JP2004297047A - 化合物半導体積層構造、発光素子、及び受光素子 - Google Patents
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Abstract
【課題】 基板と、この基板上に形成される半導体層との格子不整合に起因する歪みの低減がなされた化合物半導体積層構造と、この構造を有する発光素子及び受光素子を提供する。
【解決手段】 基板32上の、階段状もしくは連続的に格子定数の変化がなされて形成された積層バッファ層42の最上層としてInPによる第4バッファ層40を設け、この第4バッファ層40の上面に、基板32とは格子定数の異なる特定化合物半導体層44が形成された構成とする。
【選択図】 図1
【解決手段】 基板32上の、階段状もしくは連続的に格子定数の変化がなされて形成された積層バッファ層42の最上層としてInPによる第4バッファ層40を設け、この第4バッファ層40の上面に、基板32とは格子定数の異なる特定化合物半導体層44が形成された構成とする。
【選択図】 図1
Description
本発明は、基板に対して2%以上の格子不整合性を有する特定化合物半導体層を、基板と特定化合物半導体層との間の格子不整合性を緩和するバッファ層を介して基板上に備える化合物半導体積層構造に関し、更に詳細には、異種基板上に結晶性の良好な特定化合物半導体層を有する化合物半導体積層構造、並びにそのような化合物半導体積層構造を有する発光素子及び受光素子に関するものである。
従来、波長が1.3μmのInGaAsP系の半導体レーザ素子やInGaAs系のフォトダイオード等の光学デバイスや、高電子移動度トランジスタを作製する際の基板には、InGaAsP系やInGaAs系の化合物半導体と格子整合するInP基板が主として用いられている。
ところで、InP基板は高価なために製品コストが嵩むという問題がある。そこで、近年、基板コストを低減するために、基板コストの低いGaAs基板上にGaAs基板と格子定数の異なるInGaAs系化合物半導体層を結晶成長させるなどの、結晶基板上に格子定数の異なる化合物半導体結晶を成長させる試みが、盛んに行われている。
また、低コストで集積デバイスの作製にも適し、応用分野も広いSi基板上に例えばInGaAs系の直接遷移型の半導体を成長させる試みもなされている。Si基板上での半導体の成長が可能とされれば、発光及び受光のデバイスの作製により、Si基板上に作製した電子デバイスとの集積化による光電子集積回路(OEIC;Opto−Electronic Integrated Circuit)の実現が可能となる。
しかし、GaAsやSiよりなる基板上にInGaAs等の基板材料に対する格子不整合系の化合物半導体層を結晶成長させると、基板と格子不整合系の化合物半導体層との間の格子不整合に起因して、格子不整合系の化合物半導体層で歪みが大きくなり、多数の結晶欠陥が格子不整合系の化合物半導体層に発生したり、格子不整合系の化合物半導体層やその上に成長させた化合物半導体層の表面に凹凸が発生したりして、格子不整合系及びその上の化合物半導体層の結晶性が著しく低下する。
例えば、化合物半導体層の成長方向に貫通する貫通転位が化合物半導体層に発生すると、非発光再結合が生じる原因となる。半導体レーザ素子等の発光素子では、発光効率が非発光再結合により大幅に下がり、また動作中に貫通転位が増殖して著しい劣化を引き起こす。また、フォトダイオード等の受動素子では、非発光再結合が生じることにより、キャリアがトラップされ、応答速度が遅くなるという問題を招来する。
そこで、この問題を解決するために、異種基板上に、直接、格子不整合系の化合物半導体層を成長させるのではなく、階段状に組成を変化させる積層バッファ層、或いは連続的に組成を変化させた傾斜組成バッファ層からなる格子不整合緩和層を介在させて、格子不整合に起因する歪みを低減し、格子不整合系の化合物半導体層の結晶性を向上させることが試みられている。
例えば、特開2000−91558号公報は、In0.52Al0.48As/p−InGaAs系のHEMT部をGaAs基板上に形成した半導体装置を提案している。前掲公報によれば、第1バッファ層から第5バッファ層からなる5層構造のバッファ層が両者間に介在し、第1バッファ層から第5バッファ層のそれぞれのIn組成比が各層の界面毎に不連続となるようにギャップが設けられ、かつ、各層内のIn組成比が略線形で連続的に変化するように形成されている(第4頁、図1参照)。
また、特開2001−111039号公報は、厚さ1μm以下の化合物半導体からなるバッファ層を介して、基板上に基板結晶と格子定数の異なる所定の化合物半導体層を積層した格子不整合系積層構造を有する半導体装置を提案している。
前掲公報では、バッファ層は、複数の第1領域と複数の第2領域を積層方向に積層した積層構造として構成され、第1領域の格子定数は積層方向で所定の化合物半導体層に向かって増加し、第1領域の厚さは基板結晶との格子不整合に起因する格子歪を緩和できる厚さとし、第2領域は第1領域の化合物半導体層側の面上にこれに接して形成され、第2領域の格子定数は積層方向で一定とし、かつバッファ層の格子定数は積層方向で連続している(第4頁、図2参照)。
特開2000−091558号公報(第4頁、図1)
特開2001−111039号公報(第4頁、図2)
