JP2004292948A - 磁性粒子の製造方法及び磁性粒子並びに磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】合金粒子作製工程において、微小サイズ、単分散性、変態容易性の全てを満足する合金粒子を作製する。
【解決手段】ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃ Ａｕ型の硬磁性規則合金相を形成し得る合金粒子を作製する合金粒子作製工程と、該合金粒子作製工程で作製された合金粒子から前記ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃ Ａｕ型の磁性粒子を形成する磁性粒子形成工程とを備えた磁性粒子の製造方法において、合金粒子を作製するための複数種の溶液Ｌ１、Ｌ２をマイクロリアクター１０を利用し、溶液Ｌ１、Ｌ２がミキシング流路２６内において薄板状の層流となって流通し、溶液Ｌ１、Ｌ２の接触界面において流通方向に直交する方向に拡散することにより均一な混合反応を短時間で行う。
【選択図】 図１

Description

本発明は、磁性粒子の製造方法及びその方法で製造された磁性粒子並びに該磁性粒子を磁性層に含有する磁気記録媒体に関する。

磁性層に含有される磁性粒子の粒子サイズを小さくすることは、磁気記録密度を高くする上で重要である。例えば、ビデオテープ、コンピュータテープ、ディスク等として広く用いられている磁気記録媒体では、硬磁性体の質量が同じ場合、粒子サイズを小さくしていった方がノイズは下がる。

磁気記録密度の向上に有望な磁性粒子の素材としては、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃ Ａｕ型の硬磁性規則合金が着目されている（例えば特許文献１、特許文献２）。この硬磁性規則合金は規則化時に発生する歪みのために結晶磁気異方性が大きく、磁性粒子の粒子サイズを小さくしても硬磁性を示すことが知られている。

硬磁性を示す磁性粒子は液相法や気相法等で作製されるが、特に量産性に優れ実用的な液相法で作製された直後の磁性粒子は、不規則で面心立方晶の構造を有している。面心立方晶は通常、軟磁性あるいは常磁性を示し、磁気記録媒体用としては適しておらず、磁気記録媒体には９５．５ｋＡ／ｍ（1200Ｏｅ）以上の保磁力を有する硬磁性規則合金を得る必要がある。このような硬磁性規則合金を得るには、不規則相を規則相へ変態させる必要がある。この為、磁性粒子の製造は、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃ Ａｕ型の硬磁性規則合金相を形成し得る合金粒子を作製する合金粒子作製工程と、該作製工程で作製された合金粒子からＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃ Ａｕ型の磁性粒子を形成する磁気粒子形成工程とで構成され、磁気粒子形成工程では通常アニール処理（熱処理）が行われている。

しかし、磁気記録媒体に使用される磁性粒子の性能の良し悪しは磁性粒子形成工程だけで決まるわけではなく、微小サイズで単分散性に優れると共に不規則相を規則相へ変態させ易い変態容易性に優れた合金粒子を合金粒子作製工程で如何に作製するかが重要なポイントになる。合金粒子の作製は、通常、合金粒子を作製するための複数種の溶液を前述した液相法で混合することにより行われ、混合反応装置としては、図８に示すようにタンク内に攪拌羽根を設けたものが提案されている（特許文献３）。

この混合反応装置１は、タンク２内部に充填した溶液を攪拌するために、モータ３の回転駆動力が磁力を利用して非接触で伝達される伝達手段４を介して攪拌羽根５が回転駆動される。また、タンク１の外周面には、内部に充填した溶液の温度制御を行うために、溶液を加熱又は冷却する温度制御手段６を有している。このタンク２の密閉蓋７には、溶液を導入する導入管８が設けられ、タンク２の底部にはタンク２内で混合反応された混合反応液を排出する排出管９が設けられる。
特開２００３−６８３０号公報 特開２００１−２５６６３１号公報 特開平５−１７３２６７号公報

しかしながら、従来の混合反応装置による合金粒子の作製では、タンク２内にデッドスペースが存在して液の攪拌が不均一になったり、生成された合金粒子のタンク２内での部分循環による粒子成長が起こったりするために、微小サイズで単分散性が良く、しかも変態容易性に優れた合金粒子を作製することはできないという欠点がある。

また、近年、ビデオテープ、コンピュータテープ、ディスク等として広く用いられている磁気記録媒体では、一層の低ノイズ化が要望されている。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、合金粒子作製工程において、微小サイズで単分散性が良く、しかも変態容易性に優れた合金粒子を作製することができるので、磁気記録媒体の十分な低ノイズ化を達成するための性能の良い磁性粒子を製造することができる磁性粒子の製造方法及びその方法で製造された磁性粒子並びに該磁性粒子を磁性層に含有する磁気記録媒体を提供することを目的とする。

本発明の発明者は、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃ Ａｕ型の硬磁性規則合金相を形成し得る合金粒子を作製するための複数種の溶液を、マイクロリアクターを利用した液相法により混合反応させることにより、微小サイズで単分散性が良く、しかも変態容易性に優れた合金粒子を作製することができるとの知見を得た。本発明はかかる知見に基づいて成されたものである。

先ず、本発明の理解を助けるために磁気記録媒体の低ノイズ化について述べる。

ハードディスク用の磁気記録媒体の作成法として知られているスパッタ法は、多結晶状態で磁性膜を形成する。当該磁性膜を形成する単結晶は、粒径が２０ｎｍ程度で高さが１００ｎｍ程度の円柱状であり、また粒子サイズ（粒子径）の変動係数が２０％以上と大きい。スパッタ法では当該磁性膜を構成する単結晶同士が隣接しているため、当該単結晶が隣接した単結晶と共に磁化される。そのため、当該単結晶より実際の磁化単位が大きくなる。このことから、結晶粒界にクロム等を偏析させて磁化単位を小さくする試みがなされているが、これも対策として不十分であった。しかし、記録媒体のノイズを下げるためには、さらなる磁化単位の粒径低下及び変動係数低下が必要とされる。

一方、磁気テープ、フレキシブルディスク用の磁気記録媒体の一般的な製造方法では、鉄、鉄とコバルトの合金、酸化鉄あるいはバリウムフェライトからなる磁性粒子を一旦アニール処理した後に、結合剤とともに混練りし、分散した後に塗布する。しかし、この方法では、磁性粒子の状態でアニール処理するため、粒子が融着または凝集し易い。従って、粒子サイズの変動係数は良くても２０％程度であり、十分な低ノイズ化が達成されていない。また、これらの磁性体の磁気異方性定数は小さく、サイズを２０ｎｍ以下にしたときに、熱揺らぎの影響を大きく受けて、超常磁性状態となり磁気記録媒体としては使用できない。

このように、ハードディスク用の磁気記録媒体にしろ、磁気テープ、フレキシブルディスク用の磁気記録媒体にしろ、十分な低ノイズ化を達成するためには、粒子サイズの変動係数を２０％以下にすることが重要になる。

本発明者はかかる変動係数を２０％以下にする対策として、次の知見に着目した。
(1) 逆ミセル法は、スパッタ法と異なり、ミセル内で２０ｎｍ以下のサイズの磁性粒子を他の磁性粒子と隔離した状態で調製することが可能である点。
(2) 磁性粒子を製造する前駆体としてＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃ Ａｕ型の硬磁性規則合金相を形成し得る合金粒子を用いれば、サイズを２０ｎｍ以下にしても磁気記録媒体として適した硬磁性を示すと共に、作成する合金粒子の粒子サイズは１〜１００ｎｍの範囲内で、且つ合金粒子の粒子サイズの変動係数が１５％以下であることが好適である点。
(3) ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃ Ａｕ型の硬磁性規則合金相を形成し得る合金粒子を逆ミセル法を用いて製造しても、従来技術に記載したように、タンク内に攪拌羽根を設けた混合反応装置では、粒子サイズが２０ｎｍ以下の合金粒子を作成できることはあっても、粒子サイズの変動係数が２０％以下になることはなく、粒径制御が困難である。しかし、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃ Ａｕ型の硬磁性規則合金相を形成し得る合金粒子を作製するための複数種の溶液を、マイクロリアクターを利用して液相法により混合反応させることにより、微小サイズで単分散性に優れると共に、自己配列性に優れた合金粒子を得ることができ、合金粒子をＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃ Ａｕ型の磁性粒子に形成する磁性粒子形成工程（例えばアニール処理）で合金相を不規則相から規則相に容易に変態できる点。
(4) マイクロリアクター法での混合反応温度を適切に制御することで、作成される合金粒子のサイズ制御が精度良く行える点。
(5) 合金粒子を支持体に塗布して固定した状態でアニール処理することで、粒子が融着または凝集するのを防止できる点。

ここで本発明における粒子サイズ（粒子径）とは、粒子の平行な外表面の投影面積と等しい面積をもつ円の直径で表示する。即ち、粒子の投影面積は電子顕微鏡写真上での面積を測定し、撮影倍率を補正することにより得られる。粒子の投影面積と等しい面積を有する円を想定し、該円の直径を合金粒子（又は磁性粒子のこともある）の円相当径とする。また、粒子サイズの変動係数とは、全ての粒子における円相当径の標準偏差を平均粒子径で割って得られる値を意味する。

本発明はかかる知見に基づいて、磁気粒子の製造方法、磁性粒子、及び磁気記録媒体として具体的に構成させたものである。

本発明の請求項１は前記目的を達成するために、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃ Ａｕ型の硬磁性規則合金相を形成し得る合金粒子を作製する合金粒子作製工程及び磁性粒子形成工程とを備えた磁性粒子の製造方法において、前記合金粒子作製工程では、該合金粒子を作製するための複数種の溶液をマイクロリアクターを利用した液相法により混合反応させると共に、該混合反応により作成される合金粒子の粒子サイズが１〜１００ｎｍであり、且つ粒子サイズの変動係数が１５％以下であることを特徴とする。

本発明によれば、合金粒子を作製するための複数種の溶液をマイクロリアクターを利用した液相法により混合反応させることにより、微視的に見るとマイクロリアクターの微細領域を利用して、合金粒子を形成するための反応成分同士を一対一で反応させることができると共に、複数種の溶液は微細領域を層流状態で一方向に流れて混合反応されるので、生成された合金粒子が部分循環によって粒子成長を起こすこともない。これにより、微小サイズで極めて単分散性の良い合金粒子の作製が可能である。従って、かかるマイクロリアクターによる混合反応により作成された合金粒子の粒子サイズを１〜１００ｎｍで、且つ粒子サイズの変動係数を１５％以下にできる。これは、１ｎｍ未満の粒子サイズの合金粒子では超常磁性となり易く、磁気記録媒体に使用する磁性粒子を製造する合金粒子として不向きであり、１００ｎｍを超える粒子サイズでは十分な低ノイズ化が達成されないためである。合金粒子の粒子サイズのより好ましい範囲は３〜２０ｎｍであり、特に好ましい範囲は３〜１０ｎｍである。

また、合金粒子の粒子サイズの変動係数が１５％を超えると、十分な低ノイズ化が達成されないためであり、より好ましい変動係数は１０％以下である。

更に、かかるマイクロリアクターで作成された合金粒子は、自己配列性に優れているので、磁性粒子形成工程において、合金粒子をＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃ Ａｕ型の磁性粒子に容易に変態させることができる。

本発明の請求項２は請求項１において、前記混合反応により作成される合金粒子の粒子サイズが１〜１００ｎｍであり、且つ粒子サイズの変動係数が１５％以下であることを特徴とする。

請求項２は請求項１又は２における磁性粒子の製造方法における混合反応によって作成される合金粒子のサイズ及び変動係数を規定したものである。

本発明の請求項３は請求項１又は２において、前記液相法は逆ミセル法であると共に、前記複数種の溶液として、界面活性剤を含有する非水溶性有機溶媒と還元剤水溶液とを混合した逆ミセル溶液（溶液Ｌ１）と、界面活性剤を含有する非水溶性有機溶媒と前記合金粒子を作製する複数種の金属原子を含有する金属塩水溶液とを混合した逆ミセル溶液（溶液Ｌ２）とを調製し、前記溶液Ｌ１及び溶液Ｌ２を前記マイクロリアクターで混合反応させることを特徴とする。

