JP4452103B2 - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
− 放射線の投影ビームを供給するための放射線システム;
− 所望のパターンに従ってこの投影ビームをパターン化するのに役立つパターニング手段を支持するための支持構造体;
− 基板を保持するための基板テーブル;
− このパターン化したビームをこの基板の目標部分上に投影するための投影システム;および
− 少なくとも一つの冷却素子と熱接触しているコイル装置を含むローレンツ・アクチュエータを含む投影装置に関する。
− マスク。マスクの概念は、リソグラフィでよく知られ、二値、交互位相シフト、および減衰位相シフトのようなマスク型、並びに種々のハイブリッドマスク型を含む。そのようなマスクを放射線ビーム中に置くと、このマスク上のパターンに従って、このマスクに入射する放射線の選択透過(透過性マスクの場合)または選択反射(反射性マスクの場合)を生ずる。マスクの場合、この支持構造体は、一般的にマスクテーブルであり、それがこのマスクを入射放射線ビームの中の所望の位置に保持できること、およびもし望むなら、それをこのビームに対して動かせることを保証する。
− プログラム可能LCDアレイ。そのような構成の例は、米国特許第5,229,872号で与えられ、それを参考までにここに援用する。上記のように、この場合の支持構造体は、例えば、必要に応じて固定または可動でもよい、フレームまたはテーブルとして具体化してもよい。
冷却素子にこの様に設けたスリットは、循環する渦電流のための障壁として作用し、それらが高電気抵抗の経路を採らざるを得なくする。これは、渦電流の量を減ずる効果を有し、それで減衰力および散逸性発熱のレベルを低下させる。
更なる好適実施例によれば、これらのスリットが誘起電界の方向と実質的に垂直に配置してある。この配置は、渦電流経路の抵抗を増し、それによって減衰および発熱のレベルを減少する際に特に有効である。
その上更なる好適実施例によれば、これらのスリットが誘起電界の方向と実質的に平行、または実質的に斜角に配置してある。この配置は、あるデバイス装置とより効率的に組合わせることができ、渦電流経路の抵抗を増し、それによって減衰および発熱のレベルを減少する際に有効なままである。
その上更なる好適実施例によれば、これらのスリットをコイルからのガス放出から保護するために埋めてもよい。
− 少なくとも部分的に放射線感応性材料の層で覆われた基板を用意する工程;
− 放射線システムを使って放射線の投影ビームを用意する工程;
− この投影ビームの断面にパターンを付けるためにパターニング手段を使う工程;
− この放射線のパターン化したビームをこの放射線感応性材料の層の目標部分上に投影する工程;および
− 少なくとも一つの冷却素子と熱接触しているコイル装置を含むローレンツ・アクチュエータを作動する工程含むデバイス製造方法に於いて、
渦電流経路の電気抵抗を増すように配置した、一つ以上のスリットが上記冷却素子に設けてあることを特徴とする方法が提供される。
これらの図で、対応する参照記号は、対応する部品を示す。
− 放射線(例えば、UV放射線)の投影ビームPBを供給するための、この特別の場合放射線源LAも含む、放射線システムEx、IL;
− マスクMA(例えば、レチクル)を保持するためのマスクホルダを備え、およびこのマスクを部材PLに関して正確に位置決めするために第1位置決め手段に結合された第1物体テーブル(マスクテーブル)MT;
− 基板W(例えば、レジストを塗被したシリコンウエハ)を保持するための基板ホルダを備え、およびこの基板を部材PLに関して正確に位置決めするために第2位置決め手段に結合された第2物体テーブル(基板テーブル)WT;
− マスクMAの被照射部分を基板Wの目標部分C(一つ以上のダイを含む)上に結像するための投影システム(“レンズ”)PL(例えば、ミラーグループ)を含む。
ここに描くように、この装置は、反射型である(例えば、反射性のマスクを備える)。しかし、一般的に、それは、例えば、透過型でもよい(即ち、透過性のマスクを有する)。その代りに、この装置は、上に言及した種類のプログラム可能ミラーアレイのような、他の種類のパターニング手段を使ってもよい。
1.ステップモードでは、マスクテーブルMTを本質的に固定して保持し、全マスク像を目標部分C上に一度に(即ち、単一“フラッシュ”で)投影する。次に基板テーブルWTをxおよび/またはy方向に移動して異なる目標部分CをビームPBで照射できるようにする;
