JP2004277525A - 液晶組成物、それを用いた位相差板、偏光板および画像表示装置 - Google Patents

液晶組成物、それを用いた位相差板、偏光板および画像表示装置 Download PDF

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Abstract

【課題】液晶化合物の配向を固定化後の表面がべとつかず、表面を布などで擦っても添加剤などが転写しない液晶組成物および位相差板を提供する。
【解決手段】液晶性化合物と、液晶性を有さず光および酸の少なくとも一つの作用により極性基を生成するポリマーとを含有する液晶組成物である。また、透明支持体上に、前記液晶組成物から形成される少なくとも1層の光学異方性層を有する位相差板である。
【選択図】 なし

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶性化合物を含む液晶組成物および該液晶組成物を用いた光学異方性層を有する位相差板に関する。特に、2層以上の光学異方性層を有する態様において、2つの光学異方性層の間に配向膜層を設けずに作製可能な位相差板に関する。さらにこれら位相差板を用いた画像表示装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
光学異方性材料からなる位相差板は、LCD表示装置において必要な材料である。一種類の材料では所望とする光学性能が達成できない場合は複数の光学材料を使用する場合がある。たとえば反射型液晶表示装置においてλ/4板が使用されているが、R,G,Bのいずれの波長域においても該λ/4板の位相差は波長の1/4であるような広帯域性を求められているが、かかる光学性能を1種の材料で満足することは難しく、λ/2板とλ/4板が使用されている。これらの材料はおのおのが数十μm以上の厚みを有しておりそれを粘着剤等で貼り合わせて使用している。これに対し、長尺状の支持体に液晶性化合物からなる光学異方性層を2層積層して広帯域λ/4板を作成する技術が開示されている(特許文献1)。また、液晶化合物を固定化して得られる層を多層積層する技術が開示されているが(特許文献2)、液晶化合物を固定化して得られる層の間には配向膜層を別途形成しており、かかる積層方法では液晶化合物を塗布するためには必ずそのための配向膜を塗布する必要がある。つまり、液晶性化合物の配向を固定化して光学異方性層を1層形成するためには配向膜と液晶化合物を少なくとも2回塗布しなければならず、製造経費が高いものになってしまい、安価な製造技術が求められていた。さらに、塗布回数が増えれば増えるほど、塗布あるいは液晶化合物の配向の不具合によって製品故障が起きる確率が同じであっても出来上がった位相差板としては不具合の個所が多くなってしまい、目的の位相差板の得率が悪くなってしまう。そのため、製造時における得率を上げる意味からも塗布回数を減らすことが求められている。
【0003】
特許文献3には、液晶組成物の空気界面側の傾斜配向を制御する目的で界面活性材料を添加し、空気界面側に移行させて表面層を形成する技術について記載されている。しかしながら該特許文献では空気界面側の表面層にラビングを施して更に重合性液晶組成物からなる光学異方性層を形成する技術に関しては触れられていない。
また、重合性液晶組成物に表面を平滑にするために界面活性剤をレべリング剤として添加する技術としては特許文献4および特許文献5に開示されている。レべリング剤の機能は液晶組成物の表面張力を低下させることにあり、表面張力を低下させることによって膜厚ムラに起因する光学的なムラを低減出来ると記載されている。しかしながら、これらにおいても、更に重合性液晶組成物からなる光学異方性層を形成する技術に関しては触れられていない。
我々は、特許文献5記載のレベリング剤を用いて重合性液晶化合物からなる1層の光学異方性層を作製し、その表面にラビング処理を施し、更にもう1層の光学異方性層を形成することを試みた。しかしながら、1層目の表面がべたつき、レベリング剤がラビング布に転写したり、2層目の光学異方性層を塗布してもぬれが悪く、ハジキが発生したり液晶性化合物の配向性も不十分であることが明らかになった。
【0004】
【特許文献1】
特開2001−4837号公報
【特許文献2】
米国特許6160597号公報
【特許文献3】
特開2000−105315号公報
【特許文献4】
特開平11−148080号公報
【特許文献5】
特開平8−231958号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明が解決しようとする課題は、液晶化合物の配向を固定化した層を形成する場合に、固定化後の表面がべとつかず、表面を布などで擦っても添加剤などが転写しない、位相差板等の作製に有用な液晶組成物を提供することにある。また、本発明の課題は、液晶化合物の配向を固定化した層を有する位相差板において、固定化後の表面がべとつかず、表面を布などで擦っても添加剤などが転写しない位相差板を提供することにある。また、液晶化合物の配向を固定化した層を複数有する位相差板において、上層の液晶化合物を配向させるための配向膜を実質的に用いずに、液晶化合物の配向を規制し固定化する方法で作製可能なハジキや配向不良部分の少ない位相差板を提供することである。更には、該位相差板を用いた表示特性に優れた画像表示装置を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記課題は、以下の手段によって達成された。
(1) 液晶性化合物と、液晶性を有さず光および酸の少なくとも一つの作用により極性基を生成するポリマーとを含有する液晶組成物。
(2) 光および酸の少なくとも一つの作用により極性基を生成するポリマーが、架橋性基を有する(1)に記載の液晶組成物。
(3) 光および酸の少なくとも一つの作用により極性基を生成するポリマーが、下記一般式(III)で表される繰り返し単位を含む(1)または(2)の液晶組成物。
【0007】
一般式(III)
【化4】
Figure 2004277525
【0008】
(一般式(III)中、R31は水素原子もしくは炭素原子数1以上4以下のアルキル基を表し、P31は光の作用により極性基を生成する一価の基であり、L31は単結合もしくは二価の連結基である。)
【0009】
(4) 光および酸の少なくとも一つの作用により極性基を生成するポリマーが、下記一般式(IV)で表される繰り返し単位を含む(1)〜(3)のいずれかに記載の液晶組成物。
【0010】
一般式(IV)
【化5】
Figure 2004277525
【0011】
(一般式(IV)中、R41は水素原子もしくは炭素原子数1以上4以下のアルキル基を表し、P41は酸の作用により極性基を生成する一価の基であり、L41は単結合もしくは二価の連結基である。)
(5) 光および酸の少なくとも一つの作用により極性基を生成するポリマーが、下記一般式(V)で表される繰り返し単位を含む(1)〜(4)のいずれかに記載の液晶組成物。
【0012】
一般式(V)
【化6】
Figure 2004277525
【0013】
(一般式(V)中、R51は水素原子もしくは炭素原子数1以上4以下のアルキル基を表し、P51はエチレン性不飽和基を含む一価の基であり、L51は単結合もしくは二価の連結基である。)
【0014】
(6) 光および酸の少なくとも一つの作用により極性基を生成するポリマーのδa値が、液晶性化合物のδa値よりも小さい(1)〜(5)のいずれかに記載の液晶組成物。
(7) 透明支持体上に、(1)〜(6)のいずれかに記載の液晶組成物から形成される少なくとも1層の光学異方性層を有する位相差板。
(8) 透明支持体上に、少なくとも2層の光学異方性層を有し、少なくとも1層の光学異方性層が(1)〜(6)のいずれかに記載の液晶組成物から形成される光学異方性層を有する位相差板。
(9) 少なくとも2層の光学異方性層同士の間に、実質的に配向膜層を有さない(8)に記載の位相差板。
(10) 光学異方性層の下層の遅相軸と上層の遅相軸のなす角度が実質的に60°であり、一方の光学異方性層の波長550nmにおける位相差が実質的にπであり、もう一方の光学異方性層の波長550nmにおける位相差が実質的にπ/2である(8)または(9)に記載の位相差板。
(11) (10)に記載の位相差板の波長550nmにおける位相差がπである側に、偏光の透過軸と位相差がπである層の遅相軸のなす角が15°または75°になるように偏光板を貼り合せた偏光板。
(12) (7)〜(10)のいずれかに記載の位相差板または(11)に記載の偏光板を用いた画像表示装置。
【0015】
【発明の実施の形態】
本発明の液晶組成物中には液晶性化合物(以下、「液晶性分子」とも称する)と、光および酸の少なくとも一つの作用により極性基を生成するポリマー(以下、「極性変換ポリマー」とも称する)とを必須の成分として含有する。
【0016】
液晶性分子としては、棒状液晶性分子またはディスコティック液晶性分子が好ましい。液晶性分子は、実質的に均一に配向していることが好ましく、実質的に均一に配向している状態で固定されていることがさらに好ましく、重合反応により液晶性分子が固定されていることが最も好ましい。
【0017】
棒状液晶性分子としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性分子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができる。
【0018】
棒状液晶性分子を重合によって配向を固定することがより好ましく、重合性棒状液晶性分子としては、Makromol.Chem.,190巻、2255頁(1989年)、Advanced Materials 5巻、107頁(1993年)、米国特許4683327号、同5622648号、同5770107号、WO95/22586号、同95/24455号、同97/00600号、同98/23580号、同98/52905号、特開平1−272551号公報、同6−16616号公報、同7−110469号公報、同11−80081号公報、および特願2001−64627号公報などに記載の化合物を用いることができる。より好ましくは、下記一般式(I)にて表される化合物である。
【0019】
一般式(I)
−L−Cy−L−(Cy−L)n−Cy−L−Q
式中、QおよびQはそれぞれ独立に重合性基であり、LおよびLはそれぞれ独立に二価の連結基であり、LおよびLはそれぞれ独立に単結合または二価の連結基であり、Cy、CyおよびCyは二価の環状基であり、nは0、1または2である。
【0020】
以下にさらに重合性棒状液晶化合物について説明する。
式中、QおよびQはそれぞれ独立に重合性基である。重合性基の重合反応は、付加重合(開環重合を含む)または縮合重合であることが好ましい。言い換えると、重合性基は、付加重合反応または縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。
【0021】
【化7】
Figure 2004277525
【0022】
およびL4はそれぞれ独立に二価の連結基である。LおよびLはそれぞれ独立に、−O−、−S−、−CO−、−NR−、二価の鎖状基、二価の環状基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Rは炭素原子数が1〜7のアルキル基または水素原子であり、炭素原子数1〜4のアルキル基または水素原子であることが好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることが最も好ましい。
組み合わせからなる二価の連結基の例を以下に示す。ここで、左側がQ(QまたはQ)に、右側がCy(CyまたはCy)に結合する。
【0023】
L−1:−CO−O−二価の鎖状基−O−
L−2:−CO−O−二価の鎖状基−O−CO−
L−3:−CO−O−二価の鎖状基−O−CO−O−
L−4:−CO−O−二価の鎖状基−O−二価の環状基−
L−5:−CO−O−二価の鎖状基−O−二価の環状基−CO−O−
L−6:−CO−O−二価の鎖状基−O−二価の環状基−O−CO−
L−7:−CO−O−二価の鎖状基−O−二価の環状基−二価の鎖状基−
L−8:−CO−O−二価の鎖状基−O−二価の環状基−二価の鎖状基−CO−O−
L−9:−CO−O−二価の鎖状基−O−二価の環状基−二価の鎖状基−O−CO−
L−10:−CO−O−二価の鎖状基−O−CO−二価の環状基−
L−11:−CO−O−二価の鎖状基−O−CO−二価の環状基−CO−O−
L−12:−CO−O−二価の鎖状基−O−CO−二価の環状基−O−CO−
L−13:−CO−O−二価の鎖状基−O−CO−二価の環状基−二価の鎖状基−
L−14:−CO−O−二価の鎖状基−O−CO−二価の環状基−二価の鎖状基−CO−O−
L−15:−CO−O−二価の鎖状基−O−CO−二価の環状基−二価の鎖状基−O−CO−
L−16:−CO−O−二価の鎖状基−O−CO−O−二価の環状基−
L−17:−CO−O−二価の鎖状基−O−CO−O−二価の環状基−CO−O−
L−18:−CO−O−二価の鎖状基−O−CO−O−二価の環状基−O−CO−
L−19:−CO−O−二価の鎖状基−O−CO−O−二価の環状基−二価の鎖状基−
L−20:−CO−O−二価の鎖状基−O−CO−O−二価の環状基−二価の鎖状基−CO−O−
L−21:−CO−O−二価の鎖状基−O−CO−O−二価の環状基−二価の鎖状基−O−CO−
【0024】
二価の鎖状基は、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、置換アルキニレン基を意味する。アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基が好ましく、アルキレン基およびアルケニレン基がさらに好ましい。
アルキレン基は、分岐を有していてもよい。アルキレン基の炭素数は1〜12であることが好ましく、2〜10であることがさらに好ましく、2〜8であることがもっとも好ましい。
置換アルキレン基のアルキレン部分は、上記アルキレン基と同様である。置換基の例としてはハロゲン原子が含まれる。