しかし、前掲公報等に開示されている従来の技術は、バッファ層内で発生した転位をバッファ層内で押し止める抑制効果が小さく、例えばバッファ層上に成長させるInGaAs層のIn組成を増やすと、InGaAs層の転位密度が急激に増大し、また表面形状が悪化するという問題があった。特に、基板に対して格子不整合性Sが2%以上存在する化合物半導体層、例えばGaAs基板に対するInx Ga1-x As層(1≧x≧0.5)のような化合物半導体層をエピタキシャル成長させる場合に、結晶転位等の結晶欠陥の発生が著しい。
なお、格子不整合性Sとは、
S={(a2 −a1 )/a1 }×100
で表される指標である。ここで、a1 は基板の平行方向の格子定数、及びa2 は化合物半導体層の基板に平行方向の格子定数である。
S={(a2 −a1 )/a1 }×100
で表される指標である。ここで、a1 は基板の平行方向の格子定数、及びa2 は化合物半導体層の基板に平行方向の格子定数である。
また、バッファ層を介在させた別の従来の化合物半導体積層構造10は、図9にその断面図を示すように、GaAs基板12上に、格子不整合系化合物半導体層である膜厚0.35μmのIn0.53Ga0.47As層14すなわち特定化合物半導体層をエピタキシャル成長させる場合、膜厚0.35μmのIn0.17Ga0.83Asからなる第1バッファ層16、膜厚0.35μmのIn0.28Ga0.72Asからなる第2バッファ層18、及び膜厚0.35μmのIn0.39Ga0.61Asからなる第3バッファ層20の3層のInGaAs層からなるバッファ層22を格子緩和層として介在させている。つまり、格子不整合系化合物半導体層に向かってIn組成が階段的に増大する3層のIn組成の異なるInGaAs層をバッファ層として介在させている。
しかし、図9に示した従来の構成の積層構造10では、バッファ層22が格子緩和層として大きな効果を奏するものの、格子不整合系化合物半導体層であるIn0.53Ga0.47As層14の表面は、図10の表面光学顕微鏡写真に示すように、凹凸が著しい。つまり、In0.53Ga0.47As層14の結晶性を更に一層改善する必要がある。
そこで、本発明の目的は、基板に対して2%以上の格子不整合性を有するものの良好な結晶性の化合物半導体層を基板上に備える化合物半導体積層構造、並びにそのような化合物半導体積層構造を備える半導体装置、発光素子及び受光素子を提供することである。具体的には、例えば、GaAs基板上に良好な結晶性でエピタキシャル成長した格子不整合系化合物半導体層であるInGaAs層又はInP層を有する積層構造を提供することである。
本発明による化合物半導体積層構造は、基板に対して2%以上の格子不整合性を有する化合物半導体層(以下、特定化合物半導体層と言う)を基板上に有する化合物半導体積層構造であって、InP層を最上層に有する積層構造からなるバッファ層が、基板と特定化合物半導体層との間の格子不整合性を緩和する緩和層として、InP層を特定化合物半導体層の下側に接した位置で基板と特定化合物半導体層との間に介在していることを特徴とする。
また、本発明は、上述の化合物半導体積層構造において、バッファ層を構成するInP層以外の化合物半導体層が、化合物半導体の格子不整合性が下地層の平行方向の格子定数に対して十分に緩和し、かつ2次元成長を維持できる範囲の格子不整合性であり、化合物半導体層の膜厚が下地層に対する格子不整合性を十分に緩和し、かつ2次元成長を維持できる範囲の膜厚であることを特徴とする。
また、本発明は、上述の化合物半導体積層構造において、バッファ層が、最上層のInP層と、InP層以外の複数の化合物半導体層とからなる積層構造として構成されていることを特徴とする。
また、本発明は、上述の化合物半導体積層構造において、バッファ層を構成するInP層以外の複数の化合物半導体層の各格子定数が、基板の格子定数と特定化合物半導体層の格子定数の間の大きさの格子定数であって、かつ複数の化合物半導体層毎に階段状に増大ないし減少することを特徴とする。
また、本発明は、上述の化合物半導体積層構造において、バッファ層を構成するInP層以外の化合物半導体層の格子定数が基板の格子定数と特定化合物半導体層の格子定数の間の大きさの格子定数であって、かつ連続的に増大ないし減少する傾斜組成層として構成されていることを特徴とする。
また、本発明は、上述の化合物半導体積層構造において、InP層の膜厚が0.01μm以上10μm以下であることを特徴とする。
また、本発明は、上述の化合物半導体積層構造において、基板がGaAsもしくはSiで形成され、特定化合物半導体層、及びバッファ層を構成するInP層以外の化合物半導体層がIII −V族化合物半導体からなり、III 族原子としてIn、Ga、及びAlの少なくとも一つ、V族原子としてAs及びSbの少なくとも1つを含むことを特徴とする。
また、本発明は、上述の化合物半導体積層構造において、バッファ層を構成するInP層以外の各化合物半導体層、及び特定化合物半導体層がInx Ga1-x As層であって、各化合物半導体層の膜厚が臨界膜厚の15倍以上かつ100倍以下であることを特徴とする。
また、本発明による半導体装置は、上述の化合物半導体積層構造を備えることを特徴とする。
また、本発明による発光素子は、上述の化合物半導体積層構造を備え、半導体積層構造の特定化合物半導体層が発光層を構成することを特徴とする。
