JP2004281379A - 有機ｅｌパネルおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 異なる発光色の発光層を平面に繰り返し配置してなる有機ＥＬパネルにおいて、長波長発光層のドーパントの短波長発光層と電荷輸送層との界面への回り込みを防止し、色純度の低下を抑制する。
【解決手段】 陽極２０、正孔注入層３０、正孔輸送層４０、発光層５０、電子輸送層６０、陰極７０が順次積層されてなるとともに、発光層５０は、異なる発光色を持つ複数個の発光層５１、５２、５３が平面上に繰り返し配置されてなるものとした有機ＥＬパネルＳ１において、各発光色の領域毎に、発光層５０と、正孔輸送層４０および電子輸送層６０の両電荷輸送層の少なくとも一方の電荷輸送層とを含む２層以上の層が、分離して成膜されている。
【選択図】 図１

Description

本発明は、異なる発光色の発光層を平面に繰り返し配置し、多色発光を可能とした有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）パネルおよびその製造方法に関する。

有機ＥＬ素子は、自己発光のため、視認性に優れ、かつ数Ｖ〜数十Ｖの低電圧駆動が可能なため駆動回路を含めた軽量化が可能である。

このような有機ＥＬ素子を用いた有機ＥＬパネルとしては、異なる発光色の発光層を平面に繰り返し配置し、多色発光を可能としたものが提案されている。このものを、以下、複数発光層平面配置パネルという。

この複数発光層平面配置パネルは、少なくとも陽極、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、陰極が順次積層されてなるとともに、発光層については、異なる発光色を持つ複数個の発光層を分離して成膜することで平面上に繰り返し配置したものである。例えば、従来では、フルカラー化のために、異なる３色（Ｒ：赤、Ｇ：緑、Ｂ：青）の発光色の発光層を平面的に配置したものがある。

このような複数発光層平面配置パネルの製造方法としては、同一の発光色の発光層毎に開口部を有する成膜マスクを用いて、順に各発光層毎に材料を蒸着して成膜する方法が採用されている。

しかし、この場合、成膜マスクと基板との間に隙間ができるために、蒸着材料がマスクの開口部からマスクの直下に回り込む。その回り込み度合が狙いの成膜領域以上になると、回り込んだ蒸着材料が隣り合う発光層の領域へ混入し、混入が生じた発光層における発光色の色純度が低下するという問題があった。

この蒸着材料の回り込みの問題に対して、従来では、磁石を用いて成膜マスクと基板との距離を小さくし、隣り合う発光層領域への蒸着材料の回り込みを防止する方法（特許文献１参照）が提案されている。

また、一方、回り込む幅以上に水平方向のマージンを確保する、すなわち隣り合う発光層の間隔を広く確保する方法（特許文献２参照）が提案されている。

また、複数発光層平面配置パネルにおいて、実施例レベルにて発光層および電子輸送層を発光領域毎に分離して成膜したものが提案されている（たとえば、特許文献３、特許文献４参照）。
特開平１０−４１０６９号公報 特開２０００−２２７７７１号公報 特開２００１−２３７７２号公報 特開平１１−２１４１５７号公報

しかしながら、上記特許文献１に記載されている方法では、成膜マスクと基板との距離を０、すなわち完全に密着させることはできない。

これは、成膜マスクによって、基板上の有機膜を傷つけて表示欠陥に至るのを防止するためである。そのため、マスクと基板の間にはミクロンオーダでの隙間は残り、蒸着材料の回り込みを完全に防止することは不可能である。

また、上記特許文献２に記載の方法では、回りこみ領域を画素領域から除外することは可能であるが、その場合、基板上に発光しない領域の面積が増えるために、パネル全体としては開口率が低下する。低い開口率のものにおいて、パネルの必要輝度を実現するためには、画素ごとの発光輝度を高くする必要がある。その結果、耐久時の輝度の低下が促進されることになる。

そこで、本発明者らは、複数発光層平面配置パネルにおいて、異なる発光層の材料の回り込みの問題について鋭意検討を行った。

図１１は、従来の一般的な複数発光層平面配置パネルとして２色の異なる発光層５１、５３を平面に繰り返し配置したパネルの概略断面図である。なお、２色の発光層５１と５３とでは、識別のためハッチングを異ならせている。

ガラス等からなる基板１０の上に、陽極２０、正孔注入層３０、正孔輸送層４０、発光層５１、５３、電子輸送層６０、陰極７０が順次積層されている。ここで、発光層は、赤色発光層５１および青色発光層５３の２色の発光層５１、５３が分離成膜されて繰り返し平面配置されたものとなっている。

これは、基板１０の上に正孔輸送層４０までを順次成膜した後、赤色発光層５１、青色発光層５３をそれぞれ、マスクを用いて選択的に成膜し、続いて、その上に電子輸送層６０、陰極７０の成膜を順次行うことで製造できる。

ここで、図１１のものでは、発光層５１、５３の成膜順序は２つある。１つは、まず長波長発光層である赤色発光層５１を形成し、次にマスクをずらして短波長である青色発光層５３を形成する方法である。もう１つは、その逆に、まず短波長である青色発光層５３を形成し、次にマスクをずらして長波長である赤色発光層５１を形成する方法である。

前者の長波長発光層→短波長発光層の成膜順序とした場合、長波長発光層である赤色発光層５１のホストおよびドーパントが、隣り合う短波長発光層である青色発光層５３の形成予定領域に位置する正孔輸送層４０の上面に回り込む。

その後、青色発光層５３を形成する結果、最終的には、青色発光層５３とその下の正孔輸送層４０との界面に赤色発光層５１のドーパントが回り込んだ形となる。

一方、後者の短波長発光層→長波長発光層の成膜順序とした場合、長波長発光層である赤色発光層５１のホストおよびドーパントが、隣り合って先に形成されている短波長発光層である青色発光層５３の上面に回り込む。

その結果、最終的には、青色発光層５３とその上の電子輸送層６０との界面に赤色発光層５１のドーパントが回り込んだ形となる。

ここで、ドーパントは発光色を決定するものであるが、長波長のドーパントの方が、短波長のドーパントよりもエネルギーギャップが小さいため、比較的小さいエネルギーで発光しやすい。

つまり、長波長発光層→短波長発光層の成膜順序の場合、青色発光層５３と正孔輸送層４０との界面に回り込んだ赤色発光層５１のドーパントが、短波長である青色のドーパントよりも発光しやすい。そのため、回り込みが生じた青色発光層５３では、赤と青との混色の発光となり、その結果、青色発光層５３の色純度の低下が生じる。

また、短波長発光層→長波長発光層の成膜順序の場合、青色発光層５３と電子輸送層６０との界面に回り込んだ赤色発光層５１のドーパントが、短波長である青色のドーパントよりも発光しやすい。そのため、回り込みが生じた青色発光層５３では、赤と青との混色の発光となり、その結果、青色発光層５３の色純度の低下が生じる。

いずれにせよ、本発明者らは、複数発光層平面配置パネルにおいては、短波長発光層と正孔輸送層との界面あるいは短波長発光層と電子輸送層との界面に、長波長発光層のドーパントが回り込んできた場合に、色純度が低下することを見出したのである。

本発明者らは、ちなみに、図１２のように、赤色発光層５１、緑色発光層５２、青色発光層５３の３色の異なる発光層５１、５２、５３を平面に繰り返し配置してなる有機ＥＬパネルを試作した。

この図１２においては、Ｒ→Ｇ→Ｂの順すなわち長波長発光層→短波長発光層の成膜順序にて成膜し、Ｒ、Ｇ、Ｂの発光層５１、５２、５３の繰り返しとした。このとき、図１２中の領域Ｋ１に示すように、青色発光層５３に対して隣接する赤色発光層５１のドーパントが回り込み、この領域Ｋ１の部分の色純度が低下した。

具体的には、回り込みが起こらなかった青色発光層５３における発光色の色度座標は、（０．１６、０．１４）となり、純青色であったが、上記領域Ｋ１のように回り込みが起こった青色発光層５３における発光色の色度座標は、上記領域Ｋ１を含む青色発光層５３の全体として（０．１９、０．１９）となり、白みを帯びた青色となった。

ちなみに、従来では、上記特許文献３や特許文献４等に記載されているように、発光層および電子輸送層を発光領域毎に分離して成膜したものがあるが、このものでは、電子輸送層を分離した場合において、長波長発光層→短波長発光層の成膜順序にて成膜を行っている。

そのため、長波長発光層のドーパントが、隣り合う短波長発光層と正孔輸送層との間へ回り込み、当該短波長発光層における主発光領域である正孔輸送層との界面近傍部に、長波長発光層のドーパントが存在する。このことから、上記特許文献３や特許文献４等に記載されている手法では、色純度の低下の抑制は難しいと考えられる。

また、本発明者らは、さらに上記回り込みの問題について検討を進めた。通常の有機ＥＬパネルにおいては、発光層のホスト材料は電子輸送性材料を主としたものが一般的である。

たとえば、上記図１１において、赤色発光層５１を先に成膜した場合、この赤色発光層５１のホストである電子輸送性材料が、隣り合う青色発光層５３の形成予定領域に位置する正孔輸送層４０の上面に回り込む。その後、青色発光層５３を形成する結果、最終的には、青色発光層５３とその下の正孔輸送層４０との間に電子輸送性材料が介在した形となる。

この場合、正孔輸送層４０から青色発光層５３へ導入されるべき正孔が、介在する電子輸送性材料によって再結合を起こしてしまい、十分に青色発光層５３へ供給されないという問題が生じる。その結果、青色発光層５３における発光効率が低下する。