アルケニレン基は、分岐を有していてもよい。アルケニレン基の炭素数は2〜12であることが好ましく、2〜10であることがさらに好ましく、2〜8であることがもっとも好ましい。
置換アルケニレン基のアルケニレン部分は、上記アルケニレン基と同様である。置換基の例としてはハロゲン原子が含まれる。
【0025】
アルキニレン基は、分岐を有していてもよい。アルキニレン基の炭素数は2〜12であることが好ましく、2〜10であることがさらに好ましく、2〜8であることがもっとも好ましい。
置換アルキニレン基のアルキニレン部分は、上記アルキニレン基と同様である。置換基の例としてはハロゲン原子が含まれる。
二価の鎖状基の具体例としては、エチレン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレン、2−メチル−テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、オクタメチレン、2−ブテニレン、2−ブチニレンなどが挙げられる。
二価の環状基の定義および例は、後述するCy、CyおよびCyの定義および例と同様である。
【0026】
またはLはそれぞれ独立に単結合または二価の連結基である。LおよびLはそれぞれ独立に、−O−、−S−、−CO−、−NR−、二価の鎖状基、二価の環状基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基または単結合であることが好ましい。上記Rは炭素原子数が1〜7のアルキル基または水素原子であり、炭素原子数1〜4のアルキル基または水素原子であることが好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることが最も好ましい。二価の鎖状基、および二価の環状基についてはLおよびLの定義と同義である。
【0027】
式(I)において、nは0または1または2である。nが2の場合、二つのLは同じであっても異なっていてもよく、二つのCyも同じであっても異なっていてもよい。nは1または2であることが好ましく、1であることがさらに好ましい。
【0028】
式(I)において、Cy、CyおよびCyは、それぞれ独立に二価の環状基である。
環状基に含まれる環は、5員環、6員環または7員環であることが好ましく、5員環または6員環であることがさらに好ましく、6員環であることがもっとも好ましい。
環状基に含まれる環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。
環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、および複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環およびナフタレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環およびピリミジン環が含まれる。
ベンゼン環を有する環状基としては、1,4−フェニレンが好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−1,5−ジイルおよびナフタレン−2,6−ジイルが好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては1,4−シクロへキシレンであることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−2,5−ジイルが好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−2,5−ジイルが好ましい。
環状基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数が1〜5のアルキル基、炭素原子数が1〜5のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数が1〜5のアルコキシ基、炭素原子数が1〜5のアルキルチオ基、炭素原子数が2〜6のアシルオキシ基、炭素原子数が2〜6のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数が2〜6のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数が2〜6のアシルアミノ基が含まれる。
【0029】
以下に、式(I)で表される重合性液晶化合物の例を示す。本発明はこれらに限定されるものではない。
【0030】
【化8】
Figure 2004277525
【0031】
【化9】
Figure 2004277525
【0032】
【化10】
Figure 2004277525
【0033】
【化11】
Figure 2004277525
【0034】
以下、好ましいディスコティック液晶性分子について、説明する。ディスコティック液晶性分子は、様々な文献(C.Destrade et al.,Mol.Crysr.Liq.Cryst.,vol.71,page 111(1981);日本化学会編、季刊化学総説、No.22、液晶の化学、第5章、第10章第2節(1994);B.Kohne et al.,Angew.Chem.Soc.Chem.Comm.,page 1794(1985);J.Zhang et al.,J.Am.Chem.Soc.,vol.116,page 2655(1994))に記載されている。ディスコティック液晶性分子の重合については、特開平8−27284号公報に記載がある。ディスコティック液晶性分子を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。従って、重合性基を有するディスコティック液晶性分子は、下記一般式(II)で表わされる化合物であることが好ましい。
【0035】
一般式(II)
D(−L−P)
式中、Dは円盤状コアであり;Lは二価の連結基であり;Pは重合性基であり;そして、nは4〜12の整数である。式(II)の円盤状コア(D)の例を以下に示す。以下の各例において、LP(またはPL)は、二価の連結基(L)と重合性基(P)との組み合わせを意味する。
【0036】
【化12】
Figure 2004277525
【0037】
【化13】
Figure 2004277525
【0038】
【化14】
Figure 2004277525
【0039】
【化15】
Figure 2004277525
【0040】
【化16】
Figure 2004277525
【0041】
【化17】
Figure 2004277525
【0042】
【化18】
Figure 2004277525
【0043】
【化19】
Figure 2004277525
【0044】
式(II)において、二価の連結基(L)は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−CO−、−NH−、−O−、−S−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基(L)は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−CO−、−NH−、−O−および−S−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた基であることがさらに好ましい。二価の連結基(L)は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−CO−および−O−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた基であることが最も好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、1〜12であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、2〜12であることが好ましい。アリーレン基の炭素原子数は、6〜10であることが好ましい。アルキレン基、アルケニレン基およびアリーレン基は、置換基(例、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ、アルコキシ基、アシルオキシ基)を有していてもよい。
【0045】
二価の連結基(L)の例を以下に示す。左側が円盤状コア(D)に結合し、右側が重合性基(P)に結合する。ALはアルキレン基またはアルケニレン基を意味し、ARはアリーレン基を意味する。
L1:−AL−CO−O−AL−
L2:−AL−CO−O−AL−O−
L3:−AL−CO−O−AL−O−AL−
L4:−AL−CO−O−AL−O−CO−
L5:−CO−AR−O−AL−
L6:−CO−AR−O−AL−O−
L7:−CO−AR−O−AL−O−CO−
L8:−CO−NH−AL−
L9:−NH−AL−O−
L10:−NH−AL−O−CO−
【0046】
L11:−O−AL−
L12:−O−AL−O−
L13:−O−AL−O−CO−
L14:−O−AL−O−CO−NH−AL−
L15:−O−AL−S−AL−
L16:−O−CO−AL−AR−O−AL−O−CO−
L17:−O−CO−AR−O−AL−CO−
L18:−O−CO−AR−O−AL−O−CO−
L19:−O−CO−AR−O−AL−O−AL−O−CO−
L20:−O−CO−AR−O−AL−O−AL−O−AL−O−CO−
L21:−S−AL−
L22:−S−AL−O−
L23:−S−AL−O−CO−
L24:−S−AL−S−AL−
L25:−S−AR−AL−
【0047】
式(II)の重合性基(P)は、重合反応の種類に応じて決定する。重合性基(P)の例を以下に示す。
【0048】
【化20】
Figure 2004277525
【0049】
【化21】
Figure 2004277525
【0050】
【化22】
Figure 2004277525
【0051】
【化23】
Figure 2004277525
【0052】
【化24】
Figure 2004277525
【0053】
【化25】
Figure 2004277525
【0054】
重合性基(P)は、不飽和重合性基(P1、P2、P3、P7、P8、P15、P16、P17)またはエポキシ基(P6、P18)であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基(P1、P7、P8、P15、P16、P17)であることが最も好ましい。式(II)において、nは4〜12の整数である。具体的な数字は、ディスコティックコア(D)の種類に応じて決定される。なお、複数のLとPの組み合わせは、異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。二種類以上のディスコティック液晶性分子(例えば、二価の連結基に不斉炭素原子を有する分子と有していない分子)を併用してもよい。
【0055】
本発明の液晶組成物中に含まれる極性変換ポリマーは、液晶組成物を支持体上に塗布して位相差板とする際に表面を平滑化するレベリング機能と、複数層の光学異方性層を有する位相差板を作製する際に光学異方性層間に別途形成される配向膜の代わりに、下層光学異方性層の空気界面側に移行して極性変換ポリマーを多く含む表面濃縮層を形成する機能を有する。さらに紫外線などの光の作用や酸の作用により、極性変換ポリマー中に極性基を生成させ、この表面濃縮層にラビングなどによって配向機能を付与し、上層光学異方性層となる液晶性化合物を配向させる配向膜機能を有する。また、極性基を生成させることで、表面べたつきを抑えたり、上層光学異方性層塗布時のハジキを低減することが可能である。さらには、液晶性化合物や用いる塗布溶剤などに対して溶解耐性を付与したり、液晶性化合物との相互作用を高めることが可能となり、著しく配向膜機能を向上させることができる。
【0056】
上記の観点から本発明の極性変換ポリマーは、レベリング機能発現および表面濃縮層を形成するために、用いる液晶性化合物に対して疎水性が高いことが好ましい。また、極性変換ポリマー自身が液晶性を有する場合、液晶性化合物との親和性が高くなり、混合し易くなる。この場合、極性変換ポリマーの疎水性を大きく高めることで表面濃縮層を形成させることは可能であるが、極性変換ポリマー自身は液晶性を有さないことが好ましい。
【0057】
本発明の極性変換ポリマーおよび液晶性化合物の親疎水性は、その化合物構造から種々の方法を用いて予測が可能でlogP値、I/O値、SP値などを用いることができる。この中で本発明者らの検討によりHoyらの方法により算出されるSP値(VAN KREVELEN,D.W.著、「PROPERTIESOF POLYMERS(ED.3)」ELSEVIER出版(1990)参照)の非分散力成分(本発明においてδa値と称する)を求めることで本発明の極性変換ポリマーのレベリング機能発現および表面濃縮層形成を見積もることができることを見出した。δa値はHoyらの方法により算出される3次元SP値(δd、δp、δh)を用いて式(1)により算出した。なお、複数の繰り返し単位からなるコポリマーの場合、各繰り返し単位ごとの3次元SP値の2乗値(δd、δp、δh)に、各繰り返し単位ごとの体積分率を乗じて和を求めることでコポリマーの3次元SP値の2乗値(δd、δp、δh)を算出し、これを式(1)に代入することでコポリマーのδa値を求めた。
δa = (δp + δh0.5 式(1)
【0058】
本発明の極性変換ポリマーのδa値は、レベリング機能発現および表面濃縮層を形成するために用いる液晶性化合物のδa値に対して小さいことが好ましい。さらにはその差がある程度大きい方が好ましく、液晶性化合物のδa値から本発明の極性変換ポリマーのδa値を差し引いた値が正に大きいことが好ましい。液晶性化合物のδa値から本発明の極性変換ポリマーのδa値を差し引いた値の好ましい範囲は、用いる液晶性化合物および本発明の極性変換ポリマーの種類や分子量、必要により加熱される配向処理時の温度および時間によっても異なるが、0.5ないし20MPa0.5が好ましく、1.0ないし20MPa0.5がより好ましく、2.0ないし20MPa0.5が最も好ましい。
【0059】