また、本発明による受光素子は、上述の化合物半導体積層構造を備え、化合物半導体積層構造の特定化合物半導体層が受光層を構成することを特徴とする。
尚、上述の臨界膜厚とは、一の化合物半導体層上に一の化合物半導体層と格子定数の異なる化合物半導体層を成長させて行くと、格子不整合により生じる歪みによって化合物半導体層中にミスフィット転位が生じ、歪みが緩和し始める厚さである。図11に、この臨界膜厚と格子不整合との関係を、GaAs基板もしくはSi基板上にInGaAsを成長した場合を例として示す。ミスフィット転位は、格子不整合のある化合物半導体層を積層すると格子定数の違いにより歪みが生じ、その界面に2次元方向に発生する転位である。
ここで、2次元成長或いは2次元的に成長するとは、結晶成長が平面的に進行することをいう。3次元成長或いは3次元的に成長するとは、平面的な成長よりも立体的な上方向への成長が優勢して進行することをいう。
ここで、2次元成長或いは2次元的に成長するとは、結晶成長が平面的に進行することをいう。3次元成長或いは3次元的に成長するとは、平面的な成長よりも立体的な上方向への成長が優勢して進行することをいう。
本発明によれば、基板と特定化合物半導体層との間の格子不整合性を緩和するバッファ層として、最上層(基板と反対側の最外層)にInP層を有する積層構造からなるバッファ層を、InP層を特定化合物半導体層の下側に接して位置させるようにして、基板と特定化合物半導体層との間に介在させることにより、基板に対して2%以上の格子不整合性を有し、しかも結晶性の良好な特定化合物半導体層を基板上に備える化合物半導体積層構造を実現することができる。
即ち、組成むらが起こらず欠陥増殖速度が遅いInP層を積層バッファ層の最上層に設けて、特定化合物半導体層への結晶転位の伝搬を抑制することにより、特定化合物半導体層の表面形状を改善し、結晶欠陥の発生を抑えることができる。
即ち、組成むらが起こらず欠陥増殖速度が遅いInP層を積層バッファ層の最上層に設けて、特定化合物半導体層への結晶転位の伝搬を抑制することにより、特定化合物半導体層の表面形状を改善し、結晶欠陥の発生を抑えることができる。
本発明によれば、基板と特定化合物半導体層との間の格子不整合性を緩和するバッファ層が基板と特定化合物半導体層との間に介在し、しかも欠陥増殖速度の遅いInP層が特定化合物半導体層の基板側に接して設けられているので、基板と特定化合物半導体層との間の格子不整合性がバッファ層により緩和され、更にInP層により欠陥転位の伝搬が著しく抑制される。
これは、InPが2元系の化合物半導体であることから、InP層に組成むらが生じず、またInPの欠陥増殖速度が遅いという性質に依っていると考えられる。
また、化合物半導体層の2次元成長を維持することにより、基板と平行方向に伝播するミスフィット転位の発生に伴い、緩和が生じる。下地層に対して化合物半導体層の格子不整合性が大きすぎると、化合物半導体層が3次元的に成長してしまい、貫通転位の原因となる。また、下地層に対する格子不整合性が小さすぎると、ミスフィット転位による緩和が起こらない。
これは、InPが2元系の化合物半導体であることから、InP層に組成むらが生じず、またInPの欠陥増殖速度が遅いという性質に依っていると考えられる。
また、化合物半導体層の2次元成長を維持することにより、基板と平行方向に伝播するミスフィット転位の発生に伴い、緩和が生じる。下地層に対して化合物半導体層の格子不整合性が大きすぎると、化合物半導体層が3次元的に成長してしまい、貫通転位の原因となる。また、下地層に対する格子不整合性が小さすぎると、ミスフィット転位による緩和が起こらない。
本発明を適用することにより、InP基板に比べ安価なGaAs基板を用いて波長1.3μmの光学デバイスや、高性能の高電子移動度トランジスタを作製することができ、また、GaAs基板上に光素子及び電気素子を集積化したモジュール等を形成することが可能になる。
また、本発明により、Si基板上にInGaAs層等の直接遷移型の半導体を成長することが可能とされることから、電子デバイスとの集積化により光電子集積回路(OEIC)を形成することが可能となり、特に通信分野においては、Si基板上に作製したトランスインピーダンスアンプ(TIA)と光通信用受光素子との集積化が可能とされることから、デバイスの小型化及びノイズの大幅な低減が図られ、付加価値の高いデバイスの作製が可能になる。
以下に、添付図面を参照して、実施形態例に基づいて本発明をより詳細に説明する。尚、以下の実施形態例で示した導電型、膜種、膜厚、成膜方法、その他寸法等は、本発明の理解を容易にするための例示であって、本発明はこれら例示に限定されるものではない。
因みに、本発明は、基板に対する格子不整合性が2%以上の特定化合物半導体層による化合物半導体積層構造であるが、Si基板に対する格子不整合が最も大とされている12%以下、すなわち2%〜12%の格子不整合性を有する特定化合物半導体による化合物半導体積層構造とすることができるものである。
因みに、本発明は、基板に対する格子不整合性が2%以上の特定化合物半導体層による化合物半導体積層構造であるが、Si基板に対する格子不整合が最も大とされている12%以下、すなわち2%〜12%の格子不整合性を有する特定化合物半導体による化合物半導体積層構造とすることができるものである。
[化合物半導体積層構造の実施形態例1]
本実施形態例は本発明に係る化合物半導体積層構造の実施形態の一例であって、図1は本実施形態例の化合物半導体積層構造の構成を示す断面図である。
