JP2004343097A - 基板キャリアおよび基板キャリアの作成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】キャリア(10)は第一部材(11)を備え、これに、前記部材(11)の少なくとも1つの側に対して開放した開放中空構造を設ける。キャリア(10)はさらに、第一部材(11)に接続された第二部材(12)を備え、したがって前記キャリア部材(11、12)間に閉じた中空内部構造が形成される。
【選択図】図4a
Description
− マスク。マスクの概念はリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、様々なハイブリッドマスクタイプのみならず、バイナリマスク、レベンソンマスク、減衰位相シフトマスクといったようなマスクタイプも含まれる。放射線ビームにこのようなマスクを配置することにより、マスクに照射する放射線の、マスクパターンに従う選択的透過(透過性マスクの場合)や選択的反射(反射性マスクの場合)を可能にする。マスクの場合、その支持構造は一般的に、入射する放射線ビームの所望する位置にマスクを保持しておくことが可能であり、かつ、必要な場合、ビームに対して運動させることの可能なマスクテーブルである。
− プログラマブルミラーアレイ。このようなデバイスの一例として、粘弾性制御層および反射面を有するマトリクスアドレス可能面があげられる。こうした装置の基本的原理は、(例えば)反射面のアドレスされた領域は入射光を回折光として反射するが、アドレスされていない領域は入射光を非回折光として反射するといったことである。適切なフィルタを使用することにより、回折光のみを残して上記非回折光を反射ビームからフィルタすることが可能である。この方法において、ビームはマトリクスアドレス可能面のアドレスパターンに従ってパターン形成される。プログラマブルミラーアレイのまた別の実施形態では小さな複数のミラーのマトリクス配列を用いる。そのミラーの各々は、適した局部電界を適用することによって、もしくは圧電作動手段を用いることによって、軸を中心に個々に傾けられている。もう一度言うと、ミラーはマトリクスアドレス可能であり、それによりアドレスされたミラーはアドレスされていないミラーとは異なる方向に入射の放射線ビームを反射する。このようにして、反射されたビームはマトリクスアドレス可能ミラーのアドレスパターンに従いパターン形成される。必要とされるマトリクスアドレッシングは適切な電子手段を用いて実行される。前述の両方の状況において、パターニング手段は1つ以上のプログラマブルミラーアレイから構成可能である。ここに参照を行ったミラーアレイに関するより多くの情報は、例えば、米国特許第US5,296,891号および同第US5,523,193号、並びに、PCT特許種出願第WO98/38597および同WO98/33096に開示されており、これは参照により本明細書に組み込まれる。プログラマブルミラーアレイの場合、上記支持構造は、例えばフレームもしくはテーブルとして具体化され、これは必要に応じて、固定式となるか、もしくは可動式となる。
− プログラマブルLCDアレイ。このような構成の例が米国特許第US5,229,872号に開示されている。上記同様、この場合における支持構造も、例えばフレームもしくはテーブルとして具体化され、これも必要に応じて、固定式となるか、もしくは可動式となる。簡潔化の目的で、本文の残りを、特定の箇所において、マスクおよびマスクテーブルを必要とする例に限定して説明することとする。しかし、こうした例において論じられる一般的な原理は、既に述べたようなパターニング手段のより広範な状況において理解されるべきである。
− 振動および変形の危険を軽減するために硬質で(つまり高い比剛性[E/ρ]を有する)、
− 容易に加速できるよう軽量[ρ]である材料で作成することが好ましい。
− 放射線の投影ビームを提供するよう構築された放射線システムと、
− パターニングデバイスを支持するよう構築された支持構造とを備え、前記パターニングデバイスは、前記投影ビームの断面にパターンを与え、前記パターン形成したビームを形成する働きをし、さらに、
− パターン形成したビームを前記基板の目標部分に投影する投影システムを備え、前記装置は、前記パターニングデバイスとは別個に前記基板を保持するよう構築され、本発明によるキャリアを備えたテーブルを備える。本発明によるキャリアは、リソグラフィ装置に有利に使用することができる。このような装置では、前記キャリアの迅速かつ正確な位置決めが必要だからである。