そして、このことは、上記図１１において、青色発光層５３を先に成膜した場合も同様である。この場合、赤色発光層５１とその下の正孔輸送層４０との界面に、青色発光層５３のホストである電子輸送性材料が介在した形となり、その結果、赤発光層５１における発光効率が低下する。

つまり、このホスト材料の回り込みによる発光効率低下の問題は、発光層の成膜順序に依存せず、あくまで、有機ＥＬパネルにおける発光層のホストは電子輸送性材料であることが一般的であるという事実に基づくものである。

本発明は上述した本発明者らの行った検討結果に基づいて抽出された問題に鑑みてなされたものであり、複数発光層平面配置パネルにおいて、長波長発光層のドーパントの短波長発光層と電荷輸送層（正孔輸送層、電子輸送層）との界面への回り込みを防止し、色純度の低下を抑制することを第１の目的とする。

また、複数発光層平面配置パネルにおいて、互いに異なる発光色を持つ隣接発光層間にて、一方の発光層のホストが他方の発光層と正孔輸送層との界面へ付着することで発光効率が低下するのを防止することを第２の目的とする。

上記目的を達成するため、請求項１に記載の発明では、陽極（２０）、正孔輸送層（４０）、発光層（５０）、電子輸送層（６０）、陰極（７０）が順次積層されてなるとともに、発光層は、異なる発光色を持つ複数個の発光層（５１、５２、５３）が平面上に繰り返し配置されてなるものとした有機ＥＬパネルにおいて、各発光色の領域毎に、前記発光層と少なくとも前記正孔輸送層とを含む２層以上の層が、分離して成膜されていることを特徴とする。

それによれば、各発光色の領域毎に、正孔輸送層と発光層との連続した成膜が可能となる。または、本発明によれば、電子輸送層までも分離することによって、正孔輸送層と発光層と電子輸送層との連続した成膜が可能となる。

まず、各発光色の領域毎に正孔輸送層と発光層との連続した成膜を行えば、長波長発光層のドーパントが、隣り合う短波長発光層と正孔輸送層との間に回り込む余地は、なくなる。

つまり、この場合、短波長発光層の成膜前に長波長発光層の成膜を行うと、長波長発光層のドーパントは、隣り合う短波長発光層の形成予定領域に位置する陽極の上に回り込むことはあるが、その後、当該隣り合う領域に正孔輸送層、短波長発光層が連続して成膜される。

そのため、回り込んだ長波長発光層のドーパントは、隣り合う領域において陽極と正孔輸送層との間には介在するが、隣り合う短波長発光層と正孔輸送層との間に介在することはなくなる。

また、各発光色の領域毎に正孔輸送層と発光層と電子輸送層との連続した成膜を行えば、長波長発光層のドーパントが、隣り合う短波長発光層と正孔輸送層との間および当該隣り合う短波長発光層と電子輸送層との間に回り込む余地はなくなる。

よって、本発明によれば、複数発光層平面配置パネルにおいて、長波長発光層のドーパントの短波長発光層と電荷輸送層（正孔輸送層、電子輸送層）との界面への回り込みを防止し、色純度の低下を抑制することができる。

ここで、請求項２に記載の発明のように、請求項１に記載の有機ＥＬパネルにおいては、陽極（２０）と正孔輸送層（４０）との間に、正孔注入層（３０）が配置されたものにできる。

また、請求項３に記載の発明のように、請求項１または請求項２に記載の有機ＥＬパネルにおいては、複数個の発光層（５１、５２、５３）は、それぞれ赤、緑、青の波長の発光色を発生させるものにできる。

請求項４に記載の発明では、陽極（２０）、正孔輸送層（４０）、発光層（５０）、電子輸送層（６０）、陰極（７０）を順次積層するとともに、発光層は、異なる発光色を持つ複数個の発光層（５１、５２、５３）を平面上に繰り返し配置するようにした有機ＥＬパネルの製造方法において、各発光色の領域毎に、前記発光層と少なくとも前記正孔輸送層とを含む２層以上の層を、分離して成膜するとともに、前記分離して成膜すべき前記正孔輸送層および前記発光層を連続して成膜することを特徴とする。

それによれば、請求項１に記載の発明の作用効果を適切に発揮しうる有機ＥＬパネルを製造することができる。

もう少し、詳細に述べると、本製造方法では、各発光色の領域毎に、正孔輸送層と発光層との連続した成膜を行うことになる。または、本製造方法では、電子輸送層までも分離することによって、正孔輸送層と発光層と電子輸送層との連続した成膜を行うようにしてもよい。

まず、各発光色の領域毎に正孔輸送層と発光層との連続した成膜を行う場合、陽極を形成した後、その上に、ある発光色領域に正孔輸送層、発光層を順に成膜し、次に、他の発光色領域に正孔輸送層、発光層を順に成膜し、次に、もう一つの他の発光色領域に……、というように成膜する。

その後、全発光色領域において発光層の上に電子輸送層、陰極を順に成膜することで、有機ＥＬパネルが製造される。この場合、長波長発光層のドーパントが、隣り合う短波長発光層と正孔輸送層との間に回り込む余地はなくなる。

また、各発光色の領域毎に正孔輸送層と発光層と電子輸送層との連続した成膜を行う場合、陽極を形成した後、その上に、ある発光色領域に正孔輸送層、発光層、電子輸送層を順に成膜し、次に、他の発光色領域に正孔輸送層、発光層、電子輸送層を順に成膜し、次に、もう一つの他の発光色領域に……、というように成膜する。

その後、全発光色領域において電子輸送層の上に陰極を成膜することで、有機ＥＬパネルが製造される。この場合、長波長発光層のドーパントが、隣り合う短波長発光層と正孔輸送層との間および当該隣り合う短波長発光層と電子輸送層との間に回り込む余地はなくなる。

このように、本製造方法によって製造される有機ＥＬパネルは、上記請求項１の発明と同様の作用効果を奏するものとなる。

つまり、本発明によっても、複数発光層平面配置パネルにおいて、長波長発光層のドーパントの短波長発光層と電荷輸送層（正孔輸送層、電子輸送層）との界面への回り込みを防止し、色純度の低下を抑制することができる。

ここで、請求項５に記載の発明のように、請求項４に記載の有機ＥＬパネルの製造方法においては、正孔輸送層（４０）および発光層（５１、５２、５３）を連続して成膜する際に、発光波長の長い発光色の領域から順に成膜していくことが好ましい。

上記請求項４に記載の製造方法において、正孔輸送層（４０）および発光層（５１、５２、５３）を連続して成膜する際に、発光波長の短い発光色の領域から順に成膜した場合でも、回り込んだ長波長発光層のドーパントは、隣り合う短波長発光層と正孔輸送層との間に介在することはなくなる。

しかしながら、この場合、長波長発光層のドーパントは、隣り合う短波長発光層と電子輸送層との間には介在する。

一般に、発光層における主発光領域は、正孔輸送層との界面近傍部であるが、発光層における主発光領域ではない電子輸送層との界面近傍部に長波長発光層のドーパントが存在した場合でも、相対的に影響は少ないけれども、多少なりとも色純度の低下は発生することは避けられない。

その点、本発明のように、請求項４に記載の製造方法において、正孔輸送層（４０）および発光層（５１、５２、５３）を連続して成膜する際に、発光波長の長い発光色の領域から順に成膜していけば、短波長発光層において電子輸送層との界面近傍部に長波長発光層のドーパントが存在することを回避できる。

そのため、請求項５に記載の発明によれば、請求項４に記載の発明に比較して、より高いレベルにて色純度の低下を抑制することができる。

請求項６に記載の発明では、陽極（２０）、正孔輸送層（４０）、発光層（５０）、電子輸送層（６０）、陰極（７０）を順次積層するとともに、前記発光層は、異なる発光色を持つ複数個の発光層（５１、５２、５３）を平面上に繰り返し配置するようにした有機ＥＬパネルの製造方法において、各発光色の領域毎に、前記発光層と少なくとも前記電子輸送層とを含む２層以上の層を、分離して成膜するとともに、前記分離して成膜すべき前記発光層および前記電子輸送層を連続して成膜するようにし、前記発光層および前記電子輸送層を分離して成膜する際に、発光波長の短い発光色の領域から順に成膜していくことを特徴とする。

本発明のように、分離して成膜される電荷輸送層が電子輸送層である場合には、各発光色の領域毎に発光層と電子輸送層との連続した成膜を行うことになる。そのため、長波長発光層のドーパントが、隣り合う短波長発光層と電子輸送層との間に回り込む余地はなくなる。

さらに、本発明では、各発光色の領域毎に発光層および電子輸送層を分離して成膜する際に、発光波長の短い発光色の領域から順に成膜していくことで、短波長発光層の方が長波長発光層よりも先に正孔輸送層の上に形成される。そのため、長波長発光層のドーパントが、隣り合う短波長発光層と正孔輸送層との間に回り込む余地はなくなる。

このような本発明の製造方法は、有機ＥＬパネルにおける発光層のホスト材料としては電子輸送性のものが一般的であるという上述の事実に鑑みた場合、好ましい手法である。つまり、上述したように、発光層のホストが一般に電子輸送性であるため、発光層のうち電荷が再結合して発光する領域（つまり主発光領域）は、正孔輸送層との界面近傍部が主となることが多くなる。

もし、各発光色の領域毎に発光層と電子輸送層との連続した成膜を行うにあたって、短波長発光層の成膜前に長波長発光層の成膜を行う場合、長波長発光層のドーパントは、隣り合う短波長発光層と電子輸送層との間に回り込む余地はなくなるが、隣り合う短波長発光層の形成予定領域に位置する正孔輸送層の上面に回り込むことはある。

この場合、当該短波長発光層における主発光領域である正孔輸送層との界面近傍部に、長波長発光層のドーパントが存在するため、短波長発光層において混色が生じ、色純度の低下が発生してしまう。