本実施形態例の化合物半導体積層構造30は、例えばGaAsよりなる基板32上に、MOCVD法(有機金属製成長法)により順次エピタキシャル成長させた、例えば膜厚0.35μmのIn0.17Ga0.83Asよりなる第1バッファ層34、例えば膜厚0.35μmのIn0.28Ga0.72Asよりなる第2バッファ層36、例えば膜厚0.35μmのIn0.39Ga0.61Asよりなる第3バッファ層38、及び例えば膜厚0.35μmのInPよりなる第4バッファ層40からなる積層バッファ層42と、第4バッファ層40上にエピタキシャル成長させた、この例ではGaAsに対して2%以上の格子不整合性を有する、例えば膜厚0.35μmのIn0.53Ga0.47Asによる特定化合物半導体層44とから構成されている。
上述のように、化合物半導体積層構造30は、基板32と、この基板を構成する例えばGaAsに対して2%以上の格子不整合性を有する格子不整合系化合物半導体である例えばIn0.53Ga0.47Asよりなる特定化合物半導体層44との間にバッファ層として積層バッファ層42を介在させている。
本実施形態例は本発明に係る化合物半導体積層構造の実施形態の一例であって、図1は本実施形態例の化合物半導体積層構造の構成を示す断面図である。
本実施形態例の化合物半導体積層構造30は、例えばGaAsよりなる基板32上に、MOCVD法(有機金属製成長法)により順次エピタキシャル成長させた、例えば膜厚0.35μmのIn0.17Ga0.83Asよりなる第1バッファ層34、例えば膜厚0.35μmのIn0.28Ga0.72Asよりなる第2バッファ層36、例えば膜厚0.35μmのIn0.39Ga0.61Asよりなる第3バッファ層38、及び例えば膜厚0.35μmのInPよりなる第4バッファ層40からなる積層バッファ層42と、第4バッファ層40上にエピタキシャル成長させた、この例ではGaAsに対して2%以上の格子不整合性を有する、例えば膜厚0.35μmのIn0.53Ga0.47Asによる特定化合物半導体層44とから構成されている。
上述のように、化合物半導体積層構造30は、基板32と、この基板を構成する例えばGaAsに対して2%以上の格子不整合性を有する格子不整合系化合物半導体である例えばIn0.53Ga0.47Asよりなる特定化合物半導体層44との間にバッファ層として積層バッファ層42を介在させている。
つまり、積層バッファ層42では、InGaAsからなる第1バッファ層34から第3バッファ層36のIn組成比(原子比)が、格子不整合系化合物半導体である特定化合物半導体層44に向かって、この例では積層方向に順次階段的に0.11ずつ、即ち0.17、0.28、0.39と増加している。
第1バッファ層34の格子不整合性は、基板32に対する第1バッファ層34の格子不整合を十分に緩和し、第1バッファ層34の2次元成長を維持できる範囲内で、例えば基板32に対して1.3%以内である。また、第1バッファ層34の膜厚は、基板32に対する格子不整合を十分に緩和し、2次元成長を維持できる範囲内、例えば臨界膜厚の15倍以上100倍以下、好適には20倍以上100倍以下である。
そこで、本実施形態例では、第1バッファ層34として、膜厚が0.35μm、In組成xが0.17のInx Ga1-x As層が設けられている。
そこで、本実施形態例では、第1バッファ層34として、膜厚が0.35μm、In組成xが0.17のInx Ga1-x As層が設けられている。
尚、第1バッファ層34の歪みは完全に緩和されておらず、第1バッファ層34の基板32に平行方向の格子定数は、第1バッファ層34を構成する例えばIn0.17Ga0.83Asの、本来固有の格子定数より小さくなっている。
そこで、本実施形態例では、第2バッファ層36を設けることにより第1バッファ層34の歪みを緩和する。
そこで、本実施形態例では、第2バッファ層36を設けることにより第1バッファ層34の歪みを緩和する。
第2バッファ層36の格子不整合性は、第1バッファ層34に対する第2バッファ層36の格子不整合を十分に緩和し、第2バッファ層36の2次元成長を維持できる範囲内で、例えば第1バッファ層34に対して1.3%以内である。また、第2バッファ層36の膜厚は、第1バッファ層34に対する格子不整合を十分に緩和し、2次元成長を維持できる範囲内、例えば臨界膜厚の15倍以上100倍以下、好適には20倍以上100倍以下である。
そこで、本実施形態例では、第2バッファ層36として、膜厚が0.35μm、In組成xが0.28のInx Ga1-x As層が設けられている。
そこで、本実施形態例では、第2バッファ層36として、膜厚が0.35μm、In組成xが0.28のInx Ga1-x As層が設けられている。
第1バッファ層34を構成するInx Ga1-x As層(x=0.17)は、GaAs基板32との間に格子不整合が存在するために、緩和させる力(引っ張り歪み)が生じ、これにより、第1バッファ層34の歪みは緩和する。更に、第2バッファ層36を第1バッファ層34上に成長させることにより、第1バッファ層34と第2バッファ層36との間の格子不整合性のために緩和させる力(引っ張り歪み)が生じる。
第1バッファ層34上に第2バッファ層36を積層することにより、第1バッファ層34に基板32と第2バッファ層36から緩和させる力(引っ張り歪み)が働くので、第1バッファ層34の緩和が促進する。