本発明の極性変換ポリマーは光および/または酸の作用によりその分子内に極性基を生成する。ここで言う極性基の好ましい例としては、カルボキシル基(カルボン酸)、スルホ基(スルホン酸)、ホスホン酸などの酸性基、水酸基、メルカプト基、アミノ基などの塩基性基を挙げることができ、この中でも特にカルボキシル基、スルホ基が好ましい。
【0060】
光の作用により、ポリマー分子中に上記に示した極性基を生成させる方法として、光分解性の保護基を用いる方法が挙げられ、光により酸や塩基を発生する光酸発生剤、光塩基発生剤として知られる化合物構造をポリマー分子中に導入する方法が挙げられる。このような光酸発生剤、光塩基発生剤の例は、有機エレクトロニクス材料研究会編、「イメージング用有機材料」ぶんしん出版社刊(1997)など種々の公知の文献に記載されている。
【0061】
本発明の極性変換ポリマーの好ましい1態様として光の作用により極性基を生成させる官能基を含む繰り返し単位を有することが好ましく、さらに下記一般式(III)で表される繰り返し単位を有することが好ましい。
【0062】
一般式(III)
【化26】
Figure 2004277525
【0063】
一般式(III)中、R31は水素原子もしくは炭素原子数1以上4以下のアルキル基を表し、好ましくは水素原子もしくはメチル基である。P31は光の作用により極性基を生成する一価の基であり、L31は単結合もしくは二価の連結基であり、好ましくは単結合、−O−、アルキレン基、アリーレン基および*側で主鎖に連結する*−COO−、*−CONH−、*−OCO−、*−NHCO−である。P31は光の作用により極性基を生成する一価の基である。好ましいP31としては、o−ニトロベンジル構造、ジアゾニウム、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニウムなどのオニウム塩構造、o−キノンジアジド構造などのジアゾケトン構造、イミノエステル構造、イミドエステル構造、アシロインエステル構造を含む一価の基であり、最も好ましくはo−ニトロベンジル構造、イミノエステル構造、イミドエステル構造、アシロインエステル構造を含む一価の基である。
【0064】
以下に、一般式(III)で表される繰り返し単位の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0065】
【化27】
Figure 2004277525
【0066】
【化28】
Figure 2004277525
【0067】
【化29】
Figure 2004277525
【0068】
酸の作用により、ポリマー分子中に上記に示した極性基を生成させる方法として、酸分解性の保護基を用いる方法が挙げられ、有機合成分野、画像形成分野、化学増幅系レジスト分野などでの公知の技術を応用できる。化学増幅系ポジ型レジスト組成物は、遠紫外光などの放射線の照射により露光部に酸を生成させ、この酸を触媒とする反応によって活性放射線の照射部と非照射部の現像液に対する溶解性を変化させパターンを形成させるパターン形成材料である。これらのような酸分解性の保護基を有する化合物の例としては、有機エレクトロニクス材料研究会編、「イメージング用有機材料」ぶんしん出版社刊(1997)、THEODORA W.GREENE,PETER G.M.WUTS共著、「PROTECTIVE GROUPS IN ORGANIC SYNTHESIS(THIRD EDITION)」WILEY−INTERSCIENCE出版(1999)、特開平11−181031号公報など種々公知の文献に記載されているが、好ましい例としてアセタールまたはケタール化合物、アルコキシメチルエステル化合物、オルトエステル化合物、第3級アルキルエーテルまたはエステル化合物、β−カルボニルエーテルまたはエステル、シリルエーテル化合物などが挙げられる。なお、酸分解性の保護基は、上記で挙げた極性基を直接保護していてもよいし、連結基を介して間接的に保護されていてもよい。また酸存在下で反応を進行させるために加熱が必要なものもあるが、本発明では特に制限なく使用できる。
【0069】
本発明の極性変換ポリマーの好ましい1態様として酸の作用により極性基を生成させる官能基を含む繰り返し単位を有することが好ましく、さらに下記一般式(IV)で表される繰り返し単位を有することが好ましい。
【0070】
一般式(IV)
【化30】
Figure 2004277525
【0071】
一般式(IV)中、R41は水素原子もしくは炭素原子数1以上4以下のアルキル基を表し、好ましくは水素原子もしくはメチル基である。P41は酸の作用により極性基を生成する一価の基であり、L41は単結合もしくは二価の連結基であり、好ましくは単結合、−O−、アルキレン基、アリーレン基および*側で主鎖に連結する*−COO−、*−CONH−、*−OCO−、*−NHCO−である。P41は酸の作用により極性基を生成する一価の基である。好ましいP41としては、アセタールまたはケタール構造、アルコキシメチルエステル構造、オルトエステル構造、β−カルボニルエーテルまたはエステル構造、第3級アルキルエーテルまたはエステル構造、シリルエーテル構造を含む一価の基である。
【0072】
以下に一般式(IV)で表される繰り返し単位の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0073】
【化31】
Figure 2004277525
【0074】
【化32】
Figure 2004277525
【0075】
本発明の液晶組成物は、本発明の極性変換ポリマーとともに、熱または光により酸を発生する酸発生剤を併用することができる。一方で本発明の液晶組成物は液晶性化合物を重合固定化する前に液晶性化合物を配向させる目的や本発明の極性変換ポリマーの表面濃縮層を形成させる目的で必要に応じて加熱処理を施す。この場合、熱により酸を発生する酸発生剤を併用すると、所望の加熱処理が完了する前に分解する場合があり、注意を要する。このような観点から用いる酸発生剤は光の作用により酸を発生させる光酸発生剤が好ましい。本発明の極性変換ポリマーと併用することのできる光酸発生剤の例は、有機エレクトロニクス材料研究会編、「イメージング用有機材料」ぶんしん出版社刊(1997)など種々の公知の文献に記載されており、いずれも好ましく用いることができる。また、光酸発生剤は、低分子化合物であっても高分子化合物であってもよい。
【0076】
本発明の極性変換ポリマーは、光の作用により極性基を生成する官能基を有するか、酸の作用により極性基を生成する官能基を有するが、同時に両方の官能基を有していてもよい。本発明の極性変換ポリマーが酸の作用により極性基を生成する官能基のみを有する場合、別途酸発生剤を併用する必要があるが、光の作用により極性基を生成する官能基と酸の作用により極性基を生成する官能基の両方の官能基を有し、光の作用により生成する極性基が酸性基である場合、別途酸発生剤を併用しなくてよい場合もある。特に、生成する酸性基としてはスルホン酸が最も好ましい。このような場合、スルホン酸は極性変換ポリマー中に含まれた形で生成し、好ましい形態としてスルホン酸を生成する一般式(III)で表される繰り返し単位と一般式(IV)で表される繰り返し単位の両方を含む共重合体を挙げることができる。一方で、本発明の極性変換ポリマーが酸の作用により極性基を生成する官能基を有し、光の作用により極性基を生成する官能基を有さない場合において、光の作用により低分子の酸を発生させる部分構造を同時に有する場合においても、別途酸発生剤を併用しなくてよい場合もある。本発明の極性変換ポリマーに光の作用により低分子の酸を発生させる部分構造を導入する方法としては、光酸発生剤を光の作用により分解させた後に酸性基を有さない残基の置換可能部位と本発明の極性変換ポリマーを連結する方法が挙げられる。この場合の好ましい形態として一般式(IV)で表される繰り返し単位と光の作用により低分子の酸を発生させる部分構造を有し、光の作用により分解させた後に酸性基を有さない残基の置換可能部位にエチレン性不飽和が連結された化合物(以降、低分子酸発生モノマーと称する)から誘導される繰り返し単位の両方を含む共重合体を挙げることができる。このような低分子酸発生モノマーおよび繰り返し単位の例としては、有機エレクトロニクス材料研究会編、「イメージング用有機材料」ぶんしん出版社刊(1997)、特開平10−221852号など種々の公知の文献に記載されており、いずれも好ましく用いることができる。
【0077】
以下に本発明に用いることのできる低分子酸発生モノマーから誘導される繰り返し単位の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0078】
【化33】
Figure 2004277525
【0079】
本発明の極性変換ポリマーは、更に架橋性基を有することが好ましい。架橋性基を架橋させることにより、本発明の極性変換ポリマーの表面べたつきを抑えたり、液晶性化合物や用いる塗布溶剤などに対して溶解耐性を付与したりできる効果がより高められる場合が多く好ましい。極性変換ポリマー中に含まれる架橋性基は、付加、縮合、置換反応性基など特に制限なく用いることができる。一方で、液晶性化合物自身は、アクリロイル基、メタクリロイル基などエチレン性不飽和基を導入し、光ラジカル重合開始剤を用いて紫外線照射により固定化することが好ましく、極性変換ポリマーも紫外線照射により架橋しうる架橋性基を有することが好ましい。紫外線照射により架橋しうる反応の好ましい例として、紫外線照射によりカチオンを発生する化合物を併用したエポキシ環、オキセタン環などのヘテロ環状化合物の開環重合反応と紫外線照射によりラジカルを発生する化合物を併用したエチレン性不飽和基を有する化合物のラジカル重合反応が挙げられる。これらのうち極性変換ポリマー中に含まれる最も好ましい架橋性基はエチレン性不飽和基である。
【0080】
極性変換ポリマー中への架橋性基導入方法としては特に制限はないが、本発明では特に、下記一般式(V)で表される繰り返し単位を有することが好ましい。
【0081】
一般式(V)
【化34】
Figure 2004277525
【0082】
一般式(V)中、R51は水素原子もしくは炭素原子数1以上4以下のアルキル基を表し、好ましくは水素原子もしくはメチル基である。P51はエチレン性不飽和基を含む一価の基であり、L51は単結合もしくは二価の連結基であり、好ましくは単結合、−O−、アルキレン基、アリーレン基および*側で主鎖に連結する*−COO−、*−CONH−、*−OCO−、*−NHCO−である。P51はエチレン性不飽和基を含む一価の基である。好ましいP51としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基を含む一価の基であり、最も好ましくはアクリロイル基、メタクリロイル基を含む一価の基である。
【0083】
以下に一般式(V)で表される繰り返し単位の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0084】
【化35】
Figure 2004277525
【0085】
【化36】
Figure 2004277525
【0086】
【化37】
Figure 2004277525
【0087】
【化38】
Figure 2004277525
【0088】
【化39】
Figure 2004277525
【0089】
本発明の極性変換ポリマーは光の作用により極性基を生成する官能基か酸の作用により極性基を生成する官能基を有する。また、必要に応じて光の作用により低分子の酸を発生する官能基や架橋性基を有することもできる。この中でも特に上記で挙げた一般式(III)で表される繰り返し単位および/または一般式(IV)で表される繰り返し単位を有し、必要に応じて一般式(V)で表される繰り返し単位や低分子酸発生モノマーから誘導される繰り返し単位を有する形態が特に好ましい。
【0090】
本発明の極性変換ポリマーのポリマー形成反応は付加、縮合、置換反応など特に制限はないが、一般式(III)で表される繰り返し単位および/または一般式(IV)で表される繰り返し単位に誘導されるエチレン性不飽和化合物のラジカル重合反応で形成させることが最も簡便で好ましい。一方、本発明の極性変換ポリマーが一般式(V)で表される繰り返し単位を有する場合、(a)対応するモノマーを重合させて直接エチレン性不飽和基を導入する手法で合成するよりも、(b)任意の官能基を有するモノマーを重合して得られるポリマーに高分子反応によりエチレン性不飽和基を導入する手法で合成することが好ましい。高分子反応は、I)例えば2−クロロエチル基から塩酸を脱離させるようなエチレン性不飽和基をプレカーサー化した官能基を含むポリマーを生成させたあとに官能基変換(脱離反応、酸化反応、還元反応、脱保護反応など)によりエチレン性不飽和基に誘導する方法と、II)任意の官能基を含むポリマーを生成させたあとに、該ポリマー中の官能基と結合生成反応が進行し、共有結合を生成しうる官能基とエチレン性不飽和基の両方を有する化合物(以降、「反応性モノマー」と称する。)を反応させる方法が挙げられる。またこれら I)、II)の方法は組み合わせて行ってもよい。ここで言う結合形成反応とは、一般に有機合成分野で用いられる結合生成反応のなかで共有結合を形成する反応であれば特に制限なく使用できる。一方で、極性変換ポリマーに含まれるエチレン性不飽和基が反応中に熱重合し、ゲル化してしまう場合があるので、できるだけ低温(好ましくは60℃以下、特に好ましくは室温以下)で反応が進行するものが好ましい。また反応の進行を促進させる目的で触媒を用いてもよく、ゲル化を抑制する目的で重合禁止剤を用いてもよい。
【0091】
以下に好ましい高分子結合形成反応が進行する官能基の組み合わせの例を挙げるが本発明はこれらに限定されるものではない。
【0092】
加熱もしくは室温で反応が進行する官能基の組み合わせとしては、
(イ)ヒドロキシル基に対して、エポキシ基、イソシアネート基、N−メチロール基、カルボキシル基、アルキルハライド、酸無水物、酸クロライド、活性エステル基(例えば硫酸エステル)、ホルミル基、アセタール基、
(ロ)イソシアネート基に対してヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、カルボキシル基、N−メチロール基、
