JP2005175490A - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】放射ビームを提供するための照明システムと、パターン形成デバイスを支持するための支持構造とを備えたリソグラフィ装置である。パターン形成デバイスは、放射ビームの断面にパターンを付与するべく機能する。また、リソグラフィ装置は、基板を保持するための基板テーブルと、パターン形成されたビームを基板の標的部分に投射するための投影システムとを有している。このリソグラフィ装置は、さらに、対象物を支持するためのチャックと、チャックをリソグラフィ装置の他の部分に対して支持するフレームとを有している。チャックは、少なくともフレームから熱的に分離されている。
【選択図】図1
Description
放射ビームを提供するように構築された照明システムと、
パターン形成されたビームを形成するために、前記ビームの断面にパターンを付与するように働くパターン形成デバイスを支持するように構築された支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
前記パターン形成されたビームを前記基板の標的部分に投射する投影システムとを備えたリソグラフィ装置であって、前記支持構造及び前記基板テーブルのうちの少なくとも一方が、チャック及び前記チャックを前記リソグラフィ装置の他の部分に対して支持するフレームを備え、前記チャックが少なくとも前記フレームから熱的に分離されたリソグラフィ装置が提供される。
基板を提供するステップと、
照明システムを使用して放射ビームを提供するステップと、
パターン形成デバイスを使用し、放射ビームの断面にパターンを付与するステップと、
基板及びパターン形成デバイスのうちの一方をチャックを使用して支持するステップと、
チャックをフレームを使用してリソグラフィ装置の他の部分に対して支持するステップと、
チャックをフレームから熱的に分離するステップと、
パターン形成された放射ビームを基板の標的部分に投射するステップとを含むデバイス製造方法が提供される。
対象物を支持するように構築された支持表面を有する第1の面と、
前記チャックを熱的に分離するために、放射率の小さい被覆を有する第2の面と、
前記チャックの内部に配置された封入チャンバと、
前記封入チャンバの内部に配置された相転移材とを備えたチャックが提供される。
放射ビームを提供するための手段と、
パターン形成されたビームを形成するための手段と、
パターン形成されたビームを形成するための前記手段を支持するための手段と、
基板と、
前記基板を保持するための手段と、
パターン形成されたビームを前記基板の標的部分に投射するための手段とを備えたリソグラフィ装置であって、前記パターン形成されたビームを形成するための前記手段及び基板を保持するための前記手段のうちの一方が、前記パターン形成されたビームを形成するための前記手段及び前記基板のうちの一方を前記リソグラフィ装置の他の部分から熱的に分離するための手段を備えたリソグラフィ装置が提供される。
投影放射ビームPB(たとえばUV放射又はEUV放射)を提供するための照明システム(イルミネータ)ILと、
パターン形成デバイス(たとえばマスク)MAを支持するための、アイテムPLに対してパターン形成デバイスを正確に位置決めするための第1の位置決めデバイスPMに接続された第1の支持構造(たとえばマスク・テーブル)MTと、
基板(たとえばレジスト被覆ウェハ)Wを保持するための、アイテムPLに対して基板を正確に位置決めするための第2の位置決めデバイスPWに接続された基板テーブル(たとえばウェハ・テーブル)WTと、
パターン形成デバイスMAによって投影ビームPBに付与されたパターンを基板Wの標的部分C(たとえば1つ又は複数のダイからなる)に結像するための投影システム(たとえば反射型投影レンズ)PLとを備えている。
1.ステップ・モードでは、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTは、基本的に静止状態に維持され、投影ビームに付与されたパターン全体が標的部分Cに1回の照射(すなわち単一静止露光)で投影される。次に、基板テーブルWTがX及び/又はY方向にシフトされ、異なる標的部分Cが露光される。ステップ・モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一静止露光で結像される標的部分Cのサイズが制限される。
2.走査モードでは、投影ビームに付与されたパターンが標的部分Cに投影されている間、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが同期走査される(すなわち単一動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPLの倍率、縮小率及び画像反転特性によって決定される。走査モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一動的露光における標的部分の幅(非走査方向の)が制限され、また、走査運動の長さによって標的部分の高さ(走査方向の)が左右される。
3.他のモードでは、プログラム可能パターン形成デバイスを保持してマスク・テーブルMTが基本的に静止状態に維持され、投影ビームに付与されたパターンが標的部分Cに投影されている間、基板テーブルWTが移動又は走査される。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、走査中、基板テーブルWTが移動する毎に、或いは連続する放射パルスと放射パルスの間に、必要に応じてプログラム可能パターン形成デバイスが更新される。この動作モードは、上で参照したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなどのプログラム可能パターン形成デバイスを利用しているマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。