第1バッファ層34上に第2バッファ層36を積層することにより、第1バッファ層34に基板32と第2バッファ層36から緩和させる力(引っ張り歪み)が働くので、第1バッファ層34の緩和が促進する。
第3バッファ層38の格子不整合性は、第2バッファ層36に対する第3バッファ層38の格子不整合を十分に緩和し、第3バッファ層38の2次元成長を維持できる範囲内で、例えば第2バッファ層36に対して1.3%以内である。また、第3バッファ層38の膜厚は、第2バッファ層34に対する格子不整合を十分に緩和し、2次元成長を維持できる範囲内、例えば臨界膜厚の15倍以上100倍以下、好適には20倍以上100倍以下である。
そこで、本実施形態例では、第3バッファ層38として、膜厚が0.35μm、In組成が0.39のInx Ga1-x As層が設けられている。これにより、第1バッファ層34の緩和と同様にして、第2バッファ層36の緩和が促進される。
そこで、本実施形態例では、第3バッファ層38として、膜厚が0.35μm、In組成が0.39のInx Ga1-x As層が設けられている。これにより、第1バッファ層34の緩和と同様にして、第2バッファ層36の緩和が促進される。
そして、第3バッファ層上に上述のInPによる第4バッファ層を積層する上述の積層バッファ層42の構成により、本実施形態例の積層構造30は、図2に特定化合物半導体層44の表面光学顕微鏡写真の写しを示すように、図9に示す従来の化合物半導体積層構造10のIn0.53Ga0.47As層14の表面(図10の、特定化合物半導体層14の表面顕微鏡写真を参照)に比べて、表面に凹凸の少ない結晶性の良好なIn0.53Ga0.47As層44を有する。
第4バッファ層としてInP層40を設けていることを除いて、従来の化合物半導体積層構造10と同じ構成の第1〜第3バッファ層を備える本実施形態例の化合物半導体積層構造30が表面に凹凸の少ない結晶性の良好な特定化合物半導体層44を有するのは、InP層を介在させることにより結晶転位の伝搬が顕著に抑制され、特定化合物半導体層44の表面形状が大幅に改善するからである。これは、InPが2元系の化合物半導体であることから、InP層に組成むらが生じず、またInPの欠陥増殖速度が遅いという性質に依っていると考えられる。
また、図3に、In層を設けた本実施形態例の化合物半導体積層構造の特定化合物半導体層44の表面と、In層が設けられない従来の化合物半導体積層構造の特定化合物半導体層の表面とのRMSの比較を示すグラフを示すように、本実施形態例の積層構造30の特定化合物半導体層44は、InP層40を有しないことを除いて本実施形態例の積層バッファ層42と同じ構成の従来の積層構造10のIn0.53Ga0.47As層14に比べて、表面のRMS(Root Mean Square)が著しく小さい。このことから、本実施形態例の特定化合物半導体層44は、従来のIn0.53Ga0.47As層14に比べて格別に結晶性が良好であると考えられる。
[化合物半導体積層構造の実施形態例2]
本実施形態例は本発明に係る化合物半導体層の積層構造の実施形態の他の例であって、図4Aは本実施形態例の化合物半導体層の積層構造の構成を示す断面図、図4Bは組成傾斜層のIn組成の変化を示すグラフである。
本実施形態例の化合物半導体積層構造50は、図4Aに示すように、例えばGaAsよりなる基板52上に、MOCVD法(有機金属製成長法)によりエピタキシャル成長させた、例えば膜厚1.0μmのIn傾斜組成層であるInx Ga1-x Asよりなる組成傾斜バッファ層54と、このInx Ga1-x As層54上にエピタキシャル成長した例えばInPよりなるバッファ層56とからなる積層バッファ層58と、そのバッファ層56上にエピタキシャル成長させた、基板52を構成する材料この例ではGaAsに対して2%以上の格子不整合性を有する、例えば膜厚0.35μmのIn0.53Ga0.47Asよりなる特定化合物半導体層59とから構成されている。
本実施形態例は本発明に係る化合物半導体層の積層構造の実施形態の他の例であって、図4Aは本実施形態例の化合物半導体層の積層構造の構成を示す断面図、図4Bは組成傾斜層のIn組成の変化を示すグラフである。
本実施形態例の化合物半導体積層構造50は、図4Aに示すように、例えばGaAsよりなる基板52上に、MOCVD法(有機金属製成長法)によりエピタキシャル成長させた、例えば膜厚1.0μmのIn傾斜組成層であるInx Ga1-x Asよりなる組成傾斜バッファ層54と、このInx Ga1-x As層54上にエピタキシャル成長した例えばInPよりなるバッファ層56とからなる積層バッファ層58と、そのバッファ層56上にエピタキシャル成長させた、基板52を構成する材料この例ではGaAsに対して2%以上の格子不整合性を有する、例えば膜厚0.35μmのIn0.53Ga0.47Asよりなる特定化合物半導体層59とから構成されている。
組成傾斜バッファ層54では、In組成がInx Ga1-x As層54の成長方向にx=0から例えばx=0.4までの間が連続的に増大する。Inx Ga1-x As層54の膜厚が1.0μmに設定されている理由は、In組成が成長方向に急激に増大すると、欠陥等が発生し、結晶性が悪化するため、In組成を緩やかに増大させる必要があるからである。
