JP2004335542A - 基板洗浄方法及び基板乾燥方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】回転による基板の洗浄、乾燥時に、基板外周部でのパーティクルの残存を抑制するとともに、レジストパターンの倒壊を抑制する。
【解決手段】回転による被処理基板100の洗浄、乾燥時において、リンスノズル103を被処理基板100の中心から外周に向けて移動させながら、中心部から外周部に向かうに従い、被処理基板100へのリンス液供給を増大させて、その一方で乾燥領域の半径rに応じて、該被処理基板100の回転速度ωdrを小さくする。
【選択図】 図1
【解決手段】回転による被処理基板100の洗浄、乾燥時において、リンスノズル103を被処理基板100の中心から外周に向けて移動させながら、中心部から外周部に向かうに従い、被処理基板100へのリンス液供給を増大させて、その一方で乾燥領域の半径rに応じて、該被処理基板100の回転速度ωdrを小さくする。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明はリソグラフィーの現像工程、ウエットエッチング、アブレーション後の基板洗浄方法、及び被処理基板上の溶液を該基板を回転することで乾燥させる基板回転乾燥方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来レジスト膜の現像工程の最終段階のリンス工程では外周部の欠陥を除去できないという問題が生じていた。リンス液を基板中心から滴下し、洗浄する手法では、基板中心と外周部で膜厚差が生じる。150mmの位置におけるリンス液の厚さは中心から10mmの位置の厚さと比べ概ね1/15程度になっている。リンス時において周速度が速い場合には、リンス液がレジスト表面を滑るように移動してしまい、除去効率が低下していると考えられる。
【0003】
従来、除去効率の向上を図るために、リンス時の基板の回転速度を最初に速くして大きい欠陥を除去した後、回転速度を遅くして微細な欠陥を除去する方法が開示されている(特許文献1参照)。特許文献1では、従来の高速回転でリンスするときの問題点を、「微細なサイズの異物は質量が小さいため、高回転による遠心力よりも、洗浄水(純水)に洗い流される効果が大きいからである。高回転で洗浄水(純水)を吐出すると、水は表面を滑るように飛び散るだけであり(たとえばハイドロプレーニング現象のような現象が示されると思われる)、微小な異物を押し流す作用は小さい。」としている。
【0004】
特許文献1に開示されている手法は、直径約20.3cm基板では有効であった。しかし、回転速度の制御を2段階でしか行っていない。そのためより径の大きい直径30cm以上のウエハに適用した場合、2段階目の回転速度をより低速度で行う必要があり、洗浄に膨大な時間がかかるという問題があった。例えば、特許文献1の実施形態中に記載されているφ20.3cmの基板では回転速度を5.3m/s設定しているが、φ30cmの基板で同様の効果を得る場合には回転速度を3.6m/sに設定する必要がある。
【0005】
また、リンス液の供給速度の制御を行っておらず、外周部ではリンス液供給不足が生じて欠陥を十分に除去できないという問題も見られた。なお、外周部でリンス液供給不足がないように予めリンス液の一定供給量を定めると、膨大な量のリンス液を必要とし、生産性が大変悪いという問題が生じていた。
【0006】
一方、リンス液を基板中心から滴下し、洗浄する手法では、基板中心と外周部で膜厚差が生じる。150mmの位置におけるリンス液の厚さは中心から10mmの位置の厚さと比べ概ね1/15程度になっている。また、この液膜の単位体積あたりにかかる遠心力は15倍になっている。このリンス液薄膜にかかる遠心力がパターン倒れに影響していると考えられる。現像処理後の回転乾燥工程は、高速かつ等速回転で行われている(例えば、特許文献2、特許文献3参照)。特許文献2では乾燥工程の後半で基板回転を減速させているが、減速のタイミングは基板が乾燥した直後であり、乾燥させる目的は基板停止時に雰囲気の逆流を防ぐことにある。即ち特許文献2の技術では、乾燥工程中に回転速度低下処理があるが、基板乾燥中に行われるものではなくパターン倒壊防止に何ら寄与していない。
【0007】
また、特許文献3でも乾燥工程の最後に基板回転速度の低下処理を行っているが、この処理も基板乾燥が終了した段階に行われているもので、基板へミストが付着しないための処理であり、特許文献2と同様に、基板乾燥中に行われるものではなくパターン倒壊防止に何ら寄与していない。
【0008】
【特許文献1】
特開2000−223457号公報
【0009】
【特許文献2】
特開2000−340491号公報
【0010】
【特許文献3】
特開平8−195375号公報
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
上述したように、基板の大口径化に伴い、基板外周部でパーティクルが残るという問題があった。
また、高速回転による基板乾燥時に、レジストパターンが倒壊するという問題があった。
【0012】
本発明の目的は、基板外周部でのパーティクルの残存を抑制する基板洗浄法を提供することにある。
又、本発明の別の目的は、高速回転による基板乾燥時にレジストパターンの倒壊を抑制し得る基板乾燥方法を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記目的を達成するために以下のように構成されている。
【0014】
(1)本発明の一例に係わる基板洗浄方法は、被処理基板を回転させる工程と、前記被処理基板の略中心上方に配置されたノズルの供給口から、前記被処理基板主面上に洗浄液を供給する工程と、前記ノズルを該被処理基板の外周に向けて移動させる工程とを含み、前記ノズルが前記被処理基板略中心上方に位置する時の洗浄液供給量q0及び被処理基板の回転速度ω0、前記ノズルが被処理基板の所定の径方向位置rp上方に位置する時の洗浄液の供給速度qp及び前記被処理基板の回転速度ωp、並びに前記ノズルが被処理基板の任意の径方向位置r(>rp)上方に位置する時の洗浄液の供給速度qr及び前記被処理基板の回転速度ωrが
qr>qp≧q0,ωr<ωp≦ω0
の関係にあることを特徴とする。
【0015】
(2)本発明の一例に係わる基板乾燥方法は、レジストパターンが形成された被処理基板上に液体を供給する工程と、前記被処理基板を初期速度ωd0で回転させて、前記被処理基板に乾燥領域を生成する工程と、前記乾燥領域の半径rに応じて、該被処理基板の回転速度ωdrを小さくすることを特徴とする。
【0016】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を以下に図面を参照して説明する。