本発明の請求項３によれば、液相法を逆ミセル法で行うことにより作製される合金粒子の粒径を制御し易くなる。また、複数種の溶液として、界面活性剤を含有する非水溶性溶媒及び還元性水溶液で構成された溶液Ｌ１と、界面活性剤を含有する非水溶性有機溶媒及び合金粒子を作製する複数種の金属原子を含有する金属塩水溶液で構成された溶液Ｌ２とを調製することができる。即ち、溶液Ｌ１と混合反応させる溶液Ｌ２の中に合金粒子を作製する複数種の金属原子を全て含有させることができ、溶液Ｌ１と溶液Ｌ２とをマイクロリアクターで混合反応させる。

本発明の請求項４は請求項１又は２において、前記液相法は逆ミセル法であると共に、前記複数種の溶液として、界面活性剤を含有する非水溶性有機溶媒及び還元剤水溶液とを混合した逆ミセル溶液（溶液Ｌ１）と、界面活性剤を含有する非水溶性有機溶媒と前記合金粒子を作製する複数種の金属原子のうちの１種類を含有する金属塩水溶液で構成された逆ミセル溶液（溶液Ｌ３）を前記複数種の金属原子の数だけ調製し、これらの溶液Ｌ１と複数の溶液Ｌ３とをマイクロリアクターで混合反応させることを特徴とする。

本発明の請求項４は、合金粒子を作製する複数種の金属原子を１種類ずつ含有する複数の溶液Ｌ３として調製したものであり、Ｌ１溶液及び複数の溶液Ｌ３をマイクロリアクターで混合反応させる。

本発明の請求項５は請求項１〜４の何れか１において、前記マイクロリアクターは、前記複数種の溶液を並列筒構造に形成されたそれぞれの供給流路を通して１本のミキシング流路に合流し、合流した各溶液を平行な層流として流通させつつ流体同士をその接触界面の法線方向へ拡散して混合する並列型のマイクロリアクターであることを特徴とする。

ここで、請求項５が請求項２に従属する場合の複数種の溶液とは溶液Ｌ１と溶液Ｌ２を指し、請求項４に従属する場合の複数種の溶液とは溶液Ｌ１と複数の溶液Ｌ３を指す。以下、同様である。

本発明の請求項５は、複数種の溶液を並列型のマイクロリアクターで混合反応させるものである。

本発明の請求項６は請求項５において、前記それぞれの給液路は、その幅方向寸法が１〜５００μｍで、深さ方向寸法が１〜５００μｍな狭隘なマイクロチャンネルであると共に、前記ミキシング流路の幅方向寸法と深さ方向寸法は、前記それぞれの給液路に基づいて設定されることを特徴とする。

本発明の請求項６は、平行型のマイクロリアクターにおいて、それぞれの給液路とミキシング流路の幅方向寸法と深さ方向寸法の好ましい寸法を規定したもので、給液路の幅方向寸法は１〜５００μｍで、深さ方向寸法は１〜５００μｍの範囲が好ましい。更に好ましくは、幅方向に１０〜３００μｍで、深さ方向に１０〜３００μｍである。一方、ミキシング流路の幅方向寸法と深さ方向寸法は給液路の寸法を前記範囲でどのように設定するかで決まるが、好ましい寸法としては、幅方向及び深さ方向ともに１０〜５００μｍの範囲である。

本発明の請求項７は請求項１〜４の何れか１において、前記マイクロリアクターは、前記複数種の溶液を同心円の多重円筒管構造に形成されたそれぞれの給液路を通して１本のミキシング流路に合流し、合流した各溶液を同心円状の層流として流通させつつ流体同士をその接触界面の法線方向へ拡散して混合する同心円型のマイクロリアクターであることを特徴とする。

本発明の請求項７によれば、複数種の溶液を同心円型のマイクロリアクターで混合反応させるものである。

本発明の請求項８は請求項７において、前記ミキシング流路は、前記同心円状の層流のうちの中心を流れる中心流の流れ方向に直交する断面の円相当直径が１０〜５００μｍ、該中心流の外側を流れる外周流の厚みが１０〜５００μｍであることを特徴とする。

本発明の請求項８は、同心円型のマイクロリアクターにおけるミキシング流路の好ましい内径を規定したもので、同心円状の層流のうちの中心を流れる中心流の流れ方向に直交する断面の円相当直径が１０〜５００μｍ、該中心流の外側を流れる外周流の厚みが１０〜５００μｍであることが好ましい。更に好ましくは、中心流の流れ方向に直交する断面の円相当直径が１０〜３００μｍ、該中心流の外側を流れる外周流の厚みが１０〜３００μｍである。従って、複数種の溶液の同心円状の給液路における厚みも、ミキシング流路の好ましい内径に基づいて決定される。

本発明の請求項９は、請求項１〜８の何れか１において、前記ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃ Ａｕ型の硬磁性規則合金相を形成し得る合金粒子を構成する少なくとも２種の金属原子が長周期表における６、８、９、１０族の中から選択されると共に、更に少なくとも１種の金属原子が１１、１２、１３、１４、１５族の中から選択され、前記１種の金属原子の含有量が合金全体の１〜３０原子％であることを特徴とする。

本発明の請求項９によれば、長周期表における６、８、９、１０族の中から選択される少なくとも２種の金属原子に、１１、１２、１３、１４、１５族の中から選択される少なくとも１種の金属原子を加えることにより、合金粒子作製工程で作製された合金粒子の合金相を磁性粒子形成工程において不規則相から規則相に変態させる際に、変態温度を下げることができる。

本発明の請求項１０は請求項１〜９の何れか１において、前記合金粒子作製工程における混合反応温度を−５°Ｃ〜３０°Ｃの範囲に制御することを特徴とする。

本発明の請求項１０によれば、合金粒子作製工程における混合反応温度を−５°Ｃ〜３０°Ｃの範囲で温度制御するようにした。混合反応温度が−５°Ｃ未満では、水相が凝結して還元反応が不均一になるといった問題が生じ、３０°Ｃを超えると、凝集や沈澱が起こり易く系が不安定となることがある。好ましい混合反応温度は０°Ｃ〜２５°Ｃの範囲であり、特に好ましくは５°Ｃ〜２５°Ｃの範囲である。

本発明の請求項１１は、請求項１〜１０の何れか１において、前記磁性粒子形成工程では、前記合金粒子作製工程で作製された合金粒子を含有する合金粒子含有液を支持体上に塗布した後、アニール処理を行うことを特徴とする。

合金粒子作製工程で作製された合金粒子は弱い磁性を持っているが、磁気記録媒体に必要される１２００Ｏｅ以上の保磁力を有するＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃ Ａｕ型の硬磁性規則合金を得るには、合金粒子の合金相を不規則相から規則相に変態させる必要があるが、かかるアニール処理において粒子状態で行うと合金粒子同士が凝集し易くなる。

本発明の請求項１１によれば、合金粒子作製工程で作製された合金粒子を含有する合金粒子含有液を支持体上に塗布した後、アニール処理を行うようにしたので、合金粒子同士の凝集を防止でき、微小サイズの磁性粒子を形成することができる。この場合、アニール処理により形成された磁性粒子の粒子サイズも１〜１００ｎｍの範囲であることが好ましく、更に好ましくは３〜２０ｎｍの範囲であり、特に好ましい範囲は３〜１０ｎｍの範囲である。更にアニール処理により形成された磁性粒子の粒子サイズの変動係数も１５％以下であることが好ましいく、より好ましくは１０％以下である。

本発明の請求項１２は請求項１１において、前記アニール処理におけるアニール処理温度を１００°Ｃ〜５００°Ｃの範囲に制御することを特徴とする。

本発明の請求項１３は、請求項１〜１２の磁気粒子の製造方法の何れか１によって製造された磁性粒子であり、本発明の請求項１４は請求項１３の磁性粒子を磁性層に含有する磁気記録媒体である。

以上説明したように、本発明の磁性粒子の製造方法によれば、合金粒子作製工程において微小サイズ、単分散性、変態容易性の全てを満足する合金粒子を作製することができるので、性能の良い磁性粒子を製造することができる。

また、本発明により製造した磁性粒子を磁性層に含有する本発明の磁気記録媒体は、ノイズが低く、高記録密度な高品質の性能を有する。

以下、添付図面に従って本発明に係る磁性粒子の製造方法及び磁性粒子並びに磁気記録媒体の好ましい実施の形態について詳説する。

本発明の磁性粒子の製造方法は、硬磁性規則合金相を形成し得る合金粒子を液相法により作製する合金粒子作製工程と、作製した合金粒子からＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃ Ａｕ型の磁性粒子を形成する磁性粒子形成工程とで構成される。

以下、上記各工程を説明しながら、本発明の磁性粒子の製造方法及び磁性粒子について説明する。また、磁性粒子形成工程はアニール処理の例で以下に説明するが、これに限定されるものではない。
［合金粒子作製工程］
アニール処理により磁性粒子となる合金粒子は、液相法以外の気相法でも作製することができるが、量産性に優れていることを考慮すると液相法が好ましい。液相法としては従来から知られている種々の方法を適用できるが、これらに改良を加えた還元法を適用することが好ましく、還元法の中でも合金粒子の粒子サイズを制御し易い逆ミセル法が特に好ましい。

逆ミセル法は、少なくとも２種の逆ミセル溶液を混合して還元反応を行う還元工程と還元反応後に処理温度で熟成する熟成工程で構成される。
（還元工程）
還元工程では、まず、界面活性剤を含有する非水溶性有機溶媒と還元性水溶液と混合した逆ミセル溶液（溶液Ｌ１）を調製する。以下、この逆ミセル溶液（溶液Ｌ１）を単に溶液Ｌ１と言う。

界面活性剤としては、油溶性界面活性剤が用いられる。具体的には、スルホン酸塩型（例えば、エーロゾルＯＴ（和光純薬製））、４級アンモニウム塩型（例えば、セチルトリメチルアンモニウムブロマイド）、エーテル型（例えば、ペンタエチレングリコールドデシルエーテル）等が挙げられる。

非水溶性有機溶媒中の界面活性剤量は、２０〜２００ｇ／Ｌであることが好ましい。

界面活性剤を溶解する非水溶性有機溶媒として好ましいものは、アルカン、エーテル及びアルコール等が挙げられる。アルカンとしては、炭素数７〜１２のアルカン類であることが好ましい。具体的には、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン等が好ましい。エーテルとしては、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル等が好ましい。アルコールとしては、エトキシエタノール、エトキシプロパノール等が好ましい。

還元剤水溶液中の還元剤としては、アルコール類；ポリアルコール類；Ｈ₂ ；ＨＣＨＯ、Ｓ₂ Ｏ₆ ^2- 、Ｈ₂ ＰＯ_2-、ＢＨ_4-、Ｎ₂ Ｈ₅₊、Ｈ₂ ＰＯ_3-等を含む化合物を単独で使用することができるが、２種以上を併用することが好ましい。水溶液中の還元剤量は金属塩１モルに対して３〜５０モルであることが好ましい。

ここで溶液Ｌ１の溶液中の水と界面活性剤との質量比（水／界面活性剤）は２０以下になるようにすることが好ましい。質量比が２０を超えると、沈澱が起き易く、粒子も不揃いになり易いといった問題が生じることがある。質量比は１５以下とすることが更に好ましく、０．５〜１０とすることが特に好ましい。

次に、上述した溶液Ｌ１とは別に、界面活性剤を含有する非水溶性有機溶媒と合金粒子を作製する複数種の金属原子を含有する金属塩水溶液とを混合した逆ミセル溶液（溶液Ｌ２）を調製する。以下、この逆ミセル溶液（溶液Ｌ２）を単に溶液Ｌ２と言う。

この場合、界面活性剤を含有する非水溶性有機溶媒及び還元剤水溶液とを混合した溶液Ｌ１と、界面活性剤を含有する非水溶性有機溶媒と前記合金粒子を作製する複数種の金属原子のうちの１種類を含有する金属塩水溶液で構成された逆ミセル溶液（溶液Ｌ３）を前記複数種の金属原子の数だけ調製してもよい。以下、逆ミセル溶液（溶液Ｌ３）を単に溶液Ｌ３と言う。

界面活性剤及び非水溶性有機溶媒の条件（使用する物質、濃度等）については、溶液Ｌ１と同様である。尚、溶液Ｌ１と同種のもの又は異種のものを使用することができる。また、溶液Ｌ２の溶液中の水と界面活性剤の質量比も溶液Ｌ１と同様であり、質量比は溶液Ｌ１と同一でもよく、異なってもよい。

金属塩水溶液に含有される金属塩としては、作製しようとする磁性粒子がＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃ Ａｕ型の硬磁性規則合金を形成し得るように適宜選択することが好ましい。

