JP2004309688A

JP2004309688A - 光学素子保持冷却装置及び露光装置

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Publication number: JP2004309688A
Application number: JP2003101439A
Authority: JP
Inventors: Keiichi Tanaka; 慶一田中
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 2003-04-04
Filing date: 2003-04-04
Publication date: 2004-11-04
Anticipated expiration: 2023-04-04
Also published as: JP4273813B2

Abstract

【課題】レンズやミラー等の光学素子の変形を抑制し、光源からの残留熱量を適切に除熱することのできる光学素子保持冷却装置等を提供する。
【解決手段】ミラー１は、各支持部材１０で冷却フレーム２０上に３点支持されている。冷却フレーム２０の中空部２１内は、冷却媒体が流れる流路となっている。ミラー１の裏面１Ｂ側には、隙間を隔ててヒートパイプ３０が配置されている。ヒートパイプ３０の外周端３３は、冷却フレーム２０内側周面のスリット２６に差し込まれている。ＥＵＶ光の照射によりミラー１に熱が加わると、この熱はまずミラー１の裏面１Ｂから隙間ｔを介してヒートパイプ３０の楕円盤面３１に輻射されて伝わり、さらにヒートパイプ３０の楕円盤面３１から外周端３３を経て冷却フレーム２０内の冷却媒体に伝わる。このようにして、ミラー１の蓄熱が冷却フレーム２０の冷却媒体で除熱されるので、ミラー１の熱の影響による変形の可能性が低減される。
【選択図】図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体デバイス露光装置等の精密光学機械において、レンズやミラー等の光学素子の変形を抑制し、光源からの残留熱量を適切に除熱することのできる光学素子保持冷却装置に関する。また、そのような保持冷却装置を有する露光装置に関する。
【０００２】
【背景技術】
ＥＵＶ光（極端紫外光）露光装置を例に採って、背景技術を説明する。
図５は、ＥＵＶ光露光装置の概略構成例を示す図である。
図５に示す露光装置は、ＥＵＶ源１０１と、このＥＵＶ源１０１から射出したＥＵＶ光（波長１３．５ｎｍ）１００を反射型マスク１０２に照射させる照明光学系１０３と、反射型マスク１０２上の回路パターンをウエハ１０４上に投影するＥＵＶ投影光学系１０５と、マスクステージ１０６及びウエハステージ１０７から構成されている。
【０００３】
この露光装置においては、ＥＵＶ源１０１から発したＥＵＶ光１００が照明光学系１０３を経て反射型マスク１０２に照射される。反射型マスク１０２で反射したＥＵＶ光１００は、投影光学系１０５に入射する。投影光学系１０５を通ったＥＵＶ光１００は、ウエハ１０４上に到達し、反射型マスク１０２上のパターンがウエハ１０４上に縮小転写される。
【０００４】
投影光学系１０５は、一例で６枚の多層膜反射ミラー（図示されず）で構成されており、その縮小倍率は１／５である。投影光学系１０５は、ウエハ１０４上において、幅２ｍｍ・長さ３０ｍｍの輪帯状の露光視野を有する。各反射ミラーは反射面形状が非球面であり、その表面にはＥＵＶ光の反射率を向上するためのＭｏ／Ｓｉ多層膜がコートされている。露光時において、反射型マスク１０２、ウエハ１０４は、それぞれステージ１０６、１０７上で走査される。ウエハ１０４の走査速度は、常に反射型マスク１０２の走査速度の１／５となるように同期している。その結果、光学系の視野よりも大きい領域に広がるパターンを転写することができる。
【０００５】
次いで、図６を参照して、光学系鏡筒についてより詳細に説明する。
図６は、ＥＵＶ光露光装置の光学系鏡筒の一例を示す構成図である。
図６には、２枚の反射ミラー（光学素子）１１１、１１２を保持する光学系鏡筒１１０が示されている。この鏡筒１１０は、鏡筒本体部１１０ａとフランジ部１１０ｂを有する。なお、この鏡筒１１０はインバー製であり、熱変性が生じにくい。