上述の構成による積層バッファ層58により、本実施形態例の化合物半導体積層構造50は、実施形態例1と同様に、表面に凹凸の少ない結晶性の良好な特定化合物半導体層59を有する。
上述の構成による積層バッファ層58により、本実施形態例の化合物半導体積層構造50は、実施形態例1と同様に、表面に凹凸の少ない結晶性の良好な特定化合物半導体層59を有する。
[化合物半導体積層構造の実施形態例3]
本実施形態例は本発明に係る化合物半導体層の積層構造の実施形態の他の例であって、図5は本実施形態例の化合物半導体積層構造の構成を示す断面図である。
本実施形態例の化合物半導体積層構造130は、Siよりなる基板132上に、MOCVD法により順次エピタキシャル成長させた、例えば膜厚100ÅのGaAsによる第1下地層133a及び膜厚1μmのGaAsによる第2下地層133bよりなる積層下地層133とを形成した。
本実施形態例は本発明に係る化合物半導体層の積層構造の実施形態の他の例であって、図5は本実施形態例の化合物半導体積層構造の構成を示す断面図である。
本実施形態例の化合物半導体積層構造130は、Siよりなる基板132上に、MOCVD法により順次エピタキシャル成長させた、例えば膜厚100ÅのGaAsによる第1下地層133a及び膜厚1μmのGaAsによる第2下地層133bよりなる積層下地層133とを形成した。
続いて、連続MOCVDによって積層下地層133上に例えば膜厚0.35μmのIn0.17Ga0.83Asよりなる第1バッファ層134、例えば膜厚0.35μmのIn0.28Ga0.72Asよりなる第2バッファ層136、例えば膜厚0.35μmのIn0.39Ga0.61Asよりなる第3バッファ層138、及び例えば膜厚0.35μmのInPよりなる第4バッファ層140からなる積層バッファ層142とを成長させた。
続いて、同様にMOCVDによって、第4バッファ層140上に、この例ではGaAsに対して2%以上の格子不整合性を有する、例えば膜厚0.35μmのIn0.53Ga0.47Asによる特定化合物半導体層144とをエピタキシャル成長させた。
続いて、同様にMOCVDによって、第4バッファ層140上に、この例ではGaAsに対して2%以上の格子不整合性を有する、例えば膜厚0.35μmのIn0.53Ga0.47Asによる特定化合物半導体層144とをエピタキシャル成長させた。
上述のように、化合物半導体積層構造130は、基板132と、この基板を構成する例えばSiに対して2%以上の格子不整合性を有する格子不整合系化合物半導体である例えばIn0.53Ga0.47Asよりなる特定化合物半導体層144との間にバッファ層として積層バッファ層142を介在させている。
つまり、積層バッファ層142では、InGaAsからなる第1バッファ層134から第3バッファ層136のIn組成比(原子比)が、格子不整合系化合物半導体である特定化合物半導体層144に向かって、この例では積層方向に順次階段的に0.11ずつ、即ち0.17、0.28、0.39と増加している。
第1バッファ層134の格子不整合性は、基板132に対する第1バッファ層134の格子不整合を十分に緩和し、第1バッファ層134の2次元成長を維持できる範囲内で例えば基板132に対して1.3%以内である。また、第1バッファ層134の膜厚は、基板132に対する格子不整合を十分に緩和し、2次元成長を維持できる範囲内、例えば臨界膜厚の15倍以上100倍以下、好適には20倍以上100倍以下である。
そこで、本実施形態例では、第1バッファ層134として、膜厚が0.35μm、In組成xが0.17のInx Ga1-x As層が設けられている。
そこで、本実施形態例では、第1バッファ層134として、膜厚が0.35μm、In組成xが0.17のInx Ga1-x As層が設けられている。
この実施の形態例においては、積層下地層133が第1及び第2の積層下地層133a及び133bからなる構成とした。一般に、Siの上に直接GaAsを結晶成長させた場合には、このGaAsは欠陥が多く結晶性も悪いものとなるが、この実施の形態例における積層下地層133の形成においては、2段階成長法によって、まず低温例えば300℃におけるエピタキシーにより第1下地層133aを成長させた後、例えば800℃でアニールを行ってから高温例えば600℃におけるエピタキシーにより第2下地層133bを成長形成する。
アニールを行うことにより、第1下地層133a中に発生した転位の移動及び転位同士の結合が進行し、転位の低減がなされることから、第2下地層133bの結晶性の向上、すなわち積層バッファ層142に隣接する例えばGaAsの結晶性の向上がなされる。
また、第2下地層133bの結晶成長後に例えば100℃まで温度を下げ、図6に示すように、例えば800℃での5分間のアニールと昇温及び降温とを繰り返すサーマルサイクルアニール(TCA;Thermal Cycle Anneal)を行うことによって、より効果的に転位の低減を図ることができる。
また、第2下地層133bの結晶成長後に例えば100℃まで温度を下げ、図6に示すように、例えば800℃での5分間のアニールと昇温及び降温とを繰り返すサーマルサイクルアニール(TCA;Thermal Cycle Anneal)を行うことによって、より効果的に転位の低減を図ることができる。
[発光素子の実施形態例]
本実施形態例は本発明に係る発光素子を半導体レーザ素子に適用した実施形態の一例であって、図7は本実施形態例の半導体レーザ素子の積層構造の構成を示す断面図である。
