JP2004314429A - エンボス画像物及びエンボス画像物の製造方法 - Google Patents

Abstract

【目的】表面の異なる方向から互いに異なる画像が見えるエンボス画像物、及び、そのエンボス画像物の製造方法を提供する。
【構成】基版材１の表面に形成され、それぞれの平行線状凸部２とそれぞれの平行線状凹部３が互いに交互に位置する複数の平行線状凸部２と複数の平行線状凹部３と、前記平行線状凸部２又は前記平行線状凹部３に形成された第一画素部４と第二画素部５とを備え、前記第一画素部４は前記基版材１の第一側に向かって下傾斜する第一角度傾斜面４ａを有し、前記第二画素部５は前記基版材１の第二側に向かって下傾斜する第二角度傾斜面５ａを有し、前記第一画素部が集まって第一画像を形成し、第二画素部が集まって第二画像を形成するエンボス画像物。
【選択図】 図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、表面に凹凸により形成されたエンボス画像物、及び、そのエンボス画像物の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、表面に凹凸形状の画像を形成したエンボス画像物やエンボス成形品は公知である。また、エンボス版を使用して被成形物に押圧転写することにより、凹凸形状の画像を持つエンボス成形品を成形する成形方法が知られている。さらに、押圧転写用に使用されるエンボス版としては、平板形状版やロール形状版が知られている。このような従来の公知のエンボス画像物やエンボス成形品において、表面に形成された画像は、突出した凸部として形成された凸部画像、又は、凹部として形成された凹部画像であり、このような従来のエンボス画像は、成形物表面の全ての方向から同じ画像が見える。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
従来の公知のエンボス画像物は、表面の全ての方向から同じ画像が見えるが、しかしながら、異なる方向から互いに異なる画像が見えるエンボス画像物は知られていない。本発明は、表面の異なる方向から互いに異なる画像が見えるエンボス画像物、及び、そのエンボス画像物の製造方法を提供する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明のエンボス画像物は、基版材の表面に形成され、それぞれの平行線状凸部とそれぞれの平行線状凹部が互いに交互に位置する複数の平行線状凸部と複数の平行線状凹部と、前記平行線状凸部又は前記平行線状凹部に形成された第一画素部と第二画素部とを備え、前記第一画素部は前記基版材の第一側に向かって下傾斜する第一角度傾斜面を有し、前記第二画素部は前記基版材の第二側に向かって下傾斜する第二角度傾斜面を有し、前記第一画素部が集まって第一画像を形成し、前記第二画素部が集まって第二画像を形成し、前記第一側から前記第二画像のみが見え、前記第二側から前記第一画像のみが見える。前記第一側と前記第二側は互いに前記基版材の反対側に位置し、前記平行線状凸部と前記平行線状凹部は、前記第一側と前記第二側に平行に形成されている。
【０００５】
本発明のエンボス画像物の製造方法は、（ａ）腐食エッチングにより、金属基材の表面に、それぞれの平行線状凸部とそれぞれの平行線状凹部が互いに交互に位置する複数の平行線状凸部と複数の平行線状凹部と、前記平行線状凸部又は前記平行線状凹部に第一画素部と第二画素部とを形成するエッチング工程と、（ｂ）機械加工により、前記第一画素部の表面に、前記金属基材の第一側に向かって下傾斜する第一角度傾斜面を形成する機械加工工程と、（ｃ）機械加工により、前記第二画素部の表面に、前記金属基材の第二側に向かって下傾斜する第二角度傾斜面を形成する機械加工工程とを備え、前記第一画素部が集まって第一画像（４０）を形成し、前記第二画素部が集まって第二画像を形成する。
【０００６】
上記エンボス画像物及びその製造方法において、前記第一画素部と前記第二画素部が前記平行線状凹部に形成された構成において、前記第一画素部は前記複数の平行線状凸部のうちの所定の平行線状凸部から前記第一側に位置する平行線状凹部に向かって突出して形成され、前記第二画素部は前記複数の平行線状凸部のうちの所定の平行線状凸部から前記第二側に位置する平行線状凹部に向かって突出して形成される。
【０００７】
また、前記第一画素部と前記第二画素部が前記平行線状凸部に形成された構成において、前記第一画素部は前記複数の平行線状凹部のうちの所定の平行線状凹部から前記第二側に位置する平行線状凸部に向かって突出して形成され、前記第二画素部は前記複数の平行線状凹部のうちの所定の平行線状凹部から前記第一側に位置する平行線状凸部に向かって突出して形成される。
【０００８】
【作用】
本発明のエンボス画像物により、所定の見る角度により、異なる画像が見える視覚的に異方性を有する視覚チェンジング機能を持つ画像が得られる。また、表面に形成されたそれぞれの画像は鮮明である。
【０００９】
本発明のエンボス画像物の製造方法により、精密なエンボス画像物が容易に製造できる。特に、腐食エッチング工程の後に、機械加工により第一角度傾斜面と第二角度傾斜面を形成する方法により、第一画素部と第二画素部のそれぞれの角度傾斜面を精密に作成出来る。その結果、高い精度を持つ第一画像と第二画像が作成出来る。
【００１０】
【実施例】