【0017】
(第1の実施形態)
一方、スピン洗浄方式では、基板中心と外周部でリンス液の膜厚差が生じる。径方向位置150mmにおけるリンス液の厚さは、径方向位置10mmの位置の厚さの概ね1/15程度になっている。そのため、リンス時においても液量が外周部で極端に少なくなっているため除去効率が低下し、また、周速度が速いため、リンス液がレジスト表面を滑るように移動してしまい、除去効率が低下していると考えた。
【0018】
そこで、本発明者等は、リンスノズルを基板中心から外周に向けて移動させながら、中心部から外周部に向かうに従い、被処理基板へのリンス液供給を増大させて、その一方で被処理基板の回転速度を徐々に下げていく方法を考えた。
【0019】
図1は、本発明の第1の実施形態に係わる基板洗浄装置の概略構成を示す図である。図1に示すように、ステージ101上に被処理基板100が配置されている。ステージ101は、回転機構102に接続されている。被処理基板100主面に対向してリンス液供給ノズル103が設けられている。リンス液供給ノズル103は、ノズル移動手段104により被処理基板100の中心部から外周部にかけて移動可能である。ステージ101の周囲にアウターカップ105が配設されている。また、ステージ101の下方にインナーカップ106が配設されている。アウターカップ105とインナーカップ106との間には図示されない廃液手段が設けられている。
【0020】
回転機構102は、回転機構制御部111で制御される。リンス液供給ノズル103からのリンス液の供給速度は、リンス液供給速度制御部112で制御される。ノズル移動手段104はノズル移動手段制御部113で制御される。回転機構制御部111,リンス液供給速度制御部112,及びノズル移動手段制御部113は、コントローラ110で制御される。
【0021】
なお、図1はリンス液供給機構と基板周辺の機構のみを記したものであるが。これに図示されない現像液供給手段や、他ユニットからこのユニットに被処理基板を搬出入する被処理基板移動手段が設けられている場合もある。
【0022】
先ず、この装置を用いて洗浄処理を行う前に、リンス液供給ノズル103の径方向位置rに応じた基板回転速度ωr及び供給速度qrを求める。以下に図2を用いて決定方法について説明する。
【0023】
被処理基板表面のレジスト膜に露光装置を用いてデバイスのパターンを転写したのち、現像ユニットにおいて被処理基板主面に対して現像液を供給してレジストパターンを形成する(ステップS101)。
【0024】
次いで、図1に示した装置を用いてスピン洗浄処理を行う(ステップS102)。洗浄処理は、被処理基板主面の現像液及び、現像時に生じた溶解生成物を洗浄するために行われる。なお、ここでの洗浄処理の条件は、回転速度が800rpm(一定)、且つリンス液の供給速度が1L/min(一定)である。
次いで、スピン洗浄処理後、このリンス液を除去するため基板を数1000rpmで高速回転させ、乾燥させる(ステップS103)。
【0025】
次いで、被処理基板の表面を観察し、中心に近いパーティクルの位置rpを計測する(ステップS104)。図3に基板表面に観察されたパーティクルの分布を図3に示す、中心に最も近いパーティクルPの径方向位置rpは、108mmであった。
【0026】
基板回転速度が800rpmの時のパーティクルPの径方向位置(108mm)における周速度を求める(ステップS105)。計算の結果、周速度は9.05m/sである。
【0027】
また、φ216mm(径方向位置108mm)における液厚を見積もる(ステップS107)。図4にリンス液の液厚の分布を示す。図4から、φ216mm(径方向位置108mm)における液厚は、63μmであった。ちなみにφ300mmでの周速度と液厚はそれぞれ12.6m/sと34μmである。
【0028】
径方向位置での液膜厚の変化は、基板に対してリンス液供給ノズルから一定量の薬液を滴下しつつ、基板上面から径方向に沿って反射率の波長分散を計測し、その波長分散値から求めることができる。
【0029】
また、計算によっても概ね予測することができる。例えば流量1L/minで径6mm(=2r0)のノズルから基板に対してリンス液を供給することを考える。この時のノズルから吐出直後のリンス液の流速は概ね0.6m/sec(=vr0)になる。この速度を初速度としてリンス液が径方向に広がると考える。なお、周方向初速度は0m/sとする。これらの速度とプロセスに用いた回転速度ω、及びリンス液のレジスト膜に対する動摩擦係数μとリンス液の動粘度cを考慮して以下の手順で径に対するリンス液の周速度vθi、径方向速度vri、液の厚さtiを決定していく。リンス液供給直後の液厚T0は概ね
T0=1/60(L/s)×Δt/πr0
となる。
【0030】
手順1)微小時間Δt変化させたときのリンス液の位置ri+1を周速度vθi、径方向速度vriから算出する。
手順2)位置ri+1における周速度vθi+1と径方向速度vri+1を微小時間Δtと回転速度ωを用い、動摩擦係数μと動粘度cを考慮して算出する。
手順3)位置riにおける液厚Tiを、単位時間内Δtで供給されるリンス液体積に対して
Ti=T0×r0 2 / (ri+1 2−ri−1 2)×vr0/vri
として算出する。
手順4)手順1から手順3を、位置rp或いはウエハ外径に達するまで繰り返し算出する。
【0031】
以上の結果から、径方向位置が108mm以上の領域において、周速度9.05より速い場合にはリンス液が基板表面での滑り量が大きくなり欠陥を除去できなくなったと考えた。そこで本装置ではφ216mm以上の領域において、液厚を63μmより大、周速度9.05m/s未満に維持することように決定する(ステップS106,S108)。図5,図6に決定された回転速度、供給速度を示す。
【0032】
次に、実際の洗浄処理について説明する。
図1のユニットに主面上のレジストに対して露光された被処理基板を搬入する。そして図示されない現像液供給ノズルを被処理基板主面上で操作させて現像液膜を形成する。30秒ほど基板を静止させて静止現像を行った後、リンス液供給ノズルをノズル移動手段により被処理基板中心部に移動させてリンス液を供給しつつ、被処理基板を回転させる。
【0033】
リンス液供給ノズルは基板中心から外周部に向けて15秒かけて等速で移動させる。また、リンスノズルの径方向位置に対してリンス液供給量と基板回転速度をそれぞれ図5、6のように制御した。本実施形態では従来法で欠陥が除去できた範囲はリンス液供給速度を従来と同じ1L/minとし、基板回転速度も従来と同じ800rpmとした。従来法における欠陥発生領域では、リンス液のすべり量を抑えるために周速度が9.05m/s未満となるように制御し、基板回転速度は液厚63μmを維持するように、周速度の低下による液厚増加分を考慮しつつリンス液供給量を制御した。