ＣｕＡｕ型の硬磁性規則合金としては、ＦｅＮｉ、ＦｅＰｄ、ＦｅＰｔ、ＣｏＰｔ、ＣｏＡｕ等が挙げられ、なかでもＦｅＰｄ、ＦｅＰｔ、ＣｏＰｔが好ましい。Ｃｕ₃ Ａｕ型の硬磁性規則合金としては、Ｎｉ₃ Ｆｅ、ＦｅＰｄ₃ 、Ｆｅ₃ Ｐｄ、Ｆｅ₃ Ｐｔ、Ｃｏ₃ Ｐｔ、ＦｅＰｔ₃ 、ＣｏＰｔ₃ 、Ｎｉ₃ Ｐｔ、ＣｒＰｔ₃ 、Ｎｉ₃ Ｍｎが挙げられ、なかでもＦｅＰｄ₃ 、ＦｅＰｔ₃ 、ＣｏＰｔ₃ 、Ｆｅ₃ Ｐｄ、Ｆｅ₃ Ｐｔ、Ｃｏ₃ Ｐｔが好ましい。

金属塩の具体例としては、Ｈ₂ ＰｔＣｌ₆ 、Ｋ₂ ＰｔＣｌ₄ 、Ｐｔ（ＣＨ₃ ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃ ）₂ 、Ｎａ₂ ＰｄＣｌ₄ 、Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ₃ ）₂ 、ＰｄＣｌ₂ 、Ｐｄ（ＣＨ₃ ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃ ）₂ 、ＨＡｕＣｌ₄ 、Ｆｅ₂ （ＳＯ₄ ）₃ 、Ｆｅ（ＮＯ₃ ）₃ 、（ＮＨ₄ ）₃ Ｆｅ（Ｃ₂ Ｏ₄ ）₃ 、Ｆｅ（ＣＨ₃ ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃ ）₃ 、ＮｉＳＯ₄ 、ＣｏＣｌ₂ 、Ｃｏ（ＯＣＯＣＨ₃ ）₂ 等を挙げることができる。

金属塩水溶液の濃度（金属塩濃度として）は、０．１〜１０００μｍｏｌ／ｍｌであることが好ましく、１〜１００μｍｏｌ／ｍｌであることがより好ましい。

合金粒子は後述するアニール処理によって合金相を不規則相から規則相へ変態させる必要があるが、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃ Ａｕ型の硬磁性規則合金相を形成し得る合金粒子を構成する少なくとも２種の金属原子が長周期表における６、８、９、１０族の中から選択されると共に、更に少なくとも１種の金属原子が１１、１２、１３、１４、１５族の中から選択され、前記１種の金属原子の含有量が合金全体の１〜３０原子％（ａｔ％）であることが好ましい。例えば、長周期表における６、８、９、１０族の中から選択される２種の金属原子で構成する２元系合金に、Ｓｂ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｃｕ、Ａｇ，Ｚｎ，Ｉｎ等の１１、１２、１３、１４、１５族の中から選択された１種の金属原子（以下「第三元素」という）を加えることにより、合金粒子の合金相を不規則相から規則相へ変態させる変態温度を下げることができる。

以上のように調製した溶液Ｌ１と溶液Ｌ２とを混合するが、本発明では、複数の溶液Ｌ１、Ｌ２をマイクロリアクターを利用して混合反応させることにより、合金粒子作製工程において微小サイズ、単分散性、変態容易性の全てを満足する合金粒子を作製するようにした。

マイクロリアクターの種類としては、1)並列型マイクロリアクターと、2)同心円型マイクロリアクターとを好適に使用することができ、以下各マイクロリアクターの構造について説明する。尚、単に混合させるものをマイクロミキサーと言うことがあるが、構造が同じであればマイクロリアクターに含まれるものとする。
1)並列型マイクロリアクター

図１は、並列型マイクロリアクターの構造を示した好ましい断面図であり、図１（Ａ）は上から見た平面断面図であり、図１（Ｂ）は図１（Ａ）のＢ−Ｂ線に沿った断面図である。

図１に示すように、このマイクロリアクター１０は、２種類の溶液Ｌ１、Ｌ２を混合反応し、これらの溶液Ｌ１、Ｌ２が均一に混合反応されて生成された合金粒子を含有する混合反応溶液ＬＭ（合金粒子含有液）を排出するものである。

図１に示されるように、マイクロリアクター１０の外形形状が全体として略角柱状に形成されており、装置の外殻部を構成する薄肉筒状のミキサー本体１２を備えている。ここで、図中における直線Ｓはミキサー本体１２の断面中心を結んだ軸心を示している。ミキサー本体１２は軸直角断面が四角形とされており、このミキサー本体１２には、軸方向に沿った基端側（図１では左側）にミキサー本体１２の内部空間を区画した隔壁板１４が配置されている。この隔壁板１４は、図１（Ｂ）に示すようにミキサー本体１２内の空間を断面の左右方向において略２等分し、これにより、ミキサー本体１２内に軸方向に沿って直線的に延在する並列した第１給液路１６及び第２給液路１８を形成している。

図１（Ａ）に示されるように、ミキサー本体１２の基端部は蓋板２０により閉塞されており、この蓋板２０には２本の給液配管３８、３９が接続されている。これらの給液配管３８、３９を通して、給液路１６、１８内には、それぞれマイクロリアクター１０の上流側に設置された２個の給液源（図示せず）から加圧状態の溶液Ｌ１、Ｌ２が給送される。これらの給液源は、例えば、溶液Ｌ１、Ｌ２を生成する他のマイクロリアクターや溶液Ｌ１、Ｌ２を貯えた図示しない貯留タンク及びポンプ等からなる。

図１（Ｂ）に示されるように、ミキサー本体１２内の２本の給液路１６、１８
の先端面には、それぞれ略長方形の第１給液口２２及び第２給液口２４がそれぞれ開口しており、これらの給液口２２、２４は、溶液Ｌ１、Ｌ２の拡散方向（矢印Ｄ方向）に沿って互いに隣接している。ここで、拡散方向は、給液路１６、１８における溶液Ｌ１、Ｌ２の流通方向（矢印Ｆ方向）に直交する方向であり、本実施の形態では図１（Ｂ）に示すようにミキサー本体１２の軸直角断面における左右方向と一致している。また、供給口２２、２４は、それぞれ拡散方向に直交する界面方向（矢印Ｂ方向）へ細長い四角形とされる。

図１（Ａ）に示されるように、ミキサー本体１２内には、流通方向に沿って給液路１６、１８の下流側に給液路１６、１８が合流する角柱状の空間が形成され、この空間は給液路１６、１８からそれぞれ供給された溶液Ｌ１、Ｌ２の混合反応がされるミキシング流路２６とされる。このミキシング流路２６は、流通方向に沿った上流側の端部が給液口２２、２４に接続され、下流側の端部がミキサー本体１２の先端面に開口する出液口２８へ連通している。また、ミキサー本体１２の先端部には、出液口２８の外周側を延出するように環状の接続部３０が設けられる。

ここで、第１給液口２２の拡散方向に沿った開口幅Ｗ１は、１μｍ以上で５００μｍ以下の範囲で、第１給液路１６への溶液Ｌ１の供給量、種類等に応じて適宜設定される。また、第２給液口２４の拡散方向に沿った開口幅Ｗ２も、１μｍ以上で５００μｍ以下の範囲で、第２給液路１８への溶液Ｌ２の供給量、種類等に応じて適宜設定される。また、給液口、２２、２４の界面方向に沿った開口幅ＷＢは少なくとも開口幅Ｗ１、Ｗ２以上の寸法に設定される。これらの開口幅Ｗ１、Ｗ２、ＷＢはそれぞれ給液口２２、２４の開口面積を規定し、この給液口２２、２４の開口面積と溶液Ｌ１、Ｌ２の供給量に応じて、給液口２２、２４を通してミキシング流路２６内へ導入される溶液Ｌ１、Ｌ２の初期流速が定まる。これらの開口幅Ｗ１、Ｗ２、ＷＢのうち、開口幅Ｗ１、Ｗ２については、例えば、給液口２２、２４を通してミキシング流路２６内へ供給される溶液Ｌ１、Ｌ２の流速が互いに等しくなるように設定される。但し、溶液Ｌ１、Ｌ２が均一に混合反応するまでの時間（混合反応時間）の短縮を考えた場合には、当然、開口幅Ｗ１、Ｗ２は狭いほど有利となり、また隔壁板１４の拡散方向に沿った厚さも可能な限り薄くすることが望まれる。

マイクロリアクター１０では、ミキシング流路２６内で溶液Ｌ１、Ｌ２の混合反応が行われ、溶液ＬＭが出液口２８から吐出される。溶液ＬＭが溶液Ｌ１、Ｌ２の混合反応により生成される場合、ミキシング流路２６の出口部までに溶液Ｌ１、Ｌ２が混合され反応も終了している必要がある。従って、ミキシング流路２６の流通方向に沿った路長ＰＦ（図１（Ａ）参照）は、溶液Ｌ１、Ｌ２の混合反応が完了する長さに設定する必要がある。尚、ミキサー本体１２内には、常に溶液Ｌ１、Ｌ２及びこれらが混合された溶液ＬＭが隙間なく充填され、給液路１６、１８内から出液口２８側へ流通しているものとする。

かかるミキサー本体１２には、その上面部及び下面部の下流側それぞれに密着するように、肉厚板状の振動発生器３２が取り付けられていることが好ましい。これら一対の振動発生器３２は、その上流端がミキシング流路２６の上流端と一致するように設置されている。これにより、一対の振動発生器３２は、ミキシング流路２６における上面部の全体及び下面部の全体にそれぞれ正対する。また振動発生器３２には、ミキサー本体１２との密着面に振動部３４が設けられており、この振動部３４は、振動発生器３２の振動時にミキサー本体１２を介して所定周波数の振動をミキシング流路２６内の溶液Ｌ１、Ｌ２及び溶液ＬＭにへ伝達する。このとき、振動部３４からの振動は、図１の矢印Ｖに示されるように、拡散方向に沿って溶液Ｌ１、Ｌ２及び溶液ＬＭに伝達され、この伝達振動により溶液Ｌ１、Ｌ２、ＬＭの分子運動が拡散方向に沿って増大するので、溶液Ｌ１、Ｌ２の間の混合反応を促進することができる。

振動発生器３２は、例えば、振動発生源としてピエゾ素子を用いることができ、このピエゾ素子への交流電源の供給により電流周波数に対応する振動を振動部３４から発生させる。このとき、振動部３４から発生する振動周波数としては、１ＫHz〜１０ＭHzの範囲内、即ち高周波及び超音波の帯域で制御される。具体的には、主として、ミキシング流路２６内を流通する溶液Ｌ１、Ｌ２が混合反応する際に、所望の溶液Ｌ１、Ｌ２の混合速度又は反応速度に応じて振動周波数を適宜設定するとよい。このとき、振動が伝達されるミキサー本体１２及び溶液Ｌ１、Ｌ２、ＬＭにおける共振効果を考慮しなければ、通常、振動周波数が高いほど、振動エネルギー（運動エネルギー）が大きくなるので、ミキシング流路２６内における溶液Ｌ１、Ｌ２の混合反応は促進される。尚、振動発生器３２としては、ピエゾ素子に限定するものではなく、１ＫHz〜１０ＭHzの範囲内の振動を発生させるものであれば、例えばモータで駆動される偏心カム、電磁式アクチュエータ、空気圧力式アクチュエータ等を使用できる。

図１（Ａ）に示されるように、マイクロリアクター１０には、一対の振動発生器３２の駆動を制御する駆動制御部３６が設けられる。この駆動制御部３６は、ミキシング流路２６内を溶液Ｌ１、Ｌ２、ＬＭが流通する際に、振動発生器３２のオン及びオフ状態、オン時間及びオフ時間の比であるデューティ比、振動周波数等を内部メモリ等に予め設定された制御条件に従うように制御する。この制御条件は基本的には、溶液Ｌ１、Ｌ２の種類、即ち溶液Ｌ１、Ｌ２の化学成分、液温、粘度等や、溶液Ｌ１、Ｌ２の反応成分の性質等に応じて異なり、また溶液Ｌ１、Ｌ２の供給量の変化、即ちミキシング流路２６内における溶液Ｌ１、Ｌ２の流速によっても異なるものになる。このような制御条件は、例えば、マイクロリアクター１０が配置される製造ラインのオペレータが操作端末等を用いて設定したり、製造ライン全体を制御する上位のプロセスコンピュータが生産予定等に基づいて自動的に設定する。