そのため、本発明のように、分離して成膜される電荷輸送層が電子輸送層である場合、長波長発光層のドーパントの短波長発光層と電子輸送層との間への回り込み防止だけでなく、短波長発光層→長波長発光層の成膜順序を採用することにより、長波長発光層のドーパントの短波長発光層と正孔輸送層との間への回り込み防止を行うことは、色純度の低下抑制に有効である。

このように、本発明によっても、複数発光層平面配置パネルにおいて、長波長発光層のドーパントの短波長発光層と電荷輸送層（正孔輸送層、電子輸送層）との界面への回り込みを防止し、色純度の低下を抑制することができる。

ここで、請求項７に記載の発明のように、請求項６に記載の有機ＥＬパネルの製造方法においては、複数個の発光層（５１、５２、５３）は、それぞれ赤、緑、青の波長の発光色を発生させるものにできる。

請求項８に記載の発明では、陽極（２０）、正孔輸送層（４０）、発光層（５０）、電子輸送層（６０）、陰極（７０）が順次積層されてなるとともに、発光層は、異なる発光色を持つ複数個の発光層（５１、５２、５３）が平面上に繰り返し配置されてなる有機ＥＬパネルにおいて、少なくとも１つの発光層は、当該発光層のホスト材料として、少なくとも１種類以上の正孔輸送性材料を含むものであることを特徴とする。

従来の一般の有機ＥＬパネルでは、発光層のホストは電子輸送性であるが、本発明によれば、発光層のホストを正孔輸送性材料のみ、または正孔輸送性材料と電子輸送性材料との両方からなるものにできる。つまり、少なくとも正孔輸送性を有するホストを持った発光層となる。

そして、本発明によれば、先に成膜した発光層のホストである正孔輸送性材料すなわち正孔輸送性ホスト材料が、隣り合う発光層の形成予定領域に位置する正孔輸送層の上面に回り込み、最終的には、隣り合う発光層とその下の正孔輸送層との間に正孔輸送性ホスト材料が介在した形となる。

それにより、正孔輸送層から発光層へ向かう正孔は、介在する正孔輸送性ホスト材料により、発光層へスムーズに運ばれる。そのため、従来一般の有機ＥＬパネルのように、発光層と正孔輸送層との間に電子輸送性ホスト材料が回り込んでくる場合に比べて、発光効率の向上がなされる。

このように、本発明によれば、複数発光層平面配置パネルにおいて、互いに異なる発光色を持つ隣接発光層間にて、一方の発光層のホストが他方の発光層と正孔輸送層との界面へ付着したとしても、発光効率が低下するのを防止することができる。

ここで、請求項９に記載の発明では、請求項８に記載の有機ＥＬパネルにおいて、複数個の発光層（５１、５２、５３）に接して形成されている電子輸送層（６０ａ）の電子輸送性材料のイオン化ポテンシャルが、発光層中の正孔輸送材料のイオン化ポテンシャルよりも０．２ｅＶ以上大きいことを特徴とする。

本発明によれば、発光層に接して形成されている電子輸送層の電子輸送性材料のイオン化ポテンシャルを、発光層中の正孔輸送材料のイオン化ポテンシャルよりも０．２ｅＶ以上大きいものとすることで、当該電子輸送層はホールブロック層として機能する。

上記請求項８に記載の有機ＥＬパネルのように、発光層のホストを正孔輸送材料を含むものとした場合、その発光層においては、発光分布の中心が従来の正孔輸送層側でなく、電子輸送層側（上部電極側）になる。

これは、当該発光層において、正孔輸送材料の正孔輸送能力が電子輸送材料の電子輸送能力よりも大きくなるためである。このことは、一般的な材料の関係から明かである。そのため、この影響から、本発明のようなホール（正孔）ブロック層を設けないと、発光効率が低下し、輝度寿命を短くする。

ここで、請求項１０に記載の発明のように、請求項９に記載の有機ＥＬパネルにおいては、複数個の発光層（５１、５２、５３）に接して形成されている電子輸送層（６０ａ）は、発光層中のホスト材料として用いられている電子輸送性材料と同一の材料のみからなるものにできる。

それによれば、材料の簡素化を図ることができ、製造プロセスが簡単になるなどの利点が生じ、好ましい。

請求項１１に記載の発明では、陽極（２０）、正孔輸送層（４０）、発光層（５０）、電子輸送層（６０）、陰極（７０）を順次積層するとともに、発光層については、異なる発光色を持つ複数個の発光層（５１、５２、５３）を分離して成膜することにより平面上に繰り返し配置するようにした有機ＥＬパネルの製造方法において、発光層として、正孔輸送性材料を含むホスト材料を有する発光層と正孔輸送性材料を含まないホスト材料を有する発光層とを分離して成膜するようにし、正孔輸送性材料を含むホスト材料を有する発光層の方を、正孔輸送性材料を含まないホスト材料を有する発光層よりも先に成膜することを特徴とする。

それによれば、請求項８に記載の発明の作用効果を適切に発揮しうる有機ＥＬパネルを製造することができる。

つまり、上記請求項８の発明について述べたように、正孔輸送性ホスト材料を有する発光層の方を、正孔輸送性材料を含まないホスト材料を有する発光層よりも先に成膜することにより、最終的には、隣り合う発光層とその下の正孔輸送層との間に正孔輸送性ホスト材料が介在した形となる。

そのため、正孔輸送層から発光層への正孔の輸送がスムーズになり、発光効率の向上がなされる。このように、本製造方法によって製造される有機ＥＬパネルは、上記請求項８の発明と同様の作用効果を奏するものとなる。

請求項１２に記載の発明では、発光層（５０）を分離して成膜する際に、発光波長の短い発光色の領域から順に成膜していくことを特徴とする。

それによれば、各発光色の領域毎に発光層を分離して成膜する際に、発光波長の短い発光色の領域から順に成膜していくことで、短波長発光層の方が長波長発光層よりも先に正孔輸送層の上に形成されるため、長波長発光層のドーパントが、隣りの短波長発光層と正孔輸送層との間に回り込む余地はなくなる。

本発明は、上記請求項６に記載の発明と同様に、有機ＥＬパネルにおける発光層のホスト材料は電子輸送性のものが一般的であるという上述の事実に鑑みて好ましい手法を提供するものである。

つまり、発光層のホストが一般に電子輸送性であるため、発光層のうち電荷が再結合して発光する領域（つまり主発光領域）は、正孔輸送層との界面近傍部が主となることが多くなる。

そのため、本発明のように、短波長発光層→長波長発光層の成膜順序を採用することにより、長波長発光層のドーパントの短波長発光層と正孔輸送層との間への回り込み防止を行うことは、有効である。

なお、上記各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示す一例である。

以下、本発明を図に示す実施形態について説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一の部分には図中、同一符号を付してある。また、各図において、異なる発光色の発光層５１と５２と５３とでは、識別のためハッチングを異ならせている。

（第１実施形態）
図１は本発明の第１実施形態に係る複数発光層平面配置パネルとしての有機ＥＬパネルＳ１の概略断面図である。

この有機ＥＬパネルＳ１は、基板１０の上に、陽極２０、正孔注入層３０、正孔輸送層４０、発光層５０、電子輸送層６０、陰極７０が順次積層されてなるとともに、発光層５０は、異なる発光色を持つ複数個の発光層５１、５２、５３が平面上に繰り返し配置されてなるものである。

本実施形態は、このような有機ＥＬパネルＳ１において、各発光色の領域毎に、発光層５０（５１〜５３）と少なくとも電子輸送層６０とを含む２層以上の層を分離して成膜する手法を用いたものである。

本実施形態では、発光層５０を、赤色発光を行う赤色発光層５１、緑色発光を行う緑色発光層５２、青色発光を行う青色発光層５３の３色構成としている。つまり、複数個の発光層５１、５２、５３は、それぞれ赤、緑、青の波長の発光色を発生させるものである。そして、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）という発光色領域の繰り返しとなるように、各色の発光層５１、５２、５３が平面上に繰り返し配置されている。

そして、電子輸送層６０は、各発光色の領域毎に各色発光層５１〜５３のそれぞれに対応して分離されて成膜されている。ここで、分離された電子輸送層６０については、赤色発光層５１、緑色発光層５２、青色発光層５３に対応する個々の電子輸送層６０を、それぞれ、電子輸送層６１、６２、６３と符号を区別して示してある。

次に、有機ＥＬパネルＳ１における各部について、より詳細に述べる。基板１０は、ガラスや樹脂等の透明な電気絶縁性を有する基板であり、本例では、ガラス基板を採用している。

基板１０の上に形成された陽極２０は、インジウム−錫の酸化物（ＩＴＯ）膜やインジウム−亜鉛の酸化物膜等の透明導電膜からなるものであり、その膜厚は、例えば１００ｎｍ〜１μｍ程度である。本例では、陽極２０は５０ｎｍ程度の厚さのＩＴＯ膜からなる。

陽極の上に形成された正孔注入層２０は、通常有機ＥＬパネルに採用可能な正孔注入性材料を採用できる。本例では、正孔注入層２０は、厚さが１０ｎｍである銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）膜から形成されている。

正孔注入層３０の上に形成された正孔輸送層４０は、通常有機ＥＬパネルに採用可能な正孔輸送性材料を採用できる。本例では、正孔輸送層４０は、厚さが４０ｎｍであるαーナフチル・フェニル・ベンゼン（ＮＰＤ）膜から形成されている。

その上の発光層５０については、通常有機ＥＬパネルに採用可能な発光層の材料、すなわちホスト材料と蛍光色素であるドーパント材料を採用できる。そして、主に、ドーパント材料を変更することにより、発光層の発光色を規定することができる。