(ハ)カルボキシル基に対して、エポキシ基、イソシアネート基、アミノ基、N−メチロール基、
(ニ)N−メチロール基に対して、イソシアネート基、N−メチロール基、カルボキシル基、アミノ基、ヒドロキシル基、
(ホ)エポキシ基に対して、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基、カルボキシル基、N−メチロール基、
(ヘ)ビニルスルホン基に対してスルフィン酸基、アミノ基、
(ト)ホルミル基に対してヒドロキシル基、メルカプト基、活性メチレン基、
(チ)メルカプト基に対して、ホルミル基、ビニル基(アリル基、アクリル基など)、エポキシ基、イソシアネート基、N−メチロール基、カルボキシル基、アルキルハライド、酸無水物、酸クロライド、活性エステル基(例えば硫酸エステル)、
(リ)アミノ基に対して、ホルミル基、ビニル基(アリル基、アクリル基など)、エポキシ基、イソシアネート基、N−メチロール基、カルボキシル基、アルキルハライド、酸無水物、酸クロライド、活性エステル基(例えば硫酸エステル)、などの組み合わせが挙げられる。
【0093】
以下に反応性モノマーの好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0094】
ヒドロキシル基含有ビニルモノマー(例えば、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、アリルアルコール、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレートなど)、イソシアネート基含有ビニルモノマー(例えば、イソシアナトエチルアクリレート、イソシアナトエチルメタクリレートなど)、N−メチロール基含有ビニルモノマー(例えば、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミドなど)、エポキシ基含有ビニルモノマー(例えば、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル、CYCLOMER−M100、A200(ダイセル化学工業(株)製)など)、カルボキシル基含有ビニルモノマー(例えばアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、カルボキシエチルアクリレート、安息香酸ビニル)、アルキルハライド含有ビニルモノマー(例えばクロロメチルスチレン、2−ヒドロキシ−3−クロロプロピルメタクリレート)、酸無水物含有ビニルモノマー(例えばマレイン酸無水物)、ホルミル基含有ビニルモノマー(例えばアクロレイン、メタクロレイン)、スルフィン酸基含有ビニルモノマー(例えばスチレンスルフィン酸カリウム)、活性メチレン含有ビニルモノマー(例えばアセトアセトキシエチルメタクリレート)、ビニル基含有ビニルモノマー(例えばアリルメタクリレート、アリルアクリレート)、酸クロライド含有モノマー(例えばアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライド)、アミノ基含有モノマー(例えばアリルアミン)、が挙げられる。
【0095】
前記 II)に記載した任意の官能基を含むポリマーは、反応性官能基とエチレン性不飽和基の両方を有する反応性モノマーの重合を行うことで得ることができる。また、ポリ酢酸ビニルを変性して得られるポリビニルアルコールのように反応性の低い前駆体モノマーの重合後、官能基変換を行うことで得ることもできる。これらの場合の重合方法としては、ラジカル重合が最も簡便で好ましい。
【0096】
本発明の極性変換ポリマーは複数種の一般式(III)および/または一般式(IV)で表される繰り返し単位で構成されたコポリマーであってもよく、必要に応じて一般式(V)で表される繰り返し単位や低分子酸発生モノマーから誘導される繰り返し単位を含んでいてもよい。また、一般式(III)、(IV)、(V)で表される繰り返し単位および低分子酸発生モノマーから誘導される繰り返し単位以外の繰り返し単位(例えばメチルメタクリレートから誘導される繰り返し単位など、以降その他の繰り返し単位と称する)を含んだコポリマーでもよい。特に極性変換ポリマーのTgや親疎水性をコントロールしたい場合や、極性変換ポリマーの極性基を生成させる官能基の含有量をコントロールする目的でその他の繰り返し単位を含んだコポリマーとする手法は好適である。その他の繰り返し単位の導入方法は、a)対応するモノマーを共重合させて直接導入する手法を用いてもよく、b)官能基変換可能な前駆体モノマーを重合させ、高分子反応により導入する手法を用いてもよい。また、a)およびb)の手法を組み合わせて導入することもできる。
【0097】
a)の手法によってその他の繰り返し単位を、対応するビニルモノマーを重合することによって導入する場合、好ましく用いられるモノマーとしては、アクリル酸またはα−アルキルアクリル酸(例えばメタクリル酸など)類から誘導されるエステル類もしくはアミド類(例えば、N−i−プロピルアクリルアミド、N−n−ブチルアクリルアミド、N−t−ブチルアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、アクリルアミド、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロライド、メタクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、i−プロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−メチル−2−ニトロプロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、i−ブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、t−ペンチルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、2−メトキシメトキシエチルアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、2,2−ジメチルブチルアクリレート、3−メトキシブチルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、n−ペンチルアクリレート、3−ペンチルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、n−ヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロペンチルアクリレート、セチルアクリレート、ベンジルアクリレート、n−オクチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、4−メチル−2−プロピルペンチルアクリレート、ヘプタデカフルオロデシルアクリレート、n−オクタデシルアクリレート、メチルメタクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、i−ブチルメタクリレート、sec−ブチルメタクリレート、n−オクチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、2−メトキシエチルメタクリレート、2−エトキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、n−オクタデシルメタクリレート、2−イソボルニルメタクリレート、2−ノルボルニルメチルメタクリレート、5−ノルボルネン−2−イルメチルメタクリレート、3−メチル−2−ノルボルニルメチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレートなど)、アクリル酸またはα−アルキルアクリル酸(アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸など)、ビニルエステル類(例えば酢酸ビニル)、マレイン酸またはフマル酸から誘導されるエステル類(マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジエチルなど)、マレイミド類(N−フェニルマレイミドなど)、マレイン酸、フマル酸、p−スチレンスルホン酸のナトリウム塩、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ジエン類(例えばブタジエン、シクロペンタジエン、イソプレン)、芳香族ビニル化合物(例えばスチレン、p−クロルスチレン、t−ブチルスチレン、α−メチルスチレン、スチレンスルホン酸ナトリウム)、N−ビニルピロリドン、N−ビニルオキサゾリドン、N−ビニルサクシンイミド、N−ビニルホルムアミド、N−ビニル−N−メチルホルムアミド、N−ビニルアセトアミド、N−ビニル−N−メチルアセトアミド、1−ビニルイミダゾール、4−ビニルピリジン、ビニルスルホン酸、ビニルスルホン酸ナトリウム、アリルスルホン酸ナトリウム、メタリルスルホン酸ナトリウム、ビニリデンクロライド、ビニルアルキルエーテル類(例えばメチルビニルエーテル)、エチレン、プロピレン、1−ブテン、イソブテン等が挙げれる。これらのビニルモノマーは2種類以上組み合わせて使用してもよい。これら以外のビニルモノマーはリサーチディスクロージャーNo.1955(1980年、7月)に記載されているものを使用することができる。本発明ではアクリル酸またはメタクリル酸から誘導されるエステル類、およびアミド類、および芳香族ビニル化合物が特に好ましく用いられるビニルモノマーである。
【0098】
また、一般式(V)で表される繰り返し単位を前記(b)のように高分子反応で導入し、反応を完結させない場合など、エチレン性不飽和基をプレカーサー化した官能基や反応性官能基を含む繰り返し単位を有する共重合体となるが、本発明では特に制限なく用いることができる。
【0099】
上記で挙げたビニルモノマーから誘導されるその他の繰り返し単位の大部分は前述したb)官能基変換可能な前駆体モノマーを重合させ、高分子反応により導入することも可能である。一方で、本発明の極性変換ポリマーは、高分子反応によってのみでしか、導入できないその他の繰り返し単位を含んでいてもよい。典型的な例としてポリ酢酸ビニルを変性して得られるポリビニルアルコールやポリビニルアルコールのアセタール化反応によって得られるポリビニルブチラール等を挙げることができる。これらの繰り返し単位の具体的な例を以下に示すが本発明はこれらに限定されるものではない。
【0100】
【化40】
Figure 2004277525
【0101】
本発明の極性変換ポリマー中、一般式(III)で表される繰り返し単位が含まれる場合の好ましい割合は、1質量%以上100質量%以下、より好ましくは3質量%以上100質量%以下、特に好ましくは5質量%以上100質量%以下であり、一般式(IV)で表される繰り返し単位が含まれる場合の好ましい割合は、10質量%以上100質量%以下、より好ましくは20質量%以上100質量%以下、特に好ましくは30質量%以上100質量%以下である。さらに本発明の極性変換ポリマー中に一般式(V)で表される繰り返し単位が含まれる場合の好ましい割合は、1質量%以上80質量%以下、より好ましくは3質量%以上60質量%以下、特に好ましくは5質量%以上40質量%以下である。
【0102】
本発明の極性変換ポリマーの好ましい分子量範囲は重量平均分子量で1000以上100万以下、さらに好ましくは3000以上20万以下である。最も好ましくは5000以上10万以下である。
【0103】
以下に本発明の極性変換ポリマーの好ましい例を表1に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、前記で具体例を挙げた一般式(III)、(IV)、(V)で表される繰り返し単位と低分子酸発生モノマーから誘導される繰り返し単位およびポリビニルアルコールなどの繰り返し単位は前記で挙げた具体例の番号で表し、共重合可能なモノマーから誘導される繰り返し単位は、モノマー名を記載し、共重合組成比を質量%で付記した。
【0104】
【表1】
Figure 2004277525
【0105】
本発明の液晶組成物中に含まれる極性変換ポリマーの好ましい含量は、液晶性化合物の総質量に対して0.01〜20質量%、より好ましくは0.1〜10質量%、特に好ましくは0.5〜5質量%である。また、複数種の極性変換ポリマーを同時に含んでいてもよく、極性基を生成する官能基を有さないポリマーと併用してもよい。
【0106】
本発明の位相差板は、棒状液晶性分子やディスコティック液晶性分子などの液晶性化合物と極性変換ポリマーおよび重合性開始剤や他の添加剤を含む塗布液を、支持体(好ましくは配向膜を設けた)上に塗布し、液晶性化合物を配向、固定化することで形成する。また、液晶性化合物の配向、固定化後に支持体を剥離して用いることもできる。塗布液の調製には、溶媒を用いてもよく、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド(例、N,N−ジメチルホルムアミド)、スルホキシド(例、ジメチルスルホキシド)、ヘテロ環化合物(例、ピリジン)、炭化水素(例、ベンゼン、ヘキサン)、アルキルハライド(例、クロロホルム、ジクロロメタン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸ブチル)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、エーテル(例、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン)が含まれる。この中でアルキルハライド、エステルおよびケトンが好ましい。また、二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。塗布方法としてはカーテンコーティング、ディップコーティング、スピンコーティング、印刷コーティング、スプレーコーティング、スロットコーティング、ロールコーティング、スライドコーテティング、ブレードコーティング、グラビアコーティング、ワイヤーバー法等の公知の塗布方法が挙げられる。