【0034】
リンスを終えた後、基板を高速で回転してリンス液を除去、乾燥した。本実施形態でリンスした基板のパーティクル発生の状況を次に観察した。図7が被処理基板の平面図である。この図のとおり、パーティクルを生じさせること無く、リンスを行うことができた。
【0035】
本実施形態では、パーティクルが存在した位置から基板回転速度を増加させつつ、薬液供給量を低下させたがこれに限るものではない。ノズルを外周に向けて移動させ始めた段階で回転速度を減少させ始め、リンス液供給量を増加させはじめても良い。また、ノズルを等速で動かすのではなく、基板外周に向かうに従い徐々に速度を低下させてもよい。
【0036】
いずれの方式においても、リンス工程における被処理基板上の各点において、欠陥除去効率を維持しうる必要量の液膜厚になるようにリンス液供給ノズルからの薬液供給量を調整し、液の流速の欠陥除去効率を維持できなくなる速度未満に制御できれば、如何なる制御を行っても良い。欠陥除去効率の算出は本実施形態のように従来のプロセスで欠陥が残存する基板位置でのリンス液厚さと周速度を推定して定めると良い。また、周速度ではなく、周速度と径方向速度の合成速度と欠陥除去効率を基準にして、その合成速度が欠陥除去効率を維持できなくなる速度未満になるように制御してもよい。
また、中心から外周方向へのリンスノズルの移動を複数回行っても良いし、移動時間も本実施形態の15秒に限るのもではない。
【0037】
なお、本実施形態はリソグラフィーの現像工程の後の洗浄(リンス)工程に関するものであるが、適用例はこれに限るものではない。ウエットエッチングによる酸化膜や、窒化膜のエッチング後の洗浄においても、パーティクル量に着目して制御を行うことができる。また、レーザーアブレーションによる加工後のパーティクル洗浄除去においても同様に、残存ずるパーティクルの位置に着目して制御を行うことが可能である。
【0038】
(第2の実施形態)
本実施形態では上記課題を鑑み、リンス後の乾燥時においてパターン倒れを生じさせない回転乾燥方法を提供するものである。すなわち、基板中心から外周に向けた被処理基板主面の乾燥領域の広がりに応じて、被処理基板の回転速度を徐々に低下させるものである。
【0039】
ここでは、先ず第1の実施形態で用いた被処理基板を従来の手法を用いて乾燥させる。リンス工程の終了の後、被処理基板の回転速度を3000rpm(=ωd0)まで上げて20秒で基板を乾燥させた。このときには径60mm以上の領域でパターン倒れが観察された。径60mmの部分でのrdpωd0 2値(rdp:半径[m]、ωd0:回転速度[回転/秒])の値は150であった。径60mm以上の部分ではこの遠心力によりレジストパターンが基板外側に曲げられ、更にリンス液とレジストとの表面張力によりパターンが倒れたと考えた。そこで、レジストパターンが遠心力で基板外側に曲げられることのないように乾燥領域の境界で径方向に対する遠心力が大きくならないように徐々に小さくするように制御した。遠心力の指標としてはrωdr 2値を用いた。ここで、rとは乾燥領域の境界の径方向位置、ωdrとは径方向位置rにおける回転速度である。図8に乾燥領域の半径と回転速度との関係を示す。また、図9では、乾燥領域の半径部に存在する除去過程のリンス液に加わる遠心力の相対値をrωdr 2値に代表させて示す。図8、図9ともに破線は一定の回転速度(この場合は3000rpm)で乾燥させたときの値である。基板外周部でrωdr 2値が375に達していることがわかる。
【0040】
回転速度の制御は初期の回転速度に対して外周部の回転速度が低く制御されていて、パターン倒れが生じず、且つ、リンス液が除去できていれば如何なる制御を行ってもかまわない。つまり、乾燥領域の半径rがいかなる時でも、rωdr 2が、パターン倒れが生じた位置でのrdpωd0 2値である150を、超えないように回転速度ωdrを設定する。
【0041】
例えば、図8の実線では、(1)式に基づいて、径方向位置rにおける回転速度ωdr値を制御している。
【0042】
ωdr=ωd0×((R+α)2−r2)/(R+α)2 (1)
ここで、Rは被処理基板の半径、ωd0は回転乾燥開始時の初期値である。(1)式では、リンス液除去比率に応じて被処理基板の回転速度を変調するようにしている。
ここでαは飛びしろである。基板より外にリンス液を輸送する必要があるためと飛びしろα>0でなくてはならない。望ましくは被処理基板とカップ壁面との距離より若干小さくなるように設定すると、基板外に放出されたリンス液が壁面にあたって発生するミストを極力防ぐことができる。図8の関係では飛びしろα=50mmに設定した。式(1)の制御式によれば、初期回転速度が3000rpm,基板の半径が150mmの場合、被処理基板の最外周に乾燥領域が到達したときの基板回転速度は約1300rpmになり、rωdr 2値も基板全体で150以下(最大値=143)に抑えることができた。この条件でリンスを行った基板ではパターン倒れが全く観察されなかった。また、被処理基板に残留したリンス液も見られなかった。なお、rωdr 2値が150を超える場合、初速度を遅くする。
【0043】
(1)式について説明する。いま、半径Rの基板上に径rより外側に均一な厚さで液膜が存在しているとした場合にその液膜が占める面積Sは、
S=πR2−πr2 ・・・(式1−1)
になる。なお、液膜が基板全体にある場合には、
S0=πR2 ・・・(式1−2)
になる。(1)式は液膜量に比例するように角速度を決めた場合の式であるが、(1)式では液膜の形成を基板外αだけはみ出た仮想領域まで考えている。即ち基板中心からR+αまで液膜形成領域があるとして
(1−1)式,(1−2)式をそれぞれ
S=π(R+α)2−πr2 …(1−1’)
S0=π(R+α)2 …(1−2’)
とし
ωd0/S0=ωdr/S
という関係からωdrについて整理して、(1)式が導かれている。
【0044】
ところで、レジスト膜の表面の濡れ性が高く、リンス液除去に、本実施形態より強い遠心力が必要である場合には、rωdrの上限が150を超えず、かつrωdr 2値を高いレベルに保持したプロセスを行うのが好ましい。図8の一点鎖線は、この考えに基づいて行ったプロセスである。このプロセスでは、rωdr 2値が最大値の143に達した段階で、それより外側の領域でrωdr 2値がこの値を保持するように式(2)によりωdrを決定したものである。
【0045】
ωdr=(150/r)0.5 (2)
この時の被処理基板最外周部での回転速度は1800rpmとなり、リンス液に対して濡れ性の高いレジストに対してもリンス液を除去でき、且つ、パターン倒れも生じなかった。
【0046】