− キャリアを形成するために、少なくとも2つの部材を相互に接続することを含み、部材は、キャリアがほぼ閉じた中空内部構造を備えるような方法で形成される。キャリアにほぼ閉じた中空内部構造を形成すると、比較的剛性で軽量のキャリアになる。
− フライス加工技術によって少なくとも2つの部材を形成することを含む。
− 第三部材が第一および第二開放側を備えるような方法で、第三部材内に中空構造を形成することと、
− キャリア(10)がほぼ閉じた中空内部構造を備えるような方法で、第一部材(15)を第三部材(16)の第一開放側に取り付けて、第二部材(17)を第三部材(16)の第二開放側に取り付けることとを含む。これによって、比較的厚いキャリアを生成することができる。
− 第一および第二部材が1つの開放側を有するような方法で、第一および第二部材内に中空構造を形成することと、
− キャリアがほぼ閉じた中空内部構造を備えるような方法で、第一部材の開放側を第三部材の第一開放側に取り付けて、第二部材の開放側を第三部材の第二開放側に取り付けることとを含む。キャリアを3つ以上の部材に分割することにより、頂部部材または底部部材でない部材を、より正確で部材の高さに関係なく働くウォータージェット切削技術など、フライス加工技術以外の技術を使用して形成することができる。ウォータージェット切削機は、ジェットが作用を及ぼす材料に横力を加えないウォータージェットを使用し、穴および2つの開放側を作成することができる。機械の正確さは非常に高く、したがって第三部材の高さに関係なく、壁を非常に小さくすることができる。さらに、フライス加工技術を頂部および底部部材にさらに正確に適用することができる。これらの部材の厚さを比較的小さくできるからである。
−第一部材と第三部材の間および/あるいは第二部材と第三部材の間に追加の板を設けることを含む。これは、キャリアに比較的軽量の補強を提供する。
− 押し出し技術またはウォータージェット切削技術を使用して、第三部材に中空構造を形成することを含む。この技術は非常に正確であることが知られ、したがって第二部材の内部に薄い壁を生成し、中空構造を形成することができる。この技術は、横方向に向く力が発生しないという理由からも有利である。
− キャリアに開口を形成することを含む。このような開口は、キャリアの内部構造を圧力の揺れに適合させるために使用することができる。つまりキャリア内部の圧力変動を、前記キャリアの内部構造全体で一様にすることができる。開口は、制御または電力ケーブルをキャリア内部の機械類に供給するためにも使用することができる。
− この特別なケースでは放射線源LAも備えた、放射線の投影ビームPB(例えば紫外線放射線)を供給する放射線システムEx、ILと、
− マスクMA(例えばレチクル)を保持するマスクホルダを備え、かつ、品目PLに対して正確にマスクの位置決めを行う第一位置決め手段PMに連結された第一オブジェクトテーブル(マスクテーブル)MTと、
− 基板W(例えば、レジスト塗布シリコンウェハ)を保持する基板ホルダを備え、かつ、品目PLに対して正確に基板の位置決めを行う第二位置決め手段PWに連結された第二オブジェクトテーブル(基板テーブル)WTと、
− マスクMAの照射部分を、基板Wの目標部分C(例えば、1つあるいはそれ以上のダイから成る)に描像する投影システム(「レンズ」)PL(例えば反射性ミラーシステム)とにより構成されている。
1.ステップモードにおいては、マスクテーブルMTは基本的に静止状態に保たれている。そして、マスクの像全体が1回の作動(すなわち1回の「フラッシュ」)で目標部分Cに投影される。次に基板テーブルWTがx方向および/あるいはy方向にシフトされ、異なる目標部分CがビームPBにより照射され得る。
2.走査モードにおいては、基本的に同一シナリオが適用されるが、但し、ここでは、所定の目標部分Cは1回の「フラッシュ」では露光されない。代わって、マスクテーブルMTが、速度vにて所定方向(いわゆる「走査方向」、例えばy方向)に運動可能であり、それによってビームPBがマスクの像を走査する。これと同時に、基板テーブルWTが速度V=Mvで、同一方向あるいは反対方向に運動する。ここで、MはレンズPLの倍率(一般的にM=1/4あるいは1/5)である。このように、解像度を妥協することなく、比較的大きな目標部分Cを露光することが可能となる。
Claims (18)
- リソグラフィパターニングデバイス(MA)とは別個にリソグラフィ基板(W)を担持するよう構築されたキャリア(10)で、開放中空構造を設けた第一部材(11、15)を備え、開放中空構造は前記部材(10)の少なくとも一方側に対して開放し、前記キャリア(10)がさらに、第一部材(11、15)に接続された第二部材(12、17)を備え、したがって前記部材(11、15;12、17)間に閉じた中空内部構造が形成されるキャリア。