本実施形態例の半導体レーザ素子60は、発振波長1.3μmの端面出射型の半導体レーザ素子であって、図7に示すように、例えばGaAsもしくはSiよりなる基板62上に、MOCVD法等のエピタキシャル成長法により形成した第1導電型(例えばn型)化合物半導体層の積層構造からなるバッファ層64と、n型バッファ層64上にMOCVD法等により順次エピタキシャル成長させた例えばInPによる第1導電型クラッド層66、例えばInGaAsPによる活性層68、及び例えばInPによる第2導電型(例えばp型)クラッド層70の積層構造を有する。
また、第2導電型InPクラッド層70上に第2電極72を、基板62の裏面に第1電極74を有する。
バッファ層64は、実施形態例1の化合物半導体積層構造30、又は実施形態例2の化合物半導体積層構造40、或いは実施形態例3の化合物半導体積層構造130と同じ構成の積層バッファ層である。
本実施形態例は本発明に係る発光素子を半導体レーザ素子に適用した実施形態の一例であって、図7は本実施形態例の半導体レーザ素子の積層構造の構成を示す断面図である。
本実施形態例の半導体レーザ素子60は、発振波長1.3μmの端面出射型の半導体レーザ素子であって、図7に示すように、例えばGaAsもしくはSiよりなる基板62上に、MOCVD法等のエピタキシャル成長法により形成した第1導電型(例えばn型)化合物半導体層の積層構造からなるバッファ層64と、n型バッファ層64上にMOCVD法等により順次エピタキシャル成長させた例えばInPによる第1導電型クラッド層66、例えばInGaAsPによる活性層68、及び例えばInPによる第2導電型(例えばp型)クラッド層70の積層構造を有する。
また、第2導電型InPクラッド層70上に第2電極72を、基板62の裏面に第1電極74を有する。
バッファ層64は、実施形態例1の化合物半導体積層構造30、又は実施形態例2の化合物半導体積層構造40、或いは実施形態例3の化合物半導体積層構造130と同じ構成の積層バッファ層である。
本実施形態例の半導体レーザ素子60では、基板62と、この基板62に対して2%以上の格子不整合性を有する格子不整合系化合物半導体である第1導電型クラッド層66との間に、InP層を有する積層バッファ層64を介在させていることにより、第1導電型クラッド層66が、良好な結晶性でエピタキシャル成長している。
結晶転位が第1導電型クラッド層66に発生していないので、活性層68にも結晶転位が伝搬しない。従って、本実施形態例の半導体レーザ素子60は良好な特性を示すことができる。
結晶転位が第1導電型クラッド層66に発生していないので、活性層68にも結晶転位が伝搬しない。従って、本実施形態例の半導体レーザ素子60は良好な特性を示すことができる。
[受光素子の実施形態例]
本実施形態例は本発明に係る受光素子をフォトダイオードに適用した実施形態の一例であって、図8は本実施形態例のフォトダイオードの積層構造の構成を示す断面図である。
本実施形態例のフォトダイオード80は、基板側から波長1.3μmの光を受光するフォトダイオードであって、図8に示すように、例えばGaAsもしくはSiよりなる基板82上に、MOCVD法等のエピタキシャル成長法により形成した第1導電型(例えばn型)の化合物半導体層の積層構造からなるバッファ層84と、バッファ層84上にMOCVD法等により順次エピタキシャル成長させた例えば真性(i−)In0.53Ga0.47Asによる空乏層86、及び例えば第2導電型(例えばp型)のIn0.53Ga0.47Asによる第2導電層88の積層構造を有する。
また、第2導電層88上に第2電極90を、基板82の裏面にリング状の第1電極92を有する。
バッファ層84は、実施形態例1の化合物半導体積層構造30、又は実施形態例2の化合物半導体積層構造40、或いは実施形態例3の化合物半導体積層構造130と同じ構成の積層バッファ層である。
本実施形態例は本発明に係る受光素子をフォトダイオードに適用した実施形態の一例であって、図8は本実施形態例のフォトダイオードの積層構造の構成を示す断面図である。
本実施形態例のフォトダイオード80は、基板側から波長1.3μmの光を受光するフォトダイオードであって、図8に示すように、例えばGaAsもしくはSiよりなる基板82上に、MOCVD法等のエピタキシャル成長法により形成した第1導電型(例えばn型)の化合物半導体層の積層構造からなるバッファ層84と、バッファ層84上にMOCVD法等により順次エピタキシャル成長させた例えば真性(i−)In0.53Ga0.47Asによる空乏層86、及び例えば第2導電型(例えばp型)のIn0.53Ga0.47Asによる第2導電層88の積層構造を有する。
また、第2導電層88上に第2電極90を、基板82の裏面にリング状の第1電極92を有する。
バッファ層84は、実施形態例1の化合物半導体積層構造30、又は実施形態例2の化合物半導体積層構造40、或いは実施形態例3の化合物半導体積層構造130と同じ構成の積層バッファ層である。
本実施形態例のフォトダイオード80では、基板82と、この基板82に対して2%以上の格子不整合性を有する格子不整合系化合物半導体である真性空乏層86との間に、InP層を有する積層バッファ層84を介在させていることにより、空乏層86が良好な結晶性でエピタキシャル成長している。従って、本実施形態例のフォトダイオード80は良好な特性を示すことができる。