また、rωdr 2値が142になるrまでは一定の回転速度で乾燥させて、それより外の領域で式(2)に従いωdrを変更して制御しても良い。この時の乾燥領域の半径rに対するrωdr 2値を図10に示す。また、乾燥領域の半径rに対する回転速度ωdrを図11に示す。
【0047】
この様に、従来の回転速度一定ωcで処理した際に生じるパターン倒れの径方向最小値rdpに対するrdpωc 2値を超えないように、乾燥領域の境界r近傍で、rωdr 2値<rdpωc 2値となるように被処理基板の回転速度を制御することでパターン倒れがない乾燥を実現することが可能になる。
【0048】
なお、乾燥領域の境界の位置検出は、被処理基板主面情報にCCDカメラを設けて、回転乾燥を行っている際の干渉縞の変化を計測して行うと良い。乾燥を行っていくと、干渉縞が被処理基板中心から外周に向かってあたかも移動するように見える。乾燥の最終段階では干渉縞の間隔が徐々に広くなりはじめる。この干渉縞の位置を画像処理により認識させて、その結果を図1に示した被処理基板回転系にフィードバックすると良い。
【0049】
なお、干渉縞から残存するリンス液の液厚Trを計測し、液厚がレジスト膜の厚さTresに対してTres≦Tr≦10Tres 更に望ましくはTres≦Tr≦2Tresの範囲で制御を開始したところパターン倒れが無く、リンス液も残存しない良好な結果を得ることができた。
【0050】
先に述べた通りrω2値はレジスト膜、更にはレジスト膜の表面状態に大きく依存するが、発明者がKrF露光用レジスト、ArF露光用レジスト、F2露光用レジスト、EUV露光用レジスト、電子線露光用レジスト、など、種々レジストについてレジスト膜厚100〜400nmの範囲で試したところrdpωd0 2<150に設定して条件を定めることで概ねパターン倒れが生じなかった。
【0051】
なお、本発明は、上記各実施形態に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。更に、上記実施形態には種々の段階の発明が含まれており、開示される複数の構成要件における適宜な組み合わせにより種々の発明が抽出され得る。例えば、実施形態に示される全構成要件から幾つかの構成要件が削除されても、発明が解決しようとする課題の欄で述べた課題の少なくとも1つが解決でき、発明の効果の欄で述べられている効果の少なくとも1つが得られる場合には、この構成要件が削除された構成が発明として抽出され得る。
【0052】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、ノズルからの被処理基板への洗浄液の供給時、前記ノズルを該被処理基板の外周に向けて移動させ、前記ノズルが被処理基板の径方向位置r上方に位置する時の洗浄液の供給速度qr及び前記被処理基板の回転速度ωr、並びに前記ノズルが前記被処理基板略中心上方に位置する時の洗浄液供給量q0及び被処理基板の回転速度ω0が、qr>q0,ωr<ω0の関係にすることによって、被処理基板上に残るパーティクルの数を抑制することができる。
【0053】
また、回転による被処理基板の乾燥時、乾燥領域の半径rに応じて、該被処理基板の回転速度ωdrを小さくすることによって、レジストパターンの倒壊を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施形態に係わる基板洗浄装置の概略構成を示す図。
【図2】基板回転速度及びリンス液の供給速度の決定方法の手順を示す図。
【図3】従来の手法で洗浄した場合の基板表面に観察されたパーティクルの分布を示す平面図。
【図4】リンス液の液厚の分布を示す図。
【図5】第1の実施形態に係わる、リンス液供給ノズルの位置とリンス液の供給速度との関係を示す図。
【図6】第1の実施形態に係わる、リンス液供給ノズルの位置と回転速度との関係を示す図。
【図7】第1の実施形態に係わる手法で洗浄された被処理基板の状態を示す平面図。
【図8】第2の実施形態に係わる、乾燥領域の半径と回転速度との関係を示す図。
【図9】乾燥領域の境界に存在する除去過程のリンス液に加わる遠心力の相対値rωdr 2を示す図。
【図10】第2の実施形態に係わる、乾燥領域の境界に存在する除去過程のリンス液に加わる遠心力の相対値rωdr 2を示す図。
【図11】第2の実施形態に係わる、乾燥領域の半径と回転速度との関係を示す図。
【符号の説明】
101…ステージ,102…回転機構,103…リンス液供給ノズル,104…ノズル移動手段,105…アウターカップ,106…インナーカップ,110…コントローラ,111…回転機構制御部,112…リンス液供給速度制御部,113…ノズル移動手段制御部
【発明の属する技術分野】
本発明はリソグラフィーの現像工程、ウエットエッチング、アブレーション後の基板洗浄方法、及び被処理基板上の溶液を該基板を回転することで乾燥させる基板回転乾燥方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来レジスト膜の現像工程の最終段階のリンス工程では外周部の欠陥を除去できないという問題が生じていた。リンス液を基板中心から滴下し、洗浄する手法では、基板中心と外周部で膜厚差が生じる。150mmの位置におけるリンス液の厚さは中心から10mmの位置の厚さと比べ概ね1/15程度になっている。リンス時において周速度が速い場合には、リンス液がレジスト表面を滑るように移動してしまい、除去効率が低下していると考えられる。
【0003】
従来、除去効率の向上を図るために、リンス時の基板の回転速度を最初に速くして大きい欠陥を除去した後、回転速度を遅くして微細な欠陥を除去する方法が開示されている(特許文献1参照)。特許文献1では、従来の高速回転でリンスするときの問題点を、「微細なサイズの異物は質量が小さいため、高回転による遠心力よりも、洗浄水(純水)に洗い流される効果が大きいからである。高回転で洗浄水(純水)を吐出すると、水は表面を滑るように飛び散るだけであり(たとえばハイドロプレーニング現象のような現象が示されると思われる)、微小な異物を押し流す作用は小さい。」としている。
【0004】
特許文献1に開示されている手法は、直径約20.3cm基板では有効であった。しかし、回転速度の制御を2段階でしか行っていない。そのためより径の大きい直径30cm以上のウエハに適用した場合、2段階目の回転速度をより低速度で行う必要があり、洗浄に膨大な時間がかかるという問題があった。例えば、特許文献1の実施形態中に記載されているφ20.3cmの基板では回転速度を5.3m/s設定しているが、φ30cmの基板で同様の効果を得る場合には回転速度を3.6m/sに設定する必要がある。
【0005】
