オニウムボレート塩（（Ｉ１）成分）は、露光により比較的に強い酸を発生する。このため、（Ｉ１）成分を含有する光硬化性組成物を用いてパターンを形成することにより、充分な感度が得られて良好なパターンが形成される。また、（Ｉ１）成分の使用は、毒性や金属腐食のおそれも低い。
　（Ｉ１）成分としては、例えば、下記一般式（Ｉ１）で表される化合物が好適に挙げられる。

［式中、Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいアリール基、又はフッ素原子である。ｑは１以上の整数であって、Ｑ^ｑ＋は、ｑ価の有機カチオンである。］

　・アニオン部
　前記式（Ｉ１）中、Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４におけるアリール基は、炭素原子数が５～３０であることが好ましく、５～２０がより好ましく、６～１５がさらに好ましく、６～１２が特に好ましい。具体的には、ナフチル基、フェニル基、アントラセニル基などが挙げられ、入手が容易であることからフェニル基が好ましい。
　Ｒ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４におけるアリール基は、置換基を有していてもよい。この置換基としては、特に限定されるものではないが、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基（直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、炭素原子数は１～５が好ましい）、ハロゲン化アルキル基が好ましく、ハロゲン原子又は炭素原子数１～５のハロゲン化アルキル基がより好ましく、フッ素原子又は炭素原子数１～５のフッ素化アルキル基が特に好ましい。アリール基がフッ素原子を有することにより、アニオン部の極性が高まり好ましい。
　中でも、式（Ｉ１）のＲ^ｂ０１～Ｒ^ｂ０４としては、それぞれ、フッ素化されたフェニル基が好ましく、パーフルオロフェニル基が特に好ましい。

　前記式（Ｉ１）で表される化合物のアニオン部の好ましい具体例としては、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（［Ｂ（Ｃ_６Ｆ_５）_４］^－）；テトラキス［（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート（［Ｂ（Ｃ_６Ｈ_４ＣＦ_３）_４］^－）；ジフルオロビス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（［（Ｃ_６Ｆ_５）_２ＢＦ_２］^－）；トリフルオロ（ペンタフルオロフェニル）ボレート（［（Ｃ_６Ｆ_５）ＢＦ_３］^－）；テトラキス（ジフルオロフェニル）ボレート（［Ｂ（Ｃ_６Ｈ_３Ｆ_２）_４］^－）等が挙げられる。
　中でも、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（［Ｂ（Ｃ_６Ｆ_５）_４］^－）が特に好ましい。

　・カチオン部
　前記式（Ｉ１）中、Ｑ^ｑ＋としては、スルホニウムカチオン、ヨードニウムカチオンが好適に挙げられ、下記の一般式（ｃａ－１）～（ｃａ－５）でそれぞれ表される有機カチオンが特に好ましい。

［式中、Ｒ^２０１～Ｒ^２０７、およびＲ^２１１～Ｒ^２１２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいアリール基、ヘテロアリール基、アルキル基またはアルケニル基を表す。Ｒ^２０１～Ｒ^２０３、Ｒ^２０６～Ｒ^２０７、Ｒ^２１１～Ｒ^２１２は、相互に結合して、式中のイオウ原子と共に環を形成してもよい。Ｒ^２０８～Ｒ^２０９は、それぞれ独立に、水素原子または炭素原子数１～５のアルキル基を表す。Ｒ^２１０は、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、または置換基を有していてもよい－ＳＯ_２－含有環式基である。Ｌ^２０１は、－Ｃ（＝Ｏ）－または－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－を表す。Ｙ^２０１は、それぞれ独立に、アリーレン基、アルキレン基またはアルケニレン基を表す。ｘは、１または２である。Ｗ^２０１は、（ｘ＋１）価の連結基を表す。］

　Ｒ^２０１～Ｒ^２０７、およびＲ^２１１～Ｒ^２１２におけるアリール基としては、炭素原子数６～２０の無置換のアリール基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましい。
　Ｒ^２０１～Ｒ^２０７、およびＲ^２１１～Ｒ^２１２におけるヘテロアリール基としては、前記アリール基を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換されたものが挙げられる。ヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。このヘテロアリール基として、９Ｈ－チオキサンテンから水素原子を１つ除いた基；置換ヘテロアリール基として、９Ｈ－チオキサンテン－９－オンから水素原子を１つ除いた基などが挙げられる。
　Ｒ^２０１～Ｒ^２０７、およびＲ^２１１～Ｒ^２１２におけるアルキル基としては、鎖状又は環状のアルキル基であって、炭素原子数１～３０のものが好ましい。
　Ｒ^２０１～Ｒ^２０７、およびＲ^２１１～Ｒ^２１２におけるアルケニル基としては、炭素原子数が２～１０であることが好ましい。
　Ｒ^２０１～Ｒ^２０７、およびＲ^２１０～Ｒ^２１２が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、カルボニル基、シアノ基、アミノ基、オキソ基（＝Ｏ）、アリール基、下記の式（ｃａ－ｒ－１）～（ｃａ－ｒ－１０）でそれぞれ表される基が挙げられる。

［式中、Ｒ’^２０１は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい環式基、置換基を有していてもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有していてもよい鎖状のアルケニル基である。］

　前記の式（ｃａ－ｒ－１）～（ｃａ－ｒ－１０）中、Ｒ’^２０１は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい環式基、置換基を有していてもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有していてもよい鎖状のアルケニル基である。

　置換基を有していてもよい環式基：
　該環式基は、環状の炭化水素基であることが好ましく、該環状の炭化水素基は、芳香族炭化水素基であってもよく、環状の脂肪族炭化水素基であってもよい。脂肪族炭化水素基は、芳香族性を持たない炭化水素基を意味する。また、脂肪族炭化水素基は、飽和であってもよく、不飽和であってもよく、通常は飽和であることが好ましい。

　Ｒ’^２０１における芳香族炭化水素基は、芳香環を有する炭化水素基である。該芳香族炭化水素基の炭素原子数は３～３０であることが好ましく、５～３０であることがより好ましく、５～２０がさらに好ましく、６～１５が特に好ましく、６～１０が最も好ましい。ただし、該炭素原子数には、置換基における炭素原子数を含まないものとする。
　Ｒ’^２０１における芳香族炭化水素基が有する芳香環として具体的には、ベンゼン、フルオレン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ビフェニル、もしくはこれらの芳香環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環、又は、これらの芳香環もしくは芳香族複素環を構成する水素原子の一部がオキソ基などで置換された環が挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。
　Ｒ’^２０１における芳香族炭化水素基として具体的には、前記芳香環から水素原子を１つ除いた基（アリール基：例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基など）、前記芳香環の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、１－ナフチルメチル基、２－ナフチルメチル基、１－ナフチルエチル基、２－ナフチルエチル基等のアリールアルキル基など）、前記芳香環を構成する水素原子の一部がオキソ基などで置換された環（例えばアントラキノン等）から水素原子を１つ除いた基、芳香族複素環（例えば９Ｈ－チオキサンテン、９Ｈ－チオキサンテン－９－オンなど）から水素原子を１つ除いた基等が挙げられる。前記アルキレン基（アリールアルキル基中のアルキル鎖）の炭素原子数は、１～４であることが好ましく、１～２であることがより好ましく、１であることが特に好ましい。