また、図１に２点鎖線で示したように、ミキサー本体１２の外周には、水やオイル等の熱容量が比較的大きな熱媒体が流れるジャケット１３が巻回され、ジャケット１３は図示しない熱媒体供給装置に接続される。熱媒体供給装置からは、ミキサー本体１２内における溶液Ｌ１、Ｌ２の混合反応温度を−５°Ｃ〜３０°Ｃの範囲に制御可能な温度の熱媒体がジャケット１３に供給され、再び熱媒体供給装置に循環される。混合反応温度は、溶液Ｌ１、Ｌ２の種類等によって、−５°Ｃ〜３０°Ｃの範囲内で適宜設定することが好ましく、混合反応温度のより好ましい温度範囲は０°Ｃ〜２５°Ｃであり、特に好ましくい温度範囲は５°Ｃ〜２５°Ｃである。また、ミキサー本体１２内で混合反応される溶液Ｌ１、Ｌ２の量との兼ね合いもあるが、ジャケット１３を巻回しただけでは、設定した混合反応温度まで調整させることが難しい場合には、溶液Ｌ１、Ｌ２を調製する図示しない調製タンクに温度調整装置を設けることもできる。

上記の如く構成されたマイクロリアクター１０では、適切な混合反応温度条件下で、給液配管３８、３９を通して給液路１６、１８にそれぞれ加圧状態の溶液Ｌ１、Ｌ２が供給されることにより、これらの溶液Ｌ１、Ｌ２がそれぞれの給液路１６、１８内を流通し、給液口２２、２４を通して所定の流速を有する液流としてミキシング流路２６内に導入される。このとき、給液口２２、２４の開口幅Ｗ１、Ｗ２が１〜５００μｍの微小幅であることから、給液口２２、２４を通してミキシング流路２６内へ導入される溶液Ｌ１、Ｌ２は、それぞれ開口幅Ｗ１、Ｗ２に対応する幅の薄板状の成層流となって出液口２８側へ向かって流れつつ、各成層流の接触界面ではその法線方向に沿って分子拡散が生じる。これにより、溶液Ｌ１、Ｌ２は均一な混合反応を短時間で完了させることができる。これと同時に、マイクロリアクター１０では、一対の振動発生器３２からの振動がミキシング流路２６内の溶液Ｌ１、Ｌ２、ＬＭに拡散方向に沿って伝達されることから、ミキシング流路２６内を流れる溶液Ｌ１、Ｌ２の微小な流体塊の拡散方向の移動及び分子運動が伝達振動により増大するので、溶液Ｌ１、Ｌ２が形成する成層流間の接触界面における分子の拡散方向の移動速度を増大させ、ミキシング流路２６内における溶液Ｌ１、Ｌ２の間の混合反応が瞬時且つ効率的に進行する。図２は、溶液Ｌ１、Ｌ２を各給液路１６、１８からミキシング流路２６に導入したときの模式図である。尚、溶液Ｌ１と複数の溶液Ｌ３とを混合反応させる場合には、例えば図３のように供給路の数を増加すればよく、図３は溶液Ｌ１と２つの溶液Ｌ３を混合反応させる場合である。

従って、合金粒子作製工程において、合金粒子を作製するための複数種の溶液を、並列型のマイクロリアクター１０を利用して液相法により混合反応させれば、混合反応を精密に制御することが可能であり、微小サイズで単分散性が良い合金粒子が生成される。この結果、粒子サイズが１〜１００ｎｍのサイズ範囲で且つ粒子サイズの変動係数が１５％以下を満足し、更には自己配列性に優れた合金粒子を作製することができる。この場合、より単分散性を高める場合には、精密な温度制御が必要となり、ミキシング流路２６内の液の熱伝導性を高めるためにミキシング流路２６を細くする一方、生産性を重視する場合にはミキシング流路２６を太くするといった調整をすることが好ましい。

図４は、図１の並列型のマイクロリアクター１０の変形例であり、図１と異なる点は、溶液Ｌ１、Ｌ２、ＬＭの流通方向に３個の振動発生器４２、４４、４６を別個に設けたものであり、制御条件をそれぞれ独立に変更することができるように構成されている。このように、振動発生器４２、４４、４６を複数設けてることで、溶液Ｌ１、Ｌ２、ＬＭの流通方向に沿って３個の振動発生器４２、４４、４６の制御条件を変えることができる。これにより、ミキシング流路２６内を流通する溶液Ｌ１、Ｌ２、ＬＭに伝達される振動を流通方向に沿って段階的に変化させることができるので、混合反応を更にきめ細かく制御することができる。尚、図４ではジャケット１３は省略してある。
2)同心円型マイクロリアクター

図５は、同心円型マイクロリアクターの構造を示した好ましい断面図である。

図５に示されるように、マイクロリアクター１１０は、全体として略円柱状に形成されており、装置の外殻部を構成する円筒状のミキサー本体１１２を備えている。ここで、図中における直線Ｓは装置の軸心を示しており、この軸心Ｓに沿った方向を装置の軸方向として以下の説明を行う。ミキサー本体１１２は、その軸方向に沿った基端部が先端側の部分に対して大径とされた大径部１１４とされており、この大径部１１４内には、外部から溶液Ｌ１、Ｌ２の供給を受ける一対の第１ヘッダ部１１６及び第２ヘッダ部１１８が設けられる。ミキサー本体１１２は、大径部１１４に対して先端側の部分が内径一定の円管部１２０とされており、この円管部１２０の先端面には溶液ＬＭの出液口１２２が開口し、また円管部１２０の先端部には出液口１２２の外周側に延出するようにリング状の接続部１２４が設けられる。

ミキサー本体１１２における大径部１１４の基端面は円板状の蓋板１２６により閉塞されており、この蓋板１２６の中心部には円形の嵌挿穴１２８が穿設されている。ミキサー本体１１２には、その大径部１１４内から円管部１２０内へ突出するように丸棒状の整流部材１３０が同軸的に設けられている。整流部材１３０の基端部は蓋板１２６の嵌挿穴１２８に嵌挿されて支持されている。また、整流部材１３０の先端部には先端側に向かって縮径する円錐部１３２が形成されている。ここで整流部材１３０の外径は円管部１２０の内径よりも小径とされ、この円管部１２０の内径との寸法差が円管部１２０内における溶液Ｌ１、Ｌ２の流通量に基づいて設定される。

ミキサー本体１１２の大径部１１４内には、この大径部１１４内の空間を軸方向に沿って略２等分するように区画する円板状の仕切板１３４が配置されており、この仕切板１３４により区画された基端側及び先端側の空間は、それぞれ第１ヘッダ部１１６及び第２ヘッダ部１１８とされている。これらのヘッダ部１１６、１１８には、それぞれ給液配管１３６、１３８が接続されている。これらの給液配管１３６、１３８を通して、ヘッダ部１１６、１１８には、マイクロリアクター１１０の上流側に設置された２個の給液源（図示せず）から加圧状態とされた溶液Ｌ１、Ｌ２が供給される。

仕切板１３４の中心部には、開口径が円管部１２０の内径と整流部材１３０の外径との中間寸法とされた円形の開口部が穿設されており、仕切板１３４には、開口部の周縁部から円管部１２０内へ突出するパイプ状の隔壁部材１４０が一体的に形成される。この隔壁部材１４０は、円管部１２０及び整流部材１３０とそれぞれ同軸的に配置されており、円管部１２０と整流部材１３０との間の空間を内周側と外周側とに区画している。ここで、隔壁部材１４０により区画された外周側及び内周側の空間はそれぞれ第１給液路１４２及び第２給液路１４４とされ、これらの第１及び第２給液路１４２、１４４は、それぞれ基端部側で第１及び第２ヘッダ部１１６、１１８に連通している。また、ミキサー本体１１２の円管部１２０内には、隔壁部材１４０よりも先端側であって整流部材１３０の円錐部１３２よりも基端部側に給液路１４２、１４４に対して肉厚とされた円筒状の空間が形成され、この円筒状の空間は、給液路１４２、１４４からそれぞれ供給された溶液Ｌ１、Ｌ２とが混合反応を行うミキシング流路１４６とされる。

ミキサー本体１１２内には、円管部１２０の内周面と隔壁部材１４０の外周面との間に複数個（本実施の形態では４個）のスペーサ１４８が介装されると共に、隔壁部材１４０の内周面と整流部材１３０の外周面との間にも複数個（本実施の形態では４個）のスペーサ１５０が介装される。これら複数個のスペーサ１４８、１５０はそれぞれ矩形プレート状に形成され、その表裏面部が円管部１２０内における溶液Ｌ１、Ｌ２の流通方向（矢印Ｆ方向）と平行になるように支持される。また、複数個のスペーサ１４８、１５０は、それぞれ軸心Ｓを中心とする周方向に沿って９０°間隔で配置され、周方向における位置が互いに一致している。ここで、外周側のスペーサ１４８は隔壁部材１４０を円管部１２０に連結すると共に、給液路１４２、１４４の径方向に沿った開口幅Ｗ１、Ｗ２（図５（Ａ）参照）を設定している。これにより、隔壁部材１４０及び整流部材１３０がそれぞれ十分な強度で円管部１２０に連結固定され、溶液Ｌ１、Ｌ２の液圧や重力の影響により所定位置から変移したり、変形することが防止されると共に、開口幅Ｗ１、Ｗ２が予め設定された寸法に確実に維持される。

図５（Ｂ）に示されるように、第１給液路１４２及び第２給液路１４４の先端部には、それぞれミキシング流路１４６内へ開口する第１給液口１５２及び第２給液口１５４が形成される。これらの給液口１５２、１５４は、それぞれ軸心Ｓを中心とする円軌跡に沿って開口し、互いに同心円状となるように配設されている。ここで、第１給液口１５２の径方向に沿った開口幅Ｗ１は、１μｍ以上、５００μｍ以下の範囲で、第１ヘッダ部１１６への溶液Ｌ１の供給量、種類等に応じて適宜設定される。また、第２給液口１５４の径方向に沿った開口幅Ｗ２も、１μｍ以上、５００μｍ以下の範囲で、第１ヘッダ部１１６への溶液Ｌ１の供給量、種類等に応じて適宜設定される。また、溶液Ｌ１、Ｌ２が合流するミキシング流路１４６は、第１給液口１５２と第２給液口１５４との開口面積Ｗ１、Ｗ２をどのように設定するかで略定まるが、ミキシング流路１４６を流れる同心円状の層流のうちの中心を流れる中心流の流れ方向に直交する断面の円相当直径が１０〜５００μｍ、該中心流の外側を流れる外周流の厚みが１０〜５００μｍであることが好ましい。ここで、円相当直径とは、等価直径とも呼ばれ、機械工学の分野で用いられる用語である。即ち、任意断面形状の配管（本発明では流路）に対して等価な円管を想定するとき、その等価円管の直径を等価直径といい、Ａ：配管の断面積、Ｐ：配管のぬれぶち長さ（周長）を用いて、ｄｅｇ＝４Ａ／Ｐと定義される。

ここで、開口幅Ｗ１、Ｗ２は、それぞれ給液口１５２、１５４の開口面積を規定し、この給液口１５２、１５４の開口面積と溶液Ｌ１、Ｌ２の供給量に応じて、給液口１５２、１５４を通してミキシング流路１４６内へ導入される溶液Ｌ１、Ｌ２の初期流速が定まる。これらの開口幅Ｗ１、Ｗ２は、例えば、給液口１５２、１５４を通してミキシング流路１４６内へ供給される溶液Ｌ１、Ｌ２の流速が互いに等しくなるように設定される。但し、溶液Ｌ１、Ｌ２が均一に混合反応するまでの時間（混合反応時間）の短縮を考えた場合には、当然、開口幅Ｗ１、Ｗ２は狭いほど有利となり、また隔壁板１４０の拡散方向に沿った厚さも可能な限り薄くすることが望まれる。