本例では、赤色発光層５１は、ホストであるＡｌｑ３（アルミキノリノール）中にドーパントすなわち蛍光色素としてＤＣＭ１（４−（ジシアノメチレン）−２−メチル―６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン）が１ｗｔ％添加された膜からなり、その厚さは４０ｎｍ程度である。

また、緑色発光層５２は、ホストであるＡｌｑ３中にドーパントであるキナクリドンが１ｗｔ％添加された膜からなり、その厚さは４０ｎｍ程度である。また、青色発光層５３は、ホストであるＢＡｌｑにドーパントであるペリレンが１％添加された膜からなり、その厚さは４０ｎｍ程度である。

そして、各発光層５１、５２、５３に対応して各発光層５１〜５３の上に分離して形成された電子輸送層６０（６１〜６３）は、通常有機ＥＬパネルに採用可能な電子輸送性材料を採用できる。本例では、各電子輸送層６１〜６３は、厚さが２０ｎｍであるＡｌｑ３膜から形成されている。

電子輸送層６０の上に形成された陰極７０は、通常有機ＥＬパネルに採用可能な陰極材料を採用できる。本例では、陰極７０は、電子輸送層６０側から、フッ化リチウム（ＬｉＦ）を０．５ｎｍ成膜し、その上にアルミニウム（Ａｌ）を９０ｎｍ成膜した積層膜としている。

このような複数発光層平面配置パネルとしての有機ＥＬパネルＳ１においては、陽極２０と陰極７０とが重なり合う領域が、一つの画素として構成されている。そして、両電極２０、７０間に電圧を印加することにより、当該画素における発光層５０が発光するようになっている。

そして、本実施形態では、赤色発光をする画素、緑色発光をする画素、青色発光をする画素が備えられ、各色の画素を適宜、発光、非発光の状態とすることにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色およびこれらの混色による表示すなわち多色表示が可能となっている。

本有機ＥＬパネルＳ１の製造方法について上記例の構成に基づいて述べる。本実施形態では、各発光色の領域毎に、分離して成膜すべき発光層５１〜５３および電荷輸送層６１〜６３を連続して成膜する。

まず、基板１０の上に、スパッタ法によりＩＴＯ膜を形成し、これをフォトリソグラフ技術を用いてパターニングすることにより、陽極２０を形成する。その上に、蒸着法により、正孔注入層３０として厚さ１０ｎｍのＣｕＰｃ膜を形成し、続いて、正孔輸送層４０として厚さ４０ｎｍのＮＰＤ膜を形成する。

次に、選択的な領域のみに有機膜を成膜可能なマスクを用いて、各発光色の領域毎に、発光層５１〜５３、電子輸送層６１〜６３を順次連続して成膜する。具体的には、膜の形成領域に開口部を有するガラスやステンレス等の金属マスクを用いて、蒸着法による成膜を行う。

本実施形態では、各発光色の領域毎に発光層５１〜５３と電子輸送層６１〜６３との連続した成膜を行うが、ここでは、発光波長の短い発光色の領域から発光波長の長い発光色の領域の順に成膜していく。つまり、青色発光領域、緑色発光領域、赤色発光領域の順に成膜していく。

具体的な成膜順序は次の通りである。まず、青色発光領域にマスクの開口部が位置するようにマスクと基板とを位置あわせする。そして、蒸着を行い、青色発光領域において、ＢＡｌｑにペリレンを１％ドープしてなる厚さ４０ｎｍの青色発光層５３、Ａｌｑ３からなる厚さ２０ｎｍの電子輸送層６３を順次成膜する。

次に、マスクの位置を所定量ずらして、緑色発光領域にマスクの開口部が位置するようにマスクと基板とを位置あわせする。そして、蒸着を行い、緑色発光領域において、Ａｌｑ３にキナクリドンを１％ドープしてなる厚さ４０ｎｍの緑色発光層５２、Ａｌｑ３からなる厚さ２０ｎｍの電子輸送層６２を順次成膜する。

次に、マスクの位置を所定量ずらして、赤色発光領域にマスクの開口部が位置するようにマスクと基板とを位置あわせする。そして、蒸着を行い、赤色発光領域において、Ａｌｑ３にＤＣＭ１を１％ドープしてなる厚さ４０ｎｍの赤色発光層５１、Ａｌｑ３からなる厚さ２０ｎｍの電子輸送層６１を順次成膜する。

こうして、各発光色の領域毎に分離して成膜された発光層５０および電子輸送層６０を形成した後、マスクを用いた蒸着法により、陰極７０として厚さ０．５ｎｍのＬｉＦ膜、厚さ９０ｎｍのＡｌ膜を順次成膜する。こうして、上記した有機ＥＬパネルＳ１が製造される。

ところで、上記有機ＥＬパネルＳ１においては、各発光色の領域毎に、発光層５０（５１〜５３）と電子輸送層６０（６１〜６３）との２層が分離して成膜されていることを特徴とする。それによれば、上記製造方法に示したように、各発光色の領域毎に、発光層と電子輸送層との連続した成膜が可能となる。

そして、当該成膜された発光層５０および電子輸送層６０においては、電子輸送層６０は複数個の発光層５１〜５３に対応させて複数個に分割されており、各電子輸送層６１〜６３と各発光層５１〜５３とが直接に接触している構成となっている。

赤、緑、青の各発光色の領域毎に発光層５１〜５３と電子輸送層６１〜６３との連続した成膜を行えば、長波長発光層である赤色発光層５１のドーパントが、隣り合う短波長発光層５２、５３と電子輸送層６２、６３との間に回り込む余地はなくなる。

すなわち、本例では、赤色発光層５１のドーパントであるＤＣＭ１が、隣り合う緑色発光層５２と電子輸送層６２との間および青色発光層５３と電子輸送層６３との間に回り込む余地はなくなる。

さらに、上記製造方法においては、発光層５０および電子輸送層６０の分離連続成膜を、発光波長の短い発光色の領域から長い領域へ順に行うようにしている。つまり、青色発光領域、緑色発光領域、赤色発光領域の順に成膜していく。

それによれば、緑および青の短波長発光層５２、５３の方が赤の長波長発光層５１よりも先に正孔輸送層４０の上に形成されるため、長波長発光層５１のドーパントが、隣り合う短波長発光層５２、５３と正孔輸送層４０との間に回り込む余地はなくなる。

このような成膜順序とすることは、有機ＥＬパネルにおける発光層のホスト材料としては電子輸送性のものが一般的であるという既成事実に鑑みた場合、好ましい手法である。

つまり、発光層５０のホストが一般に電子輸送性であるため、発光層５０のうち電荷が再結合して発光する領域は、正孔輸送層４０との界面近傍部が主となることが多くなる。すなわち、一般に発光層５０の主発光領域は、正孔輸送層４０との界面近傍部となるものである。

もし、各発光色の領域毎に発光層５１〜５３と電子輸送層６１〜６３との連続した成膜を行うにあたって、短波長発光層５２、５３の成膜前に長波長発光層５１の成膜を行う場合、長波長発光層５１のドーパントは、隣り合う短波長発光層５２、５３と電子輸送層６２、６３との間に回り込む余地はなくなるが、隣り合う短波長発光層５２、５３の形成予定領域に位置する正孔輸送層４０の上面に回り込むことはある。

この場合、当該短波長発光層５２、５３における主発光領域である正孔輸送層４０との界面近傍部に、長波長発光層５１のドーパントが存在するため、短波長発光層５２、５３において混色が生じ、色純度の低下が発生してしまう。

そのため、本実施形態のように、分離して成膜される電荷輸送層が電子輸送層６０である場合、長波長発光層５１のドーパントの短波長発光層５２、５３と電子輸送層６２、６３との間への回り込み防止だけでなく、短波長発光層→長波長発光層の成膜順序を採用することにより、短波長発光層５２、５３と正孔輸送層４０との間への回り込み防止が行われることになり、色純度の低下抑制に有効である。

よって、本実施形態によれば、複数発光層平面配置パネルとしての有機ＥＬパネルＳ１において、長波長発光層５１のドーパントの短波長発光層５２、５３と電子輸送層６２、６３との界面への回り込みを防止し、色純度の低下を抑制することができる。そして、混色のないＲＧＢマルチカラー発光パネルが実現できる。

［モデルによる本実施形態の効果の説明］
次に、本実施形態の効果について、２色発光層パネルをモデルとした図を用いて、より具体的に述べておく。図２は比較例の製造方法、図３は本実施形態の製造方法をモデル的に示す図である。

これら図２および図３では、正孔輸送層を符号４０、長波長発光層を符号５１、短波長発光層を符号５２、各発光層５１、５２に対応して分割された電子輸送層をそれぞれ符号６１、６２として示している。

また、長波長発光層のドーパントを符号５１ｄ、短波長発光層のドーパントを符号５２ｄとして示している。なお、各ドーパント５１ｄ、５２ｄは、本来の形成領域からその周囲の他領域へ回り込んだ有機材料の一部であり、実際には、発光層のホストや電子輸送層の材料とともに回り込むものである。

まず、図２に示される比較例では、各発光色の領域毎に、発光層５１、５２と電子輸送層６１、６２の２層を、分離して成膜するとともに、分離して成膜すべき発光層５１、５２および電子輸送層６１、６２を連続して成膜するようにしている。しかし、この比較例では、短波長発光層５２の成膜前に長波長発光層５１の成膜を行っている。

そのため、図２（ａ）に示されるように、長波長発光層５１のドーパント５１ｄは、隣り合う短波長発光層５２の形成予定領域に位置する正孔輸送層４０の上面側に回り込むことになる。