【０００６】
反射ミラー１１１は、鏡筒１１０のフランジ部１１０ｂ上において、位置調整機構（ピエゾモータ等）１１５を介して保持装置１１６で保持されている。位置調整機構１１５は、組み立て時あるいはその後において反射ミラーの位置を調整するための機構である。一方、反射ミラー１１２は、鏡筒１１０のフランジ部１１０ｂ下において、保持装置１１７で保持されている。２枚の反射ミラー１１１、１１２には、それぞれ穴１１１ａ、１１２ａが開けられている。図の上部のマスク（物体、図示されず）から発した光１００は、上の反射ミラー１１１の穴１１１ａを通って下の反射ミラー１１２の上面に達し、ここで反射した光１００が反射ミラー１１１の下面に向かう。この光１００は、さらに反射ミラー１１１の下面で反射して下方に向かい、反射ミラー１１２の穴１１２ａを通ってウエハ（像面、図示されず）に到達する。
【０００７】
ＥＵＶ光学系においては、前述の通り反射ミラー（光学素子）表面にＭｏ／Ｓｉ多層膜がコートされている。ＥＵＶ光学系の開口数は０．３であり、波面収差は１ｎｍＲＭＳ以下が求められる。このような小さな波面収差を実現するためには、反射ミラーとして高精度な形状を有する非球面ミラーを用い、高精度なミラー組み立て・調整を行う必要がある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
前述の通り、ＥＵＶ源１０１から射出したＥＵＶ光１００は、極短波長（１３．５ｎｍ）であり、ほとんどの物質はこの波長のＥＵＶ光を吸収する。そのため、ＥＵＶ光学系では、透過型投影レンズ系を用いる光ステッパー等とは異なり、反射型投影レンズ系を用いる。このような反射型投影レンズ系の反射ミラーは、反射面に多層膜をコートしたとしても１００％近い反射率は得られず（反射率約７０％）、ＥＵＶ光１００のエネルギの一部（残りの約３０％）は反射ミラー自身に吸収される。そして、その際に吸収される熱量は数サブＷ〜数Ｗであり、反射ミラーの反射面を熱変形させるのに充分な量であるため、この熱の影響によって反射面の精度の悪化が引き起こされるおそれがある。
【０００９】
一方、反射ミラーの変形に関しては、ＥＵＶ光の吸収熱量の影響以外にも、自重や圧力変動に伴う静的な変形、あるいは、床振動やステージ反力、搬送系振動に伴う動的な変形等も考えられる。さらには、ＥＵＶ光を用いる場合は、真空雰囲気下での露光が想定されているため、反射ミラーの位置・姿勢を計測して微調整する微調整機構及び制御系は、真空雰囲気内での作動が可能であるものが求められる。
【００１０】
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、レンズやミラー等の光学素子の変形を抑制し、光源からの残留熱量を適切に除熱することのできる光学素子保持冷却装置を提供することを目的とする。また、そのような保持冷却装置を有する露光装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するため、本発明の光学素子保持冷却装置は、光学素子の外周部を支持する、該外周部の内外方向に弾性変形可能な、低熱伝導率材からなる支持部材と、前記光学素子の非光学的機能面に沿って配置された熱輸送板と、該熱輸送板の外周を冷媒で冷却するとともに、前記支持部材を支持する、内部に前記光学素子の冷却媒体通路の形成された冷却フレームと、を具備することを特徴とする。
【００１２】
この保持冷却装置によれば、光学素子に加わった熱は熱輸送板に伝わり、さらにこの熱輸送板から冷却フレームに伝わる。このようにして、光学素子は外周側から冷却フレームの冷媒で冷却されるので、熱の影響による変形の可能性が低減される。さらに、光学素子が熱膨張した場合や、静的又は動的な変形が起こった場合等には、支持部材が弾性変形することで光学素子の変形量を吸収できるので、光学素子の形状精度悪化の可能性も低減できる。
【００１３】
なお、本発明における光学素子とは、ミラーやレンズ、レチクル（マスク）等を指す。
光学素子の形状は円盤状のものに限られず、楕円盤状や扇盤状、円弧状であってもよい。
