JP2004309499A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2004309499A5
JP2004309499A5 JP2004167929A JP2004167929A JP2004309499A5 JP 2004309499 A5 JP2004309499 A5 JP 2004309499A5 JP 2004167929 A JP2004167929 A JP 2004167929A JP 2004167929 A JP2004167929 A JP 2004167929A JP 2004309499 A5 JP2004309499 A5 JP 2004309499A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
processing apparatus
stage
piece
chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004167929A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2004309499A (ja
JP4016969B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2004167929A priority Critical patent/JP4016969B2/ja
Priority claimed from JP2004167929A external-priority patent/JP4016969B2/ja
Publication of JP2004309499A publication Critical patent/JP2004309499A/ja
Publication of JP2004309499A5 publication Critical patent/JP2004309499A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4016969B2 publication Critical patent/JP4016969B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

JP2004167929A 2004-06-07 2004-06-07 試料作製装置および試料作製方法 Expired - Fee Related JP4016969B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004167929A JP4016969B2 (ja) 2004-06-07 2004-06-07 試料作製装置および試料作製方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004167929A JP4016969B2 (ja) 2004-06-07 2004-06-07 試料作製装置および試料作製方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP33368198A Division JP3633325B2 (ja) 1998-11-25 1998-11-25 試料作製装置および試料作製方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2004309499A JP2004309499A (ja) 2004-11-04
JP2004309499A5 true JP2004309499A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) 2005-07-07
JP4016969B2 JP4016969B2 (ja) 2007-12-05

Family

ID=33475715

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004167929A Expired - Fee Related JP4016969B2 (ja) 2004-06-07 2004-06-07 試料作製装置および試料作製方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4016969B2 (cg-RX-API-DMAC7.html)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5033314B2 (ja) 2004-09-29 2012-09-26 株式会社日立ハイテクノロジーズ イオンビーム加工装置及び加工方法
JP4185062B2 (ja) 2005-03-04 2008-11-19 エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 加工用ステージ及び集束ビーム加工装置並びに集束ビーム加工方法
JP4628153B2 (ja) * 2005-03-18 2011-02-09 富士通株式会社 ナノレベル構造組成観察装置及びナノレベル構造組成観察方法
JP5127148B2 (ja) 2006-03-16 2013-01-23 株式会社日立ハイテクノロジーズ イオンビーム加工装置
JP5710887B2 (ja) * 2010-03-18 2015-04-30 株式会社日立ハイテクサイエンス 複合荷電粒子加工観察装置
CN109283027B (zh) * 2018-11-05 2023-10-13 长沙岱勒新材料科技股份有限公司 金刚线金相试样制作装置及方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4481592B2 (ja) 集束された電子ビームによって誘導された化学反応を用いた材料表面のエッチング方法
US7452477B2 (en) Procedure for etching of materials at the surface with focussed electron beam induced chemical reaction at said surface
JPH09506565A (ja) 近接石版印刷を利用した削摩による結像
JP5619002B2 (ja) イオンミリング装置
JP2010520465A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
JPH0945639A (ja) 高速原子線を用いた加工方法及び加工装置
CN111771166A (zh) 在光刻设备中的原位颗粒移除的设备和方法
TW201624520A (zh) 複合帶電粒子束裝置
JP2004309499A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP5542749B2 (ja) 試料の作製装置,作製方法、及びそれを用いた荷電粒子線装置
JP2008226991A (ja) プラズマ処理装置
KR102451515B1 (ko) 잔해물 경감 시스템, 방사선 소스 및 리소그래피 장치
JP5684171B2 (ja) レーザイオン源
JP5244396B2 (ja) 固体凝縮ガス層のエネルギー誘導局所除去を用いるリフトオフパターニング方法
JP2023541666A (ja) 試料を粒子線で分析および/または処理するための装置および方法
TW202240274A (zh) 半導體電路之製造方法及半導體製造系統
JP2019528435A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP6636839B2 (ja) 試料ホルダー、集束イオンビーム装置
JP5867916B2 (ja) 露光装置および露光方法
US20020145714A1 (en) Reticle chucks and methods for holding a lithographic reticle utilizing same
JPH08206866A (ja) エネルギービーム加工法及びエネルギービーム加工装置
TWI813629B (zh) 試料製造裝置及試料片的製造方法
JP2009025243A (ja) 試料作製装置
JP2017084743A (ja) 試料加工装置、電子顕微鏡装置、試料加工方法、および、試料評価方法
JP6083662B2 (ja) 露光装置