以下に、本発明の典型的実施例を図面を使用して説明する。
【００１１】
典型的実施例１
図１の（イ）は本発明の一実施例のエンボス画像物の主要部を拡大した平面図であり、図１の（ロ）は本発明の一実施例のエンボス画像物の主要部を拡大した側面図であり、図２の（イ）は図１（イ）のＡ−Ａ線に沿った断面図であり、図２の（ロ）は図１（イ）のＢ−Ｂ線に沿った断面図である。図３の（イ）は本発明の一実施例のエンボス画像物に形成される第一画像であり、図３の（ロ）は第二画像であり、図３の（ハ）は第一画像と第二画像との合成画像である。図４は本発明の一実施例のエンボス画像物の寸法を示す拡大断面図である。
【００１２】
図１（イ）と図１（ロ）において、基版材１の表面に、複数平行線状凸部２と複数平行線状凹部３が基版材１の表面に形成されている。複数平行線状凸部２のそれぞれの凸部の上面は平面形状を有し、複数平行線状凹部３のそれぞれの凹部の底面は平面形状を有する。複数平行線状凸部２のうちの所定の平行線状凸部２の第一側に突出して、第一画素部４が形成されている。複数平行線状凸部２のうちの所定の平行線状凸部２の第二側に突出して、第二画素部５が形成されている。第一画素部４は、第一側に向かって下傾斜する第一角度傾斜面４ａを有し、第二画素部５は、第二側に向かって下傾斜する第二角度傾斜面５ａを有する。なお、第一側と第二側は、複数平行線状凸部２と複数平行線状凹部３の平行線に対して、互いに反対側に位置する。図３（イ）に示されるように、第一画素部４が集まって、第一画像４０が形成される。図３（ロ）に示されるように、第二画素部５が集まって、第二画像５０が形成される。すなわち、図３（ハ）に示されるような第一画像４０と第二画像５０が形成されている。このようにして、エンボス画像物１００が構成されている。平行線状凸部（２）の上面は平行線状凹部（３）の底面に対して略平行に位置する。
【００１３】
エンボス画像物１００を第一側から見た時、即ち、図２の（イ）の破線矢印の角度方向から見たとき、図３の（イ）に示すように、第一画素部４の第一角度傾斜面４ａが見え、その結果、第一画像４０のみが見える。この場合、第二画素部５の第二角度傾斜面５ａは平行線状凸部２に隠れて見えない。他方、第二角度傾斜面５エンボス画像物１００を第二側から見た時、即ち、図２の（ロ）の破線矢印の角度方向から見たとき、図３の（ロ）に示すように、第二画素部５の第二角度傾斜面５ａが見え、その結果、第二画像５０のみが見える。この場合、第一画素部４の第一角度傾斜面５ａは平行線状凸部２に隠れて見えない。エンボス画像物１００を上方向から見た時、図３の（ハ）に示すように、第一画像４０と第二画像５０の合成像が見える。
【００１４】
このように、本実施例においては、第一画素部４と第二画素部５が平行線状凹部３に形成されている。本実施例の構成により、所定の見る角度により、異なる画像が見える視覚的に異方性を有する視覚チェンジング機能を持つ画像が得られる。また、表面に形成されたそれぞれの画像は鮮明である。
【００１５】
これに対して、第一画素部４が第一角度傾斜面４ａを持たなく、また、第二画素部５が第二角度傾斜面５ａを持たない場合、被加工物表面の全ての方向から、第一成形画像４０と第二成形画像５０が見えてしまい、視覚的に異方性を有するチェンジング機能を持つ画像が得られない。
【００１６】
望ましくは、エンボス画像物１００は次の構成を有する。すなわち、複数平行線状凸部２は所定ピッチ（Ｐ）で形成され、複数平行線凹部３は所定ピッチで形成され、第一画素部４と第二画素部５のいずれか一つ又は双方が、所定の線状凸部２から突出して形成され、第一画素部４の突出長さ（Ｌ４）と第二画素部５の突出長さ（Ｌ５）は、それぞれの線状凹部の幅（Ｗ３）の半分長さよりも短い。この構成により、第一画素部４と第二画素部５とが互いに重なることが防止され、鮮明な画像が得られる。また、第一画像と第二画像の見え方が、著しく鮮明になる。
【００１７】
これに対して、それぞれの平行線状凸部の幅がそれぞれの平行線状凹部の幅よりも長く、前記第一画素部と第二画素部のそれぞれの突出長さがそれぞれの平行線状凹部の幅寸法の半分長さよりも長い場合、第一画素部と第二画素部とが互いに重なり、画像の鮮明性がやや劣る。
【００１８】
望ましくは、図１（ロ）に示されるように、第一画素部４は第一角度傾斜面４ａに連続して平行線状凸部２の上面に垂直な第一上垂直面４ｂを有し、第二画素部５は第二傾斜面５ａに連続して平行線状凸部２の上面に垂直な第二上垂直面５ｂを有する。この構成において、エンボス画像物１００を第一側から見た時、即ち、図２の（イ）の破線矢印の角度方向から見たとき、第一画素部４の第一角度傾斜面４ａと第一上垂直面４ｂが見え、その結果、図３の（イ）に示すような第一画像４０のみが見える。この場合、第二画素部５の第二角度傾斜面５ａと第二上垂直面５ｂは平行線状凸部２に隠れて見えない。他方、第二角度傾斜面５エンボス画像物１００を第二側から見た時、即ち、図２の（ロ）の破線矢印の角度方向から見たとき、第二画素部５の第二角度傾斜面５ａと第二上垂直面５ｂが見え、その結果、図３の（ロ）に示すような第二画像５０のみが見える。この場合、第一画素部４の第一角度傾斜面４ａと第一上垂直面４ｂは平行線状凸部２に隠れて見えない。この構成により、第一画像のみが見える角度がより広くなるとともに、第二画像のみが見える角度がより広くなる。特に、第一画像と第二画像とが重なった画像が見える視野角度が狭くなり、第一画像のみ及び第二画像のみが見える角度がより広くなる。
