JP2004298972A

JP2004298972A - 被覆インサート

Info

Publication number: JP2004298972A
Application number: JP2003092121A
Authority: JP
Inventors: Takashi Ishikawa; 剛史石川
Original assignee: Hitachi Tool Engineering Ltd
Current assignee: Moldino Tool Engineering Ltd
Priority date: 2003-03-28
Filing date: 2003-03-28
Publication date: 2004-10-28

Abstract

【課題】Ｃｒ系皮膜の欠点である硬度を高めることにより耐摩耗性を改善し、その結果優れた寿命を発揮する被覆インサートを提供することを目的とする。
【解決手段】被覆インサートにおいて、該被覆はアーク放電式イオンプレーティング法により被覆された硬質皮膜であり、該硬質皮膜は、（ＡｌｘＣｒ１−ｘ−ｙＳｉｙ）（Ｎ１−α−β−γＢαＣβＯγ）、但し、ｘ、ｙ、α、β、γは夫々原子比率を示し、０．４５＜ｘ＜０．７５、０≦ｙ＜０．２、０≦α＜０．１２、０≦β＜０．２、０．０１≦γ≦０．２５、からなり、Ｘ線回折強度Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）の値が４以下からなり、Ｘ線光電子分光分析における５２５ｅＶから５３５ｅＶの範囲に、少なくともＣｒ、Ａｌ及び／又はＳｉと酸素との結合エネルギーを有し、該インサートの基体は炭化タングステン基超硬合金からなり、Ｎｉ及び／又はＣｏの和が重量％で４≦（Ｎｉ＋Ｃｏ）≦２０、としたことを特徴とする被覆インサート。
【選択図】図１

Description

【０００１】
【発明が属する技術分野】
本発明は、切削加工に使用されるインサートの表面被覆材として有用な硬質皮膜を被覆することにより、優れた耐摩耗性を発揮する硬質皮膜被覆インサートに関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＡｌＣｒ系皮膜は、耐高温酸化特性に優れた硬質皮膜材として、下記に示す特許文献１から４が開示されている。
【特許文献１】特許第３０２７５０２号公報（第６頁、図１）
【特許文献２】特許第３０３９３８１号公報（第４頁、図１）
【特許文献３】特開平２００２−１６０１２９号公報（第３頁、図１）
【０００３】
特許文献１は金属成分としてＡｌＣｒとＣ、Ｎ、Ｏの１種より選択されるＡｌＣｒ系硬質膜において、高硬度を有する非晶質膜に関する事例が開示されている。しかしこの非晶質膜の硬度は最大でもヌープ硬さ２１ＧＰａ程度であり、耐摩耗効果は期待できず、密着性に関しても十分ではない。特許文献２及び特許文献３に開示されている硬質皮膜はＡｌＣｒの窒化物であり、約１０００℃の耐高温酸化特性を有しているが、１０００℃以上の耐酸化特性の検討は行われていない。硬度はＨＶ２１ＧＰａ程度で硬度の改善が不十分であり耐摩耗性に乏しい。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本願発明は、上記の問題点を改善し、Ｃｒ系皮膜の欠点である硬度を高めることにより耐摩耗性を改善し、その結果優れた寿命を発揮する被覆インサートを提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するために手段】