その後、当該隣り合う領域に短波長発光層５２、電子輸送層６２を連続して成膜すると、図２（ｂ）に示されるように、回り込んだ長波長発光層５１のドーパント５１ｄが、隣り合う領域において正孔輸送層４０と短波長発光層５２との間に介在する。

上述したように、発光層５０のホストは一般に電子輸送性であるため、発光層５０の主発光領域は、正孔輸送層４０との界面近傍部となる。

そのため、長波長発光層５１のドーパント５１ｄが、隣り合う領域において正孔輸送層４０と短波長発光層５２との間に回り込むと、短波長発光層５２の発光領域において、短波長のドーパント５２ｄよりも発光しやすい長波長のドーパント５１ｄが発光し、短波長発光層５２の色純度の低下を招く。

それに対して、本実施形態の製造方法によれば、発光層５１、５２および電子輸送層６１、６２を分離して成膜する際に、発光波長の短い発光色の領域から順に成膜する、すなわち、短波長発光層５２の成膜後に長波長発光層５１の成膜を行っている。

そのため、図３（ａ）に示されるように、短波長発光層５２のドーパント５２ｄが、隣り合う長波長発光層５１の形成予定領域に位置する正孔輸送層４０の上面側に回り込むことになる。

その後、当該隣り合う領域に長波長発光層５１、電子輸送層６１を連続して成膜すると、図３（ｂ）に示されるように、回り込んだ短波長発光層５２のドーパント５２ｄが、隣り合う領域において正孔輸送層４０と長波長発光層５１との間に介在する。

そして、この図３の例では、長波長のドーパント５１ｄよりも発光しにくいしやすい短波長のドーパント５２ｄが、長波長発光層５１の主発光領域に存在するだけであるため、短波長発光層５２の発光領域において、短波長発光層５２の色純度の低下を招くことはない。

以上述べてきたように、本実施形態によれば、基板１０上に配置された陽極２０、該陽極２０上に配置された正孔輸送層４０、該正孔輸送層４０の上に配置された発光層５０、該発光層５０の上に配置された電子輸送層６０、該電子輸送層６０の上に配置された陰極７０を包含する有機ＥＬパネルＳ１において、以下の特徴構成を包含する有機ＥＬパネルＳ１が提供される。

・発光層５０は、互いに異なる波長の発光色を発生させるドーパントが添加された有機材料を含有する複数個の発光層５１〜５３を包含し、該複数個の発光層５１〜５３は互いに平面上でかつ隣り合うように配置されてなり、複数個の発光層５１〜５３は互いに時分割的に基板１０上に形成されていること。

・複数個の発光層５１〜５３における相対的に短波長側の発光色を発生させるドーパントが添加された有機材料を含有する発光層と電子輸送層６０との界面には、相対的に長波長側の発光色を発光させるドーパントが添加された有機材料が存在せず、また短波長側の発光色を発生させるドーパントが添加された有機材料を含有する発光層と正孔輸送層４０との界面には、相対的に長波長側の発光色を発光させるドーパントが添加された有機材料が存在しないこと。

また、これらの特徴構成に加えて、本実施形態では、電子輸送層６０は複数個の発光層５１〜５３に対応させて複数個に分割されており、各電子輸送層６１〜６３と各発光層５１〜５３とが直接に接触している。

さらに、本実施形態では、複数個の発光層５１〜５３のうち短波長側の発光色を発生する発光層が、長波長側の発光色を発生する発光層に対して時分割的に優先して形成されている。

そして、このような特徴的なパネル構成を有する本実施形態の複数発光層平面配置パネルにおいて、長波長発光層のドーパントの短波長発光層と電荷輸送層（正孔輸送層、電子輸送層）との界面への回り込みを防止し、色純度の低下を抑制することができる。

（第２実施形態）
図４は本発明の第２実施形態に係る複数発光層平面配置パネルとしての有機ＥＬパネルＳ２の概略断面図である。主として上記実施形態との相違点について述べることとする。

この有機ＥＬパネルＳ２は、上記実施形態と同様、基板１０の上に、陽極２０、正孔注入層３０、正孔輸送層４０、発光層５０、電子輸送層６０、陰極７０が順次積層されてなるとともに、発光層５０は、異なる発光色を持つ複数個の発光層５１、５２、５３が平面上に繰り返し配置されてなるものである。

本実施形態は、このような有機ＥＬパネルＳ２において、各発光色の領域毎に、発光層５０（５１〜５３）と少なくとも正孔輸送層４０とを含む２層以上の層を分離して成膜する手法を用いたものである。

本実施形態も、上記同様、発光層５０を、赤色発光層５１、緑色発光層５２、青色発光層５３の３色構成とし、Ｒ、Ｇ、Ｂという発光色領域の繰り返しとなるように、各色の発光層５１、５２、５３が平面上に繰り返し配置されている。

そして、正孔輸送層４０は、各発光色の領域毎に各色発光層５１〜５３のそれぞれに対応して分離されて成膜されている。ここで、分離された正孔輸送層４０については、赤色発光層５１、緑色発光層５２、青色発光層５３に対応する個々の正孔輸送層４０を、それぞれ、正孔輸送層４１、４２、４３と符号を区別して示してある。

分離された個々の正孔輸送層４１〜４３は、上記実施形態と同様であり、本例では厚さ４０ｎｍのＮＰＤ膜からなる。また、電子輸送層６０は各発光色の領域を跨いで連続した膜であり、本例でも厚さ２０ｎｍのＡｌｑ３膜としている。その他、基板１０、陽極２０、正孔注入層３０、発光層５０（５１〜５３）、陰極７０は、上記実施形態の例と同様である。

本有機ＥＬパネルＳ２の製造方法について上記例の構成に基づいて述べる。本実施形態においては、各発光色の領域毎に、分離して成膜すべき正孔輸送層４１〜４３および発光層５１〜５３を連続して成膜する。

まず、上記実施形態と同様、基板１０の上に、ＩＴＯ膜からなる陽極２０、厚さ１０ｎｍのＣｕＰｃ膜からなる正孔注入層３０を形成する。

次に、選択的な領域のみに有機膜を成膜可能なマスクを用いて、各発光色の領域毎に、正孔輸送層４１〜４３、発光層５１〜５３を順次連続して成膜する。具体的には、上記実施形態と同様、膜の形成領域に開口部を有するガラスやステンレス等の金属マスクを用いて、蒸着法による成膜を行う。

本実施形態では、各発光色の領域毎に正孔輸送層４１〜４３と発光層５１〜５３との連続した成膜を行うが、ここでは、発光波長の長い発光色の領域から発光波長の短い発光色の領域の順に成膜していく。つまり、赤色発光領域、緑色発光領域、青色発光領域の順に成膜を行っていく。

具体的な成膜順序は次の通りである。まず、赤色発光領域にマスクの開口部が位置するようにマスクと基板とを位置あわせする。そして、蒸着を行い、赤色発光領域において、ＮＰＤからなる厚さ４０ｎｍの正孔輸送層４１、Ａｌｑ３にＤＣＭ１を１％ドープしてなる厚さ４０ｎｍの赤色発光層５１を順次成膜する。

次に、マスクの位置を所定量ずらして、緑色発光領域にマスクの開口部が位置するようにマスクと基板とを位置あわせする。そして、蒸着を行い、緑色発光領域において、ＮＰＤからなる厚さ４０ｎｍの正孔輸送層４２、Ａｌｑ３にキナクリドンを１％ドープしてなる厚さ４０ｎｍの緑色発光層５２を順次成膜する。

次に、マスクの位置を所定量ずらして、青色発光領域にマスクの開口部が位置するようにマスクと基板とを位置あわせする。そして、蒸着を行い、青色発光領域において、ＮＰＤからなる厚さ４０ｎｍの正孔輸送層４３、ＢＡｌｑにペリレンを１％ドープしてなる厚さ４０ｎｍの青色発光層５３を順次成膜する。

こうして、各発光色の領域毎に分離して成膜された正孔輸送層４０および発光層５０を形成した後、電子輸送層６０として厚さ２０ｎｍのＡｌｑ３膜を成膜し、さらにマスクを用いた蒸着法により、陰極７０として厚さ０．５ｎｍのＬｉＦ膜、厚さ９０ｎｍのＡｌ膜を順次成膜する。こうして、上記有機ＥＬパネルＳ２が製造される。

ところで、上記有機ＥＬパネルＳ２においては、各発光色の領域毎に、正孔輸送層４０（４１〜４３）と発光層５０（５１〜５３）との２層が分離して成膜されていることを特徴とする。それによれば、上記製造方法に示したように、各発光色の領域毎に、正孔輸送層と発光層との連続した成膜が可能となる。

赤、緑、青の各発光色の領域毎に発光層５１〜５３と正孔輸送層４１〜４３との連続した成膜を行えば、長波長発光層である赤色発光層５１のドーパントが、隣り合う短波長発光層５２、５３と正孔輸送層４２、４３との間に回り込む余地はなくなる。

すなわち、本例では、赤色発光層５１のドーパントであるＤＣＭ１が、隣り合う緑色発光層５２と正孔輸送層４２との間および青色発光層５３と正孔輸送層４３との間に回り込む余地はなくなる。

この場合、短波長発光層である緑色、青色発光層５２、５３の成膜前に長波長発光層である赤色発光層５１の成膜を行うと、長波長発光層５１のドーパントは、隣り合う短波長発光層５２、５３の形成予定領域に位置する陽極２０の上面側すなわち本実施形態では正孔注入層３０の上面に回り込むことはある。

しかし、その後、当該隣り合う領域に正孔輸送層４２、４３、短波長発光層５２、５３が連続して成膜される。そのため、回り込んだ長波長発光層５１のドーパントは、隣り合う領域において陽極２０と正孔輸送層４０との間には介在するが、隣り合う短波長発光層５２、５３と正孔輸送層４２、４３との間に介在することはなくなる。