　Ｒ’^２０１における環状の脂肪族炭化水素基は、構造中に環を含む脂肪族炭化水素基が挙げられる。
　この構造中に環を含む脂肪族炭化水素基としては、脂環式炭化水素基（脂肪族炭化水素環から水素原子を１個除いた基）、脂環式炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の末端に結合した基、脂環式炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の途中に介在する基などが挙げられる。
　前記脂環式炭化水素基は、炭素原子数が３～２０であることが好ましく、３～１２であることがより好ましい。
　前記脂環式炭化水素基は、多環式基であってもよく、単環式基であってもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、モノシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素原子数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては、炭素原子数７～３０のものが好ましい。中でも、該ポリシクロアルカンとしては、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等の架橋環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカン；ステロイド骨格を有する環式基等の縮合環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカンがより好ましい。

　なかでも、Ｒ’^２０１における環状の脂肪族炭化水素基としては、モノシクロアルカンまたはポリシクロアルカンから水素原子を１つ以上除いた基が好ましく、ポリシクロアルカンから水素原子を１つ除いた基がより好ましく、アダマンチル基、ノルボルニル基が特に好ましく、アダマンチル基が最も好ましい。

　脂環式炭化水素基に結合してもよい、直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基は、炭素原子数が１～１０であることが好ましく、１～６がより好ましく、１～４がさらに好ましく、１～３が最も好ましい。
　直鎖状の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、メチレン基［－ＣＨ_２－］、エチレン基［－（ＣＨ_２）_２－］、トリメチレン基［－（ＣＨ_２）_３－］、テトラメチレン基［－（ＣＨ_２）_４－］、ペンタメチレン基［－（ＣＨ_２）_５－］等が挙げられる。
　分岐鎖状の脂肪族炭化水素基としては、分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、－ＣＨ（ＣＨ_３）－、－ＣＨ（ＣＨ_２ＣＨ_３）－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－Ｃ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２ＣＨ_３）－、－Ｃ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３）－、－Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ_３）_２－等のアルキルメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ（ＣＨ_３）－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_２ＣＨ_３）ＣＨ_２－、－Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ_３）_２－ＣＨ_２－等のアルキルエチレン基；－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２－等のアルキルトリメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２－等のアルキルテトラメチレン基などのアルキルアルキレン基等が挙げられる。アルキルアルキレン基におけるアルキル基としては、炭素原子数１～５の直鎖状のアルキル基が好ましい。

　置換基を有していてもよい鎖状のアルキル基：
　Ｒ’^２０１の鎖状のアルキル基としては、直鎖状又は分岐鎖状のいずれでもよい。
　直鎖状のアルキル基としては、炭素原子数が１～２０であることが好ましく、１～１５であることがより好ましく、１～１０が最も好ましい。具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デカニル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、イソトリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、イソヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、ドコシル基等が挙げられる。
　分岐鎖状のアルキル基としては、炭素原子数が３～２０であることが好ましく、３～１５であることがより好ましく、３～１０が最も好ましい。具体的には、例えば、１－メチルエチル基、１－メチルプロピル基、２－メチルプロピル基、１－メチルブチル基、２－メチルブチル基、３－メチルブチル基、１－エチルブチル基、２－エチルブチル基、１－メチルペンチル基、２－メチルペンチル基、３－メチルペンチル基、４－メチルペンチル基などが挙げられる。

　置換基を有していてもよい鎖状のアルケニル基：
　Ｒ’^２０１の鎖状のアルケニル基としては、直鎖状又は分岐鎖状のいずれでもよく、炭素原子数が２～１０であることが好ましく、２～５がより好ましく、２～４がさらに好ましく、３が特に好ましい。直鎖状のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、プロペニル基（アリル基）、ブチニル基などが挙げられる。分岐鎖状のアルケニル基としては、例えば、１－メチルビニル基、２－メチルビニル基、１－メチルプロペニル基、２－メチルプロペニル基などが挙げられる。
　鎖状のアルケニル基としては、上記の中でも、直鎖状のアルケニル基が好ましく、ビニル基、プロペニル基がより好ましく、ビニル基が特に好ましい。

　Ｒ’^２０１の環式基、鎖状のアルキル基またはアルケニル基における置換基としては、例えば、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、カルボニル基、ニトロ基、アミノ基、オキソ基、上記Ｒ’^２０１における環式基、アルキルカルボニル基、チエニルカルボニル基等が挙げられる。

　なかでも、Ｒ’^２０１は、置換基を有していてもよい環式基、置換基を有していてもよい鎖状のアルキル基が好ましい。

　Ｒ^２０１～Ｒ^２０３、Ｒ^２０６～Ｒ^２０７、Ｒ^２１１～Ｒ^２１２は、相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成する場合、硫黄原子、酸素原子、窒素原子等のヘテロ原子や、カルボニル基、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－ＳＯ_３－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＨ－または－Ｎ（Ｒ_Ｎ）－（該Ｒ_Ｎは炭素原子数１～５のアルキル基である。）等の官能基を介して結合してもよい。形成される環としては、式中のイオウ原子をその環骨格に含む１つの環が、イオウ原子を含めて、３～１０員環であることが好ましく、５～７員環であることが特に好ましい。形成される環の具体例としては、例えばチオフェン環、チアゾール環、ベンゾチオフェン環、チアントレン環、ベンゾチオフェン環、ジベンゾチオフェン環、９Ｈ－チオキサンテン環、チオキサントン環、チアントレン環、フェノキサチイン環、テトラヒドロチオフェニウム環、テトラヒドロチオピラニウム環等が挙げられる。

　前記式（ｃａ－３）中、Ｒ^２０８～Ｒ^２０９は、それぞれ独立に、水素原子または炭素原子数１～５のアルキル基を表し、水素原子又は炭素原子数１～３のアルキル基が好ましく、アルキル基となる場合、相互に結合して環を形成してもよい。

　前記式（ｃａ－３）中、Ｒ^２１０は、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、又は置換基を有していてもよい－ＳＯ_２－含有環式基である。
　Ｒ^２１０におけるアリール基としては、炭素原子数６～２０の無置換のアリール基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましい。
　Ｒ^２１０におけるアルキル基としては、鎖状又は環状のアルキル基であって、炭素原子数１～３０のものが好ましい。
　Ｒ^２１０におけるアルケニル基としては、炭素原子数が２～１０であることが好ましい。

　前記の式（ｃａ－４）、式（ｃａ－５）中、Ｙ^２０１は、それぞれ独立に、アリーレン基、アルキレン基又はアルケニレン基を表す。
　Ｙ^２０１におけるアリーレン基は、Ｒ’^２０１における芳香族炭化水素基として例示したアリール基から水素原子を１つ除いた基が挙げられる。
　Ｙ^２０１におけるアルキレン基、アルケニレン基は、Ｒ’^２０１における鎖状のアルキル基、鎖状のアルケニル基として例示した基から水素原子を１つ除いた基が挙げられる。

　前記の式（ｃａ－４）、式（ｃａ－５）中、ｘは、１または２である。
　Ｗ^２０１は、（ｘ＋１）価、すなわち２価または３価の連結基である。
　Ｗ^２０１における２価の連結基としては、置換基を有していてもよい２価の炭化水素基が好ましく、上述の「エポキシ基含有基」で例示した、置換基を有していてもよい２価の炭化水素基と同様の基が好ましい。Ｗ^２０１における２価の連結基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれであってもよく、環状であることが好ましい。なかでも、アリーレン基の両端に２個のカルボニル基が組み合わされた基、又はアリーレン基のみからなる基が好ましい。アリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基等が挙げられ、フェニレン基が特に好ましい。
　Ｗ^２０１における３価の連結基としては、前記Ｗ^２０１における２価の連結基から水素原子を１個除いた基、前記２価の連結基にさらに前記２価の連結基が結合した基などが挙げられる。Ｗ^２０１における３価の連結基としては、アリーレン基に２個のカルボニル基が結合した基が好ましい。

