JP2004319960A - 多層セラミックパッケージの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】内部回路パターンを精度良く形成することができるとともに、生産性を向上させることができる多層セラミックパッケージの製造方法を得る。
【解決手段】セラミックグリーンシート6上に内部回路パターンとなるべきペースト膜を形成した後、セラミックグリーンシート6を積み重ね、その後、セラミックグリーンシート6とペースト膜とを同時焼成する多層セラミックパッケージの製造方法において、表面にペースト膜のパターンと同形状の凹パターンが形成されたセラミックグリーンシート6を成形するシート成形工程と、凹パターン内にペースト7、9を充填するペースト充填工程とを有する。
【発明の効果】成形時の面外方向の収縮による内部電極パターンの変形に起因するパターン精度の低下を低減させることができ、内部回路パターンを精度良く形成することができるとともに、生産性を向上させることができ、さらに目視で位置精度を確認しながら作業することができる。
【選択図】図1
【解決手段】セラミックグリーンシート6上に内部回路パターンとなるべきペースト膜を形成した後、セラミックグリーンシート6を積み重ね、その後、セラミックグリーンシート6とペースト膜とを同時焼成する多層セラミックパッケージの製造方法において、表面にペースト膜のパターンと同形状の凹パターンが形成されたセラミックグリーンシート6を成形するシート成形工程と、凹パターン内にペースト7、9を充填するペースト充填工程とを有する。
【発明の効果】成形時の面外方向の収縮による内部電極パターンの変形に起因するパターン精度の低下を低減させることができ、内部回路パターンを精度良く形成することができるとともに、生産性を向上させることができ、さらに目視で位置精度を確認しながら作業することができる。
【選択図】図1
Description
この発明は、低温で焼結するセラミックグリーンシートと導体ペーストを同時焼成して製造する多層セラミックパッケージの製造方法に関するものである。
セラミックグリーンシートと導体ペーストを低温で同時焼成して多層パッケージを作製するLTCC(Low Temperature Co-fired Ceramic)プロセスにおいては、従来、グリーンシートの積層・加圧に伴う内部回路に発生する歪みを防ぐ目的で、グリーンシート裏面に、直下層グリーンシート表面パターンの凹パターンを刻印ローラにて刻印することが提案されている。
すなわち、セラミックグリーンシートの一方の主表面上に内部回路パターンとなるべき導体ペースト膜を形成する前に、この導体ペースト膜を形成する面と反対の表面に、セラミックグリーンシートが積層されたときに対面する他セラミックグリーンシート上に印刷された導体ペースト膜のパターンと同形状で、深さは印刷された導体ペースト膜のパターンにおける導体ペースト膜の乾燥厚さと等しい凹型を形成することが提案されている(例えば、特許文献1参照)。
すなわち、セラミックグリーンシートの一方の主表面上に内部回路パターンとなるべき導体ペースト膜を形成する前に、この導体ペースト膜を形成する面と反対の表面に、セラミックグリーンシートが積層されたときに対面する他セラミックグリーンシート上に印刷された導体ペースト膜のパターンと同形状で、深さは印刷された導体ペースト膜のパターンにおける導体ペースト膜の乾燥厚さと等しい凹型を形成することが提案されている(例えば、特許文献1参照)。
このような構成の従来の多層セラミックパッケージの製造方法においては、グリーンシート積層時に積層するグリーンシート裏面部の凹パターンと直下層グリーンシート表面パターンを精度良く位置合せをしないと逆にパターンを崩してしまうという問題点があった。そして、この位置合せ作業は、凹パターンがグリーンシートの裏面に形成されているので、目視で位置精度を確認しながら作業が出来ないという問題点もあった。
この発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、内部回路パターンを精度良く形成することができるとともに、生産性を向上させることができ、さらに目視で位置精度を確認しながら作業することができる多層セラミックパッケージの製造方法を得ることを目的とする。
この発明に係る多層セラミックパッケージの製造方法は、セラミックグリーンシート上に内部回路パターンとなるべきペースト膜を形成した後、セラミックグリーンシートを積み重ね、その後、セラミックグリーンシートとペースト膜とを同時焼成する多層セラミックパッケージの製造方法において、表面にペースト膜のパターンと同形状の凹パターンが形成されたセラミックグリーンシートを成形するシート成形工程と、凹パターンにペーストを充填するペースト充填工程とを有する。
この発明に係る多層セラミックパッケージの製造方法によれば、成形時の面外方向の収縮による内部電極パターンの変形に起因するパターン精度の低下を低減させることができ、内部回路パターンを精度良く形成することができるとともに、生産性を向上させることができ、さらに目視で位置精度を確認しながら作業することができる。
実施の形態1.