【0107】
配向させた液晶性分子は、配向状態を維持して固定することが好ましい。固定化は、液晶性分子に導入した重合性基(P)の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、光重合反応が好ましい。光の作用によりラジカルを発生させる重合開始剤の例としては、α−カルボニル化合物(米国特許2367661号、同2367670号の各明細書記載)、アシロインエーテル(米国特許2448828号明細書記載)、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物(米国特許2722512号明細書記載)、多核キノン化合物(米国特許3046127号、同2951758号の各明細書記載)、トリアリールイミダゾールダイマーとp−アミノフェニルケトンとの組み合わせ(米国特許3549367号明細書記載)、アクリジンおよびフェナジン化合物(特開昭60−105667号公報、米国特許4239850号明細書記載)およびオキサジアゾール化合物(米国特許4212970号明細書記載)、アセトフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ベンジル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物等が好ましい。アセトフェノン系化合物としては、例えば、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシメチル−1−フェニルプロパン−1−オン、4’−イソプロピル−2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオフェノン、p−ジメチルアミノアセトン、p−tert−ブチルジクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルトリクロロアセトフェノン、p−アジドベンザルアセトフェノン等が挙げられる。ベンジル系化合物としては、例えば、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。ベンゾインエーテル系化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン−n−プロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、ミヒラーズケトン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン等が挙げられる。チオキサントン系化合物としては、例えば、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、4−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン等が挙げられる。このような芳香族ケトン類からなる感光性ラジカル重合開始剤の中でも、アセトフェノン系化合物及びベンジル系化合物が、硬化特性、保存安定性、臭気等の面で特に好ましい。これらの芳香族ケトン類からなる感光性ラジカル重合開始剤は、1種あるいは2種以上のものを所望の性能に応じて配合して使用することができる。また、感度を高める目的で重合開始剤に加えて、増感剤を用いてもよい。増感剤の例には、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、およびチオキサントン等が含まれる。
【0108】
光重合開始剤は複数種を組み合わせてもよく、使用量は、塗布液の固形分の0.01〜20質量%であることが好ましく、0.5〜5質量%であることがさらに好ましい。液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、20mJ/cm〜50J/cmであることが好ましく、100〜800mJ/cmであることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。光学異方性層の厚さは、0.1〜10μmであることが好ましく、0.5〜5μmであることがさらに好ましい。
【0109】
本発明の位相差板は支持体を剥離など除去せずに用いる場合、透明で光学異方性が小さく、波長分散が小さいポリマーフィルムを支持体として用いることが好ましい。ここで支持体が透明であるとは、光透過率が80%以上であることを意味する。波長分散が小さいとは、具体的には、Re400/Re700の比が1.2未満であることが好ましい。光学異方性が小さいとは、具体的には、面内レターデーション(Re)が20nm以下であることが好ましく、10nm以下であることがさらに好ましい。透明支持体は、ロール状または長方形のシート状の形状を有することが好ましく、ロール状の透明支持体を用いて、光学異方性層を積層してから、必要な大きさに切断することが好ましい。ポリマーの例には、セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレートおよびポリメタクリレートが含まれる。セルロースエステルが好ましく、アセチルセルロースがさらに好ましく、トリアセチルセルロースが最も好ましい。ポリマーフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明支持体の厚さは、20〜500μmであることが好ましく、50〜200μmであることがさらに好ましい。透明支持体とその上に設けられる層(接着層、配向膜あるいは光学異方性層)との接着を改善するため、透明支持体に表面処理(例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線(UV)処理、火炎処理)を実施してもよい。透明支持体の上に、接着層(下塗り層)を設けてもよい。
【0110】
支持体の表面上で液晶性化合物を配向させるためには、配向膜を用いることが好ましい。配向膜は、有機化合物(好ましくはポリマー)のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログループを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法(LB膜)による有機化合物(例えば、ω−トリコ酸、ジオクタデシルジメチルアンモニウムクロリド、ステアリル酸メチルなど)の累積のような手段で設けることが出来る。さらに電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により配向機能が生じる配向膜も知られている。ポリマーのラビング処理により形成する配向膜がとくに好ましい。ラビング処理はポリマー層の表面を紙や布で一定方向に数回こすることにより実施する。
【0111】
棒状液晶性分子は、塗布平面に対して実質的に水平(0〜30度の範囲の平均傾斜角)に配向させることも、実質的に斜め(30〜70度の範囲の平均傾斜角)に配向させることも実質的に垂直(50〜90度の範囲の平均傾斜角)に配向させることも、同一層内で傾斜角が連続的に変化するハイブリッド配向(例えば水平〜垂直)させることも可能であり、配向膜に使用するポリマーの種類を選択することで,棒状液晶性分子の配向(特に配向膜界面の傾斜角)をコントロールすることができる。本発明では、それぞれに用いる配向膜を水平配向膜、斜め配向膜、垂直配向膜と表現する。また、水平配向膜のうちラビング方向と実質的に異なる方向(主として直交方向)に棒状液晶性分子を配向させることのできる配向膜を特に直交配向膜と表現する。
【0112】
ディスコティック液晶性分子は、水平配向膜を用いることで塗布平面に対しディスコティックコア面がおおよそ平行になり実質的に水平(0〜30度の範囲の平均傾斜角)に配向させることが可能であり、斜め配向膜、垂直配向膜をもちいることで実質的に斜め(30〜70度の範囲の平均傾斜角)に配向させることも実質的に垂直(50〜90度の範囲の平均傾斜角)に配向させることが可能であり、同一層内で傾斜角が連続的に変化するハイブリッド配向(例えば水平〜垂直)させることも可能である。一方、直交配向膜を用いた場合、塗布平面に対しディスコティックコア面がおおよそ垂直にかつラビング方向に直交して配向させることができる。いずれの場合も所望の配向方向に合せて適宜、配向膜を選択することができる。
【0113】
配向膜に用いる具体的なポリマーの種類については液晶セルまたは光学補償シートについて種々の文献に記載があり、所望の配向方法、使用形態に合せて適宜選択できる。本発明では、特に重合性基を有するポリビニルアルコール誘導体、ポリアクリル酸誘導体を用いることで、液晶化合物と透明支持体の密着性を改善することができ好ましい。このような重合性基を有するポリビニルアルコール誘導体、ポリアクリル酸誘導体からなる水平配向膜、斜め配向膜、垂直配向膜、直交配向膜としては特開平9−152509号公報、特開2002−62427号公報、特開2002−90545号公報、特開2002−98836号公報等に記載されている化合物を用いることができる。
【0114】
配向膜の厚さは0.01〜5μmであることが好ましく、0.05〜1μmであることがさらに好ましい。なお、配向膜を用いて液晶性化合物を配向させてから、その配向状態のまま液晶性化合物を固定して光学異方性層を形成し、光学異方性層のみをポリマーフィルム(または透明支持体)上に転写してもよい。配向状態の固定された液晶性化合物は、配向膜がなくても配向状態を維持することができる。そのため、本発明の位相差板では、配向膜は(位相差板の製造において必須ではあるが)必須ではない。
【0115】
本発明の位相差板は、液晶性化合物の配向が固定された層を複数層有することもできる。このような位相差板の例としては、特開2001−4837号公報、同2001−21720号公報、同2000−206331号公報に広帯域λ/4板の技術が開示されている。以下に広帯域λ/4板における発明の実施の形態を記載するが、本発明はλ/4板に限定されるものではない。
【0116】
[広帯域λ/4板の光学的性質]
広域帯λ/4とは、具体的には、波長450nm、550nmおよび650nmで測定したレターデーション値/波長の値が、いずれも0.2〜0.3の範囲内であることを意味する。レターデーション値/波長の値は、0.21〜0.29の範囲内であることが好ましく、0.22〜0.28の範囲内であることがより好ましい。
偏光膜、位相差πの偏光子および位相差π/2の偏光子を用いると、広い波長領域で円偏光を近似的に達成することができる。特開平10−68816号公報には、円偏光の達成について、ポアンカレ球による説明が記載されている。偏光子(光学異方性層または複屈折率フィルム)は、特定の波長において、実質的にπまたはπ/2の位相差を達成していればよい。ただし、可視領域のほぼ中間の波長である550nmにおいて、位相差πまたはπ/2を達成していることが好ましい。特定波長(λ)において位相差πを達成するためには、特定波長(λ)において測定した偏光子のレターデーション値をλ/2に調整すればよい。特定波長(λ)において位相差π/2を達成するためには、特定波長(λ)において測定した偏光子のレターデーション値をλ/4に調整すればよい。
【0117】
特定波長(λ)を550nmとすると、位相差πの偏光子として用いる光学異方性層を波長550nmで測定したレターデーション値は、200〜290nmであることが好ましく、210〜280nmであることがより好ましい。特定波長(λ)を550nmとすると、位相差π/2の偏光子として用いる光学異方性層を波長550nmで測定したレターデーション値は、100〜145nmであることが好ましく、110〜140nmであることがより好ましい。
【0118】
レターデーション値は、光学異方性層の法線方向から入射した光に対する面内のレターデーション値を意味する。具体的には、下記式により定義される値である。
レターデーション値(Re) = (nx−ny)×d
式中、nxおよびnyは光学異方性層の面内の主屈折率であり、そしてdは光学異方性層の厚み(nm)である。
【0119】
広帯域λ/4板を作製する場合は、位相差がπである層と位相差がπ/2である層の交差角度が重要であり、60°±10であることが好ましく、60°±5であることがより好ましい。また、広帯域λ/4と偏光板または偏光膜から円偏光板を作成する際は、偏光板(または偏光膜)、位相差がπである層、位相差がπ/2である層の順に積層することが好ましく、該偏光板(または偏光膜)の偏光透過軸と位相差がπである層の遅相軸が15°±5であることが好ましく、15°±3であることがより好ましい。一般に入手可能な長尺状の偏光板は長尺の長手方向に偏光の吸収軸があり、それに直交する方向に偏光透過軸がある。したがって円偏光板を偏光板と広帯域λ/4板から作成する場合には位相がπである層を支持体の長手方向に対し実質的に75°にすることが好ましい。特開2002−86554号に偏光の吸収軸が長手方向に対し実質的に45°である偏光板の技術が開示されている。かかる偏光板の場合には、位相がπである層の遅相軸を偏光の吸収軸に対し15°または75°にすることが好ましい。
【0120】
本発明において上記広帯域λ/4板を作製する場合、下記の▲1▼〜▲6▼の手順で作製することが好ましい。
▲1▼透明支持体上に配向膜層を設ける。
▲2▼配向膜層をラビングする。
▲3▼ラビングした配向膜層上に本発明の液晶組成物(極性変換ポリマーは必須)を塗布する。
▲4▼必要により加熱処理を行い、液晶性化合物の配向、紫外線照射により固定化し、第1光学異方性層(位相はπかπ/2のいずれか)を形成する。
▲5▼第1光学異方性層の遅相軸と60°交差して第1光学異方性層上をラビングする。
▲6▼第2光学異方性層を形成する。なお、第2光学異方性層においては、極性変換ポリマーは必須ではない。
【0121】
[円偏光板]