　前記式（ｃａ－１）で表される好適なカチオンとして具体的には、下記式（ｃａ－１－１）～（ｃａ－１－２４）でそれぞれ表されるカチオンが挙げられる。

［式中、Ｒ”^２０１は、水素原子又は置換基である。該置換基としては、前記Ｒ^２０１～Ｒ^２０７およびＲ^２１０～Ｒ^２１２が有していてもよい置換基として挙げたものと同様である。］

　また、前記式（ｃａ－１）で表されるカチオンとしては、下記一般式（ｃａ－１－２５）～（ｃａ－１－３５）でそれぞれ表されるカチオンも好ましい。

［式中、Ｒ’^２１１はアルキル基である。Ｒ^ｈａｌは、水素原子又はハロゲン原子である。］

　また、前記式（ｃａ－１）で表されるカチオンとしては、下記化学式（ｃａ－１－３６）～（ｃａ－１－４８）でそれぞれ表されるカチオンも好ましい。

　前記式（ｃａ－２）で表される好適なカチオンとして具体的には、ジフェニルヨードニウムカチオン、ビス（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ヨードニウムカチオン等が挙げられる。

　前記式（ｃａ－３）で表される好適なカチオンとして具体的には、下記式（ｃａ－３－１）～（ｃａ－３－６）でそれぞれ表されるカチオンが挙げられる。

　前記式（ｃａ－４）で表される好適なカチオンとして具体的には、下記式（ｃａ－４－１）～（ｃａ－４－２）でそれぞれ表されるカチオンが挙げられる。

　また、前記式（ｃａ－５）で表されるカチオンとしては、下記一般式（ｃａ－５－１）～（ｃａ－５－３）でそれぞれ表されるカチオンも好ましい。

［式中、Ｒ’^２１２はアルキル基又は水素原子である。Ｒ’^２１１はアルキル基である。］

　上記の中でも、カチオン部［（Ｑ^ｑ＋）_１／ｑ］は、一般式（ｃａ－１）で表されるカチオンが好ましく、式（ｃａ－１－１）～（ｃａ－１－４８）でそれぞれ表されるカチオンがより好ましく、式（ｃａ－１－２５）で表されるカチオン、式（ｃａ－１－２９）で表されるカチオン、式（ｃａ－１－３５）で表されるカチオン、式（ｃａ－１－４７）で表されるカチオン、式（ｃａ－１－４８）で表されるカチオンがさらに好ましい。

　以下に、好適な（Ｉ１）成分の具体例を挙げる。

　≪（Ｉ２）成分≫
　（Ｉ２）成分は、下記一般式（Ｉ２－１）又は（Ｉ２－２）で表される化合物である。
　（Ｉ２）成分は、露光により比較的に強い酸を発生するため、（Ｉ）成分を含有する光硬化性組成物を用いてパターンを形成する場合に、充分な感度が得られて良好なパターンが形成される。

［式中、Ｒ^ｂ０５は、置換基を有していてもよいフッ素化アルキル基、又はフッ素原子である。複数のＲ^ｂ０５は、互いに同一であってもよく異なっていてもよい。ｑは１以上の整数であって、Ｑ^ｑ＋は、ｑ価の有機カチオンである。］

［式中、Ｒ^ｂ０６は、置換基を有していてもよいフッ素化アルキル基、又はフッ素原子である。複数のＲ^ｂ０６は、互いに同一であってもよく異なっていてもよい。ｑは１以上の整数であって、Ｑ^ｑ＋は、ｑ価の有機カチオンである。］

　・アニオン部
　前記式（Ｉ２－１）中、Ｒ^ｂ０５は、置換基を有していてもよいフッ素化アルキル基、又はフッ素原子である。複数のＲ^ｂ０５は、互いに同一であってもよく異なっていてもよい。
　Ｒ^ｂ０５におけるフッ素化アルキル基は、炭素数が１～１０であることが好ましく、１～８がより好ましく、１～５がさらに好ましい。具体的には、炭素数１～５のアルキル基において、水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換された基が挙げられる。
　中でも、Ｒ^ｂ０５としては、フッ素原子又は炭素数１～５のフッ素化アルキル基が好ましく、フッ素原子又は炭素数１～５のパーフルオロアルキル基がより好ましく、フッ素原子、トリフルオロメチル基又はペンタフルオロエチル基がさらに好ましい。

　式（Ｉ２－１）で表される化合物のアニオン部は、下記一般式（ｂ０－２ａ）で表されるものが好ましい。

［式中、Ｒ^ｂｆ０５は、置換基を有していてもよいフッ素化アルキル基である。ｎｂ^１は、１～５の整数である。］

　式（ｂ０－２ａ）中、Ｒ^ｂｆ０５における置換基を有していてもよいフッ素化アルキル基としては、前記Ｒ^ｂ０５で挙げた、置換基を有していてもよいフッ素化アルキル基と同様である。
　式（ｂ０－２ａ）中、ｎｂ^１は、１～４の整数が好ましく、２～４の整数がより好ましく、３が最も好ましい。

　前記式（Ｉ２－２）中、Ｒ^ｂ０６は、置換基を有していてもよいフッ素化アルキル基、又はフッ素原子である。複数のＲ^ｂ０６は、互いに同一であってもよく異なっていてもよい。
　Ｒ^ｂ０６におけるフッ素化アルキル基は、炭素数が１～１０であることが好ましく、１～８がより好ましく、１～５がさらに好ましい。具体的には、炭素数１～５のアルキル基において、水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換された基が挙げられる。
　中でも、Ｒ^ｂ０６としては、フッ素原子又は炭素数１～５のフッ素化アルキル基が好ましく、フッ素原子又は炭素数１～５のパーフルオロアルキル基がより好ましく、フッ素原子がさらに好ましい。

　・カチオン部
　式（Ｉ２－１）、式（Ｉ２－２）中、ｑは１以上の整数であって、Ｑ^ｑ＋は、ｑ価の有機カチオンである。
　このＱ^ｑ＋としては、上記式（Ｉ１）中のＱ^ｑ＋と同様のものが挙げられ、その中でも、一般式（ｃａ－１）で表されるカチオンが好ましく、式（ｃａ－１－１）～（ｃａ－１－４８）でそれぞれ表されるカチオンがより好ましく、式（ｃａ－１－２５）で表されるカチオン、式（ｃａ－１－２９）で表されるカチオン、式（ｃａ－１－３５）で表されるカチオン、式（ｃａ－１－４７）で表されるカチオンがさらに好ましい。

　以下に、好適な（Ｉ２）成分の具体例を挙げる。

　≪（Ｉ３）成分≫
　（Ｉ３）成分は、下記一般式（Ｉ３－１）又は（Ｉ３－２）で表される化合物である。

［式中、Ｒ^ｂ１１～Ｒ^ｂ１２は、ハロゲン原子以外の置換基を有していてもよい環式基、ハロゲン原子以外の置換基を有していてもよい鎖状のアルキル基、又はハロゲン原子以外の置換基を有していてもよい鎖状のアルケニル基である。ｍは１以上の整数であって、Ｍ^ｍ＋は、それぞれ独立に、ｍ価の有機カチオンである。］

