JP2004311256A

JP2004311256A - 常圧プラズマ処理装置

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Publication number: JP2004311256A
Application number: JP2003104380A
Authority: JP
Inventors: Masaki Iwasaki; 政樹岩崎; Kenzo Sano; 佐野　　健三
Original assignee: Sekisui Chemical Co Ltd
Current assignee: Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date: 2003-04-08
Filing date: 2003-04-08
Publication date: 2004-11-04
Anticipated expiration: 2023-04-08
Also published as: JP4189255B2

Abstract

【課題】処理ガスの吹出し流にまわりの雰囲気が巻き込まれて処理空間に流入するのを防止可能な常圧プラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】常圧プラズマ処理装置Ｍ１は、処理ガスを上側電極ユニット１０の手前側の傍らの吹出し孔１６ｃから処理空間１ａへ向けて吹出す。また、ワーク送り機構５０によって、板状のワークＷを水平姿勢で処理空間１ａへ向けて送る。送り機構５０には、ワークの移動平面より下側の空間ｓ１の雰囲気を上記処理ガスの吹出し流から縁切りする縁切り部材５３が設けられている。
【選択図】図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、一対の電極間に板状のワークを通してプラズマ表面処理を行なう装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、特許文献１に記載の装置は、板状ワークを一対の電極間に通しながら表面処理を行なうようになっている。
特許文献２に記載の装置は、ワークの送り方向に沿って一方の電極の手前側の傍らから処理ガスを電極間のプラズマ処理空間に向けて吹出すようになっている。
【０００３】
【特許文献１】
特開２００３−３１５５０号公報（第１頁）
【特許文献２】
特開２００２−９４２２１号公報（第１頁）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
処理ガスを一方の電極の傍らから電極間のプラズマ処理空間に向けて吹出す装置で板状ワークを処理する場合、ワークが処理空間に未だ入っていない時に、まわりの雰囲気が処理ガスの吹出し流に巻き込まれて処理空間に入る可能性がある。そうすると、良好な表面処理の妨げとなる。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記問題点を解決するために、本発明の第１態様は、間に略常圧（大気圧近傍の圧力）のプラズマ処理空間を形成する一対の電極ユニットと、板状のワークを上記電極ユニットどうしの対向方向と直交する姿勢で上記プラズマ処理空間へ向けて送るワーク送り機構と、処理ガスを一方の電極ユニットの一側部の傍らから上記処理空間に向けて吹出す処理ガス吹出し手段とを備えたプラズマ処理装置であって、上記ワーク送り機構には、上記ワークの移動する平面より他方の電極ユニット側の雰囲気を上記処理ガスの吹出し流から縁切りする縁切り部材が設けられていることを特徴とする。
これによって、ワーク移動平面より他方の電極ユニット側の雰囲気が処理ガスの吹出し流に巻き込まれて処理空間に流入するのを防止することができ、良好なプラズマ表面処理を行うことができる。
【０００６】