本発明の位相差板は、反射型液晶表示装置において使用されるλ/4板、光ディスクの書き込み用のピックアップに使用されるλ/4板、あるいは反射防止膜として利用されるλ/4板として、特に有利に用いることができる。λ/4板は、一般に偏光膜と組み合わせた円偏光板として使用される。よって、位相差板と偏光膜とを組み合わせた円偏光板として構成しておくと、容易に反射型液晶表示装置のような用途とする装置に組み込むことができる。偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光膜の透過軸は、フィルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。偏光膜は、一般に両側に保護膜を有する。ただし、本発明の位相差板を用いる場合、光学異方性層自身や透明支持体を偏光膜の片側の保護膜として機能させることができる。透明支持体とは別に保護膜を用いる場合は、保護膜として光学的等方性が高いセルロースエステルフィルム、特にトリアセチルセルロースフィルムを用いることが好ましい。
【0122】
本発明の位相差板が液晶性化合物の配向が固定された層を複数層有する場合、少なくとも1層に用いる液晶組成物中に本発明の極性変換ポリマーが添加してあることが必須であるが、全ての層に添加されていてもよい。本発明の極性変換ポリマーを用いた層上においては、配向膜を用いずにもう1層の液晶性化合物の配向が固定された層を形成させることが可能となる。また、最上層に本発明の極性変換ポリマーを用いた場合、固定化後の表面がべとつかず、表面を布などで擦っても転写せず、有利となる場合もあるが、位相差板作製においては必ずしも必須ではない。
【0123】
一方で液晶性化合物の配向が固定された層を液晶性化合物と重合開始剤(必要に応じて溶媒)のみの液晶組成物で作製しようとする場合、配向膜側はほぼ水平であっても空気界面側で傾斜角を持って配向するため、光学的にムラが生じてしまう場合が多い。本発明の架橋性ポリマーは、該光学的ムラを抑える効果も有するが、本発明の架橋性ポリマーを用いなくてもある種の添加剤を添加することで該光学的ムラは解消することができる。以下にこのような添加剤を配向制御剤と称し好ましい例を低分子配向制御剤、高分子配向制御剤と分けて順に説明する。
低分子配向制御剤としては、下記一般式(VI)で表される化合物を用いるのが特に好ましい。
【0124】
前記第1の光学異方性層および前記第2の光学異方性層は、液晶性化合物(好ましくは棒状液晶性化合物)を少なくとも1種含有するが、それ以外に液晶配向促進剤を含有しているのが好ましく、下記一般式(VI)で表される液晶配向剤を含有しているのが特に好ましい。
一般式(VI)
(Hb−L−)
式(VI)において、Hbは、炭素原子数が6〜40の脂肪族基または炭素原子数が6〜40の脂肪族置換オリゴシロキサノキシ基を表す。Hbは、炭素原子数が6〜40の脂肪族基であることが好ましく、炭素原子数が6〜40のフッ素置換脂肪族基または炭素原子数が6〜40の分岐を有する脂肪族基であることがさらに好ましく、炭素原子数が6〜40のフッ素置換アルキル基もしくは炭素原子数が6〜40の分岐を有するアルキル基であることが最も好ましい。
【0125】
脂肪族基は、環状脂肪族基よりも鎖状脂肪族基の方が好ましい。鎖状脂肪族基は分岐を有していてもよい。脂肪族基の炭素原子数は、7〜35であることが好ましく、8〜30であることがより好ましく、9〜25であることがさらに好ましく、10〜20であることが最も好ましい。
脂肪族基には、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基および置換アルキニル基が含まれる。アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基および置換アルケニル基が好ましく、アルキル基および置換アルキル基がさらに好ましい。
脂肪族基の置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、置換アルコキシ基(例えば、オリゴアルコキシ基)、アルケニルオキシ基(例、ビニルオキシ)、アシル基(例、アクリロイル、メタクリロイル)、アシルオキシ基(例、アクリロイルオキシ、ベンゾイルオキシ)、スルファモイル基、脂肪族置換スルファモイル基およびエポキシアルキル基(例、エポキシエチル)が含まれる。置換基としては、ハロゲン原子が好ましく、フッ素原子がさらに好ましい。フッ素置換脂肪族基において、フッ素原子が脂肪族基の水素原子を置換している割合は、50〜100%であることが好ましく、60〜100%であることがより好ましく、70〜100%であることがさらに好ましく、80〜100%であることがさらにまた好ましく、85〜100%であることが最も好ましい。
【0126】
前記脂肪族置換オリゴシロキサノキシ基の炭素原子数は、7〜35であることが好ましく、8〜30であることがより好ましく、9〜25であることがさらに好ましく、10〜20であることが最も好ましい。脂肪族置換オリゴシロキサノキシ基は、下記式で表される。
−(Si(R−O)
式中、Rは水素原子、ヒドロキシルまたは脂肪族基を表し;Rは水素原子、脂肪族基またはアルコキシ基を表し;そして、qは1〜12のいずれかの整数を表す。RおよびRでそれぞれ表される脂肪族基は、環状脂肪族基よりも鎖状脂肪族基の方が好ましい。鎖状脂肪族基は分岐を有していてもよい。脂肪族基の炭素原子数は、1〜12であることが好ましく、1〜8であることがより好ましく、1〜6であることがさらに好ましく、1〜4であることが特に好ましい。
およびRでそれぞれ表される脂肪族基には、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基および置換アルキニル基が含まれる。アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基および置換アルケニル基が好ましく、アルキル基および置換アルキル基がさらに好ましい。
およびRでそれぞれ表される脂肪族基は、置換基を有していてもよく、該置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、置換アルコキシ基(例えば、オリゴアルコキシ基)、アルケニルオキシ基(例、ビニルオキシ)、アシル基(例、アクリロイル、メタクリロイル)、アシルオキシ基(例、アクリロイルオキシ、ベンゾイルオキシ)、スルファモイル基、脂肪族置換スルファモイル基およびエポキシアルキル基(例、エポキシエチル)が含まれる。
【0127】
で表されるアルコキシ基は、環状構造あるいは分岐を有していてもよい。アルコキシ基の炭素原子数は、1〜12であることが好ましく、1〜8であることがより好ましく、1〜6であることがさらに好ましく、1〜4であることがさらにまた好ましい。
以下に、Hbの例を示す。
【0128】
Hb1:n−C1633
Hb2:n−C2041
Hb3:n−C13−CH(n−C)−CH−CH
Hb4:n−C1225
Hb5:n−C1837
Hb6:n−C1429
Hb7:n−C1531
Hb8:n−C1021
Hb9:n−C1021−CH(n−C)−CH−CH
Hb10:n−C17
【0129】
Hb11:n−C17
Hb12:CH(CH−{C−CH(CH)}−C
Hb13:CH(CH−{C−CH(CH)}−C−C(CH)=CH−CH
Hb14:n−C17−CH(n−C13)−CH−CH
Hb15:n−C13−CH(C)−CH−CH
Hb16:n−C17−CH(n−C)−CH
Hb17:n−C17−CF(n−C13)−CF−CF
Hb18:n−C−CF(CF)−CF
Hb19:Si(CH−{Si(CH−O}−O−
Hb20:Si(OC)(C1633)(C−SO−NH−C17)−O−
【0130】
前記式(V)において、Lは、単結合または二価の連結基を表す。前記二価の連結基は、−アルキレン基−、−フッ素置換アルキレン基−、−O−、−S−、−CO−、−NR−、−SO−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる基であることが好ましい。Rは、水素原子または炭素原子数が1〜20のアルキル基である。L1Aは、−アルキレン基−、−O−、−S−、−CO−、−NR−、−SO−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることがさらに好ましい。Rは、水素原子または炭素原子数が1〜20のアルキル基であることが好ましく、水素原子または炭素原子数が1〜15のアルキル基であることがさらに好ましく、水素原子または炭素原子数が1〜12のアルキル基であることが最も好ましい。
上記アルキレン基またはフッ素置換アルキレン基の炭素原子数は、1〜40であることが好ましく、1〜30であることがより好ましく、1〜20であることがさらに好ましく、1〜15であることがさらにまた好ましく、1〜12であることが最も好ましい。
以下に、Lの例を示す。左側がHbに結合し、右側がBに結合する。
【0131】
L10:単結合
L11:−O−
L12:−O−CO−
L13:−CO−C−O−
L14:−O−C−O−C−O−
L15:−S−
L16:−N(n−C1225)−
L17:−SO−N(n−C)−CHCH−O−
L18:−O−{CF(CF)−CF−O}−CF(CF)−
【0132】
前記式(V)において、nは2〜12のいずれかの整数を表す。nは2〜9のいずれかの整数であることが好ましく、2〜6のいずれかの整数であることがより好ましく、2、3または4であることがさらに好ましく、3または4であることが最も好ましい。
【0133】
前記式(V)において、Bは、少なくとも三つの環状構造を含む排除体積効果を有するn価の基である。Bは下記式(V−a)で表されるn価の基であることが好ましい。
一般式(V−a)
(−Cy−L−)Cy
前記式(V−a)において、Cyは二価の環状基を表す。Cyは二価の芳香族炭化水素基または二価の複素環基を表すのが好ましく、二価の芳香族炭化水素基を表すのがより好ましい。
二価の芳香族炭化水素基とは、アリーレン基および置換アリーレン基を意味する。
アリーレン基の例には、フェニレン基、インデニレン基、ナフチレン基、フルオレニレン基、フェナントレニレン基、アントリレン基およびピレニレン基が含まれる。フェニレン基およびナフチレン基が好ましい。
置換アリーレン基の置換基の例には、脂肪族基、芳香族炭化水素基、複素環基、ハロゲン原子、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキシ基)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基)、アリールアゾ基(例えば、フェニルアゾ基)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基)、アルキルアミノ基(例えば、メチルアミノ基、プロピルアミノ基)、アシル基(例えば、アセチル基、プロパノイル基、オクタノイル基、ベンゾイル基)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基)、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、カルボキシル基、スルホ基、カルバモイル基、スルファモイル基およびウレイド基が含まれる。
二価の芳香族炭化水素基に、別の芳香族炭化水素環が単結合、ビニレン結合またはエチニレン結合を介して置換基として結合していると、前述したように特定の液晶配向促進機能が得られる。
また、Hb−L−に相当する基を、置換基として有してもよい。
【0134】
Cyで表される二価の複素環基は、5員、6員または7員の複素環を有することが好ましい。5員環または6員環がさらに好ましく、6員環が最も好ましい。複素環を構成する複素原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましい。前記複素環は、芳香族性複素環であることが好ましい。芳香族性複素環は、一般に不飽和複素環である。最多二重結合を有する不飽和複素環がさらに好ましい。複素環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピロリン環、ピロリジン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、イミダゾリン環、イミダゾリジン環、ピラゾール環、ピラゾリン環、ピラゾリジン環、トリアゾール環、フラザン環、テトラゾール環、ピラン環、チイン環、ピリジン環、ピペリジン環、オキサジン環、モルホリン環、チアジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピペラジン環およびトリアジン環が含まれる。
【0135】
複素環に、他の複素環、脂肪族環または芳香族炭化水素環が縮合していてもよい。縮合複素環の例には、ベンゾフラン環、イソベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドール環、インドリン環、イソインドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、インダゾール環、ベンゾイミダゾール環、クロメン環、クロマン環、イソクロマン環、キノリン環、イソキノリン環、シンノリン環、フタラジン環、キナゾリン環、キノキサリン環、ジベンゾフラン環、カルバゾール環、キサンテン環、アクリジン環、フェナントリジン環、フェナントロリン環、フェナジン環、フェノキサジン環、チアントレン環、インドリジン環、キノリジン環、キヌクリジン環、ナフチリジン環、プリン環およびプテリジン環が含まれる。
二価の複素環基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、置換アリーレン基の置換基の例と同様である。
二価の複素環基は、複素原子(例えば、ピペリジン環の窒素原子)で、Lまたは(Lが単結合の場合)分子中心の環状基(Cy)と結合してもよい。また、結合する複素原子がオニウム塩(例、オキソニウム塩、スルホニウム塩、アンモニウム塩)を形成していてもよい。
【0136】
Cyおよび後述するCyの環状構造が、全体として平面構造を形成していてもよい。環状構造が全体として平面構造(すなわち円盤状構造)を形成していると、前述したように特定の液晶配向促進機能が得られる。