　｛（Ｉ３－１）成分｝
　・アニオン部
　式（Ｉ３－１）中、Ｒ^ｂ１２は、ハロゲン原子以外の置換基を有していてもよい環式基、ハロゲン原子以外の置換基を有していてもよい鎖状のアルキル基、又はハロゲン原子以外の置換基を有していてもよい鎖状のアルケニル基であって、上述したＲ’^２０１の説明中の環式基、鎖状のアルキル基、鎖状のアルケニル基のうち、置換基を有しないもの又はハロゲン原子以外の置換基を有するものが挙げられる。
　Ｒ^ｂ１２としては、ハロゲン原子以外の置換基を有していてもよい鎖状のアルキル基、又はハロゲン原子以外の置換基を有していてもよい脂肪族環式基であることが好ましい。
　鎖状のアルキル基としては、炭素原子数１～１０であることが好ましく、３～１０であることがより好ましい。脂肪族環式基としては、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等から１個以上の水素原子を除いた基（ハロゲン原子以外の置換基を有していてもよい）；カンファー等から１個以上の水素原子を除いた基であることがより好ましい。
　Ｒ^ｂ１２の炭化水素基は、ハロゲン原子以外の置換基を有していてもよく、該置換基としては、前記式（Ｉ３－２）のＲ^ｂ１１における炭化水素基（芳香族炭化水素基、脂肪族環式基、鎖状のアルキル基）が有していてもよいハロゲン原子以外の置換基と同様のものが挙げられる。
　ここでいう「ハロゲン原子以外の置換基を有していてもよい」とは、ハロゲン原子のみからなる置換基を有する場合を排除するのみではなく、ハロゲン原子を１つでも含む置換基を有する場合（例えば、置換基がフッ素化アルキル基である場合等）を排除するものである。

　以下に、（Ｉ３－１）成分のアニオン部の好ましい具体例を示す。

　・カチオン部
　式（Ｉ３－１）中、Ｍ^ｍ＋は、ｍ価の有機カチオンである。
　Ｍ^ｍ＋の有機カチオンとしては、上記一般式（ｃａ－１）～（ｃａ－５）でそれぞれ表されるカチオンと同様のものが好適に挙げられ、これらの中でも、上記一般式（ｃａ－１）で表されるカチオンがより好ましい。この中でも、上記一般式（ｃａ－１）中のＲ^２０１、Ｒ^２０２、Ｒ^２０３のうちの少なくとも１つが、置換基を有していてもよい炭素原子数１６以上の有機基（アリール基、ヘテロアリール基、アルキル基またはアルケニル基）であるスルホニウムカチオンが、解像性やラフネス特性が向上することから特に好ましい。
　前記の有機基が有していてもよい置換基としては、上記と同様であり、アルキル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、カルボニル基、シアノ基、アミノ基、オキソ基（＝Ｏ）、アリール基、上記式（ｃａ－ｒ－１）～（ｃａ－ｒ－１０）でそれぞれ表される基が挙げられる。
　前記の有機基（アリール基、ヘテロアリール基、アルキル基またはアルケニル基）における炭素原子数は、好ましくは１６～２５、より好ましくは１６～２０であり、特に好ましくは１６～１８であり、かかるＭ^ｍ＋の有機カチオンとしては、例えば、上記式（ｃａ－１－２５）、（ｃａ－１－２６）、（ｃａ－１－２８）～（ｃａ－１－３６）、（ｃａ－１－３８）、（ｃａ－１－４６）、（ｃａ－１－４７）でそれぞれ表されるカチオンが好適に挙げられ、その中でも、上記式（ｃａ－１－２９）で表されるカチオンが特に好ましい。

　｛（Ｉ３－２）成分｝
　・アニオン部
　式（Ｉ３－２）中、Ｒ^ｂ１１は、ハロゲン原子以外の置換基を有していてもよい環式基、ハロゲン原子以外の置換基を有していてもよい鎖状のアルキル基、又はハロゲン原子以外の置換基を有していてもよい鎖状のアルケニル基であって、上述したＲ’^２０１の説明中の環式基、鎖状のアルキル基、鎖状のアルケニル基のうち、置換基を有しないもの又はハロゲン原子以外の置換基を有するものが挙げられる。

　これらのなかでも、Ｒ^ｂ１１としては、ハロゲン原子以外の置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、ハロゲン原子以外の置換基を有していてもよい脂肪族環式基、又はハロゲン原子以外の置換基を有していてもよい鎖状のアルキル基が好ましい。これらの基が有していてもよい置換基としては、水酸基、オキソ基、アルキル基、アリール基、ラクトン含有環式基、エーテル結合、エステル結合、又はこれらの組合せが挙げられる。
　エーテル結合やエステル結合を置換基として含む場合、アルキレン基を介していてもよく、この場合の置換基としては、下記一般式（ｙ－ａｌ－１）～（ｙ－ａｌ－７）でそれぞれ表される連結基が好ましい。
　なお、下記一般式（ｙ－ａｌ－１）～（ｙ－ａｌ－７）において、上記式（Ｉ３－２）中のＲ^ｂ１１と結合するのが、下記一般式（ｙ－ａｌ－１）～（ｙ－ａｌ－７）中のＶ’^１０１である。

［式中、Ｖ’^１０１は、単結合または炭素原子数１～５のアルキレン基である。Ｖ’^１０２は、炭素原子数１～３０の２価の飽和炭化水素基である。］

　Ｖ’^１０２における２価の飽和炭化水素基は、炭素原子数１～３０のアルキレン基であることが好ましく、炭素原子数１～１０のアルキレン基であることがより好ましく、炭素原子数１～５のアルキレン基であることがさらに好ましい。

　Ｖ’^１０１およびＶ’^１０２におけるアルキレン基としては、直鎖状のアルキレン基でもよく分岐鎖状のアルキレン基でもよく、直鎖状のアルキレン基が好ましい。
　Ｖ’^１０１およびＶ’^１０２におけるアルキレン基として、具体的には、メチレン基［－ＣＨ_２－］；－ＣＨ（ＣＨ_３）－、－ＣＨ（ＣＨ_２ＣＨ_３）－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－Ｃ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２ＣＨ_３）－、－Ｃ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３）－、－Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ_３）_２－等のアルキルメチレン基；エチレン基［－ＣＨ_２ＣＨ_２－］；－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ（ＣＨ_３）－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_２ＣＨ_３）ＣＨ_２－等のアルキルエチレン基；トリメチレン基（ｎ－プロピレン基）［－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－］；－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２－等のアルキルトリメチレン基；テトラメチレン基［－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－］；－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２－等のアルキルテトラメチレン基；ペンタメチレン基［－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－］等が挙げられる。
　また、Ｖ’^１０１又はＶ’^１０２における前記アルキレン基における一部のメチレン基が、炭素原子数５～１０の２価の脂肪族環式基で置換されていてもよい。当該脂肪族環式基は、Ｒ’^２０１の環状の脂肪族炭化水素基（単環式の脂環式炭化水素基、多環式の脂環式炭化水素基）から水素原子をさらに１つ除いた２価の基が好ましく、シクロへキシレン基、１，５－アダマンチレン基又は２，６－アダマンチレン基がより好ましい。

　前記芳香族炭化水素基としては、フェニル基もしくはナフチル基がより好ましい。
　前記脂肪族環式基としては、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等のポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基であることがより好ましい。
　前記鎖状のアルキル基としては、炭素原子数が１～１０であることが好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等の直鎖状のアルキル基；１－メチルエチル基、１－メチルプロピル基、２－メチルプロピル基、１－メチルブチル基、２－メチルブチル基、３－メチルブチル基、１－エチルブチル基、２－エチルブチル基、１－メチルペンチル基、２－メチルペンチル基、３－メチルペンチル基、４－メチルペンチル基等の分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。