本発明は、被覆インサートにおいて、該被覆はアーク放電式イオンプレーティング法により被覆された硬質皮膜であり、該硬質皮膜は、（Ａｌ_ｘＣｒ_{１−ｘ−ｙ}Ｓｉ_ｙ）（Ｎ_{１−α−β−γ}Ｂ_αＣ_βＯ_γ）、但し、ｘ、ｙ、α、β、γは夫々原子比率を示し、０．４５＜ｘ＜０．７５、０≦ｙ＜０．２、０≦α＜０．１２、０≦β＜０．２、０．０１≦γ≦０．２５、からなり、Ｘ線回折における（１１１）面の回折強度をＩ（１１１）、（２００）面の回折強度をＩ（２００）とした時、Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）の値が４以下からなり、Ｘ線光電子分光分析における５２５ｅＶから５３５ｅＶの範囲に、少なくともＣｒ、Ａｌ及び／又はＳｉと酸素との結合エネルギーを有し、該インサートの基体は炭化タングステン基超硬合金からなり、Ｎｉ及び／又はＣｏの和が重量％で４≦（Ｎｉ＋Ｃｏ）≦２０、としたことを特徴とする被覆インサートである。上記構成を採用することにより、基体と硬質皮膜との密着性に優れ、高硬度化することが可能となり、その結果、優れた耐摩耗性を発揮する本発明の被覆インサートを完成させた。
【０００６】
本発明硬質皮膜は、Ｘ線回折における（２００）面回折ピークの２θの半価幅が、０．５度以上、１度以下の広がりを有する場合、皮膜硬度並びに耐酸化性改善への寄与が大きい。また、ナノインデンテーションによる硬度測定法により接触深さと最大荷重時の最大変位量が求められる（Ｗ．Ｃ．ＯｌｉｖｅｒａｎｄＧ．Ｍ．Ｐｈａｒｒ：Ｊ．Ｍａｔｅｒ．Ｒｅｓ．，ｖｏｌ．７，Ｎｏ．６，Ｊｕｎｅ、１９９２、１５６４−１５８３）。この数値を用いて、
Ｅ＝１００−｛（接触深さ）／（最大荷重時の最大変位量）｝
の数式で、弾性回復率Ｅを定義し、３０％≦Ｅ＜４０％とすることにより、耐摩耗性と密着性のバランスが最適となる。更に、Ｘ線回折によるＣｒの立方晶系化合物とＡｌの六方晶系化合物のピークが検出され、該Ｃｒの立方晶系化合物の（２００）面ピーク強度をＱ１、Ａｌの六方晶系化合物の（００１）面ピーク強度をＱ２とした時、ピーク強度比Ｑ２／Ｑ１の値が、０≦Ｑ２／Ｑ１≦０．１とすることは、皮膜硬度を向上させることに有効である。また、本願発明の硬質皮膜は、硬質皮膜表面の凸部を機械的処理により平滑にすると、表面の摩擦係数が低減しこれによって切屑排出性が改善される。本発明に用いる炭化タングステン基超硬合金は、硬さがＨＲＡ８８以上、ＨＲＣ９６未満であることが好ましい。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明の硬質皮膜を構成する金属元素の組成は、（Ａｌ_ｘＣｒ_{１−ｘ−ｙ}Ｓｉ_ｙ）において、ｘが０．４５＜ｘ＜０．７５、ｙが０≦ｙ＜０．２を満足する必要がある。ｘの値が０．４５以下では皮膜硬度並びに耐高温酸化特性の改善効果が十分ではなく、ｘの値が０．７５以上、ｙの値が０．２以上では、残留圧縮応力が過大になり、被覆直後に自己破壊を誘発する場合がある。非金属元素の組成は、（Ｎ１−α−β−γＢαＣβＯγ）において、αは０．１２以上では皮膜が脆化し、好ましいαの上限値は０．０８である。硼素の添加は被加工物との耐溶着性と高温環境下での摩擦係数を低減し、潤滑性を向上させる効果がある。次に、βは、０．２以上で皮膜は脆化する。