円管部１２０内におけるミキシング流路１４６よりも先端側の空間は、ミキシング流路１４６内で溶液Ｌ１、Ｌ２の混合反応が行われた溶液ＬＭが出液口１２２に向かって流れる出液路１５６とされる。ここで、溶液ＬＭが溶液Ｌ１、Ｌ２の混合反応により生成される場合には、ミキシング流路１４６内の出口部で溶液Ｌ１、Ｌ２の混合反応が完了している必要がある。従って、ミキシング流路１４６の溶液Ｌ１、Ｌ２の流通方向に沿った路長ＰＦ（図５（Ａ）参照）は、溶液Ｌ１、Ｌ２の混合反応が完了する長さに設定する必要がある。尚、ミキサー本体１２内には、常に、溶液Ｌ１、Ｌ２及びこれらの混合反応された溶液ＬＭが隙間なく充填され、ヘッダ部１１６、１１８から出液口１２２側へ流通しているものとする。

図５（Ａ）に示されるように、ミキサー本体１１２の円管部１２０には、ミキシング流路１４６に面するように複数の開口部１５８が穿設されている。これらの開口部１５８は、流通方向へはミキシング流路１４６の上流部、中間部及び下流部にそれぞれ対応する部位に穿設され、また軸心Ｓを中心とする周方向へは９０°間隔で配置される。従って、円管部１２０には、ミキシング流路１４６の上流部、中間部及び下流部にそれぞれ対応する部位に４個ずつ開口部１５８が穿設され、合計で１２個の開口部１５８が設けられる。また、円管部１２０の外周面上には、複数個のマイクロ波発生器１６０が開口部１５８にそれぞれ対応するように取り付けられる。これらのマイクロ波発生器１６０には、その内周側に円柱突起状の嵌挿部１６２が設けられ、マイクロ波発生器１６０は嵌挿部１６２を開口部１５８内へ嵌挿し、嵌挿部１６２の先端面をミキシング流路１４６内へ露出させている。

マイクロ波発生器１６０は、駆動時に嵌挿部１６２の先端面からマイクロ波をミキシング流路１４６内の溶液Ｌ１、Ｌ２、ＬＭへ照射する。このとき、マイクロ波発生器１６０からのマイクロ波は、図５の破線で示されるように、溶液Ｌ１、Ｌ２の拡散方向と一致する径方向に沿って溶液Ｌ１、Ｌ２及び溶液ＬＭに照射される。このマイクロ波により溶液Ｌ１、Ｌ２、ＬＭの分子運動が拡散方向に沿って増大するので、溶液Ｌ１、Ｌ２の間での混合反応が促進される。

マイクロ波発生器１６０は、例えば、マイクロ波の発生源としてマグネトロンを用いており、このマグネトロンへの駆動電流の供給により電流値に対応する強度のマイクロ波を発生する。このときマイクロ波発生器１６０が発生するマイクロ波としては、周波数が１０ＭHz以上のものが選択される。具体的には、マイクロ波の周波数は、ミキシング流路１４６内を流通する溶液Ｌ１、Ｌ２、ＬＭに過度の発熱現象を発生させることなく、溶液Ｌ１、Ｌ２、ＬＭの分子運動を効率的に増加できる周波数が選択される。

図５（Ａ）に示されるように、マイクロリアクター１１０には、マイクロ波発生器１６０の駆動を制御する駆動制御部１６４が設けられる。この駆動制御部１６４は、ミキシング流路１４６内を溶液Ｌ１、Ｌ２、ＬＭが流通する際に、マイクロ波発生器１６０のオン／オフ状態、マイクロ波の強度を内部メモリ等に予め設定された制御条件に従うように制御する。この制御条件は基本的には、溶液Ｌ１、Ｌ２の種類、即ち溶液Ｌ１、Ｌ２の化学成分、液温、粘度等や、溶液Ｌ１、Ｌ２の反応成分の性質等に応じて異なるものになり、また溶液Ｌ１、Ｌ２の供給量の変化、即ちミキシング流路２６内における溶液Ｌ１、Ｌ２の流速によっても異なるものになる。このような制御条件は、例えば、マイクロリアクター１１０が配置される製造ラインのオペレータが操作端末等を用いて設定したり、製造ライン全体を制御する上位のプロセスコンピュータが生産予定等に基づいて自動的に設定する。

また、図５に２点鎖線で示したように、ミキサー本体１１２の外周には、水やオイル等の熱容量が比較的大きな熱媒体が流れるジャケット１１３が巻回され、ジャケット１１３は図示しない熱媒体供給装置に接続される。熱媒体供給装置からは、ミキサー本体１１２内における溶液Ｌ１、Ｌ２の混合反応温度を−５°Ｃ〜３０°Ｃの範囲に制御可能な温度の熱媒体がジャケット１３に供給され、再び熱媒体供給装置に循環される。混合反応温度は、溶液Ｌ１、Ｌ２の種類等によって、−５°Ｃ〜３０°Ｃの範囲内で適宜設定することが好ましく、混合反応温度のより好ましい温度範囲は０°Ｃ〜２５°Ｃである。また、整流部材１３０は、外郭部が肉薄状の金属板により形成された内部が中空状とされ、整流部材１３０内には、その基端側から整流部材１３０の内径よりも小径とされた給液管１３１が挿入されており、給液管１３１は整流部材１３０の基端側の開口を閉塞する閉塞板（図示せず）及び複数個のスペーサ１３３により整流部材１３０と同軸的に支持される。給液管１３１の先端は円錐部１３２の付け根付近に達しており、その先端面には、整流部材１３０内に熱媒体を供給する供給口が開口される。かかる供給口から給液管１３１にも、熱媒体供給装置から熱媒体が供給され、混合反応温度が制御される。尚、ミキサー本体１１２内で混合反応される溶液Ｌ１、Ｌ２の量との兼ね合いもあるが、ジャケット１１３を巻回しただけでは、設定した混合反応温度まで上昇させることが難しい場合には、溶液Ｌ１、Ｌ２を調製する図示しない調製タンクに温度調整装置を設けることもできる。

上記の如く構成された同心円型のマイクロリアクター１１０では、並列型のマイクロリアクター１０、４０と同様に、適切な混合反応温度条件下で、給液口１５２、１５４を通してそれぞれのミキシング流路１４６内に導入される溶液Ｌ１、Ｌ２が給液口１５２、１５４の開口幅Ｗ１、Ｗ２にそれぞれ対応する薄さの同心円状の流れとなってミキシング流路１４６内を流通する。即ち、ミキシング流路１４６内を流通する同心円状の層流のうち、給液口１５４からの中心流は薄層な円筒状の流れを形成し、給液口１５２からの外周流は中心流を囲む薄層な円筒状の流れを形成する。そして、ミキシング流路１４６内を流通する２つの円筒状の溶液Ｌ１、Ｌ２は、互いに隣接する層流間の接触界面で各溶液Ｌ１、Ｌ２の分子が相互に拡散して混合反応される。これにより、溶液Ｌ１、Ｌ２は均一な混合反応を短時間で完了させることができる。これと同時に、マイクロ波発生器１６０からのマイクロ波がミキシング流路１４６内の溶液Ｌ１、Ｌ２、ＬＭに照射されるので、ミキシング流路１４６内における溶液Ｌ１、Ｌ２、ＬＭの分子の拡散速度を増大させて混合反応を更に効率的に行う。更に、複数のマイクロ波発生器１６０を溶液Ｌ１、Ｌ２の流通方向に沿って異なる位置に配置するようにしたので、溶液Ｌ１、Ｌ２、ＬＭに照射されるマイクロ波を段階的に変化させることができる。マイクロ波は振動に比べて指向性が強いので、流通方向に沿って、ある位置にあるマイクロ波発生器１６０に対応する領域に存在する溶液Ｌ１、Ｌ２、ＬＭが他の位置にあるマイクロ波発生器１６０からのマイクロ波の影響を受けにくい。この結果、並列型のマイクロリアクター１０で説明した振動発生器３２を設けた場合に比べて、ミキシング流路１４６内における溶液Ｌ１、Ｌ２、ＬＭの混合反応を更に精密に制御できる。この結果、粒子サイズが１〜１００ｎｍのサイズ範囲で且つ粒子サイズの変動係数が１５％以下を満足し、更には自己配列性に優れた合金粒子を作製することができる。

尚、溶液Ｌ１と複数の溶液Ｌ３とを混合反応させる場合には、例えば図６のように給液路の数を増加すれば良い。図６は、記述した第１給液路１４２及び第２給液路１４４の外周に第３の給液路１７０を設けた場合である。また、図７は図５の変形例であり、スペーサ１４８、１５０を省略する代わりに、第１給液路１４２及び第２給液路１４４の先端側の開口部に、それぞれ円環状ノズルプレート１７２を複数取り付けた場合である。このような構造では、それぞれの給液路１４２、１４４からミキシング流路１４６内に導入される溶液Ｌ１、Ｌ２は、円環状ノズルプレート１７２の内径に対応する外径を有する複数本の細棒状の層流となって出液口１２２に向かって流れつつ、各層流の接触界面ではその法線方向に沿って分子拡散が生じて溶液Ｌ１、Ｌ２の混合反応が行われる。このとき、溶液Ｌ１、Ｌ２を複数本の細棒状の層流とすることで、それぞれの溶液Ｌ１、Ｌ２の比表面積を増加させることができるので、均一な混合反応を更に迅速に行うことができる。

従って、合金粒子作製工程において、合金粒子を作製するための複数種の溶液を、同心円型のマイクロリアクター１１０を利用して液相法により混合反応させれば、混合反応を精密に制御することが可能であり、微小サイズで単分散性が良く、しかも変態容易性に優れた合金粒子を作製することができる。

尚、並列型のマイクロリアクター１０では振動発生器３２を設け、同心円型のマイクロリアクター１１０ではマイクロ波発生器１６０を設けたが、逆にしてもよく、振動発生器３２とマイクロ波発生器１６０の両方を設けてもよい。マイクロリアクター１０、１１０の混合反応温度制御は、装置全体を温度制御された容器中に入れることにより制御しても良く、金属抵抗線や、ポリシリコン等のヒーター構造を装置内に作りこみ、加熱についてはこれを使用し、冷却については自然冷却でサーマルサイクルを行ってもよい。温度のセンシングは、金属抵抗線ではヒータと同じ抵抗線をもう一つ作り込んでおき、その抵抗値の変化に基づいて温度検出を行い、ポリシリコンについては熱電対を用いて検出を行う。また、ぺルチェ素子をマイクロリアクター１０、１１０に接触させることによって外部から加熱、冷却を行ってもよい。

上述した1)並列型マイクロリアクター１０、2)同心円型マイクロリアクター１１０を利用して溶液Ｌ１と溶液Ｌ２とを混合することにより、合金粒子作製工程において微小サイズ、単分散性、変態容易性の全てを満足する合金粒子を作製することができる。

上記した混合による還元反応の混合反応温度は、−５°Ｃ〜３０°Ｃの範囲で一定の温度とすることが好ましい。温度が−５°Ｃ未満では水相が凝結して還元反応が不均一になるといった問題が生じ、３０°Ｃを超えると、凝集又は沈澱が起こり易く、系が不安定となることがある。好ましい還元温度は０°Ｃ〜２５°Ｃの範囲であり、より好ましくは５°Ｃ〜２５°Ｃの範囲である。ここで、「一定温度」とは、設定温度Ｔ（°Ｃ）とした場合、当該ＴがＴ±３°Ｃの範囲にあることを言う。なお、このようにした場合であっても、当該Ｔの上限及び下限は上記の−５°Ｃ〜３０°Ｃである。還元反応の時間は、逆ミセル容量の量等により適宜選択する必要があるが、１〜３０分とすることが好ましく、５〜２０分がより好ましい。

上記還元工程において、溶液Ｌ１及び溶液Ｌ２の少なくとも何れかに、アミノ基又はカルボキシル基を１〜３個有する少なくとも１種の分散剤を、作製しようとする合金粒子１モル当たり０．００１〜１０モル添加することが好ましい。かかる分散剤を添加することで、より単分散で、凝集の無い合金粒子を得ることが可能となる。添加量が、０．００１未満では、合金粒子の単分散性をより向上させられない場合があり、１０モルを超えると凝集が起こる場合がある。

分散剤としては、合金粒子表面に吸着する基を有する有機化合物が好ましい。具体的には、アミノ基、カルボキシ基、スルホン酸基またはスルフィン酸基を１〜３個有するものであり、これらを単独または併用して用いることができる。