光学素子の外周部の内外方向とは、概ね該外周部の外面の法線方向を意味し、円盤状の場合は径方向を意味する。
低熱伝導材としては、例えばＺｒＯ_２やキン（菫）青石系（Ｃｏｒｄｉｅｒｉｔｅ系）等を挙げることができ、その熱伝導率は数Ｗ／ｍＫ°以下であることが好ましい。支持部材の個数・配置形態は、光学素子外周を均等に３点支持するものが好ましいが、それ以外であってもよい。
【００１４】
なお、光学素子の非光学的機能面とは、光学素子に関与する光の通らない面を意味し、例えばミラーの場合は、反射面以外の面（例えば裏面）である。
熱輸送板としては、ヒートパイプを用いることが好ましい。
熱輸送板と光学素子との間は接触している（隙間ゼロ）か、ごく小さい隙間を隔てて対向しており、前者の場合は光学素子から熱輸送板への熱伝導によって、後者の場合は光学素子と熱輸送板間の熱輻射によって主に熱が伝わる。
【００１５】
本発明の光学素子保持冷却装置においては、前記熱輸送板が前記光学素子の非光学的機能面に対して小さい隙間を介して対向しており、前記光学素子の光学的機能面の温度分布がより均一となるように、該隙間が前記光学素子の各部で調整されているものとすることができる。
光学素子の光学的機能面の温度がより均一となると、光学素子の光学性能（波面収差等）が良好になるという利点がある。本発明のこの形態は、加工性や熱膨張等の理由から光学素子を高熱伝導材で製作できない等、光学素子が無視できない温度分布を持つことが予想される場合に適用して効果的である。さらに、熱輸送板と光学素子との間に小さい隙間が存在すると、これら両者が非接触となり、熱輸送板から光学素子に力がかからないので、光学素子の形状精度悪化の可能性も低減できる。
【００１６】
なお、この隙間は、例えば０〜数ｍｍ程度が好ましい。
前記隙間の調整方法は、例えば、熱輸送板を或る望ましい設計製作形状とする、あるいは、熱輸送板の所定箇所にピエゾアクチュエータを取り付ける等で実現することができる。
【００１７】
本発明においては、ベースと、該ベース上に固定された、前記冷却フレームの外周部を支持する冷却フレーム支持部材と、該冷却フレーム支持部材に設けられた、前記光学素子の外周部の内外方向に弾性変形可能な板バネ、及び、前記光学素子の光学的機能面と垂直方向（Ｚ方向）に駆動可能な駆動手段と、前記ベース上に取り付けられた、該ベース上面と前記光学素子の非光学的機能面との距離を計測するセンサと、をさらに具備することができる。
【００１８】
また、本発明においては、前記ベースの外側に、該ベースを水平面（ＸＹ平面）内で駆動する駆動手段、及び、該ベースの変位量を検出するセンサをさらに具備することができる。
【００１９】
これらの場合、センサで距離・変位量を検出しつつ、駆動手段で弾性支持部材に変位を加えて、光学素子の位置・姿勢を微調整することができる。
【００２０】
本発明の露光装置は、エネルギ線を感応基板に選択的に照射してパターン形成する露光装置であって、該エネルギ線の光学系の光学素子を保持冷却する前記請求項１〜４の保持冷却装置を具備することを特徴とする。
なお、前記エネルギ線の種類は、ＥＵＶ光に限られるものではなく、紫外光、電子線、イオンビーム等であってもよい。また、露光の方式も特に限定されず、縮小投影露光や等倍近接転写であってよい。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ説明する。
図１は、本発明の一実施例に係る光学系鏡筒内のミラー及びその保持冷却装置を示す図である。（Ａ）は側面断面図であり、（Ｂ）は平面図である。
図２は、図１のミラー及びその保持冷却装置の一部を模式的に拡大して示す図である。
図３は、同ミラー保持冷却装置の熱輸送板を示す斜視図である。
図４は、同ミラー保持冷却装置の支持部材を示す平面図である。
【００２２】