【００１９】
これに対して、第一上垂直面又は第二上垂直面を有しないエンボス画像物の場合、第一画像のみが見える角度がやや狭くなるとともに、第二画像のみが見える角度もやや狭くなる。
【００２０】
さらに望ましくは、それぞれの平行線状凸部２の幅（Ｗ２）は０．００５ｍｍから２．５ｍｍまでの範囲であり、特に望ましくは、０．０１ｍｍから１．０ｍｍまでの範囲である。それぞれの平行線状凸部２の高さ（Ｈ２）は０．００５ｍｍから１．０ｍｍまでの範囲であり、特に望ましくは、０．０１ｍｍから０．５ｍｍまでの範囲である。それぞれの平行線状凹部３の平行線状幅（Ｗ３）は０．００５ｍｍから２．５ｍｍまでの範囲であり、特に望ましくは、０．０５ｍｍから１ｍｍまでの範囲である。それぞれの第一画素部４の突出長さ（Ｌ４）と第二画素部５の突出長さ（Ｌ５）はそれぞれ０．００５ｍｍから１．２５ｍｍまでの範囲であり、特に望ましくは、０．０１ｍｍから１．０ｍｍまでの範囲である。この構成により、エンボス画像物１００において、著しく微細な画像が鮮明に得られる。これに対して、平行線状凸部２の幅（Ｗ２）が２．５ｍｍを越え、平行線状凹部３の幅（Ｗ３）が２．５ｍｍを越え、第一画素部４の突出長さ（Ｌ４）と第二画素部５の突出長さ（Ｌ５）が１．２５ｍｍを越える場合、エンボス画像物の画像の鮮明度がやや粗くなる。また、平行線状凸部２の幅（Ｗ２）が０．００５ｍｍ未満であり、平行線状凹部３の幅（Ｗ３）が０．００５ｍｍ未満であり、第一画素部４の突出長さ（Ｌ４）と第二画素部５の突出長さ（Ｌ５）が０．００５ｍｍ未満である場合、加工方法として特別な精密加工を必要とし、そのために高価になる。
【００２１】
さらに望ましくは、第一角度傾斜面４ａの傾斜角（Ｘ）と第二角度傾斜面５ａの傾斜角（Ｙ）は、基版材１の表面に対して、５度から８５度までの範囲の傾斜角を有する。すなわち、それぞれの傾斜面４ａ、５ａは、それぞれの平行線状凸部２の上表面及びそれぞれの平行線状凹部３の底面に対して、５度から８５度までの範囲の傾斜角を有する。この構成により、エンボス画像物において、第一側から見える第二画像と第二側から見える第一画像との見える角度が切り替わるチェンジング視角の切換角度が明瞭になる。
【００２２】
これに対して、第一角度傾斜面と第二角度傾斜面の傾斜角が上記の範囲外のエンボス画像物の場合、第一画像と第二画像との見える角度が切替わるチェンジング視角の切換角度が狭くなる。
【００２３】
本実施例のエンボス画像物１００において、それぞれの平行線状凸部２の幅（Ｗ２）は０．０５ｍｍであり、それぞれの平行線状凸部２の高さ（Ｈ２）は０．０５ｍｍであり、それぞれの平行線状凹部３の平行線状幅（Ｗ３）は０．２５ｍｍであり、それぞれの第一画素部４の突出長さ（Ｌ４）は０．１ｍｍであり、それぞれの第二画素部５の突出長さ（Ｌ５）は０．１ｍｍであり、それぞれの第一画素部４の第一上垂直面４ｂの高さ（Ｈ４）は約０．０２ｍｍであり、それぞれの第二画素部５の第二上垂直面５ｂの高さ（Ｈ５）は約０．０２ｍｍである。それぞれの平行線状凸部２のピッチ（Ｐ）は０．３ｍｍである。第一角度傾斜面４ａの傾斜角（Ｘ）は、平行線状凸部２の上表面と平行線状凹部３の底面に対して約１５度であり、第二角度傾斜面５ａの傾斜角（Ｙ）は約１５度である。なお、本実施例における図１から図４において、それぞれの構成要素の寸法精度や縦横の寸法比は概略を示すものであり、正確な寸法精度、寸法比率を示す物ではない。
【００２４】
基版材１としては、特に限定されないが、例えば、金属版やプラスチック版などが使用できる。金属版としては、真鍮版、銅版、マグネシウム版、アルミニウム版、又は、鉄鋼版等が使用される。プラスチック版としては、ベークライト（ポリフェノール樹脂）版などの熱硬化性樹脂版やナイロン（ポリアミド樹脂）版などが使用される。基版材１としては、真鍮版、銅版、マグネシウム版が特に望ましく、この場合、腐食エッチング工程と精密切削加工工程との製造方法により、安価に容易にエンボス版を作成することが可能になり、また、微細な画像を高精度で安価に加工することが可能になる。その結果、より微細なエンボス画像が鮮 明に得られる。腐食エッチングが困難な材質の場合、機械加工により製造できる。
【００２５】
第一画像、第二画像、第一成形画像、及び第二成形画像としては、特に限定されなく、例えば、文字、数字、絵柄、図、図形、写真、商標、記号などの任意の画像が形成される。
【００２６】
なお、本実施例のエンボス画像物は、例えば、（１）腐食エッチング加工と精密機械加工による角度傾斜面の加工とによる製造、又は、（２）彫版工具として数値制御機械を使用した加工、又は、（３）彫版工具としてレーザビームを使用した加工、又は、（４）腐食エッチング加工、精密機械加工、数値制御機械加工、レーザビーム加工のうちの所定の加工を組み合わせた複数加工などにより製造される。
【００２７】
また、本実施例のエンボス画像物は、例えば、エンボス版を使用して、被加工物表面に押圧転写する方法によっても製造される。この場合、被加工物としては、特に限定されなく、エンボス版により押圧されることにより凹凸加工可能な材料が使用され、例えば、プラスチック、樹脂、紙、金属箔、軟質金属、ラミネートフィルム又はこれらの組合せ材料などが使用される。
【００２８】
典型的実施例２