好ましいβの上限値は０．１６である。炭素の添加は硬質皮膜の硬度を高め、室温での摩擦係数の低減し、潤滑性を向上させる効果がある。γは０．０１以上、０．２５以下にすることが必要である。γが０．０１未満では、添加効果を得ることができず、０．２５を超えて大きくなると皮膜硬度は低下し、耐摩耗性に乏しくなる。好ましくは、γは、０．０５以上０．２以下である。γの添加は、基体と皮膜との密着性向上、皮膜が緻密化することによる高硬度化、酸化物形成により耐高温酸化性の改善に効果的である。更に、金属元素のＡｌ、Ｃｒ、Ｓｉに対する非金属元素のＮ、Ｂ、Ｃ、Ｏの比は、化学量論的に（Ｎ、Ｂ、Ｃ、Ｏ）／（Ａｌ、Ｃｒ、Ｓｉ）＞１．１がより好ましい。
【０００８】
本発明のＸ線回折における（１１１）面の回折強度をＩ（１１１）、（２００）面の回折強度をＩ（２００）とした時、Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）の値が４以下としたのは、皮膜の密着性は残留圧縮応力に強く依存し、この残留圧縮応力は成膜条件であるイオンエネルギーに強く依存している。即ち、イオンエネルギーが低い条件下では皮膜の残留圧縮応力は低い結果となる。逆に、イオンエネルギーが高い条件下では皮膜の残留圧縮応力は高い結果となる。ここで、イオンエネルギーを決定する要素は、具体的には成膜条件であるバイアス電圧、反応ガス圧力であり、これによって制御することができる。本発明は、残留圧縮応力が高い場合、Ｘ線回折において皮膜は（１１１）面に強く配向し、皮膜の硬度も、この高い残留圧縮応力の影響を受けて高硬度とする事が可能となる。一方、皮膜の密着性に着目すると、硬質皮膜内の残留圧縮応力を高くすると、皮膜の高硬度化を達成できるが、基体と皮膜界面とのせん断応力が増大する方向に作用するため、密着性を損なうこととなり、好ましくない。従って、基体と皮膜との密着性及び皮膜硬度とのバランスを最適に制御することが重要となる。本発明では、Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）の値を４以下とすることにより、両者のバランスを最適に制御することを可能にした。Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）の値が４を超えて大きくなると、皮膜の硬度が急激に低下し、インサートに適用する硬質皮膜としては満足な性能を得ることが出来ないのである。そこで、４以下の値に限定した。
【０００９】
該硬質皮膜はＸ線光電子分光分析にて、５２５ｅＶから５３５ｅＶにＣｒ、Ａｌ及び／又はＳｉと酸素との結合エネルギーを有することが必要であり、皮膜が緻密化し、酸化雰囲気において酸素の拡散経路となる結晶粒界が不明瞭となり、内向拡散し難くする機能を有する。Ｃｒ、Ａｌ及び／又はＳｉが窒化物、酸化物もしくは酸窒化物の状態で存在しているため、硬質皮膜が緻密化し高硬度を有する。本発明皮膜の特徴である、Ｃｒ、Ａｌ及び／又はＳｉと酸素との結合状態を形成するには、一定以上の酸素を含有させることが必要である。基体にバイアス電圧を印加すると、密着性を一段と高めることができる。成膜条件は、ガス圧を１．５〜５．０Ｐａ、被覆基体温度を３５０〜７００℃、バイアス電圧を−１５〜−３００Ｖのバイアス電圧とすることが好ましく、この範囲において皮膜の密着性と皮膜硬度とのバランスが最適となり、耐高温酸化特性並びに耐摩耗性の優れた緻密な硬質皮膜が得られる。