また、リンス液の供給速度の制御を行っておらず、外周部ではリンス液供給不足が生じて欠陥を十分に除去できないという問題も見られた。なお、外周部でリンス液供給不足がないように予めリンス液の一定供給量を定めると、膨大な量のリンス液を必要とし、生産性が大変悪いという問題が生じていた。
【0006】
一方、リンス液を基板中心から滴下し、洗浄する手法では、基板中心と外周部で膜厚差が生じる。150mmの位置におけるリンス液の厚さは中心から10mmの位置の厚さと比べ概ね1/15程度になっている。また、この液膜の単位体積あたりにかかる遠心力は15倍になっている。このリンス液薄膜にかかる遠心力がパターン倒れに影響していると考えられる。現像処理後の回転乾燥工程は、高速かつ等速回転で行われている(例えば、特許文献2、特許文献3参照)。特許文献2では乾燥工程の後半で基板回転を減速させているが、減速のタイミングは基板が乾燥した直後であり、乾燥させる目的は基板停止時に雰囲気の逆流を防ぐことにある。即ち特許文献2の技術では、乾燥工程中に回転速度低下処理があるが、基板乾燥中に行われるものではなくパターン倒壊防止に何ら寄与していない。
【0007】
また、特許文献3でも乾燥工程の最後に基板回転速度の低下処理を行っているが、この処理も基板乾燥が終了した段階に行われているもので、基板へミストが付着しないための処理であり、特許文献2と同様に、基板乾燥中に行われるものではなくパターン倒壊防止に何ら寄与していない。
【0008】
【特許文献1】
特開2000−223457号公報
【0009】
【特許文献2】
特開2000−340491号公報
【0010】
【特許文献3】
特開平8−195375号公報
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
上述したように、基板の大口径化に伴い、基板外周部でパーティクルが残るという問題があった。
また、高速回転による基板乾燥時に、レジストパターンが倒壊するという問題があった。
【0012】
本発明の目的は、基板外周部でのパーティクルの残存を抑制する基板洗浄法を提供することにある。
又、本発明の別の目的は、高速回転による基板乾燥時にレジストパターンの倒壊を抑制し得る基板乾燥方法を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記目的を達成するために以下のように構成されている。
【0014】
(1)本発明の一例に係わる基板洗浄方法は、被処理基板を回転させる工程と、前記被処理基板の略中心上方に配置されたノズルの供給口から、前記被処理基板主面上に洗浄液を供給する工程と、前記ノズルを該被処理基板の外周に向けて移動させる工程とを含み、前記ノズルが前記被処理基板略中心上方に位置する時の洗浄液供給量q0及び被処理基板の回転速度ω0、前記ノズルが被処理基板の所定の径方向位置rp上方に位置する時の洗浄液の供給速度qp及び前記被処理基板の回転速度ωp、並びに前記ノズルが被処理基板の任意の径方向位置r(>rp)上方に位置する時の洗浄液の供給速度qr及び前記被処理基板の回転速度ωrが
qr>qp≧q0,ωr<ωp≦ω0
の関係にあることを特徴とする。
【0015】
(2)本発明の一例に係わる基板乾燥方法は、レジストパターンが形成された被処理基板上に液体を供給する工程と、前記被処理基板を初期速度ωd0で回転させて、前記被処理基板に乾燥領域を生成する工程と、前記乾燥領域の半径rに応じて、該被処理基板の回転速度ωdrを小さくすることを特徴とする。
【0016】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を以下に図面を参照して説明する。
【0017】
(第1の実施形態)
一方、スピン洗浄方式では、基板中心と外周部でリンス液の膜厚差が生じる。径方向位置150mmにおけるリンス液の厚さは、径方向位置10mmの位置の厚さの概ね1/15程度になっている。そのため、リンス時においても液量が外周部で極端に少なくなっているため除去効率が低下し、また、周速度が速いため、リンス液がレジスト表面を滑るように移動してしまい、除去効率が低下していると考えた。
【0018】
そこで、本発明者等は、リンスノズルを基板中心から外周に向けて移動させながら、中心部から外周部に向かうに従い、被処理基板へのリンス液供給を増大させて、その一方で被処理基板の回転速度を徐々に下げていく方法を考えた。
【0019】
図1は、本発明の第1の実施形態に係わる基板洗浄装置の概略構成を示す図である。図1に示すように、ステージ101上に被処理基板100が配置されている。ステージ101は、回転機構102に接続されている。被処理基板100主面に対向してリンス液供給ノズル103が設けられている。リンス液供給ノズル103は、ノズル移動手段104により被処理基板100の中心部から外周部にかけて移動可能である。ステージ101の周囲にアウターカップ105が配設されている。また、ステージ101の下方にインナーカップ106が配設されている。アウターカップ105とインナーカップ106との間には図示されない廃液手段が設けられている。
【0020】
回転機構102は、回転機構制御部111で制御される。リンス液供給ノズル103からのリンス液の供給速度は、リンス液供給速度制御部112で制御される。ノズル移動手段104はノズル移動手段制御部113で制御される。回転機構制御部111,リンス液供給速度制御部112,及びノズル移動手段制御部113は、コントローラ110で制御される。
【0021】
なお、図1はリンス液供給機構と基板周辺の機構のみを記したものであるが。これに図示されない現像液供給手段や、他ユニットからこのユニットに被処理基板を搬出入する被処理基板移動手段が設けられている場合もある。
【0022】
先ず、この装置を用いて洗浄処理を行う前に、リンス液供給ノズル103の径方向位置rに応じた基板回転速度ωr及び供給速度qrを求める。以下に図2を用いて決定方法について説明する。
【0023】
被処理基板表面のレジスト膜に露光装置を用いてデバイスのパターンを転写したのち、現像ユニットにおいて被処理基板主面に対して現像液を供給してレジストパターンを形成する(ステップS101)。
【0024】
次いで、図1に示した装置を用いてスピン洗浄処理を行う(ステップS102)。洗浄処理は、被処理基板主面の現像液及び、現像時に生じた溶解生成物を洗浄するために行われる。なお、ここでの洗浄処理の条件は、回転速度が800rpm(一定)、且つリンス液の供給速度が1L/min(一定)である。
次いで、スピン洗浄処理後、このリンス液を除去するため基板を数1000rpmで高速回転させ、乾燥させる(ステップS103)。
【0025】
次いで、被処理基板の表面を観察し、中心に近いパーティクルの位置rpを計測する(ステップS104)。図3に基板表面に観察されたパーティクルの分布を図3に示す、中心に最も近いパーティクルPの径方向位置rpは、108mmであった。