本発明のエンボス画像物の他の典型的実施例を説明する図が図５と図６に示される。図５の（イ）は本発明の一実施例のエンボス画像物の主要部を拡大した平面図であり、図５の（ロ）は（イ）の側面図である。図６の（イ）は図５（イ）のＣ−Ｃ線に沿った断面図であり、図６の（ロ）は図５（イ）のＤ−Ｄ線に沿った断面図である。本典型的実施例２のエンボス画像物が典型的実施例１のエンボス画像物と比べて異なる点は、第一画素部４は第一側に向かって傾斜する第一角度傾斜面４ａと第一角度傾斜面４ａに連続して平行線状凹部３の底面に垂直な第一下垂直面４ｃを有し、また、第二画素部５は第二側に向かって傾斜する第二角度傾斜面５ａと第二角度傾斜面５ａに連続して平行線状凹部３の底面に垂直な第二下垂直面５ｃを有する点である。すなわち、本典型的実施例のエンボス画像物においては、典型的実施例１に記載の第一上垂直面４ｂと第二上垂直面５ｂは形成されていない。その他の構成は、典型的実施例１で説明した構成と同じである。このような構成により、典型的実施例１のエンポス画像物と同じ作用効果が得られる。特に、エンボス画像物１００を第一側から見たとき、即ち、図６の（イ）の破線矢印の角度方向から見たとき、第一画素部４の第一角度傾斜面４ａと第一下垂直面４ｃが見え、その結果、第一画像４０のみが見える。この場合、第二画素部５の第二角度傾斜面５ａと第二下垂直面５ｃは平行線状凸部２に隠れて見えない。他方、エンボス画像物１００を第二側から見た時、即ち、図６の（ロ）の破線矢印の角度方向から見たとき、第二画素部５の第二角度傾斜面５ａと第二下垂直面５ｃが見え、その結果、第二画像５０のみが見える。この場合、第一画素部４の第一角度傾斜面５ａと第一下垂直面４ｃは平行線状凸部２に隠れて見えない。特に、第一画像のみが見える角度がより広くなるとともに、第二画像のみが見える角度がより広くなる。
【００２９】
これに対して、第一下垂直面４ｃ又は第二下垂直面５ｃを有しないエンボス画像物の場合、第一画像のみが見える角度がやや狭くなり、第二画像のみが見える角度がやや狭くなる。
【００３０】
典型的実施例３
本発明のエンボス画像物の他の典型的実施例を説明する図が図７と図８に示される。図７の（イ）は本発明の一実施例のエンボス画像物の主要部を拡大した平面図であり、図７の（ロ）は（イ）の側面図である。図８の（イ）は図７（イ）のＥ−Ｅ線に沿った断面図であり、図８の（ロ）は図７（イ）のＦ−Ｆ線に沿った断面図である。本典型的実施例３のエンボス画像物が典型的実施例１のエンボス画像物と比べて異なる点は、典型的実施例１に記載の第一上垂直面４ｂと第二上垂直面５ｂは形成されていない。すなわち、第一画素部４は第一側に向かって傾斜する第一角度傾斜面４ａのみを有し、また、第二画素部５は第二側に向かって傾斜する第二角度傾斜面５ａのみを有する点である。すなわち、本典型的実施例のエンボス画像物においては、典型的実施例１に記載の第一上垂直面４ｂと第二上垂直面５ｂは形成されていなく、典型的実施例２に記載の第一下垂直面４ｃと第二下垂直面５ｃは形成されていない。その他の構成は、典型的実施例１で説明した構成と同じである。このような構成により、典型的実施例１のエンポス画像物と同じ作用効果が得られる。特に、エンボス画像物１００を第一側から見たとき、即ち、図８の（イ）の破線矢印の角度方向から見たとき、第一画素部４の第一角度傾斜面４ａが見え、その結果、第一画像４０のみが見える。この場合、第二画素部５の第二角度傾斜面５ａは平行線状凸部２に隠れて見えない。他方、エンボス画像物１００を第二側から見た時、即ち、図８の（ロ）の破線矢印の角度方向から見たとき、第二画素部５の第二角度傾斜面５ａが見え、その結果、第二画像５０のみが見える。この場合、第一画素部４の第一角度傾斜面５ａは平行線状凸部２に隠れて見えない。
【００３１】
典型的実施例４
本典型的実施例４のエンボス画像物が典型的実施例１のエンボス画像物と比べて異なる点は、第一画素部４は、第一側に向かって傾斜する第一角度傾斜面４ａと、第一角度傾斜面４ａに連続して平行線状凸部２の上面に垂直な第一上垂直面４ｂと、第一角度傾斜面４ａに連続して平行線状凹部３の底面に垂直な第一下垂直面４ｃを有し、また、第二画素部５は、第二側に向かって傾斜する第二角度傾斜面５ａと、第二角度傾斜面５ａに連続して平行線状凸部２の上面に垂直な第二上垂直面５ｂと、第二角度傾斜面５ａに連続して平行線状凹部３の底面に垂直な第二下垂直面５ｃを有する点である。すなわち、それぞれの画素部は角度傾斜面に連続して上垂直面と下垂直面とを有する。その他の構成は、典型的実施例１で説明した構成と同じである。このような構成により、典型的実施例１のエンポス画像物と同じ作用効果が得られる。
【００３２】
典型的実施例５