【００１０】
本発明の被覆インサートに用いる炭化タングステン基超硬合金は、Ｎｉ及び／又はＣｏの和が、重量％で４≦（Ｎｉ＋Ｃｏ）≦２０、の範囲とする。炭化タングステン基超硬合金中のＮｉ及びＣｏは、焼結性を向上させ、結合相を形成することにより硬度に影響を及ぼす添加元素である。また、工具の耐折損性を制御する効果がある。４重量％未満の場合は、上記硬質皮膜内に発生する残留圧縮応力に対して基体強度が十分ではなく、工具寿命は不安定である。これは、硬質皮膜内に発生する残留圧縮応力により、皮膜剥離が発生する場合があるためである。１５重量％を越える場合は基体の硬さが低くなる傾向となり、２０重量％を越える場合は、基体の硬さが低くなり過ぎてしまい、耐摩耗性が劣化し、短寿命を招く。本発明の硬質皮膜の密着性に及ぼす影響を考慮した結果、基体中のＮｉ、Ｃｏの含有量を上記範囲内に決定した。この範囲内であれば、上記硬質皮膜内に発生する残留圧縮応力に対して、基体内部で緩和することが可能であり密着性に優れ、該硬質皮膜の優れた耐酸化性と高硬度である特性を充分に発揮することができる。これらの構成により、インサートによる切削加工の高速化並びに長寿命化を達成することが可能となる。
【００１１】
該硬質皮膜の結晶粒のアスペクト比について、本発明の柱状結晶構造をした皮膜破断面の膜厚Ｔについて、膜厚Ｔの２５％から５０％の厚みであるＴ１に相当する上下膜厚方向の上端位置と下端位置とを求める。この時、上端位置と下端位置は、Ｔ／２に相当する基準位置より上下膜厚方向に略均等となる様に割り振る。各上下端位置における水平方向の上端側粒径Ｋと下端側粒径Ｌを求める。そこで、アスペクト比をＴ１／（（Ｋ＋Ｌ）／２）とすると、柱状結晶構造からなる該硬質皮膜の結晶粒のアスペクト比が、１．２から５である。アスペクト比が５を超えて大きくなると、結晶粒が膜厚方向に細長くなり、皮膜の靭性が低下し好ましくない。１．２未満では粒状結晶が増加する傾向となり、皮膜硬度が低下し好ましくない。更に、該硬質皮膜の残留圧縮応力が、１ＧＰａ以上、５ＧＰａ以下であることが、硬質皮膜に靭性を持たせ、皮膜硬度と基体密着性とのバランスに適した範囲となり、性能の改善に効果的である。
【００１２】
ナノインデンテーションによる硬度測定法によるＥは、３０％≦Ｅ＜４０％であり、皮膜の成膜条件であるバイアス電圧、反応ガス圧やその分圧比、成膜時の基体温度を最適に制御することにより達成できる。Ｅが４０％以上の場合、硬質皮膜内に残留圧縮応力が高くなり過ぎて靭性に乏しくなり密着性を劣化させる。３０％未満の場合は強度不足による異常摩耗等により耐摩耗性が十分でない。好ましいＥの値は３２％〜３８％である。
【００１３】
該硬質皮膜のＣｒの立方晶系化合物ピーク強度をＱ１、Ａｌの六方晶系化合物のピーク強度をＱ２とした時、ピーク強度比Ｑ２／Ｑ１の値が０．１を超えて大きくなると、硬度が急激に低下する。そこで、Ｑ２／Ｑ１の値が０．１以下とすることは、必要な皮膜硬度を得ることに有効であり好ましい。Ｃｒの立方晶系化合物に対するＡｌの六方晶系化合物の割合が増加する。
【００１４】
本発明の皮膜を被覆し被覆基体表面の研磨面や研削面に沿った硬質皮膜表面の凸部や、被覆中に発生したマクロ粒子等の付着により凸部が形成される場合があるため、その凸部を機械的処理により平滑にすることにより、切屑除去効果に更に優れ望ましい。更に、被覆後に切刃エッジに機械的処理を施すことにより、なじみ効果も確認され、耐欠損、耐チッピング特性を改善することができ、より好ましい硬質皮膜を得ることができる。