以下に、Cyの例を示す。複数のHb−L−に相当する基が二価の芳香族炭化水素基または二価の複素環基に結合している場合、いずれか一つが前記式で定義するHb−L−であって、残りは二価の芳香族炭化水素基または二価の複素環基の置換基である。
【0137】
【化41】
Figure 2004277525
【0138】
【化42】
Figure 2004277525
【0139】
【化43】
Figure 2004277525
【0140】
【化44】
Figure 2004277525
【0141】
【化45】
Figure 2004277525
【0142】
【化46】
Figure 2004277525
【0143】
【化47】
Figure 2004277525
【0144】
式(V−a)において、Lは、単結合または−アルキレン基−、−アルケニレン基−、−アルキニレン基−、−O−、−S−、−CO−、−NR−、−SO−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基である。Rは、水素原子または炭素原子数が1〜30のアルキル基を表す。Lは、−O−、−S−、−CO−、−NR−、−SO−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。Rは水素原子または炭素原子数が1〜20のアルキル基であることが好ましく、水素原子または炭素原子数が1〜15のアルキル基であることがさらに好ましく、水素原子または炭素原子数が1〜12のアルキル基であることが最も好ましい。
上記アルキレン基の炭素原子数は、1〜40であることが好ましく、1〜30であることがより好ましく、1〜20であることがさらに好ましく、1〜15であることがさらにまた好ましく、1〜12であることが最も好ましい。
上記アルケニレン基またはアルキニレン基の炭素原子数は、2〜40であることが好ましく、2〜30であることがより好ましく、2〜20であることがさらに好ましく、2〜15であることがさらにまた好ましく、2〜12であることが最も好ましい。
以下に、Lの例を示す。左側がCyに結合し、右側がCyに結合する。
【0145】
L20:単結合
L21:−S−
L22:−NH−
L23:−NH−SO−NH−
L24:−NH−CO−NH−
L25:−SO
L26:−O−NH−
L27:−C≡C−
L28:−CH=CH−S−
L29:−CH−O−
L30:−N(CH)−
L31:−CO−O−
【0146】
前記式(V−a)において、nは2〜12のいずれかの整数を表す。nは2〜9のいずれかの整数であることが好ましく、2〜6のいずれかの整数であることがより好ましく、2、3または4であることがさらに好ましく、3または4であることが最も好ましい。
前記式(V−a)において、Cyは、n価の環状基である。Cyは、n価の芳香族炭化水素基またはn価の複素環基であることが好ましい。
Cyで表される芳香族炭化水素基の芳香族炭化水素環の例には、ベンゼン環、インデン環、ナフタレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環およびピレン環が含まれる。ベンゼン環およびナフタレン環が好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。
Cyで表される芳香族炭化水素基は置換基を有していてもよい。置換基の例には、脂肪族基、芳香族炭化水素基、複素環基、ハロゲン原子、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキシ基)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基)、アリールアゾ基(例えば、フェニルアゾ基)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基)、アルキルアミノ基(例えば、メチルアミノ基、プロピルアミノ基)、アリールアミノ基(例えば、フェニルアミノ基)、アシル基(例えば、アセチル基、プロパノイル基、オクタノイル基、ベンゾイル基)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基)、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、カルボキシル基、スルホ基、カルバモイル基、スルファモイル基およびウレイド基が含まれる。
【0147】
Cyで表される複素環基は、5員、6員または7員の複素環を有することが好ましい。5員環または6員環がさらに好ましく、6員環が最も好ましい。前記複素環を構成する複素原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましい。前記複素環は、芳香族性複素環であることが好ましい。芳香族性複素環は、一般に不飽和複素環である。最多二重結合を有する不飽和複素環がさらに好ましい。前記複素環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピロリン環、ピロリジン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、イミダゾリン環、イミダゾリジン環、ピラゾール環、ピラゾリン環、ピラゾリジン環、トリアゾール環、フラザン環、テトラゾール環、ピラン環、チイン環、ピリジン環、ピペリジン環、オキサジン環、モルホリン環、チアジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピペラジン環およびトリアジン環が含まれる。トリアジン環が好ましく、1,3,5−トリアジン環が特に好ましい。
前記複素環に他の複素環、脂肪族環または芳香族炭化水素環が縮合していてもよい。ただし、単環式複素環が好ましい。
以下に、Cyの例を示す。
【0148】
【化48】
Figure 2004277525
【0149】
【化49】
Figure 2004277525
【0150】
【化50】
Figure 2004277525
【0151】
【化51】
Figure 2004277525
【0152】
液晶配向促進剤は、以上述べた疎水性基(Hb)、連結基(L)および排除体積効果を有する基(B)を組み合わせた化合物である。これらの組み合わせについて、特に制限はない。
以下に、前記一般式(V)で表される液晶配向促進剤の例を示す。
【0153】
【化52】
Figure 2004277525
【0154】
【化53】
Figure 2004277525
【0155】
【化54】
Figure 2004277525
【0156】
【化55】
Figure 2004277525
【0157】
【化56】
Figure 2004277525
【0158】
【化57】
Figure 2004277525
【0159】
【化58】
Figure 2004277525
【0160】
【化59】
Figure 2004277525
【0161】
【化60】
Figure 2004277525
【0162】
【化61】
Figure 2004277525
【0163】
【化62】
Figure 2004277525
【0164】
【化63】
Figure 2004277525
【0165】
【化64】
Figure 2004277525
【0166】
【化65】
Figure 2004277525
【0167】
【化66】
Figure 2004277525
【0168】
【化67】
Figure 2004277525
【0169】
【化68】
Figure 2004277525
【0170】
【化69】
Figure 2004277525
【0171】
【化70】
Figure 2004277525
【0172】
【化71】
Figure 2004277525
【0173】
【化72】
Figure 2004277525
【0174】
【化73】
Figure 2004277525
【0175】
【化74】
Figure 2004277525
【0176】
【化75】
Figure 2004277525
【0177】
【化76】
Figure 2004277525
【0178】
【化77】
Figure 2004277525
【0179】
【化78】
Figure 2004277525
【0180】
【化79】
Figure 2004277525
【0181】
【化80】
Figure 2004277525
【0182】
【化81】
Figure 2004277525
【0183】
【化82】
Figure 2004277525
【0184】
【化83】
Figure 2004277525
【0185】
【化84】
Figure 2004277525
【0186】
【化85】
Figure 2004277525
【0187】
【化86】
Figure 2004277525
【0188】
【化87】
Figure 2004277525
【0189】
【化88】
Figure 2004277525
【0190】
【化89】
Figure 2004277525
【0191】
【化90】
Figure 2004277525
【0192】
【化91】
Figure 2004277525
【0193】
【化92】
Figure 2004277525
【0194】
【化93】
Figure 2004277525
【0195】
【化94】
Figure 2004277525
【0196】
【化95】
Figure 2004277525
【0197】
【化96】
Figure 2004277525
【0198】
【化97】
Figure 2004277525
【0199】
次に高分子配向制御剤について説明する。添加される高分子配向制御剤は液晶層の塗布液に溶解しうるポリマーであればよい。好ましい高分子配向制御剤の一例を以下に示す。
【0200】
ポリプロピレンオキシド
ポリテトラメチレンオキシド
ポリ−ε−カプロラクトン
ポリ−ε−カプロラクトン ジオール
ポリ−ε−カプロラクトン トリオール
ポリビニルアセテート
ポリメラミン
ポリ(エチレン アジペート)
ポリ(1,4−ブチレン アジペート)
ポリ(1,4−ブチレン グルタレート)
ポリ(1,2−ブチレン グリコール)
ポリ(1,4−ブチレン スクシネート)
ポリ(1,4−ブチレン テレフタレート)
ポリ(エチレンテレフタレート)
ポリ(2−メチル−1,3−プロピレン アジペート)
ポリ(2−メチル−1,3−プロピレン グルタレート)
ポリ(ネオペンチルグリコールアジペート)
ポリ(ネオペンチルグリコール セバケート)
ポリ(1,3−プロピレン アジペート)
ポリ(1,3−プロピレン グルタレート)
ポリビニルブチラール
ポリビニルホルマール
ポリビニルアセタール
ポリビニルプロパナール
ポリビニルヘキサナール
ポリビニルピロリドン
ポリアクリル酸エステル
ポリメタクリル酸エステル
ポリ(3−ヒドロキシブチリックアシッド)
【0201】
配向制御剤の添加量は、該制御剤の添加する液晶組成物中の液晶性化合物に対し0.05〜10質量%添加することが好ましい。より好ましくは0.1〜5質量%である。
【0202】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、操作等は、本発明の精神から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に制限されるものではない。
[実施例1]
<単層位相差板の作製>
厚さ100μm、幅150mm、長さ200mの光学的に等方性のトリアセチルセルロースフィルムを透明支持体として用いた。配向膜(下記構造式のポリマー)の希釈液を透明支持体の片面に連続塗布し、厚さ0.5μmの配向膜を形成した。次いで、透明支持体の長手方向に対し左手30°の方向に連続的にラビング処理を実施した。
【0203】
配向膜
【化98】
Figure 2004277525
【0204】
ラビング処理を行った配向膜の上に、下記の組成の塗布液をバーコーターを用いて連続的に塗布、乾燥、および加熱(配向熟成)し、さらに紫外線照射して光学異方性層(A)を形成した。光学異方性層は透明支持体の長手方向に対して30°の方向に遅相軸を有していた。なお、光学異方性層(A)の膜厚は550nmにおけるレターデーション値(Re550)が265nmとなるように調整し、約2.4μmであった。
Figure 2004277525
【0205】
棒状液晶化合物 I−1)…δa値は15.7MPa0.5
【化99】
Figure 2004277525
【0206】
増感剤
【化100】
Figure 2004277525
【0207】
光重合開始剤
【化101】
Figure 2004277525
【0208】
光酸発生剤
【化102】
Figure 2004277525
【0209】
<積層位相差板(λ/4板)の作製>
上記で作製した単層位相差板に光学異方性層(A)の遅相軸に対し右手60°であり、かつ長手方向に対し右手30°になるように連続的にラビング処理を施した。
【0210】
ラビング処理を行った単層位相差板の上に、下記の組成の塗布液を、バーコーターを用いて連続的に塗布、乾燥、および加熱(配向熟成)し、さらに紫外線照射して厚さ1.2μmの光学異方性層(B)を形成し、積層位相差板101を作製した。
光学異方性層(B)塗布液組成
実施例1の棒状液晶性化合物 13.0 質量比
実施例1の増感剤 0.13質量比
実施例1の光重合開始剤 0.39質量比
実施例1の極性変換ポリマー 0.13質量比
メチルエチルケトン 86.5 質量比
【0211】
<45°偏光板の作製>
PVAフィルムをヨウ素2.0g/l、ヨウ化カリウム4.0g/lの水溶液に25℃にて240秒浸漬し、さらにホウ酸10g/lの水溶液に25℃にて60秒浸漬後、特開2002−86554号公報の図2の形態のテンター延伸機に導入し、5.3倍に延伸し、テンターを延伸方向に対し特開2002−86554号公報の図2の如く屈曲させ、以降幅を一定に保ち、収縮させながら80℃雰囲気で乾燥させた後テンターから離脱した。延伸開始前のPVAフィルムの含水率は31%で、乾燥後の含水率は1.5%であった。