図1はこの発明の実施の形態1の多層セラミックパッケージの製造方法のシート成形工程に用いられるシート成形装置の概略の側面図である。図2は金属キャリアフィルムの一部の斜視図である。図1及び2において、シート成形工程に用いられるシート成形装置100は、無端ベルト状を成し50μmのステンレス製の金属キャリアフィルム1を有している。この金属キャリアフィルム1の表面には、図2に示されるように、エッチングによって凸パターン1aが形成されている。この凸パターン1aは、最終的に多層セラミックパッケージの内部に形成され内部電極の内部回路パターンと同じ形状のパターンとされている。帯状で無端状の金属キャリアフィルム1は、2つの駆動輪2a,2bに架け渡されて、両駆動輪2a,2bによってシート成型装置100内を循環する。
シート成型装置100の上部には、金属キャリアフィルム1に対向するようにダム4が配設されている。このダム4には、平均粒径で3μm以下に微粒化したアルミナ粉(AL−M41−01)・Al2O3、SiO2、B2O3、CaO、BaO、MgO、ZrO2からなる棚珪酸ガラス粉等の無機粉、結合材(PVB)・分散剤(トレオレイン)等の有機成分および溶剤(酢酸イソブチル)からなるスラリー3が、3000〜5000cpsの粘度に調整されて貯留されている。そして、このスラリー3は、ドクターブレード法によりダム4から、循環するキャリアフィルム1上に塗布される。
金属キャリアフィルム1上には、ダム4から循環方向に所定の距離移動した位置の乾燥ゾーンに、乾燥装置5が設けられている。乾燥装置5は、概略箱状の包囲体5aを有し、この包囲体5aの内部に熱風が対流している。スラリー3は、この包囲体5aの内部を通過することにより約80℃に熱せられて乾燥・固化し、セラミックグリーンシート6となる。
その後、セラミックグリーンシート6は、循環方向にさらに進んだ位置で図示しない剥離装置によって、金属キャリアフィルム1から取り外される。取り外されたセラミックグリーンシート6には凸パターン1aに対応した形の凹パターン6aが形成されており、巻き取りリール13に巻き取られる。セラミックグリーンシート6は、この後、所定の位置で裁断されて120mm角の複数枚のシートとなる。このようにして表面に凹パターン6aが刻印された多数枚のセラミックグリーンシート6(図3参照)が作製される。
一方、セラミックグリーンシート6が取り外された金属キャリアフィルム1は循環し、そのまま再使用される。従来一般的であったポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド等のプラスチックキャリアフィルムでは、再使用するためには、表面へのパターニングに際しては蒸着またはスパッタリングのような薄膜形成法が必要であり、蒸着工程の設備や工程数の増加、生産性が低いといった欠点がある。
これに対して、本実施の形態では、シート成形工程において、凸パターン1aが刻印された金属キャリアフィルム1を用いてセラミックグリーンシート6を形成するので、所望の凹パターン6aが刻印されたセラミックグリーンシート6を効率良く得ることができ、また、金属キャリアフィルム1は、セラミックグリーンシート6を取り外し、循環することによりそのまま再使用が可能である。
このような手順の多層セラミックパッケージの製造方法は、シート成形工程においては、導体ペースト膜のパターンと同形状の凸パターン1aが刻印された金属キャリアフィルム1を用いて、この金属キャリアフィルム1の凸パターン1aが転写されることによりセラミックグリーンシート6に凹パターン6aが形成される。そして、セラミックグリーンシート6が取り外された金属キャリアフィルム1は、そのまま再使用することが可能なので生産性が向上する。
また、シート成形工程においては、金属キャリアフィルム1上に軟化されたスラリー3が塗布され、このスラリー3が固化されてセラミックグリーンシート6が成形されるので、セラミックグリーンシート6の表面に容易に凹パターン6aを形成することができる。
図3はこの発明の多層セラミックパッケージの製造方法の導体ペースト充填工程を説明する工程図である。また、図4はこの発明の多層セラミックパッケージの製造方法の積層・成形工程を説明する多層セラミックパッケージの断面図である。図3において、導体ペースト充填工程では、セラミックグリーンシート6(120mm角)の凹パターン6a内に、導体ペースト7としてのAg−Pd導体がスクリーン印刷法により充填され、凹パターン6aと同じ平面形の導体ペースト膜7が形成され、セラミックグリーンシート6の表面と導体ペースト膜7の表面とはほぼ面一にされている。