【００１５】
本発明のインサート基体の硬さは、ＨＲＡ８８以上、ＨＲＡ９６未満である。基体がＨＲＡ８８未満となる場合、過酷な切削環境下において切刃が塑性変形を伴った摩耗進行も確認され、刃先強度が十分ではなく好ましくない。また、ＨＲＡ９６以上となる場合は、切刃のチッピングや欠けを生じる場合があり、好ましくない。更に、本発明の硬質皮膜において金属成分の４原子％未満を周期律表の４ａ、５ａ、６ａ族の金属成分の１種以上で置き換えた場合、また本発明に関わる硬質皮膜を１層以上含有する複層構造においても、同様な効果が確認され好ましく、本発明の技術的範囲に含まれるものである。以下、実施例に基づき、本発明を具体的に説明する。
【００１６】
【実施例】
（実施例１）
成膜には酸素含有の合金ターゲットを用い、反応ガスを真空装置内に導入し全圧を３．０Ｐａ、バイアス電圧を−１００Ｖ、被覆温度を４５０℃とし、膜厚を約５μｍとし、（Ａｌ_０．６Ｃｒ_０．４）（Ｎ_０．８０Ｃ_０．０８Ｏ_０．１０Ｂ_０．０２）を成膜し、本発明例１とした。皮膜組成は、電子プローブＸ線マイクロアナリシス及びオージェ電子分光法により決定した。Ｘ線光電子分光分析は、ＰＨＩ社製１６００Ｓ型Ｘ線光電子分光分析装置を用いて分析した。本発明例１のＸ線光電子分光分析結果を図１に示す。図１は結合エネルギーが５３０ｅＶ近傍のナロースペクトル示し、Ｃｒ−Ｏ及びＡｌ−Ｏの結合の存在を示す。図２はＣｒ−Ｎ及びＣｒ−Ｏの結合の存在を示す。図３はＡｌ−Ｎ及びＡｌ−Ｏの結合の存在を示す。図４のＸ線回折結果は、硬質皮膜のＸ線回折における（１１１）面の回折強度をＩ（１１１）、（２００）面の回折強度をＩ（２００）とした時に、Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）の値が４以下であることを示す。
【００１７】
（実施例２）
実施例１と同様に、（Ａｌ_ｘＣｒ_{１−ｘ−ｙ}Ｓｉ_ｙ）（Ｎ_０．９５Ｏ_０．０５）を成膜し、比較例２、ｘ＝０．２０、ｙ＝０、比較例３、ｘ＝０．３０、ｙ＝０、本発明例４、ｘ＝０．５０、ｙ＝０、本発明例５、ｘ＝０．６０、ｙ＝０、本発明例６、ｘ＝０．７０、ｙ＝０、比較例７、ｘ＝０．８０、ｙ＝０及び（ＡｌｘＣｒ１−ｘ）Ｎ系の従来例９、ｘ＝０．２０、従来例１０、ｘ＝０．５０、従来例１１、ｘ＝０．７０、を製作し、押込硬さを測定した。試験機は微小押込み硬さ試験機を用い、圧子はダイヤモンド製の対稜角１１５度の三角錐圧子を用い、最大荷重を４９ｍＮ、荷重負荷ステップ４．９ｍＮ／ｓｅｃ、最大荷重時の保持時間は１秒とした。測定値は１０点測定の平均値を示した。図５より、本発明例４〜６、Ａｌ添加量、４５〜７５原子％の範囲で、酸素を含有しない系より高硬度を示した。本発明の硬質皮膜は、酸素を含有することにより高硬度となり、４０ＧＰａ以上を得ることが出来る。これによって密着性並びに耐摩耗性に優れた硬質皮膜が得られる。
【００１８】
（実施例３）
ＪＩＳＢ４０５３で規定されているＰ４０相当の組成からなり、形状がＳＥＥ４２ＴＮの炭化タングステン基超硬合金を基体に用い、表１に示す皮膜組成の、本発明例１２〜２２、比較例２３〜３０及び従来例１０を製作した。アークイオンプレーティング法による被覆条件は、被覆基体温度４５０℃、反応圧は３．５Ｐａでバイアス電圧を−１５０Ｖの条件で被覆処理を行なった。表１に皮膜の組成等を示す。
【００１９】