よって、本実施形態によれば、複数発光層平面配置パネルとしての有機ＥＬパネルＳ２において、長波長発光層５１のドーパントの短波長発光層５２、５３と正孔輸送層４２、４３との界面への回り込みを防止し、色純度の低下を抑制することができる。そして、混色のないＲＧＢマルチカラー発光パネルが実現できる。

そして、本実施形態の製造方法は、各発光色の領域毎に、発光層５１〜５３と少なくとも正孔輸送層４１〜４３とを含む２層以上の層を、分離して成膜するとともに、分離して成膜すべき正孔輸送層４１〜４３および発光層５１〜５３を連続して成膜するものであり、それによって、上記した効果を奏する本実施形態の有機ＥＬパネルＳ２を適切に製造できる。

なお、本実施形態においては、分離して成膜される正孔輸送層４１〜４３および発光層５１〜５３の、各発光色領域毎の成膜順序は、短波長発光層から長波長発光層という順でも良いし、その逆であっても良い。

ただし、好ましい形態としては、正孔輸送層４１〜４３および発光層５１〜５３を連続して成膜する際に、発光波長の長い発光色の領域から順に成膜するようにする。つまり、上述したＲＧＢマルチカラー発光パネルの例では、赤色発光領域、緑色発光領域、青色発光領域の順に成膜を行っていくことが好ましい。

［モデルによる好ましい形態の説明］
このことについて、２色発光層パネルをモデルとした図を用いて、より具体的に述べておく。図５は本実施形態の製造方法において短波長発光層→長波長発光層の順に成膜を行う例、図６は本実施形態の製造方法において長波長発光層→短波長発光層の順に成膜を行う好ましい例をモデル的に示す図である。

これら図５および図６では、正孔注入層を符号３０、長波長発光層を符号５１、短波長発光層を符号５２、各発光層５１、５２に対応して分割された正孔輸送層をそれぞれ符号４１、４２として示している。

また、長波長発光層のドーパントを符号５１ｄ、短波長発光層のドーパントを符号５２ｄとして示している。なお、各ドーパント５１ｄ、５２ｄは、本来の形成領域からその周囲の他領域へ回り込んだ有機材料の一部であり、実際には、発光層のホストや正孔輸送層の材料とともに回り込むものである。

まず、図５に示される例では、各発光色の領域毎に、正孔輸送層４１、４２と発光層５１、５２の２層を、分離して成膜するとともに、分離して成膜すべき正孔輸送層４１、４２および発光層５１、５２を連続して成膜するようにしている。この例では、長波長発光層５１の成膜前に短波長発光層５２の成膜を行っている。

この場合、図５（ｂ）に示されるように、長波長発光層５１のドーパント５１ｄは、隣り合う短波長発光層５２と正孔輸送層４２との間に介在することはなくなる。しかしながら、この場合、長波長発光層５１のドーパント５１ｄは、隣り合う短波長発光層５２とその上の電子輸送層との間には介在することになる。

上述したように、発光層における主発光領域は、正孔輸送層との界面近傍部であるが、図５の例のように、短波長発光層５２における主発光領域ではない電子輸送層との界面近傍部に長波長発光層５１のドーパント５１ｄが存在した場合でも、相対的に影響は少ないけれども、多少なりとも色純度の低下は発生することは避けられない。

それに対して、図６に示される本実施形態の好ましい製造方法によれば、正孔輸送層４１、４２および発光層５１、５２を分離して連続して成膜する際に、発光波長の長い発光色の領域から順に成膜する。すなわち、長波長発光層５１の成膜後に短波長発光層５２を成膜を行っている。

この場合、図６（ｂ）に示されるように、長波長のドーパント５１ｄよりも発光しにくいしやすい短波長のドーパント５２ｄが、短波長発光層５２における電子輸送層との界面近傍部に存在するだけである。

つまり、図６に示される製造方法によれば、短波長発光層５２において電子輸送層との界面近傍部に長波長発光層５１のドーパント５１ｄが存在することを回避でき、図５に示される例に比べ、より高いレベルにて色純度の低下を抑制することができる。

以上述べてきたように、本第２実施形態によれば、基板１０上に配置された陽極２０、該陽極２０上に配置された正孔輸送層４０、該正孔輸送層４０の上に配置された発光層５０、該発光層５０の上に配置された電子輸送層６０、該電子輸送層６０の上に配置された陰極７０を包含する有機ＥＬパネルＳ２において、以下の構成を包含する有機ＥＬパネルＳ２が提供される。

・発光層５０は、互いに異なる波長の発光色を発生させるドーパントが添加された有機材料を含有する複数個の発光層５１〜５３を包含し、該複数個の発光層５１〜５３は互いに平面上でかつ隣り合うように配置されてなり、複数個の発光層５１〜５３は互いに時分割的に基板１０上に形成されていること。

・複数個の発光層５１〜５３における相対的に短波長側の発光色を発生させるドーパントが添加された有機材料を含有する発光層と正孔輸送層との界面には、相対的に長波長側の発光色を発光させるドーパントが添加された有機材料が存在しないこと。

また、これらの特徴構成に加えて、本実施形態では、正孔輸送層４０は複数個の発光層５１〜５３の形成の直前に、複数個の発光層５１〜５３の領域と略同じ領域の正孔輸送層４１〜４３が、時分割的に基板１０上に形成される。

さらに、本実施形態では、正孔輸送層４０と陽極２０との間にはベタ状の正孔注入層３０が配置されている。

さらに、本実施形態では、好ましい形態として、複数個の発光層５１〜５３のうち長波長側の発光色を発生する発光層が、短波長側の発光色を発生する発光層に対して時分割的に優先して形成されている。

ところで、上記第１および第２の両実施形態では、各発光色の領域毎に、発光層５１〜５３に対応して分離・成膜される電荷輸送層が、電子輸送層６０および正孔輸送層４０のどちらか一方であったが、両方の電荷輸送層４０、６０を分離・成膜しても良い。

この場合、特に図示しないが、電子輸送層は上記図１に示す各電子輸送層６１〜６３からなり、正孔輸送層は上記図４に示す各正孔輸送層４１〜４３からなるものにできる。そして、各発光色の領域毎に、正孔輸送層４０と発光層５０と電子輸送層６０との連続した成膜が可能となる。

各発光色の領域毎に正孔輸送層４０と発光層５０と電子輸送層６０との連続した成膜を行えば、長波長発光層５０のドーパントが、隣り合う短波長発光層５２、５３と正孔輸送層４２、４３との間および当該隣り合う短波長発光層５２、５３と電子輸送層６２、６３との間に回り込む余地はなくなる。

そして、この場合の製造方法は、陽極２０を形成した後、その上にて、例えば赤色の発光色領域に正孔輸送層４１、発光層５１、電子輸送層６１を順に成膜し、次に、緑色の発光色領域に正孔輸送層４２、発光層５２、電子輸送層６２を順に成膜し、次に、青色の発光色領域に正孔輸送層４３、発光層５３、電子輸送層６３を順に成膜する。

その後、全発光色領域において各電子輸送層６１〜６３の上に陰極７０を成膜することで、有機ＥＬパネルが製造される。

このような有機ＥＬパネルにおいては、長波長発光層５１のドーパントが、短波長発光層５２、５３と正孔輸送層４２、４３との界面および短波長発光層５２、５３と電子輸送層６２、６３との界面へ回り込むのを防止し、色純度の低下を抑制することができる。

（第３実施形態）
本発明の第３実施形態は、各発光色の領域において、分離して成膜される電荷輸送層の成膜マスクの開口サイズを、分離して成膜される発光層の成膜マスクの開口サイズよりも大きいものとした製造方法を提供する。

図７は本第３実施形態に係る複数発光層平面配置パネルとしての有機ＥＬパネルＳ３の概略断面図である。図７に示す有機ＥＬパネルＳ３は、上記図４のものを一部変形したものであり、本実施形態の製造方法において、正孔輸送層用の成膜マスクと発光層用の成膜マスクとで、正孔輸送層用の方の開口部を大きくしている。

それによれば、図７に示すように、各発光色の領域において、分離・成膜される発光層５１〜５３および正孔輸送層４１〜４３のうち正孔輸送層４１〜４３の方が大きくなっている。

そして、発光層５１〜５３が存在しない領域においても、可能な限り正孔輸送層４１〜４３を存在させることで、上下電極（陽極と陰極）２０、７０間の膜厚を確保し、短絡を防ぎやすくできる。

このことは、例えば、上記図１に示すように、分離・成膜される電荷輸送層が電子輸送層６１〜６３である場合にも、同様に適用可能なことは明らかである。

（第４実施形態）
図８は本発明の第４実施形態に係る複数発光層平面配置パネルとしての有機ＥＬパネルＳ４の概略断面図である。

この有機ＥＬパネルＳ４は、基板１０の上に、陽極２０、正孔注入層３０、正孔輸送層４０、発光層５０、電子輸送層６０、陰極７０が順次積層されてなるとともに、発光層５０は、異なる発光色を持つ複数個の発光層５１、５２、５３が平面上に繰り返し配置されてなるものである。

本実施形態では、各発光色の領域毎に分離・成膜されている発光層５０（５１〜５３）のうち、少なくとも一つの発光色の発光層が、当該発光層のホスト材料として、少なくとも１種類以上の正孔輸送性材料を含むものであることを特徴としている。

本実施形態では、発光層５０を、赤色発光を行う赤色発光層５１、緑色発光を行う緑色発光層５２、青色発光を行う青色発光層５３の３色構成としている。そして、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）という発光色領域の繰り返しとなるように、各色の発光層５１、５２、５３が平面上に繰り返し配置されている。