図１及び図２に示すミラー（光学素子）１は、ＥＵＶ光学系の鏡筒（図示されず）内に配置されている。本実施例のミラー１は、一例で厚さ１〜２ｃｍ程度の楕円形ミラー（図１（Ｂ）参照）であるが、これ以外にも円盤状や扇盤状等を用いることもできる。ミラー１は、反射面１Ａ（光学的機能面）、裏面１Ｂ及び側面１Ｃ（非光学的機能面）を有する。このミラー１には、側面１Ｃの一部が切り欠かれてなる支持部３が周方向に離れて３箇所に形成されている。ミラー１は、各支持部３に設けられた支持部材１０を介して、楕円環状の冷却フレーム２０上に支持されている。すなわち、ミラー１は、各支持部材１０で冷却フレーム２０上に３点支持されている。
【００２３】
図４（Ａ）にわかり易く示すように、支持部材１０は、固定部１１、板バネ１３Ａ、１３Ｂ及び連結部１５Ａ、１５Ｂを備えている。この支持部材１０は、例えばＺｒＯ_２等の低熱伝導材から形成されており、その熱伝導率は数Ｗ／ｍＫ°以下となっている。
【００２４】
固定部１１は、冷却フレーム２０への固定用の部材であり、固定用ボルトｂ１（図１参照）を挿通するためのボルト孔１１ａが形成されている。
板バネ１３Ａ、１３Ｂは、固定部１１の一端から両横方向に延び出ている。各板バネ１３Ａ、１３Ｂは、一例で厚さが数ｍｍ程度であって、バネ性状（屈曲性）を向上するための切欠き１３´が形成されている。
連結部１５Ａ、１５Ｂは、各板バネ１３Ａ、１３Ｂの先側にそれぞれ一体形成されている。これら連結部１５Ａ、１５Ｂは、ミラー１の側面１Ｃの支持部３への連結用の部材であり、連結用ボルトｂ３（図１（Ｂ）参照）を挿通するためのボルト孔１５ａ、１５ｂが形成されている。
【００２５】
各支持部材１０は、ＥＵＶ光の照射によりミラー１に熱が加わって変形（熱膨張）した場合や、自重や圧力変動に伴う静的な変形、あるいは、ＥＵＶ露光装置の床振動やステージ反力、搬送系振動に伴う動的な変形等が起こった場合等に、板バネ１３Ａ、１３Ｂが弾性変形する。そして、この板バネ１３Ａ、１３Ｂの弾性変形によってミラー１の変形量を吸収することができ、ミラー１の形状精度の悪化を低く抑えることができる。
【００２６】
支持部材１０の固定部１１は、前述の通り、楕円環状の冷却フレーム２０上に固定用ボルトｂ１（図１参照）で固定される。図１に示すように、この冷却フレーム２０の内周は、ミラー１の外周よりも大きく形成されている。冷却フレーム２０の中空部２１内は、水あるいはフロリナート系冷却液等の冷却媒体が流れる流路となっている。図１（Ｂ）中左側に示すように、冷却フレーム２０の側面には、冷却媒体の導入管２３及び排出管２４が取り付けられている。これらの管２３、２４の先には、冷却媒体循環ポンプ（図示されず）が繋がっている。
【００２７】
図１及び図２に示すように、ミラー１の裏面１Ｂ側には、一例で厚さ１ｍｍ程度のヒートパイプからなる熱輸送板３０が配置されている。図３に最もわかりやすく示すように、このヒートパイプ（熱輸送板）３０は、皿型の楕円盤を上下転置させた状態のもの、すなわち、鍔状の外周端３３から中央の楕円盤面３１が隆起した形状を有する。図２にわかり易く示すように、ヒートパイプ３０の楕円盤面３１は、ミラー１の裏面１Ｂとの間に所定の隙間ｔ（一例で２０μｍ程度）を設けて配置されている。ヒートパイプ３０の楕円盤面３１には、後述するレーザ干渉計５５のレーザ光を通過させるための孔３５が形成されている。
なお、図２においては、隙間は誇張して描かれている。
【００２８】
ヒートパイプ３０の鍔状の外周端３３は、冷却フレーム２０内側周面のスリット２６に差し込まれている。冷却フレーム２０の中空部２１内において、ヒートパイプ３０の外周端３３は冷却媒体に晒されている。ヒートパイプ３０の外周端３３は、冷却フレーム２０内側周面でろう付けされている。このろう付けにより、ヒートパイプ３０が冷却フレーム２０に固定されるとともに、冷却フレーム２０の中空部２１の水密性が確保される。
【００２９】
ＥＵＶ光の照射によりミラー１に熱が加わると、この熱はまずミラー１の裏面１Ｂから隙間ｔを介してヒートパイプ３０の楕円盤面３１に輻射されて伝わり、さらにヒートパイプ３０の楕円盤面３１から外周端３３を経て冷却フレーム２０内の冷却媒体に伝わる。このようにして、ミラー１の蓄熱が冷却フレーム２０の冷却媒体で除熱されるので、ミラー１の熱の影響による変形の可能性が低減される。さらに、ミラー１とヒートパイプ３０との間に小さい隙間ｔが存在すると、これら両者が非接触となり、ヒートパイプ３０からミラー１に力がかからないので、ミラー１の形状精度悪化の可能性も低減される。