構造式としては、Ｒ−ＮＨ₂ 、ＮＨ₂ −Ｒ−ＮＨ₂ 、ＮＨ₂ −Ｒ（ＮＨ₂ ）−ＮＨ₂ 、Ｒ−ＣＯＯＨ、ＣＯＯＨ−Ｒ−ＣＯＯＨ、ＣＯＯＨ−Ｒ（ＣＯＯＨ）−ＣＯＯＨ、Ｒ−ＳＯ₃ Ｈ、ＳＯ₃ Ｈ−Ｒ−ＳＯ₃ Ｈ、ＳＯ₃ Ｈ−Ｒ（ＳＯ₃ Ｈ）−ＳＯ₃ Ｈ、Ｒ−ＳＯ₂ Ｈ、ＳＯ₂ Ｈ−Ｒ−ＳＯ₂ Ｈ、ＳＯ₂ Ｈ−Ｒ（ＳＯ₂ Ｈ）−ＳＯ₂ Ｈで表される化合物であり、式中のＲは直鎖、分岐または環状の飽和、不飽和の炭化水素である。

分散剤として特に好ましい化合物はオレイン酸である。オレイン酸はコロイドの安定化において周知の界面活性剤であり、鉄等の金属粒子を保護するのに用いられてきた。オレイン酸の比較的長い（たとえば、オレイン酸は１８炭素鎖を有し長さは〜２０オングストローム（〜２ｎｍ）である。オレイン酸は脂肪族ではなく二重結合が１つある）鎖は粒子間の強い磁気相互作用を打ち消す重要な立体障害を与える。

エルカ酸やリノール酸など類似の長鎖カルボン酸もオレイン酸同様に（たとえば、８〜２２の間の炭素原子を有する長鎖有機酸を単独でまたは組み合わせて用いることができる）用いられる。オレイン酸は（オリーブ油など）容易に入手できる安価な天然資源であるので好ましい。また、オレイン酸から誘導されるオレイルアミンもオレイン酸同様有用な分散剤である。

以上のような還元工程では、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃ Ａｕ型硬磁性規則合金相中のＣｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ等の酸化還元電位が卑な金属（−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）程度以下の金属）が還元され、極小サイズで単分散な状態で析出するものと考えられる。その後、昇温段階および後述する熟成工程において、析出した卑な金属を核とし、その表面で、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等の酸化還元電位が貴な金属（−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）程度以上の金属）が卑な金属で還元されて置換、析出する。イオン化した卑な金属は還元剤で再度還元されて析出すると考えられる。このような繰返しによって、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃ Ａｕ型硬磁性規則合金を形成し得る合金粒子が得られる。

次に、還元工程終了後、混合反応液を、前述した還元工程での混合反応温度である−５°Ｃ〜３０°Ｃより高い熟成温度まで昇温する熟成工程について説明する。
（熟成工程）
熟成温度は、３０〜９０°Ｃで一定の温度とすることが好ましく、その温度は、還元反応の温度より高くする。また、熟成時間は、５〜１８０分とすることが好ましい。熟成温度および時間が上記範囲より高温長時間側にずれると、凝集または沈殿が起きやすく、逆に低温短時間側にずれると、反応が完結しなくなり組成が変化することがある。好ましい熟成温度および時間は４０〜８０°Ｃおよび１０〜１５０分であり、より好ましい熟成温度および時間は４０〜７０°Ｃおよび２０〜１２０分である。

ここで、「一定温度」とは、還元反応の温度の場合と同義（但し、この場合、「還元温度」は「熟成温度」となる）であるが、特に、上記熟成温度の範囲（３０〜９０°Ｃ）内で、還元反応の温度より５°Ｃ以上高いことが好ましく、１０°Ｃ以上高いことがより好ましい。５°Ｃ未満では、処方通りの組成が得られないことがある。

以上のような熟成工程では、還元工程で還元析出した卑な金属上に貴な金属が析出する。即ち、卑な金属上でのみ貴な金属の還元が起こり、卑な金属と貴な金属とが別々に析出することが無いため、効率良くＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃ Ａｕ型硬磁性規則合金を形成し得る合金粒子を、高収率で処方組成比どおりに作製することが可能で、所望の組成に制御することができる。また、熟成の際の温度の撹拌速度を適宜調整することで、得られる合金粒子の粒径を所望なものとすることができる。

熟成を行った後は、水と１級アルコールとの混合溶液で熟成後の溶液を洗浄し、その後、１級アルコールで沈殿化処理を施して沈殿物を生成させ、該沈殿物を有機溶媒で分散させる洗浄・分散工程を設けることが好ましい。

かかる洗浄・分散工程を設けることで、不純物が除去され、磁気記録媒体の磁性層を塗布により形成する際の塗布性をより向上させることができる。洗浄および分散は、少なくともそれぞれ１回、好ましくは、それぞれ２回以上行う。

洗浄で用いる１級アルコールとしては、特に限定されるものではないが、メタノール、エタノール等が好ましい。体積混合比（水／１級アルコール）は、１０／１〜２／１の範囲であることが好ましく、５／１〜３／１の範囲にあることがより好ましい。水の比率が高いと、界面活性剤が除去されにくくなることがあり、逆に１級アルコールの比率が高いと、凝集を起こしてしまうことがある。

以上のようにして、溶液中に分散した合金粒子（合金粒子含有液）が得られる。

当該合金粒子は、単分散であるため、支持体に塗布しても、これらが凝集することなく均一に分散した状態を保つことができる。従って、アニール処理を施しても、それぞの合金粒子が凝集することがないため、効率良く硬磁性化することが可能で、塗布適性に優れる。更に、当該合金粒子は、上述した高圧混合法を行って作製することで自己配列性に優れており、アニール処理を施すことにより、容易且つ確実に不規則相から規則相に変態される。これにより、効率良く硬磁性化することができる。

後述する酸化処理前の合金粒子の粒径は、ノイズを下げる観点から小さいことが好ましいが、小さすぎるとアニール後に超常磁性となり、磁気記録に不適当となることがある。一般に、１〜１００ｎｍであることが好ましく、３〜２０ｎｍであることがより好ましく、３〜１０ｎｍであることがさらに好ましい。
（還元法）
ここで、合金粒子を作製する一般的な還元法について述べる。

還元法でＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃ Ａｕ型強磁性規則合金を形成し得る合金粒子を作製するには種々の方法があるが、少なくとも、酸化還元電位が卑な金属（以下、単に「卑な金属」ということがある）と、酸化還元電位が貴な金属（以下、単に「貴な金属」ということがある）と、を有機溶剤もしくは水、または有機溶剤と水との混合溶液中で還元剤等を使用して還元する方法を適用することが好ましい。卑な金属と貴な金属との還元順序は、特に限定されず、同時に還元してもよい。

前記有機溶剤としては、アルコール、ポリアルコール等を使用することが可能で、アルコールとしては、メタノール、エタノール、ブタノール等が挙げられ、ポリアルコールとしては、エチレングリコール、グリセリン等が挙げられる。

なお、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃ Ａｕ型強磁性規則合金の例としては、既述の逆ミセル法の場合と同様である。

また、貴な金属を先に析出させて合金粒子を調製する方法としては、特願２００１−２６９２５５号の段落１８〜３０等に記載の方法等を適用することができる。

酸化還元電位が貴な金属としては、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等が好ましく用いることができ、Ｈ₂ ＰｔＣｌ₆ ・６Ｈ₂ Ｏ、Ｐｔ（ＣＨ₃ ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃ ）₂ 、ＲｈＣｌ₃ ・３Ｈ₂ Ｏ、Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ₃ ）₂ 、ＰｄＣｌ₂ 、Ｐｄ（ＣＨ₃ ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃ ）₂ 等を溶媒に溶解して用いることができる。溶液中の金属の濃度は、０．１〜１０００μｍｏｌ／ｍｌが好ましく、０．１〜１００μｍｏｌ／ｍｌがより好ましい。

また、酸化還元電位が卑な金属としては、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒを好ましく用いることができ、特に好ましくは、Ｆｅ、Ｃｏである。このような金属は、ＦｅＳＯ₄ ・７Ｈ₂ Ｏ、ＮｉＳＯ₄ ・７Ｈ₂ Ｏ、ＣｏＣｌ₂ ・６Ｈ₂ Ｏ、Ｃｏ（ＯＣＯＣＨ₃ ）₂ ・４Ｈ₂ Ｏ等を溶媒に溶解して用いることができる。溶液中の金属の濃度は、０．１〜１０００μｍｏｌ／ｍｌが好ましく、０．１〜１００μｍｏｌ／ｍｌがより好ましい。

また、記述の逆ミセル法と同様に２元系合金に、第三元素を加える事で硬磁性規則合金への、変態温度を下げる事が好ましい。添加量としては逆ミセル法と同様である。

例えば、還元剤を用いて卑な金属と貴な金属とをこの順に還元して析出させる場合、−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より卑な還元電位を持つ還元剤を用いて卑な金属あるいは卑な金属と貴な金属の一部を還元したものを、貴な金属源に加え酸化還元電位が−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より貴な還元剤を用いて還元した後、−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より卑な還元電位を持つ還元剤を用いて還元する事が好ましい。

酸化還元電位は系のｐＨに依存するが、酸化還元電位が−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より貴な還元剤には、１，２−ヘキサデカンジオール等のアルコール類、グリセリン類、Ｈ₂ 、ＨＣＨＯが好ましく用いられる。

−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より卑な還元剤にはＳ₂ Ｏ₆ ^2-・、Ｈ₂ ＰＯ_2-、ＢＨ_4-、Ｎ₂ Ｈ₅₊、Ｈ₂ ＰＯ_3-が好ましく用いる事ができる。

なお、卑な金属の原料として、Ｆｅカルボニル等の０価の金属化合物と用いる場合は、特に卑な金属の還元剤は必要ない。

貴な金属を還元析出させる際に吸着剤を存在させる事で合金粒子を安定して調製することができる。吸着剤としてはポリマーや界面活性剤を使用することが好ましい。

前記ポリマーとしては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリＮ−ビニルー２ピロリドン（ＰＶＰ）、ゼラチン等が挙げられる。なかでも、特に好ましくはＰＶＰである。

また、分子量は２万〜６万が好ましく、より好ましくは３万〜５万である。ポリマーの量は生成する合金粒子の質量の０．１〜１０倍であることが好ましく、０．１〜５倍がより好ましい。

吸着剤として好ましく用いられる界面活性剤は、一般式：Ｒ−Ｘ、で表される長鎖有機化合物である「有機安定剤」を含むことが好ましい。上記一般式中のＲは、直鎖または分岐ハイドロカーボンまたはフルオロカーボン鎖である「テール基」であり、通常８〜２２個の炭素原子を含む。また、上記一般式中のＸは、合金粒子表面に特定の化学結合を提供する部分（Ｘ）である「ヘッド基」であり、スルフィネート（−ＳＯＯＨ、スルホネート（−ＳＯ₂ ＯＨ）、ホスフィネート（−ＰＯＯＨ）、ホスホネート（−ＯＰＯ（ＯＨ）₂ ）、カルボキシレート、およびチオールのいずれかであることが好ましい。

前記有機安定剤としては、スルホン酸（Ｒ−ＳＯ₂ ＯＨ）、スルフィン酸（Ｒ−ＳＯＯＨ）、ホスフィン酸（Ｒ₂ ＰＯＯＨ）、ホスホン酸（Ｒ−ＯＰＯ（ＯＨ）₂ ）、カルボン酸（Ｒ−ＣＯＯＨ）、チオール（Ｒ−ＳＨ）等のいずれかであることが好ましい。これらのなかでも、逆ミセル法と同様のオレイン酸が特に好ましい。

前記ホスフィンと有機安定剤との組合せ（トリオルガノホスフィン／酸等）は、粒子の成長および安定化に対する優れた制御性を提供することができる。ジデシルエーテルおよびジドデシルエーテルも用いることができるが、フェニルエーテルまたはｎ−オクチルエーテルはその低コストおよび高沸点のため溶媒として好適に用いられる。

しかし、合金粒子を作製する一般的な還元法では、本発明のようなマイクロリアクターを利用する混合反応における混合反応温度である−５°Ｃ〜３０°Ｃに比べて高い温度で行っている。即ち、反応は必要な合金粒子および溶媒の沸点により８０°Ｃ〜３６０°Ｃの範囲の温度で行うことが通常であり、８０°Ｃ〜２４０°Ｃがより好ましい。一般の還元法の場合には温度がこの温度範囲より低いと粒子が成長しないことがあり、温度がこの範囲より高いと粒子は制御されないで成長し、望ましくない副産物の生成が増加することがあるためである。