左右のテンタークリップの搬送速度差は、0.05%未満であり、導入されるフィルムの中心線と次工程に送られるフィルムの中心線のなす角は、46゜であった。ここで|L1−L2|は0.7m、Wは0.7mであり、|L1−L2|=Wの関係にあった。テンター出口における実質延伸方向Ax−Cxは、次工程へ送られるフィルムの中心線22に対し45゜傾斜していた。テンター出口におけるシワ、フィルム変形は観察されなかった。
さらに、PVA((株)クラレ製PVA−117H)3%水溶液を接着剤としてケン化処理した富士写真フィルム(株)製フジタック(セルローストリアセテート、レターデーション値3.0nm)と貼り合わせ、さらに80℃で乾燥して有効幅650mmの偏光板を得た。
得られた偏光板の吸収軸方向は、長手方向に対し45゜傾斜していた。この偏光板の550nmにおける透過率は43.7%、偏光度は99.97%であった。さらに特開2002−86554号公報の図8の如く310×233mmサイズに裁断したところ、91.5%の面積効率で辺に対し45゜吸収軸が傾斜した偏光板を得ることができた。
【0212】
<円偏光板の作製>
次に、上記で作製した45°偏光板のヨウ素を浸漬したPVAフィルム部分を富士写真フイルム(株)製フジタックと貼り合せる代わりに、片面に支持体(トリアセチルセルロース)側をケン化処理した防眩性反射防止フィルムをもう一方の面に上記で作製した積層位相差板101の支持体側をケン化処理した後に、PVA((株)クラレ製PVA−117H)3%水溶液を接着剤としてそれぞれの支持体面を貼り合わせ、さらに80℃で乾燥して円偏光板201を作製した。このとき、偏光膜と位相差板の長手方向が一致するように貼り合わせて、円偏光板を作製した。
【0213】
[実施例2〜4(本発明)]
実施例1の光学異方性層(A)及び(B)に用いた極性変換ポリマーを、表2記載の化合物に変更し、実施例2および3の光学異方性層(A)塗布液に光酸発生剤を添加しなかったこと以外は、実施例1と同じ方法で積層位相差板102〜104を作製した。また、積層位相差板102〜104を用いて、実施例1と同じ方法で円偏光板202〜204を作製した。
※K−4のδa値は(−SO−)を(−COO−)とし、(−NO)を(−CN)として算出すると13.5MPa0.5となる。
※K−5のδa値は13.3MPa0.5
※K−18のδa値は(−SO−)を(−COO−)とし、(−NO)を(−CN)として算出すると13.5MPa0.5となる。
【0214】
[比較例1〜3]
実施例1の光学異方性層(A)及び(B)に用いた架橋性ポリマーを、表2記載の化合物に変更し、全ての光学異方性層(A)塗布液に光酸発生剤を添加しなかったこと以外は、実施例1と同じ方法で積層位相差板105〜107を作製した。また、積層位相差板105〜107を用いて、実施例1と同じ方法で円偏光板205〜207を作製した。
【0215】
【表2】
Figure 2004277525
【0216】
配向制御剤−27
【化103】
Figure 2004277525
【0217】
ポリマー1:MEGAFAC F?177(大日本インキ化学工業株式会社製)
(特開平8−231958号実施例に記載の化合物)
δa値は不明
ポリマー2:ポリブチルアクリレート(ALDRICH製)
(溶媒を除去した後、使用)
δa値は10.7MPa0.5
【0218】
位相差板および円偏光板の評価は以下に示す方法で行い、結果を表3中に記載した。
(単層位相差板のラビング布への汚れ付着)
単層位相差板表面をラビングしたあとのラビング布の汚れ(白っぽく見える)を目視で評価した。
(単層位相差板の配向欠陥の評価)
表面をラビング処理する前の単層位相差板を偏光顕微鏡下で観察し、配向欠陥の評価を行った。配向欠陥は、点欠陥と海島状の欠陥の2種類が観察される場合もあったため、点欠陥の個数と海島状欠陥のありなしを評価した。なお、点欠陥の個数は1.0mm範囲の平均値を記載した。
(積層位相差板の配向欠陥の評価)
円偏光板とする前の積層位相差板を偏光顕微鏡下で観察し、配向欠陥の評価を行った。配向欠陥は、点欠陥と海島状の欠陥の2種類が観察される場合もあったため、点欠陥の個数と海島状欠陥のありなしを評価した。なお、点欠陥の個数は1.0mm範囲の平均値を記載した。
【0219】
(積層位相差板のハジキの評価)
積層位相差板作成後、単層位相差板面に対する光学異方性層(B)のぬれが悪く、光学異方性層(B)が塗設されていない部分(ハジキ)が直径1mm以下の点状に観察される場合があった。この点状ハジキの25cmあたりの個数を目視で評価した。
(積層位相差板の位相差の測定および面内ムラの評価)
積層位相差板を円偏光板とした後、円偏光板の偏光膜側(反射防止フィルム側)から光(測定波長は450nm、550nm、および650nm)を照射し、通過した光の位相差(レターデーション値:Re)を測定した。また、面内に位相差の大きく異なるムラのある場合もあったため該当する円偏光板は550nmのみのレターデーション値の最大値と最小値を測定した。
(円偏光板の画像表示性能の評価)
シャープ製ザウルスMI−E1の液晶セル以下を残して円偏光板部を含め上側を全てとりはずし、上記で作製した円偏光板を貼り付け、人物画像を表示した状態を目視で観察した。
【0220】
【表3】
Figure 2004277525
【0221】
表3に示す結果より、比較例1は単層、積層とも海島状欠陥が発生し、更に光学異方性層(A)と光学異方性層(B)は目的の交差角で遅相軸が交差せずに所望の位相差の積層位相差板が得られなかった。従って、画像表示性能も不十分であった。比較例2および3は、海島状欠陥は発生しないもののラビング布への汚れの付着があり、積層した場合は、点欠陥が多発した。更に所望の位相差は面内に部分的に発現するのみで、画像表示性能も不十分であった。これに対し、本発明の構成に従えば、ラビング布への汚れの付着もなく光学異方性層にラビング処理をすることが可能であり、配向欠陥の少ない安定した位相差板、円偏光板が作成できる。さらに、画像表示装置に取り付けた場合も良好な画像表示性能を得ることができる。
【0222】
【発明の効果】
本発明によれば、液晶化合物の配向を固定化した層を形成する場合に、固定化後の表面がべとつかず、表面を布などで擦っても添加剤などが転写しない、位相差板等の作製に有用な液晶組成物を提供することができる。また、本発明によれば、液晶化合物の配向を固定化した層を有する位相差板において、固定化後の表面がべとつかず、表面を布などで擦っても添加剤などが転写しない位相差板を提供することができる。また、本発明によれば、液晶化合物の配向を固定化した層を複数有する位相差板において、上層の液晶化合物を配向させるための配向膜を実質的に用いずに、液晶化合物の配向を規制し固定化する方法で作製可能なハジキや配向不良部分の少ない位相差板を提供することである。更には、該位相差板を用いた表示特性に優れた画像表示装置を提供することができる。

Claims (12)

  1. 液晶性化合物と、液晶性を有さず光および酸の少なくとも一つの作用により極性基を生成するポリマーとを含有する液晶組成物。
  2. 光および酸の少なくとも一つの作用により極性基を生成するポリマーが、架橋性基を有する請求項1に記載の液晶組成物。
  3. 光および酸の少なくとも一つの作用により極性基を生成するポリマーが、下記一般式(III)で表される繰り返し単位を含む請求項1または2に記載の液晶組成物。
    一般式(III)
    Figure 2004277525
    (一般式(III)中、R31は水素原子もしくは炭素原子数1以上4以下のアルキル基を表し、P31は光の作用により極性基を生成する一価の基であり、L31は単結合もしくは二価の連結基である。)
  4. 光および酸の少なくとも一つの作用により極性基を生成するポリマーが、下記一般式(IV)で表される繰り返し単位を含む請求項1〜3のいずれか1項に記載の液晶組成物。
    一般式(IV)
    Figure 2004277525
    (一般式(IV)中、R41は水素原子もしくは炭素原子数1以上4以下のアルキル基を表し、P41は酸の作用により極性基を生成する一価の基であり、L41は単結合もしくは二価の連結基である。)
  5. 光および酸の少なくとも一つの作用により極性基を生成するポリマーが、下記一般式(V)で表される繰り返し単位を含む請求項1〜4のいずれか1項に記載の液晶組成物。
    一般式(V)
    Figure 2004277525
    (一般式(V)中、R51は水素原子もしくは炭素原子数1以上4以下のアルキル基を表し、P51はエチレン性不飽和基を含む一価の基であり、L51は単結合もしくは二価の連結基である。)
  6. 光および酸の少なくとも一つの作用により極性基を生成するポリマーのδa値が、液晶性化合物のδa値よりも小さい請求項1〜5のいずれか1項に記載の液晶組成物。
  7. 透明支持体上に、請求項1〜6のいずれか1項に記載の液晶組成物から形成される少なくとも1層の光学異方性層を有する位相差板。
  8. 透明支持体上に、少なくとも2層の光学異方性層を有し、少なくとも1層の光学異方性層が請求項1〜6のいずれか1項に記載の液晶組成物から形成される光学異方性層を有する位相差板。
  9. 少なくとも2層の光学異方性層同士の間に、実質的に配向膜層を有さない請求項8に記載の位相差板。
  10. 光学異方性層の下層の遅相軸と上層の遅相軸のなす角度が実質的に60°であり、一方の光学異方性層の波長550nmにおける位相差が実質的にπであり、もう一方の光学異方性層の波長550nmにおける位相差が実質的にπ/2である請求項8または9に記載の位相差板。
  11. 請求項10に記載の位相差板の波長550nmにおける位相差がπである側に、偏光の透過軸と位相差がπである層の遅相軸のなす角が15°または75°になるように偏光板を貼り合せた偏光板。
  12. 請求項7〜10のいずれか1項に記載の位相差板または請求項11に記載の偏光板を用いた画像表示装置。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005084277A (ja) * 2003-09-08 2005-03-31 Fuji Photo Film Co Ltd 光学異方性層、位相差板、円偏光板および画像表示装置
JP2006259212A (ja) * 2005-03-17 2006-09-28 Fuji Photo Film Co Ltd 位相差板、その製造方法ならびにそれを用いた偏光板及び画像表示装置
WO2007026907A1 (en) * 2005-08-29 2007-03-08 Fujifilm Corporation Transfer material, process for producing a laminated structure having a patterned optically anisotropic layer and photosensitive polymer layer, and liquid crystal display device
WO2014175342A1 (ja) * 2013-04-23 2014-10-30 富士フイルム株式会社 液晶組成物、位相差板、円偏光板および画像表示装置
KR20210075166A (ko) 2018-11-28 2021-06-22 후지필름 가부시키가이샤 광학 적층 필름롤의 제조 방법, 및 광학 적층 필름롤
KR20210075190A (ko) 2018-11-28 2021-06-22 후지필름 가부시키가이샤 광학 적층 필름롤의 제조 방법, 및 광학 적층 필름롤
WO2021182248A1 (ja) * 2020-03-09 2021-09-16 富士フイルム株式会社 組成物、光学フィルムの製造方法、光学フィルム

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005084277A (ja) * 2003-09-08 2005-03-31 Fuji Photo Film Co Ltd 光学異方性層、位相差板、円偏光板および画像表示装置
JP2006259212A (ja) * 2005-03-17 2006-09-28 Fuji Photo Film Co Ltd 位相差板、その製造方法ならびにそれを用いた偏光板及び画像表示装置
WO2007026907A1 (en) * 2005-08-29 2007-03-08 Fujifilm Corporation Transfer material, process for producing a laminated structure having a patterned optically anisotropic layer and photosensitive polymer layer, and liquid crystal display device
WO2014175342A1 (ja) * 2013-04-23 2014-10-30 富士フイルム株式会社 液晶組成物、位相差板、円偏光板および画像表示装置
KR20210075166A (ko) 2018-11-28 2021-06-22 후지필름 가부시키가이샤 광학 적층 필름롤의 제조 방법, 및 광학 적층 필름롤
KR20210075190A (ko) 2018-11-28 2021-06-22 후지필름 가부시키가이샤 광학 적층 필름롤의 제조 방법, 및 광학 적층 필름롤
CN113167955A (zh) * 2018-11-28 2021-07-23 富士胶片株式会社 光学层叠膜辊的制造方法及光学层叠膜辊
CN113167955B (zh) * 2018-11-28 2023-02-21 富士胶片株式会社 光学层叠膜辊的制造方法及光学层叠膜辊
WO2021182248A1 (ja) * 2020-03-09 2021-09-16 富士フイルム株式会社 組成物、光学フィルムの製造方法、光学フィルム
JPWO2021182248A1 (ja) * 2020-03-09 2021-09-16
JP7449363B2 (ja) 2020-03-09 2024-03-13 富士フイルム株式会社 組成物、光学フィルムの製造方法、光学フィルム

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