JP5793222B2 - リソグラフィ装置用の光学素子マウント - Google Patents
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Description
この出願は、2008年7月21日に出願された米国仮特許出願第61/129,813号の利益を主張し、参照によりその全体が本明細書に引用される。
本発明は、リソグラフィ装置用の光学素子マウントに関する。
放射ビームB(例えば、EUV放射)を調整する照明系(照明器)ILと、
パターニングデバイス(例えば、マスクまたはレチクル)MAを支持し、パターニングデバイスを正確に位置決めするよう構成された第1位置決めデバイスPMに接続されるサポート構造またはパターニングデバイス支持部(例えば、マスクテーブル)MTと、
基板(例えば、レジストコートされたウェハ)Wを保持するよう構成され、基板を正確に位置決めするよう構成された第2位置決めデバイスPWに接続された基板テーブル(例えば、ウェハテーブル)WTと、
基板Wの目標部分C(例えば、一つまたは複数のダイを含む)に、パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを投影するよう構成された投影系(例えば、屈折投影レンズ系)PSとをさらに備える。
Claims (9)
- リソグラフィ装置のモジュール内に光学素子を取り付けるように構成されるマウントであって、
前記光学素子の周縁を支持するとともに前記光学素子に力を及ぼすように構築され配置される複数の弾性部材を備え、
各弾性部材は、長さ、幅、及び厚さをもつとともに前記長さが前記幅より大きくかつ前記厚さが前記幅より小さい細長本体を有する板ばねであり、前記板ばねの一端は前記細長本体の幅方向に複数の弾性区画へと分割され、前記複数の弾性区画は、前記光学素子の周囲で該光学素子と係合するように構成され、各弾性区画が別の弾性区画と独立して屈曲するように構成されることを特徴とするマウント。 - 前記弾性区画が互いに対する変位を許容するように配置されることを特徴とする請求項1に記載のマウント。
- 前記光学素子がミラーであり、該ミラーが、極端紫外線放射源によって生成される放射を調整するように構成され配置されるコレクタミラーであることを特徴とする請求項1に記載のマウント。
- リソグラフィ装置のモジュールであって、
極端紫外線放射を発生するように構築され配置される放射源と、
前記極端紫外線放射を調整するように構築され配置されるコレクタと、
前記コレクタ内に光学素子を取り付けるように構成されるマウントであって、前記光学素子の周縁を支持するとともに前記光学素子に力を及ぼすように構築され配置される複数の弾性部材を備えるマウントと、を備え、
各弾性部材は、長さ、幅、及び厚さをもつとともに前記長さが前記幅より大きくかつ前記厚さが前記幅より小さい細長本体を有する板ばねであり、前記板ばねの一端は前記細長本体の幅方向に複数の弾性区画へと分割され、前記複数の弾性区画は、前記光学素子の周囲で該光学素子と係合するように構成され、各弾性区画が別の弾性区画と独立して屈曲するように構成されることを特徴とするモジュール。 - 前記弾性区画が互いに対する変位を許容するように配置されることを特徴とする請求項4に記載のモジュール。
- 前記光学素子がミラーであり、該ミラーが、極端紫外線放射源によって生成される放射を調整するように構成され配置されるコレクタミラーであることを特徴とする請求項4に記載のモジュール。
- リソグラフィ装置のモジュールの光学素子に力を及ぼすように構築され配置される弾性部材であって、
前記弾性部材は、長さ、幅、及び厚さをもつとともに前記長さが前記幅より大きくかつ前記厚さが前記幅より小さい細長本体を有する板ばねであり、前記板ばねの一端は前記細長本体の幅方向に複数の弾性区画へと分割され、前記複数の弾性区画は、前記光学素子の周囲で該光学素子と係合するとともに別の弾性区画と独立して屈曲するように構成されることを特徴とする弾性部材。 - 前記弾性区画が互いに対する変位を許容するように配置されることを特徴とする請求項7に記載の弾性部材。
- 前記光学素子がミラーであり、該ミラーが、極端紫外線放射源によって生成される放射を調整するように構成され配置されるコレクタミラーであることを特徴とする請求項7に記載の弾性部材。
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