JP2004273681A - 配線基板の製造方法 - Google Patents

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克哉 深瀬
Shinichi Wakabayashi
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Abstract

【課題】基板に高精度に貫通孔等を孔加工することができ、信頼性の高い配線基板として提供することを可能にする。
【解決手段】熱可塑性樹脂および/または熱可塑性有機繊維からなる織布および/または不織布を補強材16に使用し、補強材に熱硬化性樹脂18を含浸させて硬化させてなる樹脂基板22に、ドリル加工、ルーター加工、プレス加工等の機械的加工あるいはレーザ加工により、貫通孔10、スリット孔、ビア穴等の孔加工あるいは基板の外形加工を施して配線基板を製造する方法であって、前記樹脂基板22に、機械的加工あるいはレーザ加工により孔加工あるいは基板の外形加工を施す際に、孔の内壁面あるいは基板の外側面の近傍部分において、前記補強材16を溶融温度Tm以上に加熱することにより、補強材を溶融して、孔の内壁面あるいは基板の外側面において補強材16を樹脂18に溶着させる。
【選択図】 図1

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は配線基板の製造方法に関し、より詳細には、基板に貫通孔やスリット孔を高精度に形成することができ、貫通孔あるいは基板の側面からの水分の侵入を防止する等によって信頼性が高く、配線パターンを高密度に形成することを可能にする配線基板の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
配線基板を製造する際に、銅張り積層板にドリル加工によって貫通孔を形成し、貫通孔の内壁面にめっきにより導体層を形成して基板の両面に形成された配線パターンを電気的に導通させる方法は、配線基板を製造する際に常法として行われている。
ところで、銅張り積層板の基板部分は、ガラスクロス等の織布および/または不織布に熱硬化性樹脂を含浸させたプリプレグを複数枚積層し、加熱および加圧して硬化させてなるため、基板にドリル加工によって貫通孔を形成したり、スリット孔を加工したりした際に、ガラスクロスや不織布の切断位置により、また、孔の内壁面が部分的に欠落する等によって、ガラスクロスや不織布が孔の内壁面からばり状に露出することがある。これにより、貫通孔やスリット孔の寸法精度が確保されないこと、ばり状に露出したガラスクロス等によってめっきの付き回り性が低下し、めっきによって貫通孔の内壁面に形成した導体層の電気的導通が阻害されるといった問題がある。
【0003】
図6は、銅張り積層板にドリル加工によって貫通孔10を形成し、貫通孔10の内面にめっき12を施して基板14の両面を電気的に接続する導通部を形成した状態を示す。同図で、16が基板14を構成するガラスクロス、18が樹脂材である。図のように、ドリル加工によって貫通孔10を形成すると、貫通孔10の内壁面からガラスクロス16の端部がばり状に突出し、めっきの付き回り性が阻害され、貫通孔10の内壁面に突出したばり16aの部分にめっき12が付着せず、断線(図のA部分)が生じることがある。
銅張り積層板はドリル加工に限らず、レーザ加工等によってビア穴を形成するといった場合にも穴の内面にばりが生じることがあり得るから、このようなばり等を生じさせずに加工できる基板材料が提案されている(たとえば、特許文献1参照)。
【0004】
【特許文献1】
特開2002−69886号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
図6に示すように、貫通孔10の内壁面にガラスクロス16がばり状に露出すると、貫通孔10の内壁面にめっき12が付着しないという問題と同時に、ばりの部分からガラスクロス16と樹脂18との隙間に水分が侵入し、電解質が溶け出すことにより、ガラスクロス16を伝わるようにして隣接する貫通孔との間で電気的な短絡部が生じる(図のB部分)という問題がある。隣接する貫通孔10が狭間隔になるとこのような電気的短絡が起こりやすくなるから、配線基板を設計する際には、貫通孔10の配置間隔を一定以下としないように考慮して設計しなければならない。
【0006】
しかしながら、半導体素子の高集積化と、半導体装置の小型化とともに、配線基板に形成する配線パターンをより高密度に形成することが求められるようになってきていることから、配線基板に形成する電気的導通用の貫通孔は近接して配置できるようにすることが求められ、また貫通孔は細径にかつ径寸法等を高精度に形成することが求められる。
【0007】