また、本発明の第２態様は、間に略常圧（大気圧近傍の圧力）のプラズマ処理空間を形成する上下一対の電極ユニットと、板状のワークを水平姿勢で上記プラズマ処理空間へ向けて送るワーク送り機構と、処理ガスを上側（一方）の電極ユニットの上記送り方向に沿う手前側の傍らから上記処理空間に向けて吹出す処理ガス吹出し手段とを備えたプラズマ処理装置であって、上記ワーク送り機構には、上記ワークの移動する水平面より下側の雰囲気を上記処理ガスの吹出し流から縁切りする縁切り部材が設けられていることを特徴とする。
これによって、ワーク移動平面より下側の雰囲気が処理ガスの吹出し流に巻き込まれて処理空間に流入するのを防止することができる。しかも、板状ワークの送り方向とガスの流れ方向とを一致させることができ、ワークの搬送でガス流が乱れたりワークの幅方向（送り方向と直交する方向）に沿ってガス状態が不均一になったりするのを防止でき、処理ムラを確実に防止できる。この結果、プラズマ表面処理を一層確実に良好に行なうことができる。
【０００７】
上記第１、第２態様において、上記縁切り部材は、上記ワーク移動平面に沿うように配された板状をなし、その端面が、他方（第２態様においては下側）の電極ユニットの側面に突き当てられていることが望ましい。
これによって、板状ワークと縁切り部材に沿って案内できるとともに、上記雰囲気の巻き込みを確実に防止でき、プラズマ表面処理を確実に良好に行うことができる。
【０００８】
上記第２態様において、上記縁切り部材は、上記ワーク移動平面に下から沿うように配された板状をなし、その端面が、下側（他方）の電極ユニットの手前側の面に突き当てられており、上記ワーク送り機構が、上記縁切り部材の下側に回転軸を配したコロを有し、このコロが、上記縁切り部材に形成された挿通孔を介して上に僅かに突出されていることが望ましい。
これによって、板状ワークと縁切り部材に沿って案内できるとともに、縁切り部材の下側からは勿論、縁切り部材とワークとの間からも処理ガス流への巻き込みが起きないようにすることができ、プラズマ表面処理を確実に良好に行うことができる。
【０００９】
上記処理ガス吹出し手段と縁切り部材との間の空間における上記処理空間に連なる端部と直交する両端部には、そこを塞ぐ閉塞部材が、処理ガス吹出し手段と縁切り部材とに挟まれるようにして設けられていることが望ましい。
これによって、処理ガス吹出し手段と縁切り部材との間の両端部より外側の雰囲気についても処理ガスの吹出し流に巻き込まれて処理空間に流入するのを防止でき、良好なプラズマ表面処理を一層確実に行うことができる。
【００１０】
上記処理ガス吹出し手段を挟んで上記一方の電極ユニットとは逆側（第２態様においては処理ガス吹出し手段の手前側）に、カーテンガスの吹出し手段が設けられ、上記縁切り部材が、上記カーテンガスの吹出し軸を横切っていることが望ましい。
これによって、上記逆側の雰囲気についても処理ガス流に巻き込まれて処理空間に流入するのを防止でき、良好なプラズマ表面処理を一層確実に行うことができる。
【００１１】
本発明における略常圧とは、１．３３３×１０^４〜１０．６６４×１０^４Ｐａの範囲を言う。中でも、９．３３１×１０^４〜１０．３９７×１０^４Ｐａの範囲は、圧力調整が容易で装置構成が簡便になり、好ましい。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態を図面にしたがって説明する。
図１は、例えば液晶パネル用の石英ガラスなどの板状物をワークＷ（被処理物）とし、これを例えばプラズマ洗浄するための常圧プラズマ処理装置Ｍ１を示したものである。常圧プラズマ処理装置Ｍ１は、一対の電極ユニット１０，２０と、ガス源３０，３１と、電界印加手段４０と、ワーク送り機構５０とを備えている。電界印加手段４０によって電極ユニット１０，２０間に例えばパルス状の電界が印加される。これによって、グロー放電が起き、電極ユニット１０，２０間が常圧プラズマ空間１ａとなる。このプラズマ空間１ａにガス源１０の処理ガスが導入されてプラズマ化されるとともに、送り機構５０によってワークＷが送られて来、常圧下でプラズマ洗浄（プラズマ処理）が行なわれることになる。