次に、有機ＥＬパネルＳ４における各部について、より詳細に述べる。基板１０は、ガラスや樹脂等の透明な電気絶縁性を有する基板であり、本例では、ガラス基板を採用している。

基板１０の上に形成された陽極２０は、インジウム−錫の酸化物（ＩＴＯ）膜やインジウム−亜鉛の酸化物膜等の透明導電膜からなるものであり、その膜厚は、たとえば１００ｎｍ〜１μｍ程度である。本例では、陽極２０は、５０ｎｍ程度の厚さのＩＴＯ膜からなる。

陽極の上に形成された正孔注入層２０は、通常有機ＥＬパネルに採用可能な正孔注入性材料を採用できる。本例では、正孔注入層２０は、厚さが１０ｎｍである銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）膜から形成されている。

正孔注入層３０の上に形成された正孔輸送層４０は、通常有機ＥＬパネルに採用可能な正孔輸送性材料を採用できる。本例では、正孔輸送層４０は、厚さが４０ｎｍであるαーナフチル・フェニル・ベンゼン（ＮＰＤ）膜から形成されている。

その上の発光層５０については、通常有機ＥＬパネルに採用可能な発光層の材料、すなわちホスト材料と蛍光色素であるドーパント材料を採用できる。ここで、ホスト材料は、正孔輸送性材料を含むものである。そして、主に、ドーパント材料を変更することにより、発光層の発光色を規定することができる。

本例では、赤色発光層５１は、ホスト材料が電子輸送性材料であるＡｌｑ３（アルミキノリノール）と正孔輸送性材料であるＮＰＤとを３：１の比で混合したものであり、このホスト材料に対してドーパントすなわち蛍光色素としてのＤＣＭ１が１ｗｔ％添加された膜からなる。また、その厚さは４０ｎｍ程度である。

また、緑色発光層５２は、ホスト材料がＡｌｑ３とＮＰＤとを３：１の比で混合したものであり、このホスト材料に対してドーパントであるキナクリドンが１ｗｔ％添加された膜からなる。その厚さは４０ｎｍ程度である。

また、青色発光層５３は、ホスト材料が電子輸送性材料であるＢＡｌｑとＮＰＤとを３：１の比で混合したものであり、このホスト材料に対してドーパントであるペリレンが１％添加された膜からなる。その厚さは４０ｎｍ程度である。

そして、各発光層５１〜５３の上に形成された電子輸送層６０は、通常有機ＥＬパネルに採用可能な電子輸送性材料を採用できる。本例では、各電子輸送層６０は、厚さが２０ｎｍであるＡｌｑ３膜から形成されている。

電子輸送層６０の上に形成された陰極７０は、通常有機ＥＬパネルに採用可能な陰極材料を採用できる。本例では、陰極７０は、電子輸送層６０側から、フッ化リチウム（ＬｉＦ）を０．５ｎｍ成膜し、その上にアルミニウム（Ａｌ）を９０ｎｍ成膜した積層膜としている。

このような複数発光層平面配置パネルとしての有機ＥＬパネルＳ４においては、陽極２０と陰極７０とが重なり合う領域が、一つの画素として構成されている。そして、両極２０、７０間に電圧を印加することにより、当該画素における発光層５０が発光するようになっている。

そして、本実施形態では、赤色発光をする画素、緑色発光をする画素、青色発光をする画素が備えられ、各色の画素を適宜、発光、非発光の状態とすることにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色およびこれらの混色による表示すなわち多色表示が可能となっている。

本有機ＥＬパネルＳ４の製造方法について上記例の構成に基づいて述べる。まず、基板１０の上に、スパッタ法によりＩＴＯ膜を形成し、これをフォトリソグラフ技術を用いてパターニングすることにより、陽極２０を形成する。

その上に、蒸着法により、正孔注入層３０として厚さ１０ｎｍのＣｕＰｃ膜を形成し、続いて、正孔輸送層４０として厚さ４０ｎｍのＮＰＤ膜を形成する。

次に、選択的な領域のみに有機膜を成膜可能なマスクを用いて、各発光色の領域毎に、発光層５１〜５３を順次連続して成膜する。具体的には、膜の形成領域に開口部を有するガラスやステンレス等の金属マスクを用いて、蒸着法による成膜を行う。

ここでは、発光波長の短い発光色の領域から発光波長の長い発光色の領域の順に成膜していく。つまり、ここでは、青色発光領域、緑色発光領域、赤色発光領域の順に成膜を行っていく。

具体的な成膜順序は次の通りである。まず、青色発光領域にマスクの開口部が位置するようにマスクと基板とを位置あわせする。そして、蒸着を行い、青色発光領域において、ＢＡｌｑとＮＰＤとを３：１の比で共蒸着しつつペリレンを１％ドープしてなる厚さ４０ｎｍの青色発光層５３を成膜する。

次に、マスクの位置を所定量ずらして、緑色発光領域にマスクの開口部が位置するようにマスクと基板とを位置あわせする。そして、蒸着を行い、緑色発光領域において、Ａｌｑ３とＮＰＤとを３：１の比で共蒸着しつつキナクリドンを１％ドープしてなる厚さ４０ｎｍの緑色発光層５２を成膜する。

次に、マスクの位置を所定量ずらして、赤色発光領域にマスクの開口部が位置するようにマスクと基板とを位置あわせする。そして、蒸着を行い、赤色発光領域において、Ａｌｑ３とＮＰＤとを３：１の比で共蒸着しつつＤＣＭ１を１％ドープしてなる厚さ４０ｎｍの赤色発光層５１を成膜する。

こうして、各発光色の領域毎に分離して成膜された発光層５０を形成した後、電子輸送層６０として厚さ２０ｎｍのＡｌｑ３膜を蒸着で形成し、その後、マスクを用いた蒸着法により、陰極７０として厚さ０．５ｎｍのＬｉＦ膜、厚さ９０ｎｍのＡｌ膜を順次成膜する。こうして、上記有機ＥＬパネルＳ４が製造される。

ところで、本実施形態によれば、少なくとも１つの発光層５０（５１〜５３）は、当該発光層のホスト材料として、少なくとも１種類以上の正孔輸送性材料を含むものであることを特徴としている。

従来の一般の有機ＥＬパネルでは、発光層のホストは電子輸送性であるが、本実施形態によれば、発光層５１〜５３のホストを正孔輸送性材料と電子輸送性材料との両方からなるものにできる。つまり、少なくとも正孔輸送性を有するホストを持った発光層５１〜５３となる。

そして、本実施形態によれば、先に成膜した発光層のホストである正孔輸送性材料すなわち正孔輸送性ホスト材料が、隣り合う発光層の形成予定領域に位置する正孔輸送層の上面に回り込み、最終的には、隣り合う発光層とその下の正孔輸送層との間に正孔輸送性ホスト材料が介在した形となる。

例えば、上記例では、青色発光層５３と緑色発光層５２とでは、青色発光層５３の方を先に成膜している。

この例について、図９（ａ）、（ｂ）を参照して述べる。図９は、図８に示される有機ＥＬパネルＳ４において、青色発光層５３、緑色発光層５２の順に成膜する工程例をモデル的に示す図である。

この場合、図９（ａ）に示されるように、先に成膜した青色発光層５３のホストであるＮＰＤ５３ｈが、隣り合う緑色発光層５２の形成予定領域に位置する正孔輸送層４０の上面に回り込む。

そして、最終的には、図９（ｂ）に示されるように、緑色発光層５２とその下の正孔輸送層４０との界面に、正孔輸送性ホスト材料であるＮＰＤ５３ｈが存在する。なお、図９（ｂ）において符号５２ｈは、緑色発光層５２のホストである。それにより、正孔輸送層４０から緑色発光層５２へ向かう正孔は、介在する正孔輸送性のＮＰＤ５３ｈにより、緑色発光層５２へスムーズに運ばれる。

ちなみに、上記図１２に示す従来一般の有機ＥＬパネルでは、青色発光層５３のホストがＡｌｑ３からなり、緑色発光層５２と正孔輸送層４０との間に電子輸送性のＡｌｑ３が回り込んで存在するため、正孔輸送層４０から緑色発光層５２へ向かう正孔の輸送が阻害される。

それに対して、本実施形態では、正孔輸送層４０と発光層５１〜５３との間に、隣の発光層からのホスト材料が回り込んだとしても、そのホスト材料が正孔輸送性であるため、発光効率の向上がなされる。

このように、本実施形態によれば、複数発光層平面配置パネルとしての有機ＥＬパネルＳ４において、互いに異なる発光色を持つ隣接発光層５１〜５３間にて、一方の発光層のホストが他方の発光層と正孔輸送層４０との界面へ付着したとしても、発光効率が低下するのを防止することができる。

ちなみに、本実施形態では、各発光層５１〜５３のホスト材料として正孔輸送性のＮＰＤを含むものにしたことにより、各発光層５１〜５３のホスト材料として上記例からＮＰＤを除外したものに比べて、１３％（２．２ｃｄ／Ａ→２．５ｃｄ／Ａ）、発光効率を向上させることができた。

なお、本実施形態の変形例として、すべての発光色にて混色を防止する必要がない場合あるいは回り込みの発生しない発光層が存在する場合には、すべての発光色の発光層においてホスト材料に正孔輸送性材料を含ませる必要はない。

例えば、上記例においては、赤色発光層５１は最後に成膜するものであるため、赤色発光層５１のホスト材料としてはＮＰＤを含まず、Ａｌｑ３のみからなるものであっても良い。