本発明のエンボス画像物の他の典型的実施例を説明する図が図９と図１０に示される。図９の（イ）は本発明の一実施例のエンボス画像物の主要部を拡大した平面図であり、図９の（ロ）は（イ）の側面図である。図１０の（イ）は図９（イ）のＧ−Ｇ線に沿った断面図であり、図１０の（ロ）は図９（イ）のＨ−Ｈ線に沿った断面図である。本典型的実施例５のエンボス画像物が典型的実施例１のエンボス画像物と比べて異なる点は、第一画素部４のみが第一側に形成され、第二画素部が形成されていないことである。すなわち、それぞれの平行線状凸部２の第一側に第一画素部４が形成され、第一画素部４は、第一側に向かって傾斜する第一角度傾斜面４ａと、第一角度傾斜面４ａに連続して平行線状凸部２の上面に垂直な第一上垂直面４ａを有する。それぞれの平行線状凸部２の第二側には何も形成されていなく、平行線状凸部２の第二側は、平行線状凹部３に向かって垂直面を有するのみである。第一画素部４の突出長さは特に限定されることなく、任意の長さが設定できる。その他の構成は、典型的実施例１で説明した構成と同じである。このような構成により、エンボス画像物１００を第一側から見たとき、即ち、図１０の（イ）の破線矢印の角度方向から見たとき、第一画素部４の第一角度傾斜面４ａと第一上垂直面４ｂが見え、その結果、第一画像４０のみが見える。他方、エンボス画像物１００を第二側から見た時、即ち、図１０の（ロ）の破線矢印の角度方向から見たとき、第一画素部４はそれぞれの平行線状凸部２に隠れて見えなくなる。その結果、何の画像も見えない。このように、本典型的実施例の構成により、見る方向により、画像が見えたり、見えなくなったりする画像が得られる。
【００３３】
本典型的実施例において、第一画素部４は第一角度傾斜面と第一上垂直面とを有する構成を説明したが、これに限定されることなく、例えば、第一画素部４が第一角度傾斜面と第一下垂直面を有する構成、又は、第一画素部４が第一角度傾斜面と第一上垂直面と第一下垂直面とを有する構成、又は、第一画素部４が第一角度傾斜面のみを有する構成なども実施可能である。これらの場合にも、上記と同じ作用効果が得られる。
【００３４】
典型的実施例６
典型的実施例１において、第一画素部により第一画像を形成し、第二画素部により第二画像を形成する構成を説明したが、本典型的実施例６において、３つ以上の画像を形成する実施例を説明する。すなわち、典型的実施例１と異なる点は、平行線状凸部の第一側に第三画素部を形成し、第二側に第四画素部を形成する。第３画素部が集まって第三画像を形成し、第四画像が集まって第四画像を形成する。第３画素部は、第一角度傾斜面と異なる傾斜角を持つ第３角度傾斜面を有し、第４画素部は、第二角度傾斜面と異なる傾斜角を持つ第４角度傾斜面を有する。その他の構成は典型的実施例１の構成と同じである。この構成により、第一側の所定角度から第一画像のみが見え、第一側の異なる所定角度から第三画像のみが見え、第二側の所定角度から第二画像のみが見え、第二側の異なる所定角度から第四画像のみが見える。このように、３つ以上の画像を有するエンボスカ画像物も実施できる。
【００３５】
典型的実施例７
本発明のエンボス画像物の他の典型的実施例を説明する図が図１１と図１２に示される。図１１の（イ）は本発明の一実施例のエンボス画像物の主要部を拡大した平面図であり、図１１の（ロ）は（イ）の側面図である。図１２の（イ）は図１１（イ）のＪ−Ｊ線に沿った断面図であり、図１２の（ロ）は図１１（イ）のＫ−Ｋ線に沿った断面図である。本典型的実施例６のエンボス画像物が典型的実施例１のエンボス画像物と比べて異なる点は、第一画素部４と第二画素部５が平行線状凸部２に形成されている点である。
【００３６】
図１１（イ）と図１１（ロ）において、基版材１の表面に、複数平行線状凸部２と複数平行線状凹部３が基版材１の表面に形成されている。複数平行線状凸部２のそれぞれの凸部の上面は平面形状を有し、複数平行線状凹部３のそれぞれの凹部の底面は平面形状を有する。第一画素部４は複数の平行線状凹部３のうちの所定の平行線状凹部３から第二側に位置する平行線状凸部２に向かって突出して形成されている。第二画素部５は複数の平行線状凹部３のうちの所定平行線状凹部３から第一側に位置する平行線状凸部２に向かって突出して形成されている。ここで、第一側と第二側は平行線状凸部２と凹部３の平行線に対して互いに反対側に位置する。第一画素部４は、第一側に向かって下傾斜する第一角度傾斜面４ａを有し、第二画素部５は、第二側に向かって下傾斜する第二角度傾斜面５ａを有する。ここで、典型的実施例１で説明した図３（イ）と同じように、第一画素部４が集まって、第一画像４０が形成される。図３（ロ）と同じように、第二画素部５が集まって、第二画像５０が形成される。すなわち、図３（ハ）に示されるような第一画像４０と第二画像５０が形成されている。このようにして、エンボス画像物１００が構成されている。平行線状凸部２の上面は平行線状凹部３の底面に対して略平行に位置する。
【００３７】
エンボス画像物１００を第二側から見た時、即ち、図１２の（イ）の破線矢印の角度方向から見たとき、図１２の（イ）に示すように、第二画素部５の第二角度傾斜面５ａが見え、その結果、第二画像５０のみが見える。この場合、第一画素部４の第一角度傾斜面４ａは平行線状凸部２に隠れて見えない。他方、エンボス画像物１００を第一側から見た時、即ち、図１２の（ロ）の破線矢印の角度方向から見たとき、図１２の（ロ）に示すように、第一画素部４の第一角度傾斜面４ａが見え、その結果、第一画像４０のみが見える。この場合、第二画素部５の第二角度傾斜面５ａは平行線状凸部２に隠れて見えない。エンボス画像物１００を上方向から見た時、図３の（ハ）と同じく、第一画像４０と第二画像５０の合成像が見える。
【００３８】
このように、本典型的実施例においては、第一画素部４と第二画素部５が平行線状凸部２に形成されている。本実施例の構成により、所定の見る角度により、異なる画像が見える視覚的に異方性を有する視覚チェンジング機能を持つ画像が得られる。また、表面に形成されたそれぞれの画像は鮮明である。
【００３９】