【００３０】
なお、本実施例では、ミラー１の裏面１Ｂとヒートパイプ３０の楕円盤面３１との間に小さい隙間ｔが存在するものとして説明しているが、これら両者を接触させて（つまり隙間ｔ＝０）配置することもできる。この場合は、ミラー１からヒートパイプ３０への熱伝導によって主に熱が伝わる。
【００３１】
ところで、ミラー１の反射面１Ａ（光学的機能面）の温度分布がより均一となるように、ミラー１とヒートパイプ３０との間の隙間ｔをミラー１の各部で調整することもできる。隙間ｔの調整は、例えば、ヒートパイプ３０を或る望ましい設計製作形状とする、あるいは、ヒートパイプ３０の所定箇所にピエゾアクチュエータを取り付ける等で実現できる。ミラー１の反射面１Ａの温度がより均一となると、ミラー１の光学性能（波面収差等）が良好になるという利点がある。
【００３２】
なお、冷却フレーム２０の中空部２１に冷却媒体を流すことにより生じる流体振動を抑制するため、図１（Ａ）や図２では、中空部２１が断面四角形に描かれているが、この四隅は滑らかな曲面状となっている。冷却媒体の流れは層流（レイノルズ数が約１０００以下）が望ましい。さらに、除熱効率を高めるためには、ヒートパイプ３０との接触面積（つまり冷却フレーム２０の中空部２１内へのヒートパイプ３０の外周端３３の差し込み量）を大きく取り、流路断面積を大きくすることが望ましい。
【００３３】
図１に示すように、冷却フレーム２０は、３つの支持部材（冷却フレーム支持部材）４０を介して、三角形の板状をしたミラーベース５０上に支持されている。これら支持部材４０は、前述した３つの支持部材２０（ミラー１を支持する支持部材）間のほぼ中間位置に配置されている。なお、各支持部材４０とミラーベース５０との間には、スペーサ５２（図１（Ａ）参照）が介装されている。
【００３４】
図４（Ｂ）にわかり易く示すように、支持部材４０は、固定部４１、アクチュエータ４２、板バネ４３Ａ、４３Ｂ及び連結部４５Ａ、４５Ｂを備えている。支持部材４０は、前述と同様に、例えばＺｒＯ_２等の低熱伝導材から形成されている。
【００３５】
固定部４１は、ミラーベース５０への固定用の部材であり、固定用ボルトｂ２（図１参照）を挿通するためのボルト孔４１ａが形成されている。
アクチュエータ４２は、固定部４１に組み込まれている。このアクチュエータ４２は、例えばピエゾアクチュエータからなり、後述するレーザ干渉計５５の検出結果に基づき、冷却フレーム２０及びその上のミラー１のＺ、θｘ、θｙ方向の位置・姿勢の微調整を行う。
【００３６】
板バネ４３Ａ、４３Ｂは、固定部４１の一端から両横方向に延び出ている。各板バネ４３Ａ、４３Ｂは、一例で厚さが数ｍｍ程度であって、バネ性状（屈曲性）を向上するための切欠き４３´が形成されている。
連結部４５Ａ、４５Ｂは、各板バネ４３Ａ、４３Ｂの先側にそれぞれ一体形成されている。これら連結部４５Ａ、４５Ｂは、冷却フレーム２０の側面への連結用の部材であり、連結用ボルトｂ４（図１（Ｂ）参照）を挿通するためのボルト孔４５ａ、４５ｂが形成されている。
【００３７】
ミラー１の下方において、ミラーベース１の上面には、この例では３個のレーザ干渉計（距離センサ）５５（５５ａ、５５ｂ、５５ｃ）が設置されている。図２にわかり易く示すように、これら各レーザ干渉計５５ａ〜５５ｃからヒートパイプ３０の孔３５を通ってミラー１の裏面１Ｂに向けてレーザを当て、その反射レーザを受けることにより、ミラー１の変形量やミラーチルト等を検出することができる。前述した支持部材４０のアクチュエータ４２は、これら各レーザ干渉計５５ａ〜５５ｃの検出結果に基づき、冷却フレーム２０及びその上のミラー１のＺ、θｘ、θｙ方向の位置・姿勢の微調整を行う。
【００３８】
ミラーベース５０の一部（図１（Ｂ）の下部）には、張り出し部５１が一体に設けられている。そして、ミラーベース５０の一側面５０´には２個のアクチュエータ５６、５７が取り付けられており、張り出し部５１の一側面５１´には１個のアクチュエータ５８が取り付けられている。これら各アクチュエータ５６、５７、５８は、例えばピエゾアクチュエータからなり、ミラーベース５０のＸ、Ｙ、θｚの位置調整を行う。