【００１３】
常圧プラズマ処理装置Ｍ１の電極構造について説明する。
図１および図２に示すように、装置Ｍ１の電極ユニット１０，２０は、上下に一対をなす平行平板電極構造をなしている。上側の電極ユニット１０（一方の電極）の電極本体１１には、上記電界印加手段４０に接続され、下側の電極ユニット２０（他方の電極）の電極本体２１は、アース線４１を介して接地されている。これによって、上側が電界印加電極（ホット電極）となり、下側が接地電極（アース電極）となっている。なお、この極性は、上下逆になっていてもよい。
【００１４】
上側の電極ユニット１０について詳述する。
図１〜図３に示すように、ユニット１０は、上記電極本体１１と、この電極本体１１を保持するホルダ１２と、誘電体板１３とを有している。上側電極本体１１は、ステンレスやアルミニウム等の導電金属で構成され、断面四角形状をなして左右（図１において紙面と直交する方向）に長く延びている。
【００１５】
電極本体１１の内部には、１条の冷媒通路１１ａと、２条の吸引路１１ｂが形成されている。なお、これら路１１ａ，１１ｂの数は、上記に限定されるものではないことは言うまでもない。冷媒通路１１ａには、電極本体１１を温調するための冷媒（例えば水）が通されるようになっている。各吸引路１１ｂは、電極本体１１の長手方向に沿って延びるヘッダ路１１ｃと、このヘッダ路１１ｃから分岐された多数の吸引孔１１ｄとを有している。ヘッダ路１１ｃの一端部は、吸引管６１を介して真空吸引ポンプ６０に接続されている。吸引孔１１ｄは、ヘッダ路１１ｃの長さ方向に沿って等間隔置きに配されている。各吸引路１１ｄは、ヘッダ路１１ｃから下方に延び、電極本体１１の下面へ達している。
【００１６】
上側電極の固体誘電体層としての誘電体板１３は、電極本体１１とは別体のセラミックや石英ガラス等の誘電体によって構成され、左右に細長い平板状をなしている。この誘電体板１３が、電極本体１１の下面に宛がわれるとともに、その左右両端部が下側電極ユニット２０に誘電スペーサ２９を介して支持されている。この誘電体板１３によって、電極本体１１からのアーク放電が防止されるようになっている。誘電体板１３は、電極本体１１の下面より大きな面積を有し、その周縁部が、電極本体１１の周縁から大きく突出されている。これによって、アーク放電を確実に防止できるようになっている。真空ポンプ６０を駆動すると、吸引路１１ｂが真空引きされ、誘電体板１３が電極本体１１の下面に吸着されるようになっている。これによって、誘電体板１３の左右両側部だけでなく、中央側においても電極本体１１に密着させて隙間が空かないようにすることができ、電極本体１１と誘電体板１３との間でアークが発生するのを確実に防止することができる。
【００１７】
上側電極のホルダ１２は、絶縁性樹脂で構成され、左右に細長い容器状をなしている。詳述すると、ホルダ１２の下面には、本体収容凹部１２ａが形成され、この凹部１２ａに電極本体１１が収容されている。凹部１２ａの周縁には、浅い凹部１２ｂが形成されている。この凹部１２ｂに、誘電体板１３の本体１１周縁部からの突出部分が収容されている。
【００１８】
次に、下側の電極ユニット２０について詳述する。
図１、図２、図４に示すように、ユニット２０は、上記の電極本体２１と、この電極本体２１を保持するホルダ２２と、誘電体板２３とを有している。下側電極本体２１は、ステンレスやアルミニウム等の導電金属で構成され、断面四角形状をなして上側の本体１１と同方向（左右）に長く延びている。
【００１９】
電極本体２１の内部には、１条の冷媒通路２１ａと、２条の吸引路２１ｂが形成されている。勿論、これら路２１ａ，２１ｂの数は任意である。冷媒通路２１ａには、水などの温調用冷媒が通されるようになっている。各吸引路２１ｂは、電極本体２１の長手方向に沿って延びるヘッダ路２１ｃと、このヘッダ路２１ｃから分岐された多数の吸引孔２１ｄとを有している。ヘッダ路２１ｃの一端部は、吸引管６２を介して上記真空ポンプ６０に接続されている。吸引孔２１ｄは、ヘッダ路２１ｃの長さ方向に沿って等間隔置きに配されている。これら吸引路２１ｄは、ヘッダ路２１ｃから上方に延び、電極本体２１の上面へ達している。