本実施形態例では、基板としてGaAs基板もしくはSi基板を、基板に対して2%以上の格子不整合性を有する特定化合物半導体層としてInx Ga1-x As層(x=0.53)及びInP層を例にして本発明を説明しているが、GaAs基板もしくはSi基板以外の基板であっても良く、特定化合物半導体層もInx Ga1-x As層(x=0.53)及びInP層以外のものであっても良い。また、InP層以外のバッファ層を構成する化合物半導体層としてInx Ga1-x As層を例にしているが、Inx Ga1-x P層であっても良い。
本実施形態例の化合物半導体積層構造を利用した素子として半導体レーザ素子及び受光素子を例に挙げているが、これに限らず、高移動度トランジスタに適用しても良い。
本実施形態例の化合物半導体積層構造を利用した素子として半導体レーザ素子及び受光素子を例に挙げているが、これに限らず、高移動度トランジスタに適用しても良い。
10……従来の化合物半導体積層構造、12……基板、14……特定化合物半導体層、16……第1バッファ層、18……第2バッファ層、20……第3バッファ層、 30……実施形態例1の化合物半導体積層構造、32……基板、34……第1バッファ層、36……第2バッファ層、38……第3バッファ層、40……第4バッファ層、42……積層バッファ層、44……特定化合物半導体層、50……実施形態例2の化合物半導体積層構造、52……基板、54……組成傾斜バッファ層(成長方向にx=0からx=0.4に連続的に増大)、56……バッファ層、58……積層バッファ層、59……特定化合物半導体層、60……実施形態例の半導体レーザ素子(発光素子)、62……基板、64……バッファ層、66……第1導電型クラッド層、68……活性層、70……第2導電型クラッド層、72……第2電極、74……第1電極、80……実施形態例のフォトダイオード(受光素子)、82……基板、84……バッファ層、86……空乏層、88……第2導電層、90……第2電極、92……第1電極、130……実施形態例3の化合物半導体積層構造、132……基板、133……積層下地層、133a……第1下地層、133b……第2下地層、134……第1バッファ層、136……第2バッファ層、138……第3バッファ層、140……第4バッファ層、142……積層バッファ層、144……特定化合物半導体層
Claims (11)
- 基板に対して2%以上の格子不整合性を有する化合物半導体層(以下、特定化合物半導体層と言う)を基板上に有する化合物半導体積層構造であって、
InP層を最上層に有する積層構造からなるバッファ層が、基板と特定化合物半導体層との間の格子不整合性を緩和する緩和層として、InP層を特定化合物半導体層の下側に接した位置で基板と特定化合物半導体層との間に介在していることを特徴とする化合物半導体積層構造。 - バッファ層を構成するInP層以外の化合物半導体層は、化合物半導体の格子不整合性が下地層の平行方向の格子定数に対して十分に緩和し、かつ2次元成長を維持できる範囲の格子不整合性であり、化合物半導体層の膜厚が下地層に対する格子不整合性を十分に緩和し、かつ2次元成長を維持できる範囲の膜厚であることを特徴とする請求項1に記載の化合物半導体積層構造。
- バッファ層が、最上層のInP層と、InP層以外の複数の化合物半導体層とからなる積層構造として構成されていることを特徴とする請求項1に記載の化合物半導体積層構造。
- バッファ層を構成するInP層以外の複数の化合物半導体層の各格子定数は、基板の格子定数と特定化合物半導体層の格子定数の間の大きさの格子定数であって、かつ複数の化合物半導体層毎に階段状に増大ないし減少することを特徴とする請求項1に記載の化合物半導体積層構造。
- バッファ層を構成するInP層以外の化合物半導体層の格子定数が基板の格子定数と特定化合物半導体層の格子定数の間の大きさの格子定数であって、かつ連続的に増大ないし減少する傾斜組成層として構成されていることを特徴とする請求項1に記載の化合物半導体積層構造。
- InP層の膜厚が0.01μm以上10μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の化合物半導体積層構造。
- 基板がGaAsもしくはSiで形成され、特定化合物半導体層、及びバッファ層を構成するInP層以外の化合物半導体層がIII −V族化合物半導体からなり、III 族原子としてIn、Ga、及びAlの少なくとも一つ、V族原子としてAs及びSbの少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項1に記載の化合物半導体積層構造。
- バッファ層を構成するInP層以外の各化合物半導体層、及び特定化合物半導体層がInx Ga1-x As層であって、各化合物半導体層の膜厚が臨界膜厚の15倍以上かつ100倍以下であることを特徴とする請求項7に記載の化合物半導体積層構造。
- 請求項1に記載の化合物半導体積層構造を備えることを特徴とする半導体装置。
- 請求項1に記載の化合物半導体積層構造を備え、
半導体積層構造の特定化合物半導体層が発光層を構成することを特徴とする発光素子。 - 請求項1に記載の化合物半導体積層構造を備え、
化合物半導体積層構造の特定化合物半導体層が受光層を構成することを特徴とする受光素子。
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