【0026】
基板回転速度が800rpmの時のパーティクルPの径方向位置(108mm)における周速度を求める(ステップS105)。計算の結果、周速度は9.05m/sである。
【0027】
また、φ216mm(径方向位置108mm)における液厚を見積もる(ステップS107)。図4にリンス液の液厚の分布を示す。図4から、φ216mm(径方向位置108mm)における液厚は、63μmであった。ちなみにφ300mmでの周速度と液厚はそれぞれ12.6m/sと34μmである。
【0028】
径方向位置での液膜厚の変化は、基板に対してリンス液供給ノズルから一定量の薬液を滴下しつつ、基板上面から径方向に沿って反射率の波長分散を計測し、その波長分散値から求めることができる。
【0029】
また、計算によっても概ね予測することができる。例えば流量1L/minで径6mm(=2r0)のノズルから基板に対してリンス液を供給することを考える。この時のノズルから吐出直後のリンス液の流速は概ね0.6m/sec(=vr0)になる。この速度を初速度としてリンス液が径方向に広がると考える。なお、周方向初速度は0m/sとする。これらの速度とプロセスに用いた回転速度ω、及びリンス液のレジスト膜に対する動摩擦係数μとリンス液の動粘度cを考慮して以下の手順で径に対するリンス液の周速度vθi、径方向速度vri、液の厚さtiを決定していく。リンス液供給直後の液厚T0は概ね
T0=1/60(L/s)×Δt/πr0
となる。
【0030】
手順1)微小時間Δt変化させたときのリンス液の位置ri+1を周速度vθi、径方向速度vriから算出する。
手順2)位置ri+1における周速度vθi+1と径方向速度vri+1を微小時間Δtと回転速度ωを用い、動摩擦係数μと動粘度cを考慮して算出する。
手順3)位置riにおける液厚Tiを、単位時間内Δtで供給されるリンス液体積に対して
Ti=T0×r0 2 / (ri+1 2−ri−1 2)×vr0/vri
として算出する。
手順4)手順1から手順3を、位置rp或いはウエハ外径に達するまで繰り返し算出する。
【0031】
以上の結果から、径方向位置が108mm以上の領域において、周速度9.05より速い場合にはリンス液が基板表面での滑り量が大きくなり欠陥を除去できなくなったと考えた。そこで本装置ではφ216mm以上の領域において、液厚を63μmより大、周速度9.05m/s未満に維持することように決定する(ステップS106,S108)。図5,図6に決定された回転速度、供給速度を示す。
【0032】
次に、実際の洗浄処理について説明する。
図1のユニットに主面上のレジストに対して露光された被処理基板を搬入する。そして図示されない現像液供給ノズルを被処理基板主面上で操作させて現像液膜を形成する。30秒ほど基板を静止させて静止現像を行った後、リンス液供給ノズルをノズル移動手段により被処理基板中心部に移動させてリンス液を供給しつつ、被処理基板を回転させる。
【0033】
リンス液供給ノズルは基板中心から外周部に向けて15秒かけて等速で移動させる。また、リンスノズルの径方向位置に対してリンス液供給量と基板回転速度をそれぞれ図5、6のように制御した。本実施形態では従来法で欠陥が除去できた範囲はリンス液供給速度を従来と同じ1L/minとし、基板回転速度も従来と同じ800rpmとした。従来法における欠陥発生領域では、リンス液のすべり量を抑えるために周速度が9.05m/s未満となるように制御し、基板回転速度は液厚63μmを維持するように、周速度の低下による液厚増加分を考慮しつつリンス液供給量を制御した。
【0034】
リンスを終えた後、基板を高速で回転してリンス液を除去、乾燥した。本実施形態でリンスした基板のパーティクル発生の状況を次に観察した。図7が被処理基板の平面図である。この図のとおり、パーティクルを生じさせること無く、リンスを行うことができた。
【0035】
本実施形態では、パーティクルが存在した位置から基板回転速度を増加させつつ、薬液供給量を低下させたがこれに限るものではない。ノズルを外周に向けて移動させ始めた段階で回転速度を減少させ始め、リンス液供給量を増加させはじめても良い。また、ノズルを等速で動かすのではなく、基板外周に向かうに従い徐々に速度を低下させてもよい。
【0036】
いずれの方式においても、リンス工程における被処理基板上の各点において、欠陥除去効率を維持しうる必要量の液膜厚になるようにリンス液供給ノズルからの薬液供給量を調整し、液の流速の欠陥除去効率を維持できなくなる速度未満に制御できれば、如何なる制御を行っても良い。欠陥除去効率の算出は本実施形態のように従来のプロセスで欠陥が残存する基板位置でのリンス液厚さと周速度を推定して定めると良い。また、周速度ではなく、周速度と径方向速度の合成速度と欠陥除去効率を基準にして、その合成速度が欠陥除去効率を維持できなくなる速度未満になるように制御してもよい。
また、中心から外周方向へのリンスノズルの移動を複数回行っても良いし、移動時間も本実施形態の15秒に限るのもではない。
【0037】
なお、本実施形態はリソグラフィーの現像工程の後の洗浄(リンス)工程に関するものであるが、適用例はこれに限るものではない。ウエットエッチングによる酸化膜や、窒化膜のエッチング後の洗浄においても、パーティクル量に着目して制御を行うことができる。また、レーザーアブレーションによる加工後のパーティクル洗浄除去においても同様に、残存ずるパーティクルの位置に着目して制御を行うことが可能である。
【0038】
(第2の実施形態)
本実施形態では上記課題を鑑み、リンス後の乾燥時においてパターン倒れを生じさせない回転乾燥方法を提供するものである。すなわち、基板中心から外周に向けた被処理基板主面の乾燥領域の広がりに応じて、被処理基板の回転速度を徐々に低下させるものである。
【0039】
ここでは、先ず第1の実施形態で用いた被処理基板を従来の手法を用いて乾燥させる。リンス工程の終了の後、被処理基板の回転速度を3000rpm(=ωd0)まで上げて20秒で基板を乾燥させた。このときには径60mm以上の領域でパターン倒れが観察された。径60mmの部分でのrdpωd0 2値(rdp:半径[m]、ωd0:回転速度[回転/秒])の値は150であった。径60mm以上の部分ではこの遠心力によりレジストパターンが基板外側に曲げられ、更にリンス液とレジストとの表面張力によりパターンが倒れたと考えた。そこで、レジストパターンが遠心力で基板外側に曲げられることのないように乾燥領域の境界で径方向に対する遠心力が大きくならないように徐々に小さくするように制御した。遠心力の指標としてはrωdr 2値を用いた。ここで、rとは乾燥領域の境界の径方向位置、ωdrとは径方向位置rにおける回転速度である。図8に乾燥領域の半径と回転速度との関係を示す。また、図9では、乾燥領域の半径部に存在する除去過程のリンス液に加わる遠心力の相対値をrωdr 2値に代表させて示す。図8、図9ともに破線は一定の回転速度(この場合は3000rpm)で乾燥させたときの値である。基板外周部でrωdr 2値が375に達していることがわかる。