【００２０】
下側電極の固体誘電体層としての誘電体板２３は、電極本体２１とは別体のセラミックや石英ガラス等の誘電体によって構成され、左右に細長い平板状をなしている。誘電体板２３は、電極本体２１の上面より大きな面積を有し、その周縁部が、電極本体２１の周縁から大きく突出されている。この誘電体板２３が、電極本体２１の上面に宛がわれている。真空ポンプ６０を駆動すると、吸引路２１ｂが真空引きされ、誘電体板２３が電極本体２１の下面に吸着されるようになっている。これによって、アーク放電を確実に防止できるようになっているのは、上側電極と同様である。
【００２１】
下側電極のホルダ２２は、絶縁性樹脂で構成され、左右に細長い容器状をなしている。詳述すると、ホルダ２２の上面には、本体収容凹部２２ａが形成され、この凹部２２ａに電極本体２１が収容されている。凹部２２ａの周縁には、浅い凹部２２ｂが形成されている。この凹部２２ｂに、誘電体板２３の周縁部分が収容されている。
【００２２】
常圧プラズマ処理装置Ｍ１における電極支持構造を説明する。
装置Ｍ１のベースＢに下側電極ユニット２０が支持されている。この下側電極ユニット２０に上側電極ユニット１０が支持されている。詳述すると、図２、図４、図５に示すように、下側の電極ホルダ２２の左右両端部には、嵌合凸部２２ｘ（受け部）が上に突出するようにして形成されている。一方、図２、図３、図５に示すように、上側の電極ホルダ１２の左右両端部には、段差１２ｃが形成されるとともに、この段差１２ｃと面一の下面を有するサイドプレート１５が宛がわれている。この段差１２ｃとサイドプレート１５の中間部とによって、上側電極ユニット１０の嵌合凹部１０ｘ（被受け部）が構成されている。この嵌合凹部１０ｘに嵌合凸部２２ｘが嵌め込まれるようにして、上側電極ユニット１０の両端部が、下側電極ユニット２０上に位置決め状態で載置されている。これによって、上側電極ユニット１０の位置決め固定の容易化が図られている。
なお、下側電極のホルダ２２と上側電極のサイドプレート１５とは、垂直サイドプレート２５によって連結されている。
【００２３】
上記位置決め載置状態で、上下の電極ユニット１０（具体的には上下の誘電体板１３，２３）の長手方向の中間部どうしの間には、薄く左右に細長い隙間が形成されている。この隙間が、上記プラズマ処理空間１ａとなっている。図１に示すように、この空間１ａの前後の縁は、開口されている。空間１ａの手前側（図１において左側）の開口が、ワークＷの挿入口および処理ガスの流入口となり、向こう側（図１において右側）の開口が、ワークＷの送出口および処理済みのガスの排出口となっている。
【００２４】
次に、プラズマ処理空間１ａへのガス導入構造について説明する。
図１および図３に示すように、上側電極ユニット１０には、ガス吹出し・吸込みユニット１６，１７が一体化されている。すなわち、上側電極ユニット１０の手前側には、ガス吹出しユニット１６が当接され、向こう側には、吸込みユニット１７が当接されている。一方、図３に示すように、上記左右一対のサイドプレート１５は、水平をなして、上側電極ユニット１０の前後に延出されている。そして、これら水平サイドプレート１５の手前側への延出部分にガス吹出しユニット１６が連結されて支持され、向こう側（後側）への延出部分に吸込みユニット１７が連結されて支持されている。これによって、吹出しユニット１６と吸込みユニット１７が、上側電極ユニット１０を介して下側電極ユニット２０に支持されている。
【００２５】