これに対して、第一画素部４が第一角度傾斜面４ａを持たなく、また、第二画素部５が第二角度傾斜面５）を持たない場合、被加工物表面の全ての方向から、第一成形画像４０と第二成形画像５０が見えてしまい、視覚的に異方性を有するチェンジング機能を持つ画像が得られない。
【００４０】
本典型的実施例において、第一画素部４と第二画素部５は第一上垂直面４ｂと第二上垂直面５ｂを有する構成であるが、これに限定されることなく、典型的実施例２から典型的実施例６で説明したような構成を有する実施例も使用可能である。すなわち、典型的実施例２で説明したような、第一画素部４が第一角度傾斜面４ａと第一下垂直面４ｃを有し、第二画素部５が第二角度傾斜面５ａと第二下垂直面５ｃを有する構成も使用できる。又、典型的実施例３で説明したような、第一画素部４が第一角度傾斜面４ａのみを有し、第一上垂直面４ｂと第一下垂直面４ｃを持たなく、第二画素部５が第二角度傾斜面５ａのみを有し、第二上垂直面５ｂと第二下垂直面５ｃを持たない構成も使用できる。又、典型的実施例４で説明したような、第一画素部４が第一角度傾斜面４ａと第一上垂直面４ｂと第一下垂直面４ｃを有し、第二画素部５が第二角度傾斜面５ａと第二上垂直面５ｂと第二下垂直面５ｃを有する構成も使用できる。また、典型的実施例５で説明したような、第一画素部４のみが第一側に形成され、第二画素部が形成されないような構成も使用できる。典型的実施例６で説明したような、３つ以上の画像を形成した構成も使用できる。このようなそれぞれの構成においても、典型的実施例２から典型的実施例６で説明した効果と同じ効果が得られる。
【００４１】
典型的実施例８
本発明の一実施例のエンボス画像物の製造方法を示す工程図を図１３に示す。本典型的実施例８においては、典型的実施例２で説明したエンボス画像物を製造するための製造方法について説明する。本典型的実施例のエンボス画像物の製造方法は、腐食エッチングによるエッチング工程と、機械加工装置による角度傾斜面の機械加工工程とを併用する。図１３において、まず、腐食エッチング工程について説明する。金属基版材と、その基版材を腐食エッチングするためのフィルムマスクとを準備する。フィルムマスクは通常の公知の方法により作成される。例えば、手作業による作図、又は、コンピューターによる作図などにより、所定の平面図を有するフィルムマスクを作成する。他方、基版材の表面にレジストを塗布する。つぎに、フィルムマスクを介してレジスト塗膜を感光し、焼き付ける。その後、感光していない箇所のレジストを水又は溶剤を用いて除去することにより、レジストを現像する。このようにして、基版材の表面に、露出面と所定の平面図を有するレジスト硬化膜とを形成する。その後、エッチング液を使用して、基版材を腐食エッチングする。この場合、レジスト硬化膜がマスクとして作用して、基版材の露出面のみが腐食エッチングされ、レジスト硬化膜により覆われた基版部は腐食エッチングされない。腐食エッチングの深さは、エッチング時間、エッチング回数、エッチング液濃度などにより制御される。その後、レジスト硬化膜を除去する。このようにして、金属基材の表面に、複数平行線状凸部と、複数平行線状凹部と、その複数平行線状凸部のうちの所定の凸部の第一側に突出して形成された第一画素部と、その複数平行線状凸部のうちの所定の凸部の第二側に突出して形成された第二画素部とを形成する。
【００４２】
つぎに、機械加工工程について説明する。前述の腐食エッチング工程により作成された所定の腐食エッチング面形状を有する基版材の第一画素部の表面に、機械加工装置を使用して、平行線状凸部から第一側に向かって下傾斜する第一角度傾斜面を形成し、さらに、第二画素部の表面に、線状凸部から第二側に向かって下傾斜する第二角度傾斜面を形成する。この場合、第一角度傾斜面と第二角度傾斜面とを同時に切削加工することもできる。
【００４３】
ここで、第一画素部が集まって第一画像を形成し、第二画素部が集まって第二画像を形成する。
【００４４】
このようにして、典型的実施例２で説明したような第一画像と第二画像とを有するエンボス版が製造される。これにより、精密なエンボス版が容易に製造できる。特に、腐食エッチング工程の後に、機械加工により第一角度傾斜面と第二角度傾斜面を形成する方法により、第一画素部と第二画素部のそれぞれの角度傾斜面を精密に作成出来る。その結果、高い精度を持つ第一成形画像と第二成形画像が作成出来る。また、第一角度傾斜面と第二角度傾斜面の加工精度が著しく向上し、優れた加工精度を有するエンボス画像物が安価に製造できる。
【００４５】
本典型的実施例のエンボス画像物の製造方法において、望ましくは、さらに、機械加工により、前記複数平行線状凸部と前記複数平行線状凹部と前記第一突出部と前記第二突出部と前記第一角度傾斜面と前記第二角度傾斜面のうちの少なくとも一つを仕上げ加工する仕上加工工程を備える。これにより、さらに高い寸法精度を有するエンボス版が作成出来る。
【００４６】
本典型的実施例８において、基版材としては特に限定されなく、例えば、真鍮材や銅材が使用される。レジストとしてはネガ型レジストが使用されたが、これに限定されることなく、ポジ型レジストも使用できる。腐食エッチング液としては、基版材に応じて最適な腐食エッチング液が使用され、例えば、基版材が真鍮材や銅材のとき、腐食エッチング液としては、塩化第二鉄液が使用される。また、機械加工としては、例えば、倣い研削装置が使用される。特に、倣い研削装置を使用することにより、角度傾斜面や凹部、突出部の優れた機械加工精度を持つエンボス版が安価に製造できる。