【0040】
回転速度の制御は初期の回転速度に対して外周部の回転速度が低く制御されていて、パターン倒れが生じず、且つ、リンス液が除去できていれば如何なる制御を行ってもかまわない。つまり、乾燥領域の半径rがいかなる時でも、rωdr 2が、パターン倒れが生じた位置でのrdpωd0 2値である150を、超えないように回転速度ωdrを設定する。
【0041】
例えば、図8の実線では、(1)式に基づいて、径方向位置rにおける回転速度ωdr値を制御している。
【0042】
ωdr=ωd0×((R+α)2−r2)/(R+α)2 (1)
ここで、Rは被処理基板の半径、ωd0は回転乾燥開始時の初期値である。(1)式では、リンス液除去比率に応じて被処理基板の回転速度を変調するようにしている。
ここでαは飛びしろである。基板より外にリンス液を輸送する必要があるためと飛びしろα>0でなくてはならない。望ましくは被処理基板とカップ壁面との距離より若干小さくなるように設定すると、基板外に放出されたリンス液が壁面にあたって発生するミストを極力防ぐことができる。図8の関係では飛びしろα=50mmに設定した。式(1)の制御式によれば、初期回転速度が3000rpm,基板の半径が150mmの場合、被処理基板の最外周に乾燥領域が到達したときの基板回転速度は約1300rpmになり、rωdr 2値も基板全体で150以下(最大値=143)に抑えることができた。この条件でリンスを行った基板ではパターン倒れが全く観察されなかった。また、被処理基板に残留したリンス液も見られなかった。なお、rωdr 2値が150を超える場合、初速度を遅くする。
【0043】
(1)式について説明する。いま、半径Rの基板上に径rより外側に均一な厚さで液膜が存在しているとした場合にその液膜が占める面積Sは、
S=πR2−πr2 ・・・(式1−1)
になる。なお、液膜が基板全体にある場合には、
S0=πR2 ・・・(式1−2)
になる。(1)式は液膜量に比例するように角速度を決めた場合の式であるが、(1)式では液膜の形成を基板外αだけはみ出た仮想領域まで考えている。即ち基板中心からR+αまで液膜形成領域があるとして
(1−1)式,(1−2)式をそれぞれ
S=π(R+α)2−πr2 …(1−1’)
S0=π(R+α)2 …(1−2’)
とし
ωd0/S0=ωdr/S
という関係からωdrについて整理して、(1)式が導かれている。
【0044】
ところで、レジスト膜の表面の濡れ性が高く、リンス液除去に、本実施形態より強い遠心力が必要である場合には、rωdrの上限が150を超えず、かつrωdr 2値を高いレベルに保持したプロセスを行うのが好ましい。図8の一点鎖線は、この考えに基づいて行ったプロセスである。このプロセスでは、rωdr 2値が最大値の143に達した段階で、それより外側の領域でrωdr 2値がこの値を保持するように式(2)によりωdrを決定したものである。
【0045】
ωdr=(150/r)0.5 (2)
この時の被処理基板最外周部での回転速度は1800rpmとなり、リンス液に対して濡れ性の高いレジストに対してもリンス液を除去でき、且つ、パターン倒れも生じなかった。
【0046】
また、rωdr 2値が142になるrまでは一定の回転速度で乾燥させて、それより外の領域で式(2)に従いωdrを変更して制御しても良い。この時の乾燥領域の半径rに対するrωdr 2値を図10に示す。また、乾燥領域の半径rに対する回転速度ωdrを図11に示す。
【0047】
この様に、従来の回転速度一定ωcで処理した際に生じるパターン倒れの径方向最小値rdpに対するrdpωc 2値を超えないように、乾燥領域の境界r近傍で、rωdr 2値<rdpωc 2値となるように被処理基板の回転速度を制御することでパターン倒れがない乾燥を実現することが可能になる。
【0048】
なお、乾燥領域の境界の位置検出は、被処理基板主面情報にCCDカメラを設けて、回転乾燥を行っている際の干渉縞の変化を計測して行うと良い。乾燥を行っていくと、干渉縞が被処理基板中心から外周に向かってあたかも移動するように見える。乾燥の最終段階では干渉縞の間隔が徐々に広くなりはじめる。この干渉縞の位置を画像処理により認識させて、その結果を図1に示した被処理基板回転系にフィードバックすると良い。
【0049】
なお、干渉縞から残存するリンス液の液厚Trを計測し、液厚がレジスト膜の厚さTresに対してTres≦Tr≦10Tres 更に望ましくはTres≦Tr≦2Tresの範囲で制御を開始したところパターン倒れが無く、リンス液も残存しない良好な結果を得ることができた。
【0050】
先に述べた通りrω2値はレジスト膜、更にはレジスト膜の表面状態に大きく依存するが、発明者がKrF露光用レジスト、ArF露光用レジスト、F2露光用レジスト、EUV露光用レジスト、電子線露光用レジスト、など、種々レジストについてレジスト膜厚100〜400nmの範囲で試したところrdpωd0 2<150に設定して条件を定めることで概ねパターン倒れが生じなかった。
【0051】
なお、本発明は、上記各実施形態に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。更に、上記実施形態には種々の段階の発明が含まれており、開示される複数の構成要件における適宜な組み合わせにより種々の発明が抽出され得る。例えば、実施形態に示される全構成要件から幾つかの構成要件が削除されても、発明が解決しようとする課題の欄で述べた課題の少なくとも1つが解決でき、発明の効果の欄で述べられている効果の少なくとも1つが得られる場合には、この構成要件が削除された構成が発明として抽出され得る。
【0052】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、ノズルからの被処理基板への洗浄液の供給時、前記ノズルを該被処理基板の外周に向けて移動させ、前記ノズルが被処理基板の径方向位置r上方に位置する時の洗浄液の供給速度qr及び前記被処理基板の回転速度ωr、並びに前記ノズルが前記被処理基板略中心上方に位置する時の洗浄液供給量q0及び被処理基板の回転速度ω0が、qr>q0,ωr<ω0の関係にすることによって、被処理基板上に残るパーティクルの数を抑制することができる。
【0053】