これらの、配線基板に貫通孔を形成して電気的な導通部を形成する場合における問題とは別に、BOC(Board On Chip)基板のように配線基板にスリット孔を形成したり、配線基板の外形を加工するといった場合にも、基板に搭載される半導体素子と配線基板に形成されるスリット孔の孔位置を精度よく位置決めするため、スリット孔の内壁面や基板の外側面にばりを生じさせずに高精度にスリット孔を形成し、またスリット孔の内側面や基板の外側面から水分等が基板内に侵入することを防止することが求められる。
【0008】
そこで、本発明はこれらの課題を解決すべくなされたものであり、その目的とするところは、基板に穴加工を施して貫通孔、スリット孔、ビア穴を形成した際、あるいは基板を外形加工等した際に、所要の寸法精度で穴加工あるいは外形加工を施すことができ、基板内への水分の侵入を防止し、めっき等により導通部を形成した際に導通部の電気的導通を確実にすることができる配線基板の製造方法を提供するにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明は次の構成を備える。
すなわち、熱可塑性樹脂および/または熱可塑性有機繊維からなる織布および/または不織布を補強材に使用し、補強材に熱硬化性樹脂を含浸させて硬化させてなる樹脂基板に、ドリル加工、ルーター加工、プレス加工等の機械的加工あるいはレーザ加工により、貫通孔、スリット孔、ビア穴等の孔加工あるいは基板の外形加工を施して配線基板を製造する方法であって、前記樹脂基板に、機械的加工あるいはレーザ加工により孔加工あるいは基板の外形加工を施す際に、孔の内壁面あるいは基板の外側面の近傍部分において、前記補強材を溶融温度Tm以上に加熱することにより、補強材を溶融して、孔の内壁面あるいは基板の外側面において補強材を樹脂に溶着させることを特徴とする。
前記織布あるいは不織布としては、液晶ポリマーが好適に使用できる。
【0010】
また、熱可塑性樹脂および/または熱可塑性有機繊維からなる織布および/または不織布を補強材に使用し、補強材に熱可塑性樹脂を含浸させて硬化させてなる樹脂基板に、ドリル加工、ルーター加工、プレス加工等の機械的加工あるいはレーザ加工により、貫通孔、スリット孔、ビア穴等の孔加工あるいは基板の外形加工を施して配線基板を製造する方法であって、前記樹脂基板に、機械的加工あるいはレーザ加工により孔加工あるいは基板の外形加工を施す際に、孔の内壁面あるいは基板の外側面の近傍部分において、前記補強材および樹脂を溶融温度Tm以上に加熱することにより、前記補強材および樹脂を溶融して、孔の内壁面あるいは基板の外側面に前記補強材と樹脂との溶着層を形成することを特徴とする。
また、前記織布および不織布の溶融温度Tmが、補強材に含浸される熱可塑性樹脂の溶融温度Tmよりも高く設定されていることを特徴とする。
また、前記織布あるいは不織布が液晶ポリマーからなり、補強材に含浸される熱可塑性樹脂が液晶ポリマーからなることを特徴とする。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適な実施の形態について添付図面と共に詳細に説明する。
図1は本発明に係る配線基板の製造方法によって得られた配線基板の構成を示す断面図である。補強材として用いているガラスクロス16に熱硬化性樹脂を含浸させて形成したプリプレグを複数枚積層し、加熱および加圧して形成した銅張り積層板に、ドリル加工によって貫通孔10を形成し、めっきにより貫通孔10の内側面に導体層28を設けて配線基板30を形成した状態を示している。
【0012】
図2は図1に示す配線基板の製造方法を示す。図2(a)は、配線基板の本体をなす樹脂基板に相当する基板22の両面に銅箔24を被着した両面銅張り積層板20にドリル加工を施して貫通孔10を形成した状態である。
図2(b)は、次に、基板22の両面に感光性レジストを塗布し、感光性レジストを露光および現像して、基板22の両面で配線パターンとして形成する部位を露出させたレジストパターン26を形成し、無電解銅めっきおよび電解銅めっきを施して、貫通孔10の内壁面および基板22の表面に露出する銅箔24上に導体層28を形成した状態である。
【0013】
図2(c)は、図2(b)で基板22の両面に被着しているレジストパターン26を除去した後、レジストパターン26を除去してあらわれた銅箔24の露出部分を除去することにより配線基板30が形成された状態を示す。図の配線パターン32は貫通孔10を形成した部位でパッド状に形成されていることを示す。
【0014】
図1は、この図2(c)に示す配線基板の状態を示している。図1に示す配線基板において特徴的な構成は、基板22を構成するガラスクロス16と樹脂18のうち、貫通孔10の内側面に露出するガラスクロス16の端部(貫通孔10の内壁面の近傍部分)が軟化(溶融)して互いに溶着しているとともに、ガラスクロス16と樹脂18とが溶着された状態になっていることである。
図3に図1のC部分を拡大して示す。図3では、貫通孔10の内壁面10aに露出するガラスクロス16の端部が互いに軟化して溶着し(溶着部16b)、樹脂18とも溶着部16bが溶着している様子を示す。
【0015】