【００４７】
本典型的実施例８は、典型的実施例２で説明したエンボス画像物の製造方法を説明したが、これに限定されることなく、典型的実施例１及び典型的実施例３から７に説明したようなエンボス画像物についても、本典型的実施例８と同じように、エッチング工程による工程と、機械加工工程による傾斜面の加工工程とを別々に加工する製造方法も実施可能である。これらの製造法によっても、典型的実施例８と同じ様な効果が得られる。
【００４８】
【発明の効果】
本発明のエンボス画像物により、鮮明な画像が得られる。また、第一画素部と第二画素部との双方の画素部を備えた構成において、被加工物表面の第一側からは第一画像のみが見え、被加工物の第二側からは第二画像のみが見える。このように見る角度により、異なる画像が見える。
【００４９】
さらに、凸部、凹部、突出部、角度傾斜面の寸法を制御することにより、第一画素部と第二画素部とが互いに重なることが防止され、また、第一画像のみが見える角度がより広くなり、又、第二画像のみが見える角度がより広くなる。
【００５０】
また、第一画素部のみが形成され、第二画素部が形成されない構成において、被加工物表面の第一側からは第一画像が見え、被加工物の第二側からは何の画像も見えなくなる。このように見る角度により、画像が見えたり見えなくなったりする。
【００５１】
本発明のエンボス画像物の製造方法により、第一角度傾斜面と第二角度傾斜面の加工精度が著しく向上し、優れた加工精度を有するエンボス版が安価に製造できる。その結果、第一画像と第二画像が鮮明に見える。
【図面の簡単な説明】
【図１】（イ）は本発明の一実施例のエンボス画像物の主要部を拡大した平面図であり、（ロ）は本発明の一実施例のエンボス画像物の主要部を拡大した側面図である。
【図２】（イ）は図１（イ）のＡ−Ａ線に沿った断面図であり、（ロ）は図１（イ）のＢ−Ｂ線に沿った断面図である。
【図３】（イ）は本発明の一実施例のエンボス画像物に形成される第一画像であり、（ロ）は第二画像であり、（ハ）は第一画像と第二画像との合成画像である。
【図４】本発明の一実施例のエンボス画像物の寸法を示す拡大断面図である。
【図５】（イ）は本発明の他の実施例のエンボス画像物の主要部を拡大した平面図であり、（ロ）はその主要部の拡大した側面図である。
【図６】（イ）は図５（イ）のＣ−Ｃ線に沿った断面図であり、（ロ）はＤ−Ｄ線に沿った断面図である。
【図７】（イ）は本発明の他の実施例のエンボス画像物の主要部を拡大した平面図であり、（ロ）はその主要部の拡大した側面図である。
【図８】（イ）は図７（イ）のＥ−Ｅ線に沿った断面図であり、（ロ）はＦ−Ｆ線に沿った断面図である。
【図９】（イ）は本発明の他の実施例のエンボス画像物の主要部を拡大した平面図であり、（ロ）はその主要部の拡大した側面図である。
【図１０】（イ）は図９（イ）のＧ−Ｇ線に沿った断面図であり、（ロ）はＨ−Ｈ線に沿った断面図である。
【図１１】（イ）は本発明の他の実施例のエンボス画像物の主要部を拡大した平面図であり、（ロ）はその主要部の拡大した側面図である。
【図１２】（イ）は図１０（イ）のＪ−Ｊ線に沿った断面図であり、（ロ）はＫ−Ｋ線に沿った断面図である。
【図１３】本発明の一実施例のエンボス画像物の製造方法を示す工程図である。
【符号の説明】
１ 基版材
２ 平行線状凸部
３ 平行線状凹部
４ 第一画素部
４ａ 第一角度傾斜面
４ｂ 第一上垂直面
４ｃ 第一下垂直面
５ 第二画素部
５ａ 第二角度傾斜面
５ｂ 第二上垂直面
５ｃ 第二下垂直面
４０ 第一画像
５０ 第二画像
１００ エンボス画像物
Ｗ２ 平行線状凸部の幅
Ｗ３ 平行線状凹部の幅
Ｌ４ 第一画素部の突出長さ
Ｌ５ 第二画素部の突出長さ
Ｈ２ 平行線状凸部の高さ
Ｈ４ 第一画素部の第一上垂直面の高さ
Ｈ５ 第二画素部の第二上垂直面の高さ
Ｐ 平行線状凸部のピッチ
Ｘ 第一角度傾斜面の傾斜角
Ｙ 第二角度傾斜面の傾斜角

Claims (14)

1. 基版材（１）の表面に形成され、それぞれの平行線状凸部（２）とそれぞれの平行線状凹部（３）が互いに交互に位置する複数の平行線状凸部（２）と複数の平行線状凹部（３）と、前記平行線状凸部（２）又は前記平行線状凹部（３）に形成された第一画素部（４）と第二画素部（５）とを備え、前記第一画素部（４）は前記基版材（１）の第一側に向かって下傾斜する第一角度傾斜面（４ａ）を有し、前記第二画素部（５）は前記基版（１）の第二側に向かって下傾斜する第二角度傾斜面（５ａ）を有し、前記第一側と前記第二側は互いに前記基版材（１）の反対側に位置し、前記平行線状凸部（２）と前記平行線状凹部（３）は、前記第一側と前記第二側に平行に形成され、前記第一画素部（４）が集まって第一画像（４０）を形成し、前記第二画素部（５）が集まって第二画像（５０）を形成し、前記第一側から前記第一画像（４０）のみが見え、前記第二側から前記第二画像（５０）のみが見えるエンボス画像物。
2. 前記第一画素部（４）と前記第二画素部（５）は前記平行線状凹部（３）に形成され、前記第一画素部（４）は前記複数の平行線状凸部（２）のうちの所定の平行線状凸部（２）から前記第一側に位置する平行線状凹部（３）に向かって突出して形成され、前記第二画素部（５）は前記複数の平行線状凸部（２）のうちの所定の平行線状凸部（２）から前記第二側に位置する平行線状凹部（３）に向かって突出して形成されていることを特徴とする請求項１記載のエンボス画像物。
