JP2005101497A - 現像方法 - Google Patents
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- G03D5/00—Liquid processing apparatus in which no immersion is effected; Washing apparatus in which no immersion is effected
Abstract
【解決手段】現像プロセスのために提供された反応空間中に露出フォトレジストを具えたウエファを配置し、ウエファの表面上に現像溶液をコーチングし、ウエファを回転し、ウエファの上下面を洗浄し、特定時間に亙りウエファの上面の洗浄を止め、下面は洗浄を続ける。また露出フォトレジストを具えたウエファをコーチング装置のチャック上に配置し、ウエファの表面上に現像溶液をコーチングし、ウエファを回転してコーチング装置を抜気してウエファと溝の外壁との間に水壁を形成し、ウエファの上下面をノズルにより洗浄し、特定時間に亙ってウエファの上面の洗浄を止めるとともに下面の洗浄は続け、これによりウエファの下面上に残っている汚れを除く。
【選択図】図2
Description
12:カップ
14:現像溶液ノズル
15:洗浄溶液ノズル
16:抜気通路
17:洗浄溶液ノズル
Claims (10)
- 現像プロセスのために提供された反応空間中に露出フォトレジストを具えたウエファを配置し、ウエファの表面上に現像溶液をコーチングし、ウエファを回転し、ウエファの上下面を洗浄し、特定時間に亙りウエファの上面の洗浄を止め、下面は洗浄を続けることを特徴とする現像方法。
- ウエファを回転するに際して、ウエファの回転速度を増加させることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- ウエファの回転と同時に反応空間を抜気することを特徴とする請求項1に記載の方法。
- ウエファの下面洗浄をウエファ下側に配置されたノズルにより行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- ウエファの下面に対するノズルの入射角が実質的に90度未満であることを特徴とする請求項4に記載の方法。
- ウエファの上面の洗浄を止め、下面は洗浄を続ける特定時間が少なくとも5秒であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- チャックとノズルと溝とを具えたコーチング装置に応用される現像方法であって、露出フォトレジストを具えたウエファをコーチング装置のチャック上に配置し、ウエファの表面上に現像溶液をコーチングし、ウエファを回転してコーチング装置を抜気してウエファと溝の外壁との間に水壁を形成し、ウエファの上下面をノズルにより洗浄し、特定時間に亙ってウエファの上面の洗浄を止めるとともに下面の洗浄は続け、これによりウエファの下面上に残っている汚れを除くことを特徴とする現像方法。
- ウエファを回転するに際して、ウエファの回転速度を増加させることを特徴とする請求項7に記載の方法。
- ウエファの下面に対するノズルの入射角が実質的に90度未満であることを特徴とする請求項7に記載の方法。
- ウエファの下面洗浄を続ける特定時間が少なくとも5秒であることを特徴とする請求項7に記載の方法。
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