　Ｒ^ｂ１１としては、ハロゲン原子以外の置換基を有していてもよい環式基が好ましい。
　以下に、（Ｉ３－２）成分のアニオン部の好ましい具体例を示す。

　・カチオン部
　式（Ｉ３－２）中、Ｍ^ｍ＋は、ｍ価の有機カチオンであり、前記式（Ｉ３－１）中のＭ^ｍ＋と同様である。

　また、（Ｉ）成分は、樹脂膜の高弾性化、及び、残渣無く微細構造を形成しやすい点から、露光によりｐＫａ（酸解離定数）が－５以下の酸を発生するカチオン重合開始剤であることが好ましい。より好ましくはｐＫａが－６以下、さらに好ましくはｐＫａが－８以下の酸を発生するカチオン重合開始剤を用いることにより、露光に対する高い感度を得ることが可能となる。（Ｉ）成分が発生する酸のｐＫａの下限は、好ましくは－１５以上である。かかる好適なｐＫａの酸を発生するカチオン重合開始剤を用いることで、高感度化が図られやすくなる。
　ここで「ｐＫａ（酸解離定数）」とは、対象物質の酸強度を示す指標として一般的に用いられているものをいう。なお、本明細書におけるｐＫａは、２５℃の温度条件における値である。また、ｐＫａ値は、公知の手法により測定して求めることができる。また、「ＡＣＤ／Ｌａｂｓ」（商品名、Ａｄｖａｎｃｅｄ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ社製）等の公知のソフトウェアを用いた計算値を用いることもできる。

　以下に、好適な（Ｉ３）成分の具体例を挙げる。

　（Ｉ）成分としては、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　本実施形態の光硬化性組成物において、（Ｉ）成分は、（Ｉ１）成分、（Ｉ２）成分及び（Ｉ３）成分からなる群より選択される少なくとも一種を含むことが好ましく、（Ｉ１）成分及び（Ｉ２）成分からなる群より選択される少なくとも一種を含むことがより好ましい。

　本実施形態の光硬化性組成物中、（Ｉ）成分の含有量は、（ＡＣ）成分と（Ａ）成分との合計の含有量１００質量部に対して、０．０５～１０質量部であることが好ましく、０．１～５質量部であることがより好ましく、０．２～３質量部であることがさらに好ましい。
　（Ｉ）成分の含有量が、前記の好ましい範囲の下限値以上であると、充分な感度が得られて、レジストパターンのリソグラフィー特性がより向上する。加えて、樹脂硬化膜の強度がより高められる。一方、前記の好ましい範囲の上限値以下であると、感度が適度に制御され、良好な形状のレジストパターンが得られやすくなる。

＜任意成分＞
　本実施形態の光硬化性組成物は、上述した（ＡＣ）成分、（Ａ）成分及び（Ｉ）成分以外に、必要に応じてその他成分（任意成分）を含有してもよい。
　実施形態の光硬化性組成物には、所望により、混和性のある添加剤、例えば金属酸化物（Ｍ）、増感剤成分、溶剤、膜の性能を改良するための付加的樹脂、溶解抑制剤、塩基性化合物、可塑剤、安定剤、着色剤、ハレーション防止剤などを適宜、添加含有させることができる。

　≪金属酸化物（Ｍ）≫
　本実施形態の光硬化性組成物は、（ＡＣ）成分、（Ａ）成分及び（Ｉ）成分に加えて、強度が高められた硬化膜が得られやすいことから、さらに、金属酸化物（Ｍ）（以下「（Ｍ）成分」ともいう）を含有してもよい。（Ｍ）成分を併有することで、良好な形状で高解像のパターンを形成し得る。
　（Ｍ）成分としては、例えば、ケイ素（金属ケイ素）、チタン、ジルコニウム、ハフニウム等の金属の酸化物が挙げられる。これらの中でも、ケイ素の酸化物が好ましく、この中でもシリカを用いることが特に好ましい。
　（Ｍ）成分の形状は、粒子状であることが好ましい。かかる粒子状の（Ｍ）成分としては、体積平均粒子径が５～４０ｎｍの粒子群からなるものが好ましく、体積平均粒子径が５～３０ｎｍの粒子群からなるものがより好ましく、体積平均粒子径が１０～２０ｎｍの粒子群からなるものがさらに好ましい。

　≪増感剤成分≫
　本実施形態の光硬化性組成物は、さらに、増感剤成分を含有してもよい。
　増感剤成分としては、露光によるエネルギーを吸収して、そのエネルギーを他の物質に伝達し得るものであれば特に限定されるものではない。
　増感剤成分として具体的には、ベンゾフェノン、ｐ，ｐ’－テトラメチルジアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン系光増感剤、カルバゾール系光増感剤、アセトフェン系光増感剤、１，５－ジヒドロキシナフタレン等のナフタレン系光増感剤、フェノール系光増感剤、９－エトキシアントラセン等のアントラセン系光増感剤、ビアセチル、エオシン、ローズベンガル、ピレン、フェノチアジン、アントロン等の公知の光増感剤を用いることができる。

　≪溶剤≫
　本実施形態の光硬化性組成物は、さらに、溶剤（以下「（Ｓ）成分」ということがある）を含有してもよい。
　（Ｓ）成分としては、例えば、γ－ブチロラクトン等のラクトン類；アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、シクロヘキサノン、メチル－ｎ－ペンチルケトン、メチルイソペンチルケトン、２－ヘプタノンなどのケトン類；エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコールなどの多価アルコール類；２－メトキシブチルアセテート、３－メトキシブチルアセテート、４－メトキシブチルアセテート、エチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノアセテート、またはジプロピレングリコールモノアセテート等のエステル結合を有する化合物、前記多価アルコール類または前記エステル結合を有する化合物のモノメチルエーテル、モノエチルエーテル、モノプロピルエーテル、モノブチルエーテル等のモノアルキルエーテルまたはモノフェニルエーテル等のエーテル結合を有する化合物等の多価アルコール類の誘導体［これらの中では、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）が好ましい］；ジオキサンのような環式エーテル類や、乳酸メチル、乳酸エチル（ＥＬ）、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチルなどのエステル類；アニソール、エチルベンジルエーテル、クレジルメチルエーテル、ジフェニルエーテル、ジベンジルエーテル、フェネトール、ブチルフェニルエーテル、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、ペンチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、トルエン、キシレン、シメン、メシチレン等の芳香族系有機溶剤、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等が挙げられる。

　（Ｓ）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上の混合溶剤として用いてもよい。

　（Ｓ）成分を含む場合の使用量は、特に限定されず、光硬化性組成物を基板等に液垂れが無く塗布可能な濃度で、塗布膜厚に応じて適宜設定される。
　例えば、固形分濃度が５０質量％以上となるように（Ｓ）成分を使用することができ、あるいは、固形分濃度が６０質量％以上となるように（Ｓ）成分を使用することができる。
　また、（Ｓ）成分を実質的に含まない態様（すなわち、固形分濃度が１００質量％である態様）も採用できる。

　本実施形態の光硬化性組成物は、例えば、２３℃における粘度が１０～５０００ｍＰａ・ｓであり、３０～３０００ｍＰａ・ｓであるものであってもよいし、５０～２０００ｍＰａ・ｓであるものであってもよい。