続く積層・成形工程においては、図4に示されるようにAg−Pd導体ペースト膜7が充填されたセラミックグリーンシート6が9層積層され(図4では、省略して4層のみを示している)、さらにこれが図示しない静水圧プレスにて80℃、300kg/cm2の条件で加熱、圧着して積層体を得る。次にこの積層体を図示しない電気炉にて870℃にて焼成すると、各層が互いに一体的に焼結されて内部に導体パターン7aを持つ焼結体、すなわち多層セラミックパッケージ200が得られる。
このようにして得られた多層セラミックパッケージ200の最上層の導体パターン7aを顕微鏡観察したところパターン切れ、かすれ、にじみがなくパターンエッジが非常にシャープな高精細の寸法精度(パターン幅100μmに対し、パターンエッジ精度≦±5μm)が得られていることがわかった。
また、多層セラミックパッケージ200の断面を観察したところ導体パターン7aの断面形状は、金属キャリアフィルム1の凸パターン1aの矩形断面形状と同等なものであった。そして、一般的なプロセスによる焼結後のパターン断面に見られるような断面両端部が細くなって形成される楕円形状は見られなかった。このことは、焼結後のパターン端部でのデラミネーションやサーマルクラックの発生といったトラブルの発生要因と目されているパターン端縁近傍の残留ストレスが低減されていることを示唆している。
導体パターン7aの材料としては、セラミック積層電子部品の内部導体を構成するための耐酸化性のある導電性良好な金属であれば特に限定されるものではないが、例えば、Ag、Cu、Pd、Ni、Pt、Au等の金属もしくはこれらの合金等を用いることができる。
このような手順の多層セラミックパッケージの製造方法においては、表面に導体ペースト膜7のパターンと同形状の凹パターン6aが形成されたセラミックグリーンシート6を成形するシート成形工程と、この凹パターン6aに導体ペースト7を充填する導体ペースト充填工程とを有するので、成形時の面外方向の収縮による内部回路パターンの変形に起因するパターン精度の低下を低減させることができ、内部回路パターンを精度良く形成することができるとともに、目視で位置精度を確認しながら作業することができ、作業性が向上する。
実施の形態2.
図5はこの発明の実施の形態2の多層セラミックパッケージの製造方法の積層・成形工程を説明する多層セラミックパッケージの断面図である。図5において、上述のシート成形工程によって得られたグリーンシート10(120mm角)の凹パターン10a内に、抵抗体ペースト9としての酸化ルテニウムペーストをスクリーン印刷法にて充填する。そして、このグリーンシート10を、導体ペースト7が印刷された他のセラミックグリーンシート6とともに9層積層したのち(図5では、省略して3層のみを示している)、静水圧プレスにて80℃、300kg/cm2の条件で加熱、圧着して積層体を得る。そしてさらにこの積層体を電気炉にて870℃にて焼成し、内部に内蔵電子部品としてのパターン導体7aおよび抵抗体9aを持つ焼結体としての多層セラミックパッケージ201が作製される。
このようにして得られた多層セラミックパッケージ201の内部に形成された抵抗体の抵抗値を測定したところ値のバラツキが±8%であった。従来技術においては、内蔵抵抗は抵抗値のバラツキが一般に±20%と大きなものであり、これは主に焼結後の内蔵抵抗の寸法のバラツキに起因するものである。
本実施の形態により寸法精度が各段に改善され安定した抵抗体9aが得られることがわかった。尚、本実施の形態の内蔵化技術はコンデンサ、コイル、フィルタ等他の部品内蔵パッケージの製造にも適用可能である。すなわち、導体ペースト7に代わって本実施の形態のように抵抗体ペースト9或いは誘電体ペーストを凹パターン6aに充填することにより、抵抗体9aの他にコンデンサ、コイル、フィルタ等他の内蔵電子部品を内蔵するパッケージを製造することが可能である。このようにグリーンシート10の凹パターン部10aに抵抗体ペースト9や誘電体ペーストを充填し、積層、成形することにより成形時の面外方向の収縮による変形に起因する抵抗値や静電容量の精度の低下を低減させた部品内蔵パッケージを得ることができる。
実施の形態3.