- 第二部材(12、17)が、第一部材(11、15)の開放中空構造とともにキャリア(10)の閉じた内部構造を形成する開いた中空構造を有する、請求項1に記載のキャリア(10)。
- 前記開いた中空構造に、複数の隔置したリブ(13、14)を設ける、請求項2に記載のキャリア(10)。
- 第三部材(16)を設けて、第一部材と第二部材(11、15;12、17)間に配置し、第三部材(16)が、その2つの対向する側に対して開いた開放中空構造を有する、請求項1から3までのいずれか1項に記載のキャリア(10)。
- 第三部材(16)が、前記開いた開放中空構造に複数の隔置された内壁(18)を備える、請求項5に記載のキャリア(10)。
- 追加の板(19)をリブ(13、14)に当てて配置する、請求項3から5までのいずれか1項に記載のキャリア(10)。
- キャリア(10)の異なる部材が異なる材料で作成され、その少なくとも1つが、ガラス、炭素および/またはセラミックを含むグループから選択される、請求項1から6までのいずれか1項に記載のキャリア(10)。
- リソグラフィ装置で、
− 放射線の投影ビームを提供するよう構築された放射線システムと、
− パターニングデバイスを支持するよう構築された支持構造とを備え、パターニングデバイスは、前記投影ビームの断面にパターンを与え、前記パターン形成したビームを形成する働きをし、さらに、
− パターン形成したビームを前記基板の目標部分に投影する投影システムを備え、前記装置は、前記パターニングデバイスとは別個に前記基板を保持するよう構築され、請求項1から7までのいずれか1項に記載のキャリアを備えたテーブルを備えるリソグラフィ装置。 - リソグラフィパターニングデバイス(MA)とは別個にリソグラフィ基板(W)を担持するキャリア(10)を作成する方法で、
− キャリア(10)を形成するために、少なくとも2つの部材(11、12;15、17)を相互に接続することを含み、部材(11、12;15、17)は、キャリア(10)がほぼ閉じた中空内部構造を備えるような方法で形成される方法。 - − フライス加工技術によって少なくとも2つの部材(11、12;15、17)を形成することを含む、請求項9に記載の方法。
- さらに、
− 部材(11、12、15、16、17)の少なくとも1つに、パターニングデバイス(MA)とは別個に基板(W)を保持する手段を設けることを含む、請求項9または10に記載の方法。 - − キャリア(10)を形成することを含み、キャリアは、キャリア(10)の少なくとも一方側にミラーを設け、干渉型測定デバイス(IF)などの位置決定ユニットとの組合せで使用するよう構成される、請求項9から11までのいずれか1項に記載の方法。
- − 第三部材(16)が第一および第二開放側を備えるような方法で、第三部材(16)内に中空構造を形成することと、
− キャリア(10)がほぼ閉じた中空内部構造を備えるような方法で、第一部材(15)を第三部材(16)の第一開放側に取り付けて、第二部材(17)を第三部材(16)の第二開放側に取り付けることとを含む、請求項9から11までのいずれか1項に記載の方法。 - − 第一および第二部材(15、17)が1つの開放側を有するような方法で、第一および第二部材(15、17)内に中空構造を形成することと、
− (10)キャリアがほぼ閉じた中空内部構造を備えるような方法で、第一部材(15)の開放側を第三部材(16)の第一開放側に取り付けて、第二部材(17)の開放側を第三部材(16)の第二開放側に取り付けることとを含む、請求項13に記載の方法。 - − 第一部材と第三部材(15、16)の間および/あるいは第二部材と第三部材(17、16)の間に追加の板(19)を設けることを含む、請求項9から14までのいずれか1項に記載の方法。
- − 押し出し技術またはウォータージェット切削技術を使用して、第三部材(16)に中空構造を形成することを含む、請求項9から15までのいずれか1項に記載の方法。
- − キャリア(10)に開口を形成することを含む、請求項9から16までのいずれか1項に記載の方法。
- キャリア(10)を形成する個々の部材(15、16、17)が、陽極接着によって接合される、請求項9から17までのいずれか1項に記載の方法。
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