　以上説明した本実施形態の光硬化性組成物は、アクリル樹脂（ＡＣ）と、エポキシ基含有化合物（Ａ）と、カチオン重合開始剤（Ｉ）とを含有する。かかる（ＡＣ）成分としては、ガラス転移点が０℃以下であるものを採用する。これにより、硬化膜の改質が図られて、対象物との接着性を高められる。加えて、かかる（ＡＣ）成分として、エポキシ基含有アクリルモノマーから誘導される構成単位（ａｃ１）を、特定の含有割合（０質量％超え５０質量％未満）で有するものを採用する。これにより、露光によって、バランス良く（Ａ）成分と架橋することで、溶剤等の薬液処理による剥がれが抑制されて、耐薬品性が高められる。

　さらに、本実施形態の光硬化性組成物によれば、パターン形成において、高解像のパターンを、良好な形状で形成可能であり、リソグラフィー特性の向上が図れる。
　本実施形態の光硬化性組成物は、接着性と耐薬品性との両立など、種々の特性が求められる電子部品（例えばＭＥＭＳ、バイオ用など）の製造において使用される光硬化性接着材料として有用である。

（パターン形成方法）
　本実施形態のパターン形成方法は、上述した実施形態の光硬化性組成物を用いて、支持体上に光硬化性膜を形成する工程（以下「膜形成工程」という）と、前記光硬化性膜を露光する工程（以下「露光工程」という）と、前記露光後の光硬化性膜を、有機溶剤を含有する現像液で現像して、ネガ型パターンを形成する工程（以下「現像工程」という）と、を有する。
　本実施形態のパターン形成方法は、例えば以下のようにして行うことができる。

　［膜形成工程］
　まず、支持体上に、上述した実施形態の光硬化性組成物を、スピンコート法、ロールコート法、スクリーン印刷法等の公知の方法で塗布し、ベーク（ポストアプライベーク（ＰＡＢ））処理を、例えば５０～１５０℃の温度条件にて２～６０分間施し、光硬化性膜を形成する。

　支持体としては、特に限定されず、従来公知のものを用いることができ、例えば、電子部品用の基板や、これに所定の配線パターンが形成されたもの等が挙げられる。より具体的には、シリコン、窒化シリコン、チタン、タンタル、タンタル酸リチウム（ＬｉＴａＯ_３）、ニオブ、ニオブ酸リチウム（ＬｉＮｂＯ_３）、パラジウム、チタンタングステン、銅、クロム、鉄、アルミニウムなどの金属製の基板や、ガラス基板等が挙げられる。
　配線パターンの材料としては、例えば銅、アルミニウム、ニッケル、金等が使用可能である。

　光硬化性組成物により形成される光硬化性膜の膜厚は、特に限定されるものではないが、１０～５０μｍ程度が好ましい。

　［露光工程］
　次に、形成された光硬化性膜に対し、公知の露光装置を用いて、所定のパターンが形成されたマスク（マスクパターン）を介した露光、又はマスクパターンを介さない電子線の直接照射による描画等による選択的露光を行う。
　前記選択的露光を行った後、必要に応じてベーク（ポストエクスポージャーベーク（ＰＥＢ））処理を、たとえば８０～１５０℃の温度条件にて４０～１２００秒間、好ましくは４０～１０００秒間、より好ましくは６０～９００秒間施す。

　露光に用いる波長は特に限定されず、放射線、例えば波長が３００～５００ｎｍの紫外線、ｇ線、ｈ線、ｉ線（波長３６５ｎｍ）又は可視光線を選択的に照射（露光）する。
　これらの放射線の線源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、アルゴンガスレーザーなどを用いることができる。
　ここで放射線とは、紫外線、可視光線、遠紫外線、Ｘ線、電子線などを意味する。放射線照射量は、組成物中の各成分の種類、配合量、塗膜の膜厚などによって異なるが、例えば超高圧水銀灯使用の場合、１００～２０００ｍＪ／ｃｍ^２である。

　光硬化性膜の露光方法は、空気や窒素等の不活性ガス中で行う通常の露光（ドライ露光）であってもよく、液浸露光（Ｌｉｑｕｉｄ　Ｉｍｍｅｒｓｉｏｎ　Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）であってもよい。

　露光工程後の光硬化性膜は、透明性が高く、例えばｉ線（波長３６５ｎｍ）を照射した際のヘーズ値が、好ましくは３％以下、より好ましくは１．０～２．７％である。
　かかる露光工程後の光硬化性膜のヘーズ値は、ＪＩＳ　Ｋ　７１３６（２０００）に準拠した方法を用いて測定される。

　［現像工程］
　次に、前記露光後の光硬化性膜を、有機溶剤を含有する現像液（有機系現像液）で現像する。現像の後、好ましくはリンス処理を行う。必要に応じてベーク処理（ポストベーク）を行ってもよい。

　有機系現像液が含有する有機溶剤としては、露光前の（Ａ）成分及び（ＡＣ）成分を溶解し得るものであればよく、公知の有機溶剤の中から適宜選択できる。具体的には、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、ニトリル系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤等の極性溶剤、炭化水素系溶剤等が挙げられる。

　ケトン系溶剤としては、例えば、１－オクタノン、２－オクタノン、１－ノナノン、２－ノナノン、アセトン、４－ヘプタノン、１－ヘキサノン、２－ヘキサノン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、フェニルアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、アセトニルアセトン、イオノン、ジアセトニルアルコール、アセチルカービノール、アセトフェノン、メチルナフチルケトン、イソホロン、プロピレンカーボネート、γ－ブチロラクトン、メチルアミルケトン（２－ヘプタノン）等が挙げられる。これらの中でも、ケトン系溶剤としては、メチルアミルケトン（２－ヘプタノン）が好ましい。

　エステル系溶剤としては、例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、メトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、２－メトキシブチルアセテート、３－メトキシブチルアセテート、４－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、３－エチル－３－メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、２－エトキシブチルアセテート、４－エトキシブチルアセテート、４－プロポキシブチルアセテート、２－メトキシペンチルアセテート、３－メトキシペンチルアセテート、４－メトキシペンチルアセテート、２－メチル－３－メトキシペンチルアセテート、３－メチル－３－メトキシペンチルアセテート、３－メチル－４－メトキシペンチルアセテート、４－メチル－４－メトキシペンチルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸ブチル、蟻酸プロピル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸プロピル、炭酸エチル、炭酸プロピル、炭酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、ピルビン酸ブチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸イソプロピル、２－ヒドロキシプロピオン酸メチル、２－ヒドロキシプロピオン酸エチル、メチル－３－メトキシプロピオネート、エチル－３－メトキシプロピオネート、エチル－３－エトキシプロピオネート、プロピル－３－メトキシプロピオネート等が挙げられる。これらの中でも、エステル系溶剤としては、酢酸ブチル又はＰＧＭＥＡが好ましい。

　ニトリル系溶剤としては、例えば、アセトニトリル、プロピオ二トリル、バレロニトリル、ブチロ二トリル等が挙げられる。

　有機系現像液には、必要に応じて公知の添加剤を配合できる。該添加剤としては、例えば界面活性剤が挙げられる。界面活性剤としては、特に限定されないが、例えばイオン性や非イオン性のフッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤等を用いることができる。
　界面活性剤としては、非イオン性の界面活性剤が好ましく、非イオン性のフッ素系界面活性剤、又は非イオン性のシリコン系界面活性剤がより好ましい。
　界面活性剤を配合する場合、その配合量は、有機系現像液の全量に対して、通常０．００１～５質量％であり、０．００５～２質量％が好ましく、０．０１～０．５質量％がより好ましい。

　現像処理は、公知の現像方法により実施することが可能であり、例えば、現像液中に支持体を一定時間浸漬する方法（ディップ法）、支持体表面に現像液を表面張力によって盛り上げて一定時間静止する方法（パドル法）、支持体表面に現像液を噴霧する方法（スプレー法）、一定速度で回転している支持体上に一定速度で現像液塗出ノズルをスキャンしながら現像液を塗出し続ける方法（ダイナミックディスペンス法）等が挙げられる。