合金粒子の粒径は逆ミセル法と同様で、１〜１００ｎｍが好ましく、より好ましくは３〜２０ｎｍであり、さらに好ましくは３〜１０ｎｍであり、本発明と同様である。

粒子サイズ（粒径）を大きくする方法としては種晶法が有効である。磁気記録媒体として用いるには合金粒子を最密充填することが記録容量を高くする上で好ましく、そのためには、合金粒子のサイズの標準偏差は１０％未満が好ましく、より好ましくは５％以下である。本発明では、合金粒子のサイズを変動係数で規定しており、変動係数が１５％以下、好ましくは１０％以下である。

粒子サイズが小さすぎると超常磁性となり好ましくない。そこで粒子サイズを大きくするため既述のように、種晶法を用いることが好ましい。その際、粒子を構成する金属より貴な金属を析出させるケースが出てくる。このとき、粒子の酸化が懸念されるため、予め粒子を水素化処理することが好ましい。

合金粒子の最外層は酸化防止の観点から貴な金属にすることが好ましいが、凝集しやすいため、本発明では貴な金属と卑な金属との合金であることが好ましい。かかる構成は、既述のような、液相法によれば容易かつ効率良く実現させることができる。

合金粒子合成後に溶液から塩類を除くことは、合金粒子の分散安定性を向上させる意味から好ましい。脱塩にはアルコールを過剰に加え、軽凝集を起こし、自然沈降あるいは遠心沈降させ塩類を上澄みと共に除去する方法があるが、このような方法では凝集が生じやすいため、限外濾過法を採用することが好ましい。

以上のようにして、溶液中に分散した合金粒子（合金粒子含有液）が得られる。

合金粒子の粒径評価には透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いることができる。合金粒子もしくは磁性粒子の結晶系を決めるにはＴＥＭによる電子回折でもよいが、Ｘ線回折を用いた方が精度が高いため好ましい。合金粒子もしくは磁性粒子の内部の組成分析には、電子線を細く紋ることができるＦＥ−ＴＥＭにＥＤＡＸを付け評価することが好ましい。また、合金粒子もしくは磁性粒子の磁気的性質の評価はＶＳＭを用いて行うことができる。
［酸化処理工程］
作製した合金粒子に酸化処理を施すことで、後の非酸化性雰囲気下でアニール処理を施す際の温度を高くすることなく、硬磁性を有する磁性粒子を効率よく製造することができる。これは、以下に説明する現象によると考えられる。

すなわち、まず、合金粒子を酸化することで、その結晶格子上に酸素が進入する。酸素が進入した状態でアニール処理を行うと、熱により酸素が結晶格子上から脱離する。酸素が脱離することで欠陥が生じ、かかる欠陥を通じて合金を構成する金属原子の移動が容易になるため、比較的低温でも相変態が起こりやすくなると考えられる。従って、記述した高圧混合法により作製された自己配列性の良い合金粒子に酸化処理を行うことで、アニール処理の温度を下げることが一層可能となる。

かかる現象は、例えば、酸化処理後の合金粒子とアニール処理を行った磁性粒子とをＥＸＡＦＳ（広範囲Ｘ線吸収微細構造）測定することで、推察される。

例えば、Ｆｅ−Ｐｔ合金粒子で酸化処理を施さない合金粒子では、Ｆｅ原子と、Ｐｔ原子やＦｅ原子との結合の存在が確認できる。

これに対し、酸化処理を施した合金粒子では、Ｆｅ原子と酸素原子との結合の存在を確認できる。しかし、Ｐｔ原子やＦｅ原子との結合はほとんど見えなくなる。このことは、酸素原子によりＦｅ−Ｐｔ、Ｆｅ−Ｆｅの結合が切られていることを意味する。これによりアニール時にＰｔ原子やＦｅ原子が動きやすくなったと考えられる。

そして、当該合金粒子にアニール処理を施した後は、酸素の存在を確認することができず、Ｆｅ原子の周りにはＰｔ原子やＦｅ原子との結合の存在が確認できる。

上記現象を考慮すれば、酸化しないと相変態が進行しにくくなりアニール処理温度を高くする必要が生じることがわかる。しかし、過度に酸化するとＦｅ等の酸化されやすい金属と酸素との相互作用が強くなりすぎて金属酸化物が生成してしまうことも考えられる。

よって、合金粒子の酸化状態を制御することが重要となり、そのためには酸化処理条件を最適なものに設定する必要がある。

酸化処理は、例えば、既述の液相法などにより合金粒子を作製した場合は、作製した後の合金粒子含有液に少なくとも酸素を含有するガスを供給すればよい。

このときの酸素分圧は、全圧の１０〜１００％とすることが好ましく、１５〜５０％とすることが好ましい。また、酸化処理温度は、０〜１００°Ｃとすることが好ましく、１５〜８０°Ｃとすることが好ましい。

合金粒子の酸化状態は、ＥＸＡＦＳ等で評価することが好ましく、Ｆｅ等の卑な金属と酸素との結合数は、酸素によりＦｅ−Ｆｅ結合、Ｐｔ−Ｆｅ結合を切るという観点から、０．５〜４であることが好ましく、１〜３であることがより好ましい。
［アニール処理工程］
酸化処理を施した合金粒子は不規則相である。既述のように不規則相では硬磁性は得られない。そこで、規則相とするためには、熱処理（アニール）を施す必要がある。熱処理は、示差熱分析（ＤＴＡ）を用い、合金粒子を構成する合金が規則不規則変態する変態温度を求め、その温度以上で行う事が必要である。

上記変態温度は、通常５００°Ｃ程度であるが、既述の還元工程において高圧混合法で混合することで、作製された合金粒子の自己配列性が向上するので、通常温度よりも下げることが可能である。従って、アニール処理温度は１００°Ｃ以上とすることが好ましく、１００〜５００°Ｃとすることがより好ましい。また、第三元素の添加によっても下がることがある。

また、粒子状態でアニール処理を施すと粒子の移動が起こりやすく融着が生じやすい。このため高い保磁力は得られるが粒子サイズが大きくなる欠点を有しやすい。従ってアニール処理は、合金粒子の凝集を防ぐ観点から、支持体上などで塗布した状態で行うことが好ましい。

さらに、支持体上で合金粒子をアニールして磁性粒子とすることで、かかる磁性粒子からなる層を磁性層とした磁気記録媒体に供することができる。

支持体としては、磁気記録媒体に使用される支持体であれば、無機物および有機物のいずれでもよい。

無機物の支持体としては、Ａｌ、Ａｌ−Ｍｇ、Ｍｇ−Ａｌ−ＬＭ ｎ等のＭｇ合金、ガラス、石英、カーボン、シリコン、セラミックス等が用いられる。これらの支持体は耐衝撃性に優れ、また薄型化や高速回転に適した剛性を有する。また、有機物の支持体と比較して、熱に強い特徴を有している。

有機物の支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類；ポリオレフイン類；セルローストリアセテート、ポリカーボネート、ポリアミド（脂肪族ポリアミドやアラミド等の芳香族ポリアミドを含む）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、ポリベンゾオキサゾール；等を用いる事ができる。

支持体上に合金粒子を塗布するには、前記酸化処理を施した後の合金粒子含有液に必要に応じて種々の添加剤を添加して、支持体上に塗布すればよい。

このときの合金粒子の含有量は所望の濃度（０．０１〜０．１ｍｇ／ｍｌ）とすることが好ましい。

支持体に塗布する方法としては、エアードクターコート、ブレードコート、ロッドコート、押出しコート、エアナイフコート、スクイズコー卜、含浸コート、リバースロールコート、トランスファーロールコート、グラビヤコート、キスコート、キャストコート、スプレイコート、スピンコート等が利用できる。

アニール処理を施す際の雰囲気としては、相変態を効率良く進行させ合金の酸化を防ぐため、Ｈ₂ 、Ｎ₂ 、Ａｒ、Ｈｅ、Ｎｅ等の非酸化性雰囲気下とする。

特に、酸化処理により格子上に存在する酸素を脱離させる観点から、メタン、エタン、Ｈ₂ 等の還元性雰囲気とすることが好ましい。さらに、粒径維持の観点から、還元性雰囲気下の磁場中でアニール処理を行うことが好ましい。なお、Ｈ₂ 雰囲気とする場合は防爆の観点から、不活性ガスを混合させることが好ましい。

また、アニール時に粒子の融着を防止するために、変態温度以下、不活性ガス中で一旦アニール処理を行い、分散剤を炭化した後、還元性雰囲気中で変態温度以上でアニール処理を行うことが好ましい。このとき、必要に応じて変態温度以下の前記アニール処理後に、合金粒子からなる層上にＳｉ系の樹脂等を塗布し、変態温度以上でアニール処理を行うことが最も好ましい態様である。

以上のようなアニール処理を施すことで、合金粒子が不規則相から規則相に相変態し、硬磁性を有する磁性粒子が得られる。

既述の本発明の磁性粒子の製造方法により製造される磁性粒子は、その保磁力が９５．５〜９５５ｋＡ／ｍ（１２００〜１２０００Ｏｅ）であることが好ましく、磁気記録媒体に適用した場合、記録ヘッドが対応できることを考慮して９５．５〜３９８ｋＡ／ｍ（１２００〜５０００Ｏｅ）であることがより好ましい。

また、当該磁性粒子の粒径は１〜１００ｎｍであることが好ましく、３〜２０ｎｍであることがより好ましく、３〜１０ｎｍであることがさらに好ましい。
＜＜磁気記録媒体＞＞
本発明の磁気記録媒体は、その磁性層に磁性粒子を含有し、当該磁性粒子が既述の本発明の磁性粒子の製造方法により製造される磁性粒子であることを特徴とする。

当該磁気記録媒体としては、ビデオテープ、コンピューターテープ等の磁気テープ；フロッピー（Ｒ）ディスク、ハードディスク等の磁気ディスク；等が挙げられる。既述のように支持体上に合金粒子（合金粒子含有液）を塗布し、アニール処理を施して磁性粒子とした場合は、かかる磁性粒子からなる層を磁性層とすることができる。また、支持体上で合金粒子をアニール処理せず、粒子の状態でアニール処理を行って磁性粒子を作製した場合は、当該磁性粒子をオープンニーダー、３本ロールミル等で混練した後、サンドグラインダー等で微分散して塗布液を調製し、公知の方法で支持体上にこれを塗布し磁性層を形成すればよい。

形成される磁性層の厚さは、適用される磁気記録媒体の種類にもよるが、４ｎｍ〜１ｕｍであることが好ましく、４ｎｍ〜１００ｎｍであることがより好ましい。

本発明の磁気記録媒体は、磁性層のほかに必要に応じて他の層を有していてもよい。例えば、ディスクの場合、磁性層の反対側の面にさらに磁性層や非磁性層を設けることが好ましい。テープの場合、磁性層の反対側の不溶性支持体面上にバック層を設けることが好ましい。

また、磁性層上に非常に薄い保護膜を形成することで、耐磨耗性を改善し、さらにその保護膜上に潤滑剤を塗布して滑り性を高めることによって、十分な信頼性を有する磁気記録媒体とすることができる。

保護膜の材質としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化コバルト、酸化ニッケルなどの酸化物；窒化チタン、窒化ケイ素、窒化ホウ素などの窒化物；炭化ケイ素、炭化クロム、炭化ホウ素等の炭化物；グラファイト、無定型カーボンなどの炭素（カーボン）；等があげられるが、特に好ましくは、一般に、ダイヤモンドライクカーボンと呼ばれる硬質の非晶質のカーボンである。

カーボンからなるカーボン保護膜は、非常に薄い膜厚で十分な耐磨耗性を有し、摺動部材に焼き付きを生じ難いため、保護膜の材料としては好適である。

カーボン保護膜の形成方法として、ハードディスクにおいては、スパッタリング法が一般的であるがてビデオテープ等の連続成膜を行う必要のある製品ではより成膜速度の高いプラズマＣＶＤを用いる方法が多数提案されている。従って、これらの方法を適用することが好ましい。

中でもプラズマインジェクションＣＶＤ（ＰＩ−ＣＶＤ）法は成膜速度が非常に高く、得られるカーボン保護膜も硬質かつピンホールが少ない良質な保護膜が得られると報告されている（例えば、特開昭６１−１３０４８７号公報、特開昭６３−２７９４２６号公報、特開平３−１１３８２４号公報等）。

このカーボン保護膜は、ピッカース硬度で１０００Ｋｇ／ｍｍ² 以上であることが好ましく、２０００Ｋｇ／ｍｍ² 以上であることがより好ましい。また、その結晶構造はアモルファス構造であり、かつ非導電性であることが好ましい。