【表１】

【００２０】
表１の試料を用いて、大気中１１００℃の酸化条件で処理した皮膜の酸化層、実施例２同様に微小押込み硬さ、薄板の変形量より算出した残留圧縮応力、弾性回復率を測定した。表１より、酸化層厚さは、本発明例１２〜２２は、殆ど酸化進行が無く、耐高温酸化特性に優れていることが確認された。従来例１０は酸化進行が著しく硬質皮膜は殆ど酸化物となり、酸素の内向拡散が基体まで達していた。押込み硬さもＣ、Ｂを含有させることにより、更に高硬度となる。残留圧縮応力は、本発明例１２〜２０は低く、更に、図６に示す、本発明例１２及び従来例１０の荷重変位曲線より、本発明例１２は、最大荷重時における最大変位量が大きく、塑性変形量が小さく、同一応力が硬質皮膜に作用した際、弾性回復する割合が大きく塑性変形し難いことを示す。この荷重変位曲線よりＥを求めた。Ｅが大きい程弾性回復特性に優れる。表１より、本発明例１２〜２２は弾性回復特性に優れ、硬質皮膜の剥離やクラックの低減が可能となり、密着性に優れた硬質皮膜を得ることができる。これは、皮膜硬度差よりも大きな効果がある。
【００２１】
次に、表１の本発明例及び比較例を用いて圧痕試験による皮膜剥離状況を併記する。測定はロックウェル硬度計により１４７０Ｎの荷重で圧痕を形成し、光学顕微鏡により観察した。本発明例１２〜２２は剥離が無く、優れた密着性を示した。これは本発明例が適正なＥ値の範囲内にあるためである。比較例２３〜３０、従来例１０は被覆基体の塑性変形に追従することができず、圧痕周辺部に膜剥離が発生した。
【００２２】
（実施例４）
表１に示す本発明例１２から２２、比較例２３から３０及び従来例１０の硬質皮膜を、表１に示す（Ｎｉ＋Ｃｏ）の組成と硬度をもつ炭化タングステン基超硬合金を基体として、炭化タングステン基超硬合金製インサートに、各組成からなるターゲットを配置したアークイオンプレーティング装置内に工具をセットし、真空中４５０℃で１時間の脱ガス加熱工程を実施し、Ａｒイオンによる被覆基体のクリーニング処理を行なった。実施例３と同じ方法でインサート表面に、硬質皮膜を３μｍの厚さで被覆した。表１に示す本発明例１２から２２、比較例２３から３０及び従来例１０の被覆インサートを用いて、下記条件の切削試験を行い被覆インサートが切削不能に至るまでの切削長を表１に併記する。
（切削諸元）
被削材：ＳＫＤ１１（硬さＨＢ２１９）
切り込み：２ｍｍ
切削速度：１２０ｍ／ｍｉｎ
送り：０．２ｍｍ／刃
切削油：なし（エアーブロー）
【００２３】
表１より、本発明例１２〜２２の炭化タングステン基超硬合金を基体とした硬質皮膜被覆インサートは、従来例１０と比較して切削不能に至るまでの切削長が長く、耐摩耗性に優れている。本発明例２０は本発明皮膜被覆後にダイヤモンド粒子を含有した粒子を工具すくい面に投射することにより、硬質皮膜表面を平滑にしたが、本発明例１２と比較しても、より切削寿命が延長している。比較例２３は被覆条件をバイアス電圧−５００Ｖで被覆した硬質皮膜のＸ線回折による最強強度面指数が（２２０）面を示し、Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）の値が４．５となり、本発明例に比べて切削寿命が短い。比較例２６はターゲットに含有する酸素濃度が１８００ｐｐｍからなるターゲットを使用した場合を示すが、Ｘ線光電子分光分析により酸化物としての結合状態が確認されない場合を示し、本発明例に比べて切削寿命が短い。比較例２７はＡｌ含有量が２０原子％の場合であり、弾性回復率は３０％以下となり、切削寿命が短く、耐摩耗性が十分ではない。比較例２８はＡｌ含有量が８０原子％の場合であり、切削寿命が短く耐摩耗性に劣る。比較例２９は酸素含有量が５５原子％の場合であるが、耐摩耗性が十分ではない。比較例３０はＳｉ含有量が３４原子％の場合であるが耐摩耗性が十分ではない。