図6はこの発明の実施の形態3の多層セラミックパッケージの製造方法の凹パターン印刷・導体印刷・積層工程を説明する工程図である。図6において、例えば平坦な金属キャリアベルト(図示してない)上にスラリー3を供給するなどの適当なシート成形工程によって形成し、切断して、平坦な表面を持つグリーンシート20(120mm角)を用意する。このグリーンシート20上に導体ペースト膜7のパターンと同形状の凹部である凹パターン20aを形成するために、凹パターン20aの陰画(ネガ)状のパターン層21をスラリー3を用いてスクリーン印刷法にて印刷する。このようにして凹パターン20aが形成されたグリーンシート20には、先に説明したのと同様に凹部である凹パターン20a内に導体ペースト7あるいは抵抗体ペースト9等を印刷により充填する。こうしてできたペースト7あるいは9が凹パターン20a内に充填されたグリーンシート20は、先に説明したのと同様に積層し、焼結して図7に示すように焼結体としての多層セラミックパッケージ202を作製する。
このようにして得られた多層セラミックパッケージ202の最上層の導体パターンを顕微鏡観察したところパターン切れ、かすれ、にじみがなくパターンエッジが非常にシャープな高精細の寸法精度(パターン幅100μmに対し、パターンエッジ精度≦±5μm)が得られていることがわかった。
この実施の形態によれば、金属キャリアフィルム1に凸パターン1aに形成するためにエッチング等の複雑な処理をする必要が無く、平坦な表面を持つキャリアを使用できる。また、平坦なグリーンシート20上に凹部パターン20aを形成するためのパターン層21の形成が印刷により行われるので、その後の導体ペースト7等の印刷工程と同等の一連の印刷工程として処理することもできる。
1 金属キャリアフィルム、1a 凸パターン、3 スラリー、6 セラミックグリーンシート、6a、20a 凹パターン、7 導体ペースト(ペースト膜)、7a 導体パターン、9 抵抗体ペースト、10、22 グリーンシート、21 パターン層、100 シート成形装置、200,201,202 多層セラミックパッケージ。
Claims (5)
- セラミックグリーンシート上に内部回路パターンとなるべきペースト膜を形成した後、前記セラミックグリーンシートを積み重ね、その後、前記セラミックグリーンシートと前記ペースト膜とを同時焼成して製造する多層セラミックパッケージの製造方法において、表面に前記ペースト膜のパターンと同形状の凹パターンが形成された前記セラミックグリーンシートを成形するシート成形工程と、前記凹パターンにペーストを充填するペースト充填工程とを有することを特徴とする多層セラミックパッケージの製造方法。
- 前記シート成形工程においては、前記金属キャリアフィルム上に軟化されたスラリーを塗布し、該スラリーを固化して前記セラミックグリーンシートを成形することを特徴とする請求項1に記載の多層セラミックパッケージの製造方法。
- 前記シート成形工程においては、前記ペースト膜のパターンと同形状の凸パターンが形成された金属キャリアフィルムを用いて、該金属キャリアフィルムの該凸パターンを転写することにより前記セラミックグリーンシートに前記凹パターンを形成することを特徴とする請求項1あるいは2に記載の多層セラミックパッケージの製造方法。
- 前記シート成形工程においては、前記ペースト膜のパターンと同形状の凹パターンを印刷することにより前記セラミックグリーンシートに前記凹パターンを形成することを特徴とする請求項1あるいは2に記載の多層セラミックパッケージの製造方法。
- 前記凹パターンは、内蔵電子部品となるべき電子部品用凹パターンを含み、前記ペースト充填工程においては、前記電子部品用凹パターンに、前記ペーストとして、抵抗体ペースト及び誘電体ペーストのいずれかを充填することを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の多層セラミックパッケージの製造方法。
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JP2003393902A JP2004319960A (ja) | 2003-04-01 | 2003-11-25 | 多層セラミックパッケージの製造方法 |
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JP2009132153A (ja) * | 2007-11-28 | 2009-06-18 | Samsung Electro Mech Co Ltd | 誘電体シート及び多層セラミック基板の製造方法 |
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2003
- 2003-11-25 JP JP2003393902A patent/JP2004319960A/ja active Pending
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