言い換えれば、発光層５１〜５３として、正孔輸送性材料を含むホスト材料を有する青色発光層５３および緑色発光層５２と正孔輸送性材料を含まないホスト材料を有する赤色発光層５１とを分離して成膜する場合、正孔輸送性材料を含むホスト材料を有する青色および緑色発光層５２、５３の方を、正孔輸送性材料を含まないホスト材料を有する赤色発光層５１よりも先に成膜することが必要である。

また、本実施形態においても、発光層５０を分離して成膜する際に、発光波長の短い発光色の領域から順に成膜していくことが好ましい。

それによれば、各発光色の領域毎に発光層５１〜５３を分離して成膜する際に、発光波長の短い発光色の領域から順に成膜していくことで、短波長発光層の方が長波長発光層よりも先に正孔輸送層４０の上に形成されるため、長波長発光層のドーパントが、隣りの短波長発光層と正孔輸送層との間に回り込む余地はなくなる。

この好ましい製法は、上記実施形態と同様に、有機ＥＬパネルにおける発光層のホスト材料は電子輸送性のものが一般的であるという上述の事実に鑑みたものである。

つまり、発光層のホストが一般に電子輸送性であるため、発光層のうち電荷が再結合して発光する領域は、正孔輸送層との界面近傍部が主となることが多くなる。

そのため、短波長発光層→長波長発光層の成膜順序を採用することにより、短波長発光層と正孔輸送層との間への回り込み防止を行うことは、混色を防止する点で有効である。

なお、可能であるならば、本実施形態において、各発光層５１〜５３のホスト材料としては、正孔輸送性材料のみからなるものであっても良い。

（第５実施形態）
図１０は本発明の第５実施形態に係る複数発光層平面配置パネルとしての有機ＥＬパネルＳ５の概略断面図である。本実施形態は、上記第４実施形態を変形したものであり、ホールブロック層を付加した構成としたところが相違点である。

つまり、図１０に示される本実施形態の有機ＥＬパネルＳ５は、上記図８に示される有機ＥＬパネルにおいて、複数個の発光層５１、５２、５３に接して形成されている電子輸送層６０ａの電子輸送性材料のイオン化ポテンシャルが、発光層中の正孔輸送材料のイオン化ポテンシャルよりも０．２ｅＶ以上大きいことを特徴とするものである。

具体的に、各発光層５１〜５３の直上に形成された電子輸送層６０ａは、正孔をブロックする機能を有した層、すなわちホールブロック層として構成されている。この電子輸送層６０ａは、青色発光層５３のホスト材料であり且つ電子輸送性材料であるＢＡｌｑを単独で形成する。その厚さは２０ｎｍ程度である。

さらに、その上に形成されている電子輸送層６０ｂは、通常有機ＥＬパネルに採用可能な電子輸送性材料を採用できる。本例では、この電子輸送層６０ｂは、厚さが２０ｎｍであるＡｌｑ３膜から形成されている。

本実施形態によれば、発光層５０に接して形成されている電子輸送層６０ａの電子輸送性材料のイオン化ポテンシャルを、発光層５０中の正孔輸送材料のイオン化ポテンシャルよりも０．２ｅＶ以上大きいものとすることで、当該電子輸送層６０ａはホールブロック層として機能する。

上記図８に示される有機ＥＬパネルのように、発光層５０のホストを正孔輸送材料を含むものとした場合、その発光層５０においては、発光分布の中心が従来の正孔輸送層４０側でなく、電子輸送層６０側（上部電極側）になる。

これは、当該発光層５０において、正孔輸送材料の正孔輸送能力が電子輸送材料の電子輸送能力よりも大きくなるためである。このことは、一般的な材料の関係から明かである。そのため、この影響から、本実施形態のようなホール（正孔）ブロック層６０ａを設けないと、発光効率が低下し、輝度寿命を短くする。

ここで、上述したように、本実施形態においては、複数個の発光層５１、５２、５３に接して形成されている電子輸送層６０ａは、発光層５０中のホスト材料として用いられている電子輸送性材料と同一の材料のみからなるものにできる。

それによれば、材料の簡素化を図ることができ、製造プロセスが簡単になるなどの利点が生じ、好ましい。

本発明の第１実施形態に係る有機ＥＬパネルの概略断面図である。 上記第１実施形態の効果を説明するための比較例をモデル的に示す図である。 上記第１実施形態に係る製造方法をモデル的に示す図である。 本発明の第２実施形態に係る有機ＥＬパネルの概略断面図である。 上記第２実施形態の製造方法において短波長発光層→長波長発光層の順に成膜を行う例をモデル的に示す図である。 上記第２実施形態の製造方法において長波長発光層→短波長発光層の順に成膜を行う好ましい例をモデル的に示す図である。 本発明の第３実施形態に係る有機ＥＬパネルの概略断面図である。 本発明の第４実施形態に係る有機ＥＬパネルの概略断面図である。 図８に示される有機ＥＬパネルにおいて、青色発光層、緑色発光層の順に成膜する工程例をモデル的に示す図である。 本発明の第５実施形態に係る有機ＥＬパネルの概略断面図である。 従来の２色の異なる発光層を平面に繰り返し配置してなる有機ＥＬパネルの概略断面図である。 ３色の異なる発光層を平面に繰り返し配置してなる有機ＥＬパネルの概略断面図である。

符号の説明

２０…陽極、３０…正孔注入層、４０…正孔輸送層、５０…発光層、 ５１…赤色発光層、５２…緑色発光層、５３…青色発光層、 ６０…電子輸送層、７０…陰極。

Claims (12)

1. 陽極（２０）、正孔輸送層（４０）、発光層（５０）、電子輸送層（６０）、陰極（７０）が順次積層されてなるとともに、前記発光層は、異なる発光色を持つ複数個の発光層（５１、５２、５３）が平面上に繰り返し配置されてなるものとした有機ＥＬパネルにおいて、
   各発光色の領域毎に、前記発光層と少なくとも前記正孔輸送層とを含む２層以上の層が、分離して成膜されていることを特徴とする有機ＥＬパネル。
2. 前記陽極（２０）と前記正孔輸送層（４０）との間には、正孔注入層（３０）が配置されていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネル。
3. 前記複数個の発光層（５１、５２、５３）は、それぞれ赤、緑、青の波長の発光色を発生させるものであることを特徴とする請求項１または２に記載の有機ＥＬパネル。
4. 陽極（２０）、正孔輸送層（４０）、発光層（５０）、電子輸送層（６０）、陰極（７０）を順次積層するとともに、前記発光層は、異なる発光色を持つ複数個の発光層（５１、５２、５３）を平面上に繰り返し配置するようにした有機ＥＬパネルの製造方法において、
   各発光色の領域毎に、前記発光層と少なくとも前記正孔輸送層とを含む２層以上の層を、分離して成膜するとともに、前記分離して成膜すべき前記正孔輸送層および前記発光層を連続して成膜することを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
5. 前記正孔輸送層（４０）および前記発光層（５１、５２、５３）を連続して成膜する際に、発光波長の長い発光色の領域から順に成膜していくことを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬパネルの製造方法。
6. 陽極（２０）、正孔輸送層（４０）、発光層（５０）、電子輸送層（６０）、陰極（７０）を順次積層するとともに、前記発光層は、異なる発光色を持つ複数個の発光層（５１、５２、５３）を平面上に繰り返し配置するようにした有機ＥＬパネルの製造方法において、
   各発光色の領域毎に、前記発光層と少なくとも前記電子輸送層とを含む２層以上の層を、分離して成膜するとともに、前記分離して成膜すべき前記発光層および前記電子輸送層を連続して成膜するようにし、
   前記発光層および前記電子輸送層を分離して成膜する際に、発光波長の短い発光色の領域から順に成膜していくことを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
7. 前記複数個の発光層（５１、５２、５３）は、それぞれ赤、緑、青の波長の発光色を発生させるものであることを特徴とする請求項６に記載の有機ＥＬパネルの製造方法。
8. 陽極（２０）、正孔輸送層（４０）、発光層（５０）、電子輸送層（６０）、陰極（７０）が順次積層されてなるとともに、前記発光層は、異なる発光色を持つ複数個の発光層（５１、５２、５３）が平面上に繰り返し配置されてなる有機ＥＬパネルにおいて、
   少なくとも１つの前記発光層は、当該発光層のホスト材料として、少なくとも１種類以上の正孔輸送性材料を含むものであることを特徴とする有機ＥＬパネル。
9. 前記複数個の発光層（５１、５２、５３）に接して形成されている前記電子輸送層（６０ａ）の電子輸送性材料のイオン化ポテンシャルが、前記発光層中の正孔輸送材料のイオン化ポテンシャルよりも０．２ｅＶ以上大きいことを特徴とする請求項８に記載の有機ＥＬパネル。
10. 前記複数個の発光層（５１、５２、５３）に接して形成されている前記電子輸送層（６０ａ）は、前記発光層中のホスト材料として用いられている電子輸送性材料と同一の材料のみからなるものであることを特徴とする請求項９に記載の有機ＥＬパネル。
11. 陽極（２０）、正孔輸送層（４０）、発光層（５０）、電子輸送層（６０）、陰極（７０）を順次積層するとともに、前記発光層については、異なる発光色を持つ複数個の発光層（５１、５２、５３）を分離して成膜することにより平面上に繰り返し配置するようにした有機ＥＬパネルの製造方法において、
    前記発光層として、正孔輸送性材料を含むホスト材料を有する発光層と正孔輸送性材料を含まないホスト材料を有する発光層とを分離して成膜するようにし、
    前記正孔輸送性材料を含むホスト材料を有する発光層の方を、前記正孔輸送性材料を含まないホスト材料を有する発光層よりも先に成膜することを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
12. 前記発光層（５０）を分離して成膜する際に、発光波長の短い発光色の領域から順に成膜していくことを特徴とする請求項１１に記載の有機ＥＬパネルの製造方法。
    

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