【００３９】
さらに、ミラーベース５０の外側には、各アクチュエータ５６、５７、５８に対応して、レーザ干渉計（位置センサ）５９ａ、５９ｂ、５９ｃが設置されている。各アクチュエータ５６、５７、５８は、各レーザ干渉計５９ａ〜５９ｃの検出結果に基づき、ミラーベース５０のＸ、Ｙ、θｚ方向の位置・姿勢の微調整を行う。このミラーベース５０の微調整を行うことで、その上のミラー１のＸ、Ｙ、θｚ方向の微調整が実現される。
【００４０】
本実施例においては、支持部材４０に組み込まれたＺ、θｘ、θｙ方向の微調整用のアクチュエータ４２、ならびに、ミラーベース５０・張り出し部５１に取り付けたＸ、Ｙ、θｚ方向の微調整用のアクチュエータ５６、５７、５８により、６軸調整機能（つまりＸ、Ｙ、Ｚ、θｘ、θｙ、θｚ調整機能）が実現されている。そのため、この機能を用いて適宜調整することで、ミラー１の位置・姿勢を微調整し、誤差を補正することができる。
【００４１】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、レンズやミラー等の光学素子の変形を抑制し、光源からの残留熱量を適切に除熱することのできる光学素子保持冷却装置等を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例に係る光学系鏡筒内のミラー及びその保持冷却装置を示す図である。（Ａ）は側面断面図であり、（Ｂ）は平面図である。
【図２】図１のミラー及びその保持冷却装置の一部を模式的に拡大して示す図である。
【図３】同ミラー保持冷却装置の熱輸送板を示す斜視図である。
【図４】同ミラー保持冷却装置の支持部材を示す平面図である。
【図５】ＥＵＶ光露光装置の概略構成例を示す図である。
【図６】ＥＵＶ光露光装置の光学系鏡筒の一例を示す構成図である。
【符号の説明】
１ミラー（光学素子）１Ａ反射面１Ａ（光学的機能面）
１Ｂ裏面１Ｂ（非光学的機能面）１Ｃ側面１Ｃ（非光学的機能面）
３支持部１０支持部材
１１固定部１３Ａ、１３Ｂ板バネ
１３´ 切欠き１５Ａ、１５Ｂ連結部
２０冷却フレーム２１中空部
３０ヒートパイプ（熱輸送板）３１楕円盤面
３３外周端３５孔
４０支持部材（冷却フレーム支持部材）
４１固定部４２アクチュエータ
４３Ａ、４３Ｂ板バネ４５Ａ、４５Ｂ連結部
５０ミラーベース５１張り出し部
５５（５５ａ、５５ｂ、５５ｃ）レーザ干渉計（距離センサ）
５６、５７、５８アクチュエータ
５９ａ、５９ｂ、５９ｃレーザ干渉計（位置センサ）

Claims

光学素子の外周部を支持する、該外周部の内外方向に弾性変形可能な、低熱伝導率材からなる支持部材と、
前記光学素子の非光学的機能面に沿って配置された熱輸送板と、
該熱輸送板の外周を冷媒で冷却するとともに、前記支持部材を支持する、内部に前記光学素子の冷却媒体通路の形成された冷却フレームと、を具備することを特徴とする光学素子保持冷却装置。
前記熱輸送板が前記光学素子の非光学的機能面に対して小さい隙間を介して対向しており、
前記光学素子の光学的機能面の温度分布がより均一となるように、該隙間が前記光学素子の各部で調整されていることを特徴とする請求項１記載の光学素子保持冷却装置。
ベースと、
該ベース上に固定された、前記冷却フレームの外周部を支持する冷却フレーム支持部材と、
該冷却フレーム支持部材に設けられた、前記光学素子の外周部の内外方向に弾性変形可能な板バネ、及び、前記光学素子の光学的機能面と垂直方向（Ｚ方向）に駆動可能な駆動手段と、
前記ベース上に取り付けられた、該ベース上面と前記光学素子の非光学的機能面との距離を計測するセンサと、をさらに具備することを特徴とする請求項１又は２記載の光学素子保持冷却装置。
前記ベースの外側に、該ベースを水平面（ＸＹ平面）内で駆動する駆動手段、及び、該ベースの変位量を検出するセンサをさらに具備することを特徴とする請求項３記載の光学素子保持冷却装置。
エネルギ線を感応基板に選択的に照射してパターン形成する露光装置であって、
該エネルギ線の光学系の光学素子を保持冷却する前記請求項１〜４の保持冷却装置を具備することを特徴とする露光装置。