　リンス液を用いたリンス処理（洗浄処理）は、公知のリンス方法により実施できる。該リンス処理の方法としては、たとえば一定速度で回転している支持体上にリンス液を塗出し続ける方法（回転塗布法）、リンス液中に支持体を一定時間浸漬する方法（ディップ法）、支持体表面にリンス液を噴霧する方法（スプレー法）等が挙げられる。
　リンス処理は、有機溶剤を含有するリンス液を用いることが好ましい。

　上述した膜形成工程、露光工程及び現像工程により、パターンを形成できる。

　上述した実施形態のパターン形成方法においては、上述した実施形態の光硬化性組成物が用いられているため、溶剤等の薬液処理による剥がれが抑制された、耐薬品性の高められた樹脂パターンを形成することができる。加えて、パターン形成において、解像性が高く、良好な形状の樹脂パターンが形成され、リソグラフィー特性に優れる。

（硬化膜）
　本実施形態の硬化膜は、上述した実施形態の光硬化性組成物が硬化したものである。

（硬化膜の製造方法）
　本実施形態の硬化膜の製造方法は、上述した実施形態の光硬化性組成物を用いて、支持体上に光硬化性膜を形成する工程（ｉ）と、前記光硬化性膜を硬化させて硬化膜を得る工程（ｉｉ）と、を有する。
　工程（ｉ）の操作は、上述した［膜形成工程］と同様にして行うことができる。ベーク処理は、例えば温度８０～１５０℃の温度条件にて４０～６００秒間の条件で行うことができる。
　工程（ｉｉ）での硬化処理は、例えば温度１００～２５０℃、０．５～２時間の条件で行うことができる。

　実施形態の硬化膜の製造方法は、工程（ｉ）及び工程（ｉｉ）以外に、その他工程を有してもよい。例えば、工程（ｉ）と工程（ｉｉ）との間に、上述した［露光工程］を有してもよく、工程（ｉ）で形成された光硬化性膜に対して選択的露光を行い、必要に応じてベーク（ＰＥＢ）処理が施された光硬化性膜（プレ硬化膜）を硬化させて、硬化膜を得ることもできる。
　上述した実施形態の硬化膜の製造方法によれば、上述した実施形態の光硬化性組成物が用いられているため、対象物とされるシリコンチップ等の電子部品との接着性が高められた硬化膜を製造することができる。

　以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は以下の例によって限定されるものではない。

＜アクリル樹脂の製造＞
　表１に示す「構成単位が由来するモノマー」を用い、公知のラジカル重合を行うことにより、アクリル樹脂（ＡＣ）－１～（ＡＣ）－１４をそれぞれ得た。

　表１に、アクリル樹脂を構成する各構成単位の割合、並びに、アクリル樹脂の特性としてアクリル樹脂のガラス転移点Ｔｇ（℃）、アクリル樹脂中の構成単位（ａｃ１）の含有割合（質量％）、及びアクリル樹脂の重量平均分子量Ｍｗをそれぞれ示した。

　アクリル樹脂のガラス転移点は、下式より算出した。
　１／（Ｔｇ＋２７３）
　＝｛Ｗ１／（Ｔｇ１＋２７３）＋Ｗ２／（Ｔｇ２＋２７３）＋・・・｝／１００
　　Ｔｇ：アクリル樹脂である共重合体のガラス転移点（℃）
　　Ｔｇ１：モノマー（１）から誘導される構成単位（１）の繰り返し構造からなるホモポリマーのガラス転移点（℃）
　　Ｔｇ２：モノマー（２）から誘導される構成単位（２）の繰り返し構造からなるホモポリマーのガラス転移点（℃）
　　Ｗ１：アクリル樹脂を構成する構成単位（１）の割合（質量％）
　　Ｗ２：アクリル樹脂を構成する構成単位（２）の割合（質量％）
　　Ｗ１＋Ｗ２＋・・・＝１００

　ホモポリマーのガラス転移点は、株式会社ＫＴＲ（梶テストリサーチ）のホームページ（ｗｗｗ．ｋａｊｉ－ｔｒ．ｃｏｍ）、高分子材料便覧（高分子学会編　コロナ社，初版，１９７３年２月２０日発行）、共栄社化学株式会社アクリル製品カタログ、及び高分子データ・ハンドブック基礎編（高分子学会編　培風館，１９８６年１月３０日発行）に開示されている値を採用した。

　例えば、アクリル樹脂（ＡＣ）－２のガラス転移点Ｔｇ（℃）は、以下のようにして算出した。
　アクリル樹脂（ＡＣ）－２は、アクリル酸２－メトキシエチルから誘導される構成単位と、アクリル酸ｎ－ブチルから誘導される構成単位と、の共重合体である。
　モノマー（１）をアクリル酸２－メトキシエチルとすると、構成単位（１）の繰り返し構造からなるホモポリマーのガラス転移点は－５０℃、構成単位（１）の割合は７３質量％である。
　モノマー（２）をアクリル酸ｎ－ブチルとすると、構成単位（２）の繰り返し構造からなるホモポリマーのガラス転移点は－５６℃、構成単位（２）の割合は２７質量％である。
　アクリル樹脂（ＡＣ）－２のガラス転移点Ｔｇ（℃）は、下式より算出される。
　１／（Ｔｇ＋２７３）
　　　＝｛７３／（－５０＋２７３）＋２７／（－５６＋２７３）｝／１００
　Ｔｇ≒－５２℃

　得られた各アクリル樹脂について、該アクリル樹脂の共重合組成比（アクリル樹脂を構成する各構成単位の割合（質量％））は、^１３Ｃ－ＮＭＲにより求めた。
　該アクリル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲル浸透クロマトグラフィーＧＰＣ測定により求め、標準ポリスチレン換算値として示した。

＜光硬化性組成物の調製＞
　（実施例１～１１、比較例１～７）
　表２及び表３に示す各成分を、メチルエチルケトンに混合して溶解し、ＰＴＦＥフィルター（孔径１μｍ、ＰＡＬＬ社製）を用いて濾過を行い、各例の光硬化性組成物（固形分濃度７３質量％の溶液、２３℃における粘度１５００ｍＰａ・ｓ）をそれぞれ調製した。

　表２及び表３中、各略号はそれぞれ以下の意味を有する。［　］内の数値は、各成分の配合量（質量部；固形分換算）である。

　（ＡＣ）－１～（ＡＣ）－１４：表１に示すアクリル樹脂（ＡＣ）－１～（ＡＣ）－１４

　（Ａ１）－１：下記化学式（ａｎｖ０－１）で表される固形ノボラック型エポキシ樹脂。商品名「ｊＥＲ－１５７Ｓ７０」、三菱ケミカル株式会社製。軟化点７０℃、ガラス転移点２１０℃、エポキシ当量２００～２２０ｇ／ｅｑ．

　（Ａ２）－１：下記化学式（ａｂｐ１－０）で表される固形ビスフェノール型エポキシ樹脂。商品名「ｊＥＲ－１００２」、三菱ケミカル株式会社製。軟化点７８℃、重量平均分子量１２００、エポキシ当量６００～７００ｇ／ｅｑ．
　（Ａ２）－２：下記化学式（ａｂｐ１－０）で表される固形ビスフェノール型エポキシ樹脂。商品名「ｊＥＲ－１００３」、三菱ケミカル株式会社製。軟化点８９℃、重量平均分子量１３００、エポキシ当量６７０～７７０ｇ／ｅｑ．