3. 前記第一画素部（４）と前記第二画素部（５）は前記平行線状凸部（２）に形成され、前記第一画素部（４）は前記複数の平行線状凹部（３）のうちの所定の平行線状凹部（３）から前記第二側に位置する平行線状凸部（２）に向かって突出して形成され、前記第二画素部（５）は前記複数の平行線状凹部（３）のうちの所定の平行線状凹部（３）から前記第一側に位置する平行線状凸部（２）に向かって突出して形成されていることを特徴とする請求項１記載のエンボス画像物。
4. 前記それぞれの平行線状凸部（２）と平行線状凹部（３）は所定ピッチで形成され、前記それぞれの平行線状凸部（２）の上面は平面形状を有し、前記それぞれの平行線状凹部（３）の底面は平面形状を有し、前記第一画素部（４）と前記第二画素部（５）のいずれか一つ又は双方が、前記複数平行線状凸部（２）のうちの所定の平行線状凸部（２）から突出して形成され、前記第一画素部（４）と第二画素部（５）のそれぞれの突出長さは、それぞれの平行線状凹部（３）の幅寸法の半分長さよりも短いことを特徴とする請求項２記載のエンボス画像物。
5. 前記それぞれの平行線状凸部（２）と平行線状凹部（３）は所定ピッチで形成され、前記それぞれの平行線状凸部（２）の上面は平面形状を有し、前記それぞれの平行線状凹部（３）の底面は平面形状を有し、前記第一画素部（４）と前記第二画素部（５）のいずれか一つ又は双方が、前記複数平行線状凹部（３）のうちの所定の平行線状凹部（３）から突出して形成され、前記第一画素部（４）と第二画素部（５）のそれぞれの突出長さは、それぞれの平行線状凸部（２）の幅寸法の半分長さよりも短いことを特徴とする請求項３記載のエンボス画像物。
6. 前記第一画素部（４）は前記平行線状凸部（２）の上面に連続して前記上面に垂直な第一上垂直面（４ｂ）を有し、前記第一角度傾斜面（４ａ）は前記第一上面（４ｂ）に連続して形成され、前記第二画素部（５）は前記平行線状凸部（２）の上面に連続して前記上面に垂直な第二上垂直面（５ｂ）を有し、前記第二傾斜面（５ａ）は前記第二上面（５ｂ）に連続して形成されている請求項１、２、３、４又は５記載のエンボス画像物。
7. 前記第一画素部（４）は前記第一角度傾斜面（４ａ）に連続して前記平行線状凹部（３）の底面に対して垂直な第一下垂直面（４ｃ）を有し、前記第二画素部（５）は前記第二角度傾斜面（５ａ）に連続して前記平行線状凹部（３）の底面に対して垂直な第二下垂直面（５ｃ）を有する請求項１，２、３，４、５又は６記載のエンボス画像物。
8. 前記第一角度傾斜面（４ａ）と前記第二角度傾斜面（５ａ）は、前記基版材（１）の表面に対して、５度から８５度までの範囲の傾斜角を有する請求項１、２，３、４、５、６又は７記載のエンボス画像物。
9. 機械加工により形成された請求項１、２、３、４、５、６、７又は８記載のエンボス画像物。
10. 押圧転写により製造された請求項１、２、３、４、５、６、７又は８記載のエンボス画像物。
11. （ａ）腐食エッチングにより、金属基材の表面に、それぞれの平行線状凸部（２）とそれぞれの平行線状凹部（３）が互いに交互に位置する複数の平行線状凸部（２）と複数の平行線状凹部（３）と、前記平行線状凸部（２）又は前記平行線状凹部（３）に第一画素部（４）と第二画素部（５）とを形成するエッチング工程と、（ｂ）機械加工により、前記第一画素部（４）の表面に、前記金属基材の第一側に向かって下傾斜する第一角度傾斜面（４ａ）を形成する機械加工工程と、（ｃ）機械加工により、前記第二画素部（５）の表面に、前記金属基材の第二側に向かって下傾斜する第二角度傾斜面（５ａ）を形成する機械加工工程とを備え、前記第一画素部（４）が集まって第一画像（４０）を形成し、前記第二画素部（５）が集まって第二画像（５０）を形成するエンボス画像物の製造方法。
12. さらに、（ｄ）機械加工により、前記複数平行線状凸部（２）と前記複数平行線状凹部（３）と前記第一画素部（４）と前記第二画素部（５）と前記第一角度傾斜面（４ａ）と前記第二角度傾斜面（５ａ）のうちの少なくとも一つを仕上げ加工する仕上げ機械加工工程を備えた請求項１１記載のエンボス画像物の製造方法。
13. 前記第一画素部（４）と前記第二画素部（５）は前記平行線状凹部（３）に形成され、前記第一画素部（４）は前記複数の平行線状凸部（２）のうちの所定の平行線状凸部（２）から前記第一側に位置する平行線状凹部（３）に向かって突出して形成され、前記第二画素部（５）は前記複数の平行線状凸部（２）のうちの所定の平行線状凸部（２）から前記第二側に位置する平行線状凹部（３）に向かって突出して形成されることを特徴とする請求項１１又は１２記載のエンボス画像物の製造方法。
14. 前記第一画素部（４）と前記第二画素部（５）は前記平行線状凸部（２）に形成され、前記第一画素部（４）は前記複数の平行線状凹部（３）のうちの所定の平行線状凹部（３）から前記第二側に位置する平行線状凸部（２）に向かって突出して形成され、前記第二画素部（５）は前記複数の平行線状凹部（３）のうちの所定の平行線状凹部（３）から前記第一側に位置する平行線状凸部（２）に向かって突出して形成されることを特徴とする請求項１１又は１２記載のエンボス画像物の製造方法。

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