ガス吹出しユニット１６には、処理ガス導入路１６ｘ（処理ガス吹出し手段）と、カーテンガス導入路１６ｙ（カーテンガス吹出し手段）とが形成されている。処理ガス導入路１６ｘは、上記処理ガス源３０に処理ガス供給管３２を介して連なる受容れポート１６ａと、このポート１６ａに連なるとともに左右に長いチャンバー１６ｂと、このチャンバー１６ｂの略全長域にわたって等間隔置きに配された多数の吹出し孔１６ｃとを有している。吹出し孔１６ｃは、チャンバー１６ｂから後方のプラズマ処理空間１ａへ向けて斜め下に延び、吹出しユニット１６の電極ユニット１０寄りの下面（一方の電極の手前側（一側部）の傍ら）に開口している。これによって、処理ガス源３０の処理ガスが、ポート１６ａを経てチャンバー１６ｂで左右長手方向に均一化された後、吹出し孔１６ｃから斜め下後方へ吹出され、プラズマ処理空間１ａに導入されるようになっている。
なお、吹出し孔１６ｃは、チャンバー１６ｂの略全長域にわたるスリット状をなしていてもよい。後述する吹出し孔１６ｆおよび吸込み孔１７ｃにおいても同様である。
【００２６】
ガス吹出しユニット１６の内部において処理ガス導入路１６ｘの手前側に上記カーテンガス導入路１６ｙが配されている。カーテンガス導入路１６ｙは、上記カーテンガス源３１にカーテンガス供給管３３を介して連なる受容れポート１６ｄと、このポート１６ｄに連なるとともに左右に長いチャンバー１６ｅと、このチャンバー１６ｅの略全長域にわたって等間隔置きに配された多数の吹出し孔１６ｆとを有している。吹出し孔１６ｆは、チャンバー１６ｂからまっすぐ下に延び、上記処理ガスの吹出し孔１６ｃより手前側のユニット１６下面に開口している。これによって、ガス源３１のカーテンガスが、ポート１６ｄを経てチャンバー１６ｅで左右長手方向に均一化された後、吹出し孔１６ｆから下方へ吹出されるようになっている。
なお、カーテンガスには、窒素などの不活性ガスを用いるのが望ましい。処理ガスとして窒素などを用いる場合には、２つのガス源３０，３１に共通の単一ガス源を設け、この単一ガス源から各導入路１６ｘ、１６ｙに分配されるようにしてもよい。
【００２７】
吸込みユニット１７には、ガス吸込み路１７ｘが形成されている。ガス吸込み路１７ｘは、上記ガス導入路１６ｘを前後に反転させた形状をなしている。すなわち、ガス吸込み路１７ｘは、吸込みユニット１７の電極ユニット１０寄りの下面（一方の電極の向こう側（他側部）の傍ら）から斜めに延びる吸込み孔１７ｃと、左右に長いチャンバー１７ｂと、排出ポート１７ａとを有し、この排出ポート１７ａが、排気管６４を介して排気ポンプ６５に連ねられている。排気ポンプ６５の駆動によって、空間１ａの処理済みのガスが、吸込み路１７ｘを経て排出されるようになっている。
なお、ポンプ６５は、上記誘電体板１３，２３の吸着用ポンプ６０と共通の真空吸引ポンプを用いることにしてもよい。
【００２８】
次に、ワーク送り機構５０について説明する。
図１および図４に示すように、ワーク送り機構５０は、下側電極ユニット２０の手前側（ガス吹出しユニット１６の下側）に設けられた左右一対のフレーム５５と、これらフレーム５５間に水平に架け渡されるとともに互いに前後に離間配置された複数の軸部材５１（回転軸）と、各軸部材５１の長手方向に離れて複数配置されたコロ５２とを有している。板状ワークＷは、これらコロ５２の上に水平に置かれ、コロ５２の回転によって処理空間１ａへ向けて水平に送られるようになっている。
なお、同様の送り機構が、下側電極ユニット２０の向こう側（後側）にも設けられ、ワークＷを水平姿勢を維持したままで処理空間１ａから排出できるようになっている。
【００２９】
ワーク送り機構５０の下側部、すなわちワークＷの水平移動平面より下側であって下側電極ユニット２０の手前側は、空間ｓ１になっている。ワーク送り機構５０は、この空間ｓ１の雰囲気を処理ガス流から隔てる縁切り構造になっている。
詳述すると、ワーク送り機構５０の左右のフレーム５５には、縁切り板５３（縁切り部材）が水平に架け渡されている。縁切り板５３の電極ユニット側の端面（後端面）は、下側電極ユニット２０のホルダ２２の手前側の側面に突き当てられている。縁切り板５３の上面は、下側電極ユニット２０の上面と略面一をなしている。
【００３０】