また、回転による被処理基板の乾燥時、乾燥領域の半径rに応じて、該被処理基板の回転速度ωdrを小さくすることによって、レジストパターンの倒壊を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施形態に係わる基板洗浄装置の概略構成を示す図。
【図2】基板回転速度及びリンス液の供給速度の決定方法の手順を示す図。
【図3】従来の手法で洗浄した場合の基板表面に観察されたパーティクルの分布を示す平面図。
【図4】リンス液の液厚の分布を示す図。
【図5】第1の実施形態に係わる、リンス液供給ノズルの位置とリンス液の供給速度との関係を示す図。
【図6】第1の実施形態に係わる、リンス液供給ノズルの位置と回転速度との関係を示す図。
【図7】第1の実施形態に係わる手法で洗浄された被処理基板の状態を示す平面図。
【図8】第2の実施形態に係わる、乾燥領域の半径と回転速度との関係を示す図。
【図9】乾燥領域の境界に存在する除去過程のリンス液に加わる遠心力の相対値rωdr 2を示す図。
【図10】第2の実施形態に係わる、乾燥領域の境界に存在する除去過程のリンス液に加わる遠心力の相対値rωdr 2を示す図。
【図11】第2の実施形態に係わる、乾燥領域の半径と回転速度との関係を示す図。
【符号の説明】
101…ステージ,102…回転機構,103…リンス液供給ノズル,104…ノズル移動手段,105…アウターカップ,106…インナーカップ,110…コントローラ,111…回転機構制御部,112…リンス液供給速度制御部,113…ノズル移動手段制御部
Claims (13)
- 被処理基板を回転させる工程と、
前記被処理基板の略中心上方に配置されたノズルの供給口から、前記被処理基板主面上に洗浄液を供給する工程と、
前記ノズルを該被処理基板の外周に向けて移動させる工程とを含み、
前記ノズルが前記被処理基板略中心上方に位置する時の洗浄液供給量q0及び被処理基板の回転速度ω0、前記ノズルが被処理基板の所定の径方向位置rp上方に位置する時の洗浄液の供給速度qp及び前記被処理基板の回転速度ωp、並びに前記ノズルが被処理基板の任意の径方向位置r(>rp)上方に位置する時の洗浄液の供給速度qr及び前記被処理基板の回転速度ωrが
qr>qp≧q0,ωr<ωp≦ω0
の関係にあることを特徴とする基板洗浄方法。 - 一定の回転速度ω0で回転する該被処理基板の主面に対して、被処理基板の略中心から一定の供給速度q0で洗浄液を被処理基板主面に対して一定時間供給する工程と、
前記被処理基板を乾燥させる工程と、
被処理基板主面上に残存する、前記被処理基板の中心に近いパーティクルの径方向位置を計測する工程と、
計測された径方向位置を前記径方向位置rpとする工程と、
前記径方向位置rpにおける周速度vpを求める工程と、
前記ノズルが被処理基板の径方向位置rに位置する時の前記径方向位置rでの前記周速度vrが前記周速度vp未満になるように、前記回転速度ωrを決定する工程とを更に含むことを特徴とする請求項1記載の基板洗浄方法。 - 一定の回転速度ω0で回転する該被処理基板の主面に対して、被処理基板の略中心から一定の供給速度q0で洗浄液を被処理基板主面に対して一定時間供給する工程と、
前記被処理基板を乾燥させる工程と、
被処理基板主面上に残存する、前記被処理基板の中心に近いパーティクルの径方向位置を計測する工程と、
計測された径方向位置を前記径方向位置rpとする工程と、
前記径方向位置rpにおける洗浄液の液厚Tlpを予測する工程と、
前記ノズルが径方向位置rに位置する時の前記径方向位置rでの洗浄液の液厚Tlrが前記Tlpより大きくなるように、前記供給速度qrを決定する工程とを更に含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の基板洗浄方法。 - 前記被処理基板は、レジスト膜に対して現像液を供給して現像が行われた状態であり、
前記洗浄液の供給により現像液及び、該レジスト膜と現像液との反応物を洗浄除去することを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄方法。 - 前記被処理基板は、被処理基板主面上にエッチング液を供給して被加工膜がエッチングされた状態であり、
前記洗浄液の供給により、前記エッチング液及び前記被加工膜とエッチング液との反応物を洗浄除去することを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄方法。 - 前記被処理基板は、レーザーアブレーションにより被加工膜が選択除去された状態であり、
前記洗浄液の供給により、前記レーザーアブレーション時に生じた反応物を洗浄除去することを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄方法。 - レジストパターンが形成された被処理基板上に液体を供給する工程と、
前記被処理基板を初期速度ωd0で回転させて、前記被処理基板に乾燥領域を生成する工程と、
前記乾燥領域の半径rに応じて、該被処理基板の回転速度ωdrを小さくすることを特徴とする基板回転乾燥方法。 - 表面に液体が存在する被処理基板を一定の回転速度d0で回転させる工程と、
前記被処理基板の中心に近い、倒壊しているレジストパターンの径方向位置rdpを計測する工程と、
前記径方向位置rdpと回転速度ωd0に対して、
前記乾燥領域の半径rの時の回転速度ωdrが(rdp/r)0.5ωd0より小さくなるように、前記回転速度ωdrを決定する工程とを含むことを特徴とする請求項7記載の基板乾燥方法。 - 前記乾燥領域の半径がrの時の被処理基板の回転速度ωdrは、
該被処理基板の初期回転速度ωd0、被処理基板の半径R、定数α(>0)を用いて
ωdr=ωd0×((R+α)2−r2)/(R+α)2
として定めることを特徴とする請求項7記載の基板乾燥方法。 - 前記被処理基板の周囲にはカップが配置され、
前記αは被処理基板とカップ壁面との距離の間の値として決定することを特徴とする請求項9記載の基板乾燥方法。 - 前記被処理基板主面上方にされたカメラの取得画像から被処理基板上の液厚分布を干渉縞として計測する工程と、
前記計測された干渉縞から液厚を求める工程と、
求められた液厚が前記レジスト膜の膜厚Tresに対してTres≦Tlr≦2Tresの範囲である領域を乾燥領域として定めることを特徴とする請求項7記載の基板乾燥方法。 - 半導体基板を含む被処理基板に対して請求項1に記載の基板洗浄方法を用いて洗浄することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 半導体基板を含む被処理基板に対して請求項7に記載の基板乾燥方法を用いて、被処理基板上の液膜を除去乾燥することを特徴とする半導体装置の製造方法。
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