そして、カーボン保護膜として、ダイヤモンド状炭素（ダイヤモンドライクカーボン）膜を使用した場合、この構造はラマン光分光分析によって確認することができる。すなわち、ダイヤモンド状炭素膜を測定した場合には、１５２０〜１５６０ｃｍ^-1にピークが検出されることによって確認することができる。炭素膜の構造がダイヤモンド状構造からずれてくるとラマン光分光分析により検出されるピークが上記範囲からずれるとともに、保護膜としての硬度も低下する。

このカーボン保護膜を形成するための炭素原料としては、メタン、エタン、プロパン、ブタン等のアルカン；エチレン、プロピレン等のアルケン；アセチレン等のアルキン；をはじめとした炭素含有化合物を用いることが好ましい。また、必要に応じてアルゴンなどのキャリアガスや膜質改善のための水素や窒素などの添加ガスを加えることができる。

カーボン保護膜の膜厚が厚いと、電磁変換特性の悪化や磁性層に対する密着性の低下が生じ、膜厚が薄いと耐磨粋性が不足する。従って、膜厚は、２．５〜２０ｎｍとすることが好ましく、５〜１０ｎｍとすることがより好ましい。

また、この保護膜と基板となる磁性層の密着性を改善するために、あらかじめ磁性層表面を不活性ガスでエッチングしたり、酸素等の反応性ガスプラズマに曝して表面改質する事が好ましい。

磁性層は電磁変換特性を改善するため重層構成としたり、磁性層の下に公知の非磁性下地層や中間層を有していてもよい。走行耐久性および耐食性を改善するため、既述のように、上記磁性層もしくは保護膜上に潤滑剤や防錆剤を付与することが好ましい。添加する潤滑剤としては公知の炭化水素系潤滑剤、フッ素系潤滑剤、極圧添加剤などが使用できる。

炭化水素系潤滑剤としては、ステアリン酸、オレイン酸等のカルボン酸類；ステアリン酸ブチル等のエステル類；オクタデシルスルホン酸等のスルホン酸類；リン酸モノオクタデシル等のリン酸エステル類；ステアリルアルコール、オレイルアルコール等のアルコール類；ステアリン酸アミド等のカルボン酸アミド類；ステアリルアミン等のアミン類；などが挙げられる。

フッ素系潤滑剤としては、上記炭化水素系潤滑剤のアルキル基の一部または全部をフルオロアルキル基もしくはパーフルオロポリエーテル基で置換した潤滑剤が挙げられる。

パーフルオロポリエーテル基としては、パーフルオロメチレンオキシド重合体、パーフルオロエチレンオキシド重合体、パーフルオローｎ−プロピレンオキシド重合体（ＣＦ₂ ＣＦ₂ ＣＦ₂ Ｏ）ｎ、パーフルオロイソプロピレンオキシド重合体（ＣＦ（ＣＦ₃ ）ＣＦ₂ Ｏ）_n またはこれらの共重合体等である。

また、炭化水素系潤滑剤のアルキル基の末端や分子内に水酸基、エステル基、カルボキシル基などの極性官能基を有する化合物が、摩擦力を低減する効果が高く好適である。

さらに、この分子量は、５００〜５０００、好ましくは１０００〜３０００である。５００未満では揮発性が高く、また潤滑性が低くなることがある。また、５０００を超えると、粘度が高くなるため、スライダーとディスクが吸着しやすく、走行停止やヘッドクラッシュなどを発生しやすくなることがある。

このパーフルオロポリエーテルは、具体例的には、アウジモンド社製のＦＯＭＢＬＩＮ、デュポン社製のＫＲＹＴＯＸなどの商品名で市販されている。

極圧添加剤としては、リン酸トリラクリル等のリン酸エステル類；亜リン酸トリラクリル等の亜リン酸エステル類；トリチオ亜リン酸トリラウリル等のチオ亜リン酸エステルやチオリン酸エステル類；二硫化ジベンジル等の硫黄系極圧剤；などが挙げられる。

前記潤滑剤は単独もしくは複数を併用して使用される。これらの潤滑剤を磁性層もしくは保護膜上に付与する方法としては、潤滑剤を有機溶剤に溶解し、ワイヤーバー法、グラビア法、スピンコート法、ディップコート法等で塗布するか、真空蒸着法によって付着させればよい。

防錆剤としては、ベンゾトリアゾール、ベンゾイミダゾール、プリン、ピリミジン等の窒素含有複素環類およびこれらの母核にアルキル側鎖等を導入した誘導体；ベンゾチアゾール、２−メルカプトンベンゾチアゾール、テトラザインデン環化合物、チオウラシル化合物等の窒素および硫黄含有複素環類およびこの誘導体；等が挙げられる。

既述のように、磁気記録媒体が磁気テープ等の場合は、非磁性支持体の磁性層が形成されていない面にバックコート層（バッキング層）が設けられていてもよい。バックコート層は、非磁性支持体の磁性層が形成されていない面に、研磨材、帯電防止剤などの粒状成分と結合剤とを公知の有機溶剤に分散したバックコート層形成塗料を塗布して設けられる層である。

粒状成分として各種の無機顔料やカーボンブラックを使用することができ、また結合剤としてはニトロセルロース、フェノキシ樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン等の樹脂を単独またはこれらを混合して使用することができる。

また、合金粒子含有液の塗布面およびバックコート層が形成される面には、公知の接着剤層が設けられていてもよい。

以上のようにして製造される磁気記録媒体は、表面の中心線平均粗さが、カットオフ値０．２５ｍｍにおいて、好ましくは０．１〜５ｎｍ、より好ましくは１〜４ｎｍの範囲とする。このように、極めて優れた平滑性を有する表面とすることが、高密度記録用の磁気記録媒体として好ましいからである。

このような表面を得る方法として、磁性層を形成した後にカレンダー処理を施す方法が挙げられる。また、バーニッシュ処理を施してもよい。

得られた磁気記録媒体は、適宜、打ち抜き機で打ち抜いたり、裁断機などを使用して所望の大きさに裁断して使用することができる。

本発明の磁性粒子の製造方法における合金粒子作製工程で用いる並列型マイクロリアクターの構造を示した断面図 並列型マイクロリアクターで２種類の溶液を混合反応させる模式図 並列型マイクロリアクターで３種類の溶液を混合反応させる模式図 図１の並列型マイクロリアクターの変形例を示した断面図 本発明の磁性粒子の製造方法における合金粒子作製工程で用いる同心円型マイクロリアクターの構造を示した断面図 同心円型マイクロリアクターで３種類の溶液を混合反応させる給液路の構造を説明する説明図 同心円型マイクロリアクターの変形例で給液路に円環状ノズルプレートを設けた説明図 従来の混合反応装置の構造を説明する説明図

符号の説明

Ｌ１、Ｌ２…溶液、ＬＭ…混合反応液、１０…並列型マイクロリアクター、１２…ミキサー本体、１４…隔壁板、１６…第１給液路、１８…第２給液路、２０…蓋板、２２、２４…給液口、２６…ミキシング流路、２８…出液口、３２、４２、４４、４６…振動発生器、３４…振動部、３６…駆動制御部、３８、３９…給液配管、１１０…同心円型マイクロリアクター、１１２…ミキサー本体、１１４…大径部、１１６…第１ヘッダ部、１１８…第２ヘッダ部、１２０…円管部、１２２…出液口、１２６…蓋板、１３０…整流部材、１３１…熱媒体の給液管、１３２…円錐部、１３４…仕切板、１３６、１３８…給液配管、１４０…隔壁部材、１４２…第１給液路、１４４…第２給液路、１４６…ミキシング流路、１４８、１５０…スペーサ、１５２、１５４…給液口、１５８…開口部、１６０…マイクロ波発生器、１６２…嵌挿部、１６４…駆動制御部、１７０…３番目の給液路、１７２…円環状ノズルプレート

Claims (14)

1. ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃ Ａｕ型の硬磁性規則合金相を形成し得る合金粒子を作製する合金粒子作製工程及び磁性粒子形成工程とを備えた磁性粒子の製造方法において、
   前記合金粒子作製工程では、該合金粒子を作製するための複数種の溶液をマイクロリアクターを利用した液相法により混合反応させることを特徴とする磁性粒子の製造方法。
2. 前記混合反応により作成される合金粒子の粒子サイズが１〜１００ｎｍであり、且つ粒子サイズの変動係数が１５％以下であることを特徴とする請求項１の磁性粒子の製造方法。
3. 前記液相法は逆ミセル法であると共に、前記複数種の溶液として、界面活性剤を含有する非水溶性有機溶媒と還元剤水溶液とを混合した逆ミセル溶液（溶液Ｌ１）と、界面活性剤を含有する非水溶性有機溶媒と前記合金粒子を作製する複数種の金属原子を含有する金属塩水溶液とを混合した逆ミセル溶液（溶液Ｌ２）とを調製し、前記溶液Ｌ１及び溶液Ｌ２を前記マイクロリアクターで混合反応させることを特徴とする請求項１又は２の磁性粒子の製造方法。
4. 前記液相法は逆ミセル法であると共に、前記複数種の溶液として、界面活性剤を含有する非水溶性有機溶媒及び還元剤水溶液とを混合した逆ミセル溶液（溶液Ｌ１）と、界面活性剤を含有する非水溶性有機溶媒と前記合金粒子を作製する複数種の金属原子のうちの１種類を含有する金属塩水溶液で構成された逆ミセル溶液（溶液Ｌ３）を前記複数種の金属原子の数だけ調製し、これらの溶液Ｌ１及び複数の溶液Ｌ３を前記マイクロリアクターで混合反応させることを特徴とする請求項１又は２の磁性粒子の製造方法。
5. 前記マイクロリアクターは、前記複数種の溶液を並列筒構造に形成されたそれぞれの給液路を通して１本のミキシング流路に合流し、合流した各溶液を平行な層流として流通させつつ流体同士をその接触界面の法線方向へ拡散して混合する並列型のマイクロリアクターであることを特徴とする請求項１〜４の何れか１の磁性粒子の製造方法。
6. 前記それぞれの給液路は、その幅方向寸法が１〜５００μｍで、深さ方向寸法が１〜５００μｍな狭隘なマイクロチャンネルであると共に、前記ミキシング流路の幅方向寸法と深さ方向寸法は、前記それぞれの給液路に基づいて設定されることを特徴とする請求項５の磁性粒子の製造方法。
7. 前記マイクロリアクターは、前記複数種の溶液を同心円の多重円筒管構造に形成されたそれぞれの給液路を通して１本のミキシング流路に合流し、合流した各溶液を同心円状の層流として流通させつつ流体同士をその接触界面の法線方向へ拡散して混合する同心円型のマイクロリアクターであることを特徴とする請求項１〜４の何れか１の磁性粒子の製造方法。
8. 前記ミキシング流路は、前記同心円状の層流のうちの中心を流れる中心流の流れ方向に直交する断面の円相当直径が１０〜５００μｍ、該中心流の外側を流れる外周流の厚みが１０〜５００μｍであることを特徴とする請求項７の磁性粒子の製造方法。
9. 前記ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃ Ａｕ型の硬磁性規則合金相を形成し得る合金粒子を構成する少なくとも２種の金属原子が長周期表における６、８、９、１０族の中から選択されると共に、更に少なくとも１種の金属原子が長周期表の１１、１２、１３、１４、１５族の中から選択され、前記１種の金属原子の含有量が合金全体の１〜３０原子％であることを特徴とする請求項１〜８の何れか１の磁性粒子の製造方法。
10. 前記合金粒子作製工程における混合反応温度を−５°Ｃ〜３０°Ｃの範囲に制御することを特徴とする請求項１〜９の何れか１の磁性粒子の製造方法。
11. 前記磁性粒子形成工程では、前記合金粒子作製工程で作製された合金粒子を含有する合金粒子含有液を支持体上に塗布した後、アニール処理を行うことを特徴とする請求項１〜１０の何れか１の磁性粒子の製造方法。
12. 前記アニール処理におけるアニール処理温度を１００°Ｃ〜５００°Ｃの範囲に制御することを特徴とする請求項１１の磁性粒子の製造方法。
13. 請求項１〜１２の何れか１に記載の磁性粒子の製造方法によって製造されたことを特徴とする磁性粒子。
14. 請求項１３に記載の磁性粒子を磁性層に含有することを特徴とする磁気記録媒体。

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