【００２４】
本発明例１２、１３、１４はそれぞれ基体の（Ｎｉ＋Ｃｏ）値が異なる場合の本発明例であるが従来例に比べ、切削寿命が長い。一方、比較例２４、２５に基体中の（Ｎｉ＋Ｃｏ）値が３．５重量％の場合と２１．１重量％の場合を示す。基体中の（Ｎｉ＋Ｃｏ）値が２２．１重量％の場合、切刃の逃げ面側へ塑性変形を生じ、基体強度が十分ではなく、チッピングが多発した。基体中の（Ｎｉ＋Ｃｏ）値が３．５重量％の場合は、微小な欠けや硬質皮膜剥離が観察され、高硬度を有する該硬質皮膜との密着性が悪く、不安定な摩耗状態であり、本発明である硬質皮膜の特性を十分に発揮できなかった。従って、被覆インサートによる切削加工においては硬質皮膜により、被覆基体の影響がかなり大きいことが明らかである。本発明例１５は基体の硬度がＨＲＡ８７．５であるが従来例に比べ切削寿命が長い。更に、比較例２８、３０は半価幅が１度以上となり、また、結晶粒径のアスペクト比についても５を超えて大きくなっていて、耐摩耗性が十分ではなく、工具寿命が短い。これらは、皮膜の（１１１）面配向が強い為、残留圧縮応力も高くなって皮膜の密着性が低下したことが短寿命となった原因と考えられる。更に比較例２８はピーク強度比Ｑ２／Ｑ１の値が、０．１を超えて大きい値を示した。このことは、膜組成におけるＡｌ含有量の多いため、Ａｌの六方晶系化合物の含有割合が増加したためである。これによって、皮膜の硬度が低下し、十分な耐摩耗性が得られなかった。
【００２５】
（実施例５）
ＪＩＳＢ４０５３で規定されているＰ４０相当の組成（ＨＲＡ８９．５）からなり、形状がＳＥＥ４２ＴＮの炭化タングステン基超硬合金を基体に用い、表２に示す被膜を３μｍの厚さで被覆した。但し、本発明例３１、４２、４３と比較例５０においては、同一の被膜とし、被覆条件を調整することにより、Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）の強度比を調整した。表２に示す本発明例３１から４３、比較例４４から５０の被覆インサートを用いて、下記条件の切削試験を行い被覆インサートが切削不能に至るまでの切削長を表２に併記する。
（切削諸元）
切削方法：粗加工
被削材：ＮＡＫ８０、ＨＲＣ４０（巾：１５０ｍｍ、長さ：２５０ｍｍ）
切り込み：２ｍｍ
切削速度：１２０ｍ／ｍｉｎ
送り：０．２ｍｍ／刃
切削油：なし（エアーブロー）
カッター径：φ１６０ｍｍ、８枚刃
【００２６】
【表２】

【００２７】
表２から明らかなように、本発明例３１から４３は全体に切削寿命が長い。本発明例３１、３２、比較例４５はＡｌ含有量の影響を示す。Ａｌ含有量の多い比較例４５は六方晶系化合物のピークも確認され寿命は短い結果である。本発明例３３はＳｉ添加なくしても十分な効果が確認された例である。本発明例３５、３６、比較例４７は酸素添加効果の比較を示すが、酸素添加なくしては、十分な性能が得られないことが確認された。本発明例３７、３８、３９、比較例４８は炭素添加の影響である。炭素添加が多すぎると皮膜に剥離が発生し、極端に短寿命である。本発明例３６、４０、４１、比較例４９は硼素添加量の比較である。硼素添加が多すぎても同様に、短寿命である。本発明例３１、４２、４３と比較例５０においては、同一組成の被膜の時、Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）の強度比の効果を示す。比較例５０はＩ（２００）／Ｉ（１１１）の値が５．２を示し、工具寿命が短くなっている。