110 フレーム
111 ミラー
120 チャック
121 支持表面
122 ボディ
123 ボディの表面
124 低放射率被覆
125 熱伝導要素
130 空間(間隙)
140 熱緩衝システム(熱緩衝器)
141 チャンバ
142 相転移材
150 充填ガス・システム
151 充填ガス
C 標的部分
IF1、IF2 位置センサ
IL 照明システム(イルミネータ)
M1、M2 マスク位置合せマーク
MA パターン形成デバイス(マスク)
MT 第1の支持構造(マスク・テーブル)
P1、P2 基板位置合せマーク
PB 投影放射ビーム
PL 投影システム(レンズ)
PM 第1の位置決めデバイス
PW 第2の位置決めデバイス
SO 放射源
W 基板
WT 基板テーブル
Claims (16)
- 放射ビームを提供するように構築された照明システムと、
パターン形成されたビームを形成するために、前記ビームの断面にパターンを付与するように働くパターン形成デバイスを支持するように構築された支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
前記パターン形成されたビームを前記基板の標的部分に投射する投影システムとを備えたリソグラフィ装置であって、前記支持構造及び前記基板テーブルのうちの少なくとも一方が、チャック及び前記チャックを前記リソグラフィ装置の他の部分に対して支持するフレームを備え、前記チャックが少なくとも前記フレームから熱的に分離されたリソグラフィ装置。 - 前記チャックと前記フレームの間に配置された真空空間をさらに備えた、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記チャック及び前記フレームが間隙によって互いに完全に分離され、且つ、離隔された、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記支持構造及び前記基板テーブルのうちの少なくとも一方が前記基板テーブルであり、前記チャックが前記基板を支持する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記チャックの前記フレームに向かって導かれた表面の一部及び前記フレームの前記チャックに向かって導かれた表面の一部のうちの少なくとも一方が低放射率を有する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記チャックの前記フレームに向かって導かれた表面の一部及び前記フレームの前記チャックに向かって導かれた表面の一部のうちの前記少なくとも一方が、放射率の小さい被覆で覆われた、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記被覆がクロム又は銀を含有した、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記低放射率被覆の放射率が0.1未満である、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記チャックが熱緩衝システムを備えた、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記熱緩衝システムが受動熱緩衝システムとして構築された、請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記チャック及び前記フレームのうちの一方が、赤外範囲の電磁放射を反射するように構築された、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記チャックと前記対象物の間で動作し、前記対象物と前記チャックの間で熱を移動させるための熱伝達デバイスをさらに備えた、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記熱伝達デバイスが、前記チャックと前記対象物の間に充填ガスを供給するためのガス供給システムを備え、前記熱伝達デバイスが、前記チャックの対象物支持表面に隣接して配置されたガス出口を備えた、請求項12に記載のリソグラフィ装置。
- 基板を提供するステップと、
照明システムを使用して放射ビームを提供するステップと、
前記パターン形成デバイスを使用し、放射ビームの断面にパターンを付与するステップと、
前記基板及び前記パターン形成デバイスのうちの一方をチャックを使用して支持するステップと、
前記チャックをフレームを使用してリソグラフィ装置の他の部分に対して支持するステップと、
前記チャックを前記フレームから熱的に分離するステップと、
パターン形成された放射ビームを前記基板の標的部分に投射するステップとを含むデバイス製造方法。 - リソグラフィ・デバイスに使用するためのチャックであって、
対象物を支持するように構築された支持表面を有する第1の面と、
前記チャックを熱的に分離するために、放射率の小さい被覆を有する第2の面と、
前記チャックの内部に配置された封入チャンバと、
前記封入チャンバの内部に配置された相転移材とを備えたチャック。 - 放射ビームを提供するための手段と、
パターン形成されたビームを形成するための手段と、
パターン形成されたビームを形成するための前記手段を支持するための手段と、
基板と、
前記基板を保持するための手段と、
前記パターン形成されたビームを前記基板の標的部分に投射するための手段とを備えたリソグラフィ装置であって、前記パターン形成されたビームを形成するための前記手段及び基板を保持するための前記手段のうちの一方が、前記パターン形成されたビームを形成するための前記手段及び前記基板のうちの一方をリソグラフィ装置の他の部分から熱的に分離するための手段を備えたリソグラフィ装置。
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