2.走査モードでは、与えられた目標部分Cを単一“フラッシュ”では露出しないことを除いて、本質的に同じシナリオを適用する。その代りに、マスクテーブルMTが与えられた方向(所謂“走査方向”、例えば、y方向)に速度νで動き得て、それで投影ビームPBがマスク像の上を走査させられ;同時に、基板テーブルWTがそれと共に同じまたは反対方向に速度V=Mνで動かされ、このMはレンズPLの倍率(典型的には、M=1/4または1/5)である。この様にして、比較的大きい目標部分Cを、解像度について妥協する必要なく、露出できる。
Ex ビーム拡大器
IL 照明システム
LA 放射線源
MA パターニング手段
MT 支持構造体
PB 投影ビーム
PL 投影システム
W 基板
WT 基板テーブル
1 冷却素子
3 コイル装置
7 スリット
8 冷却水路
Claims (10)
- リソグラフィ装置であって、
放射線ビームを供給するための放射線システム、
所望のパターンを前記放射線ビームに付与するためのパターニング手段を支持するための支持構造体、
基板を保持するための基板ホルダー、
パターン化された前記放射線ビームを前記基板の目標部分上に投影するための投影システム、
前記支持構造体、または、前記基板ホルダーに設けられており、かつ、少なくとも一つの冷却素子と熱接触しているコイル装置を含むローレンツ・アクチュエータ、
を備えるリソグラフィ装置に於いて、
渦電流経路の電気抵抗を増すように配置した、一つ以上のスリットが前記冷却素子に設けてあり、
冷却水路が、複数の並列経路を形成するような方法で、前記スリットと組合わせて配置されており、これにより、該冷却水路の流れインピーダンスが、該冷却水路が該複数の並列経路を有していない場合に比して、低減される、
リソグラフィ装置。 - 前記スリットが互いに実質的に平行に配置してある、
請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記スリットが誘起電界の方向と実質的に垂直に配置してある、
請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。 - 前記スリットが誘起電界の方向と実質的に平行に配置してある、
請求項1または2の何れか一項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記スリットが誘起電界の方向と実質的に斜角に配置してある、
請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。 - 前記スリットの長さが前記冷却素子の全長を横切って伸びないように制限してある、
請求項1ないし5の何れか一項に記載のリソグラフィ装置。 - 隣接するスリットが前記冷却素子の対向する側から伸びている、
請求項1ないし6の何れか一項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記冷却素子の有効範囲を均一にするために、前記冷却水路が実質的に対称な水路網に配置してある、
請求項1ないし7の何れか一項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記スリットが前記コイルからのガス放出から保護するために埋めてある、
請求項1ないし8の何れか一項に記載のリソグラフィ装置。 - 基板ホルダーに保持された基板を用意する工程、
放射線システムを使って放射線ビームを提供する工程、
支持構造体に支持されたパターニング手段により、前記放射線ビームに所望のパターンを付与する工程、
パターン化された前記放射線ビームを、投影システムを通して前記基板の目標部分上に投影する工程、
少なくとも一つの冷却素子と熱接触しているコイル装置を含むローレンツ・アクチュエータにより、前記支持構造体、または、前記基板ホルダーを位置決めする工程、
を含むデバイス製造方法に於いて、
渦電流経路の電気抵抗を増すように配置した、一つ以上のスリットが前記冷却素子に設けてあり、
冷却水路が、複数の並列経路を形成するような方法で、前記スリットと組合わせて配置されており、これにより、該冷却水路の流れインピーダンスが、該冷却水路が該複数の並列経路を有していない場合に比して、低減される、
デバイス製造方法。
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