さらに、縁切り板５３の電極ユニットとは逆側の端面（前端面）は、ガス吹出しユニット１６より突出されている。これによって、縁切り板５３が、吹出し孔１６ｆから真下へ向かうカーテンガスの吹出し軸ｇ１を横切っている。
なお、ワーク送り機構５０の軸部材５１およびコロ５２は、縁切り板５３より手前にも延々と配置されている。
【００３１】
縁切り板５３には、前後に細長い挿通孔５３ａが複数、分散して形成されている。各孔５３ａにコロ５２が通されている。これらコロ５２が、縁切り板５３の上面から僅かに突出されている。これによって、コロ５２上のワークＷと縁切り板５３の上面との間の隙間が可及的に小さく設定されている。すなわち、縁切り板５３は、ワークＷの移動する水平面に下側から可及的に近接して配されている。
【００３２】
さらに、ガス吹出しユニット１６と縁切り板５３との間に形成された空間の左右両端部（処理空間１ａ）に連なる端部と直交する両端部）には、閉塞部材５４が、ガス吹出しユニット１６と縁切り部材５３とに挟まれるようにして設けられている。閉塞部材５４は、ガス吹出しユニット１６の前後方向の全長に及んでいる。これによって、該空間の左右両端部が、閉塞部材５４によって塞がれている。
【００３３】
作用を説明する。
常圧プラズマ処理装置Ｍ１において、ワークＷは、縁切り板５３から僅かに浮いた状態で処理空間１ａへ向けて送られる。処理空間１ａには、ワークＷが未だ入って来ていない段階から処理ガスが導入されている。この処理ガスの吹出し孔１６ｃからの吹出し流は、縁切り板５３によって、ワーク送り機構５０の下側部空間ｓ１から縁切りされている。特に縁切り板５３は下側電極ユニット２０に突き当てられているため、縁切りを確実に行なうことができる。したがって、空間ｓ１の雰囲気が処理ガスの吹出し流に巻き込まれて処理空間１ａに流入することはない。しかも、ワークＷと縁切り板５３は可及的に近接し、両者間の隙間が非常に小さいので、ワークＷの先端部が吹出し孔１６ｃの真下にさしかかった時にこの隙間の空気が処理ガス吹出し流に引き込まれることもない。これによって、処理空間１ａを純度の高い処理ガスで満たしておくことができる。そして、ワークＷの送り方向に沿う先端部が処理空間１ａに入って来た時、このワーク先端部を確実に良好にプラズマ洗浄することができる。
ワークＷの先端部が処理空間に入った以降は、当該ワークＷによってそれより上側と下側とが隔てられるので、処理空間１ａでの処理ガス純度を高く維持でき、プラズマ洗浄の良好性を維持できる。
【００３４】
また、常圧プラズマ処理装置Ｍ１においては、閉塞部材５４によって、ガス吹出しユニット１６と縁切り板５３との間の左右両端部より外側の雰囲気についても処理ガス吹出し流に巻き込まれるのを防止することができる。これによって、ワークＷの特に先端部の左右両側部について、確実に良好にプラズマ洗浄することができる。
さらに、吹出し孔１６ｆからカーテンガスを吹出すことにより、処理ガス流より手前側にガスカーテンを形成できる。これによって、縁切り板５３ないしはワークＷの上側の雰囲気が、ガス吹出しユニット１６と縁切り板５３ないしはワークＷとの間を通って処理ガス吹出し流に巻き込まれるのを防止することができる。よって、プラズマ洗浄を一層良好に行うことができる。
【００３５】
常圧プラズマ処理装置Ｍ１においては、ワークＷの送り方向と処理ガスの流れ方向とが一致しており、例えば対向していたり直交していたりしていないので、ワークＷの移動に伴ってガス流が乱れたりワークＷの幅方向（送り方向と直交する方向）に沿ってガス状態が不均一になったりすることがなく、処理ムラを確実に防止できる。この結果、プラズマ表面処理を一層確実に良好に行なうことができる。
【００３６】
本発明は、上記実施形態に限定されず、種々の改変をなすことができる。
例えば、ワーク形状の「板状」には、シート状ないしはフィルム状も含まれる。
一対の電極は、上下に対向している場合に限られず、水平や斜めに対向していてもよい。