【００２８】
【発明の効果】
本願発明の硬質皮膜被覆インサートを適用することにより、切削加工に用いても十分な耐摩耗性を有し、基体表面とその直上の硬質皮膜とが密着性の改善を図り、更に耐高温酸化特性に優れた硬質皮膜被覆インサートを得ることが出来た。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明例のＣｒ−Ｏ及びＡｌ−Ｏの結合エネルギーを示す。
【図２】図２は、本発明例のＣｒ−Ｎ及びＣｒ−Ｏの結合エネルギーを示す。
【図３】図３は、本発明例のＡｌ−Ｎ及びＡｌ−Ｏの結合エネルギーを示す。
【図４】図４は、本発明例のＸ線回折結果を示す。
【図５】図５は、本発明例と従来例のＡｌ添加量と皮膜硬度の関係を示す。
【図６】図６は、本発明例１２及び従来例１０の荷重変位曲線を示す。

Claims

被覆インサートにおいて、該被覆はアーク放電式イオンプレーティング法により被覆された硬質皮膜であり、該硬質皮膜は、（Ａｌ_ｘＣｒ_{１−ｘ−ｙ}Ｓｉ_ｙ）（Ｎ_{１−α−β−γ}Ｂ_αＣ_βＯ_γ）、但し、ｘ、ｙ、α、β、γは夫々原子比率を示し、０．４５＜ｘ＜０．７５、０≦ｙ＜０．２、０≦α＜０．１２、０≦β＜０．２、０．０１≦γ≦０．２５、からなり、Ｘ線回折における（１１１）面の回折強度をＩ（１１１）、（２００）面の回折強度をＩ（２００）とした時、Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）の値が４以下からなり、Ｘ線光電子分光分析における５２５ｅＶから５３５ｅＶの範囲に、少なくともＣｒ、Ａｌ及び／又はＳｉと酸素との結合エネルギーを有し、該インサートの基体は炭化タングステン基超硬合金からなり、Ｎｉ及び／又はＣｏの和が重量％で４≦（Ｎｉ＋Ｃｏ）≦２０、としたことを特徴とする被覆インサート。
請求項１記載の被覆インサートにおいて、該硬質皮膜のＸ線回折における（２００）面回折ピークの２θの半価幅が、０．５度以上、１度以下であることを特徴とする被覆インサート。
請求項１又は請求項２記載の被覆インサートにおいて、該硬質皮膜はナノインデンテーションによる硬度測定により求められる弾性回復率Ｅが、３０％≦Ｅ＜４０％であることを特徴とする被覆インサート。
請求項１乃至請求項３いずれかに記載の被覆インサートにおいて、該硬質皮膜のＸ線回折により、Ｃｒの立方晶系化合物とＡｌの六方晶系化合物のピークが検出され、該Ｃｒの立方晶系化合物の（２００）面ピーク強度をＱ１、Ａｌの六方晶系化合物の（００１）面ピーク強度をＱ２とした時、ピーク強度比Ｑ２／Ｑ１の値が、０≦Ｑ２／Ｑ１≦０．１となることを特徴とする被覆インサート。
請求項１乃至請求項４いずれかに記載の被覆インサートにおいて、該硬質皮膜表面の凸部を機械的処理により平滑にしたことを特徴とする硬質皮膜被覆インサート。
請求項１記載の硬質皮膜被覆インサートにおいて、該炭化タングステン基超硬合金の硬さがＨＲＡ８８以上、ＨＲＡ９６未満であることを特徴とする硬質皮膜被覆インサート。