　（Ｉ）－１：下記化学式（Ｉ２－１－２）で表されるカチオン重合開始剤。

＜評価＞
　各例の光硬化性組成物について、以下に示す評価方法により、接着性、耐薬品性、リソグラフィー特性（リソ特性）をそれぞれ評価した。これらの結果を表４及び表５に示した。

［接着性の評価］
　測定用基板の作製：
　シリコン基板上に、各例の光硬化性組成物をそれぞれ、スピンコートにより塗布した後、オーブンにて、６０℃で５分間、７０℃で５分間、８０℃で１０分間のベーク処理をこの順に行うことにより、膜厚２０μｍの硬化膜を形成した。
　次いで、シリコン基板上に形成された硬化膜と、５ｍｍ角シリコンチップとを貼り合わせた。この後、チップボンダー（ＴＲＥＳＫＹ社製、ダイボンダー）を用い、１５０℃に加温した状態で、３５００ｇの荷重にて６０秒間、硬化膜と５ｍｍ角シリコンチップとを熱圧着することにより、測定用基板を作製した。

・シェア強度の測定
　室温（２３℃）の条件下、ボンドテスター（ＸＹＺＴＥＣ社、Ｃｏｎｄｏｒ　Ｓｉｇｍａ）を用いて、前記測定用基板を固定し、その５ｍｍ角シリコンチップ部分にせん断力をかけ、硬化膜から５ｍｍ角シリコンチップを剥がすために必要な力（シェア強度、Ｎ／ｍｍ^２）を測定した。

・接合状態の評価
　硬化膜と５ｍｍ角シリコンチップとの間のシェア強度を指標とし、下記の評価基準に従い、接合状態を観察することにより、接着性の評価を行った。
　評価基準
　〇：シェア強度が５Ｎ／ｍｍ^２以上であり、両者は強固に接合していた。
　×：シェア強度が５Ｎ／ｍｍ^２未満であり、接着力が弱く、硬化膜から５ｍｍ角シリコンチップが簡単に剥がれた。

［耐薬品性の評価］
　ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）と、Ｎ－メチルピロリドン（ＮＭＰ）と、２％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（ＴＭＡＨａｑ．）とを混合して、混合体積比がＤＭＳＯ／ＮＭＰ／ＴＭＡＨａｑ．＝８０／１０／１０の混合溶剤を調製した。

　これとは別に、下記の膜形成工程、露光工程及び現像工程により、光硬化性樹脂パターンを形成した。
　膜形成工程：
　シリコン基板上に、各例の光硬化性組成物をそれぞれ、スピンコートにより塗布した。次に、オーブンにて、６０℃で５分間、７０℃で５分間、８０℃で１０分間のベーク処理をこの順に行うことにより、膜厚２０μｍの光硬化性膜をそれぞれ形成した。

　露光工程：
　次に、露光機（Ｐｒｉｓｍａ　ｇｈｉ）を用い、前記光硬化性膜に対し、ｇ，ｈ，ｉ線を照射した。
　次に、露光後の光硬化性膜に対し、９０℃のホットプレート上で、５分間の露光後加熱を行った。

　現像工程：
　次に、露光後加熱を行った後の光硬化性膜に対し、現像液としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）を用いて、室温（２３℃）で１５分間のパドル現像を行った。

　上述の膜形成工程、露光工程及び現像工程により、光硬化性樹脂パターンとしてライン幅１００μｍ、スペース幅３００μｍのラインアンドスペースパターン（以下「Ｌ／Ｓパターン」という。）の形成を試みた。
　前記光硬化性樹脂パターンを、室温（２３℃）の前記混合溶剤に３０分間浸漬した。この後、下記の評価基準に従い、シリコン基板からの光硬化性樹脂パターンの剥がれ状態を観察することにより、耐薬品性の評価を行った。
　評価基準
　〇：光硬化性樹脂パターンの剥がれ無し。
　△：光硬化性樹脂パターンの部分的に剥がれ有り。
　×：光硬化性樹脂パターンの全体に剥がれ有り。

［リソグラフィー特性（リソ特性）の評価］
　各例の光硬化性組成物を用いて、それぞれパターン形成を行った。
　膜形成工程：
　シリコン基板上に、各例の光硬化性組成物をそれぞれ、スピンコートにより塗布した。次に、オーブンにて、６０℃で５分間、７０℃で５分間、８０℃で１０分間のベーク処理をこの順に行うことにより、膜厚２０μｍの光硬化性膜をそれぞれ形成した。

　上述の膜形成工程、露光工程及び現像工程により、ライン幅１００μｍ、スペース幅３００μｍのラインアンドスペースパターン（以下「Ｌ／Ｓパターン」という。）の形成を試みた。そして、下記の評価基準に従い、かかるＬ／Ｓパターンの状態を観察することにより、リソ特性の評価を行った。
　評価基準
　〇：幅１００μｍのラインが良好な形状で形成された。
　×：Ｌ／Ｓパターンの形状は不良であった。

　表４及び表５の結果から、本発明を適用した実施例１～１１の光硬化性組成物は、硬化膜とした際に対象物との接着性を高められ、かつ、耐薬品性に優れることが確認できる。
　加えて、実施例１～１１の光硬化性組成物は、パターン形成において、良好な形状のパターンが形成され、リソ特性に優れることも確認できる。
　一方、本発明の範囲外である比較例１～７の光硬化性組成物は、接着性及び耐薬品性の一方又は両方が悪い評価結果であった。

　以上、本発明の好ましい実施例を説明したが、本発明はこれら実施例に限定されることはない。本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、構成の付加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。本発明は前述した説明によって限定されることはなく、添付の請求の範囲によってのみ限定される。

Claims

　アクリル樹脂（ＡＣ）と、エポキシ基含有化合物（Ａ）（但し、前記アクリル樹脂（ＡＣ）に該当するものを除く）と、カチオン重合開始剤（Ｉ）と、を含有する光硬化性組成物であって、
　前記アクリル樹脂（ＡＣ）は、ガラス転移点が０℃以下であり、かつ、エポキシ基含有アクリルモノマーから誘導される構成単位（ａｃ１）を有し、
　前記構成単位（ａｃ１）の含有割合が、前記アクリル樹脂（ＡＣ）を構成する全構成単位の合計（１００質量％）に対して、０質量％超え５０質量％未満である、光硬化性組成物。
　前記アクリル樹脂（ＡＣ）と前記エポキシ基含有化合物（Ａ）との混合比率が、質量比として、エポキシ基含有化合物（Ａ）／アクリル樹脂（ＡＣ）＝６０／４０～９５／５である、請求項１に記載の光硬化性組成物。
　前記エポキシ基含有化合物（Ａ）は、ビスフェノール型エポキシ樹脂及びノボラック型エポキシ樹脂からなる群より選択される少なくとも一種のエポキシ樹脂を含む、請求項１又は２に記載の光硬化性組成物。
　前記カチオン重合開始剤（Ｉ）の含有量が、前記アクリル樹脂（ＡＣ）と前記エポキシ基含有化合物（Ａ）との合計の含有量１００質量部に対して、０．０５～５質量部である、請求項１又は２に記載の光硬化性組成物。
　請求項１又は２に記載の光硬化性組成物を用いて、支持体上に光硬化性膜を形成する工程と、
　前記光硬化性膜を露光する工程と、
　前記露光後の光硬化性膜を、有機溶剤を含有する現像液で現像して、ネガ型パターンを形成する工程と、
　を有する、パターン形成方法。