処理ガスの流れ方向とワークの送り方向が、互いに対向していたり、交差（直交）していたりしてもよい。
本発明は、グロー放電だけでなく、コロナ放電や沿面放電によるプラズマ処理にも適用され、洗浄だけでなく、成膜、表面改質、アッシング、エッチング等の種々のプラズマ処理に遍く適用される。
【００３７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、まわりの雰囲気が処理ガスの吹出し流に巻き込まれて処理空間に流入するのを防止することができ、良好なプラズマ表面処理を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係る常圧プラズマ処理装置を前後に切断した概略断面図である。
【図２】上記常圧プラズマ処理装置の上下の電極ユニットを左右に切断した断面図である。
【図３】上記常圧プラズマ処理装置の上側電極ユニットとガス吹出しユニットと吸込みユニットの底面図である。
【図４】上記常圧プラズマ処理装置の上側電極ユニットとワーク送り機構の平面図である。
【図５】上記上下の電極ユニットを分離して示す図２相当の断面図である。
【符号の説明】
Ｍ１常圧プラズマ処理装置
１ａ常圧プラズマ処理空間
１０上側電極ユニット（一方の電極ユニット）
１６ガス吹出ユニット
１６ｘ処理ガス導入路（処理ガス吹出し手段）
１６ｙカーテンガス導入路（カーテンガス吹出し手段）
２０下側電極ユニット（他方の電極ユニット）
５０ワーク送り機構
５１軸部材（回転軸）
５２コロ
５３縁切り板（縁切り部材）
５３ａ挿通孔
５４閉塞部材
ｇ１カーテンガスの吹出し軸
Ｗ板状ワーク

Claims

間に略常圧のプラズマ処理空間を形成する一対の電極ユニットと、板状のワークを上記電極ユニットどうしの対向方向と直交する姿勢で上記プラズマ処理空間へ向けて送るワーク送り機構と、処理ガスを一方の電極ユニットの一側部の傍らから上記処理空間に向けて吹出す処理ガス吹出し手段とを備え、上記ワーク送り機構には、上記ワークの移動する平面より他方の電極ユニット側の雰囲気を上記処理ガスの吹出し流から縁切りする縁切り部材が設けられていることを特徴とする常圧プラズマ処理装置。
間に略常圧のプラズマ処理空間を形成する上下一対の電極ユニットと、板状のワークを水平姿勢で上記プラズマ処理空間へ向けて送るワーク送り機構と、処理ガスを上側（一方）の電極ユニットの上記送り方向に沿う手前側の傍らから上記処理空間に向けて吹出す処理ガス吹出し手段とを備え、上記ワーク送り機構には、上記ワークの移動する平面より下側の雰囲気を上記処理ガスの吹出し流から縁切りする縁切り部材が設けられていることを特徴とする常圧プラズマ処理装置。
上記縁切り部材は、上記ワーク移動平面に沿うように配された板状をなし、その端面が、他方の電極ユニットの側面に突き当てられていることを特徴とする請求項１または２に記載の常圧プラズマ処理装置。
上記縁切り部材は、上記ワーク移動平面に下から沿うように配された板状をなし、その端面が、下側の電極ユニットの手前側の面に突き当てられており、上記ワーク送り機構が、上記縁切り部材の下側に回転軸を配したコロを有し、このコロが、上記縁切り部材に形成された挿通孔を介して上に僅かに突出されていることを特徴とする請求項２に記載の常圧プラズマ処理装置。
上記処理ガス吹出し手段と縁切り部材との間の空間における上記処理空間に連なる端部と直交する両端部には、そこを塞ぐ閉塞部材が、処理ガス吹出し手段と縁切り部材とに挟まれるようにして設けられていることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載のプラズマ処理装置。
上記処理ガス吹出し手段を挟んで上記一方の電極ユニットとは逆側に、カーテンガスの吹出し手段が設けられ、上記縁切り部材が、上記カーテンガスの吹出し軸を横切っていることを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載のプラズマ処理装置。