このように、貫通孔10の内壁面に露出する部位でガラスクロス16の端部が軟化して溶着した状態になることにより、貫通孔10の内側にガラスクロス16の端部がばり状に突出することがなくなり、貫通孔10が所定の径寸法に精度よく形成されることになる。貫通孔10の内側にガラスクロス16がばり状に突出することがないから、貫通孔10の内壁面でのめっきの付き回り性が良好となり、図1に示すように、貫通孔10の内壁面の全面がめっきによって被覆された導体層28として形成される。こうして、導体層28を介して配線基板30の両面に形成された配線パターン32が確実に電気的に接続され、信頼性の高い配線基板30として提供することが可能となる。
【0016】
また、貫通孔10の内壁面でガラスクロス16が互いに溶着するとともに、ガラスクロス16と樹脂18とが貫通孔10の内壁面で互いに溶着されていることによって、貫通孔10の内壁面10aで露出するガラスクロス16の端部と樹脂18との間の隙間が封止され、貫通孔10の内側面でガラスクロス16が露出する部位における封止性を確実に確保することができる。このようにガラスクロス16と樹脂18との間の密着性が向上することによって、ガラスクロス16と樹脂18との隙間部分から水分等が侵入することを防止し、隣接する貫通孔10の間で電気的短絡が生じるといった問題を解消することができる。こうして、貫通孔10間の電気的絶縁性が良好となることから、貫通孔10をより狭間隔に配置することが可能となり、配線基板に高密度に配線パターンを形成することが可能となる。
【0017】
図3に示すように、貫通孔10の内壁面でガラスクロス16の端部が溶着されるようなるということは、ガラスクロス16が、基板22にドリル加工等によって貫通孔10を形成した際に貫通孔10の内壁面近傍で加熱されて、軟化、溶着される材料によって形成されているということである。いいかえれば基板22をドリル加工した際に、貫通孔10の内壁面近傍部分でガラスクロス16はガラス転移温度Tgあるいは溶融温度Tm以上に加熱されるということである。
配線基板に施す機械的な加工としては、上述したドリル加工によって貫通孔を形成する場合に限らず、ルーター加工によってスリット孔を形成したり配線基板の外形を加工したりする加工があり、また、プレス加工によって孔加工を施したり配線基板の外形を加工したりする方法もある。また、機械的加工に限らず、レーザ加工によって基板に孔をあけ、基板の外形を加工する場合もある。
【0018】
本発明に係る配線基板の製造方法においては、これらのドリル加工等の機械的加工あるいはレーザ加工によって、孔加工あるいは基板の外形加工を施した際に軟化、溶着する材料からなるガラスクロス16を用いた基板22を使用することによって、高精度に孔加工や基板22の外形加工を施すことを可能とし、また、加工後の配線基板で基板22の内部に水分等が侵入せず、信頼性の高い配線基板として提供することを可能にすることを特徴とする。
上述した機械的加工あるいはレーザ加工によって軟化、溶着されるガラスクロス16として使用できる素材としては熱可塑性樹脂、たとえば液晶ポリマーからなるものが好適に使用できる。
【0019】
なお、上記実施形態においては基板22の補強材としてガラスクロスを用いているが、ガラスクロスのかわりに、あるいはガラスクロスとともに不織布(ガラス素材からなる)を使用することも可能である。
不織布を使用する場合もガラスクロスを使用する場合と同様に、基板22に孔加工等を施した際に、ガラス転移温度Tgあるいは溶融温度Tm以上となる不織布を使用すればよい。不織布を使用した場合の作用はガラスクロスを使用した場合の作用とまったく同様である。
【0020】
上記実施形態での配線基板の製造方法では、ガラスクロス16が熱可塑性樹脂であり樹脂18が熱硬化性樹脂であって異種材からなるものであるが、ガラスクロス16と樹脂18をともに熱可塑性樹脂によって形成することも可能である。ガラスクロス16と樹脂18に同種材を使用した場合には、上述した孔加工あるいは基板の外形加工の際に、ガラスクロス16と樹脂18とがともに軟化、溶着するようにガラスクロス16と樹脂18の材料を選択する。
【0021】
図4は、ガラスクロス16と樹脂18として同種材を使用した場合で、孔加工によって貫通孔10の内側面に沿ってガラスクロス16と樹脂18とが溶着した溶着層17が形成されたことを示す。このように、ガラスクロス16と樹脂18に同種材を使用し、ガラスクロス16と樹脂18のガラス転移温度Tg、溶融温度Tmを選択することによって、貫通孔10の内壁面が溶着層17によって被覆され、前述した実施形態と同様に、高精度に貫通孔10を加工することができ、貫通孔10の内壁面から水分が基板22内に侵入するといったことを確実に防止することができる。
【0022】
この場合、ガラスクロス16のガラス転移温度Tgあるいは溶融温度Tmが、樹脂18のガラス転移温度Tgあるいは溶融温度Tmよりも高く設定するのがよい。ガラスクロス16が所定の補強強度を備えること、基板22にドリル加工等を施した際に、樹脂18が先に軟化、溶融することでガラスクロス16と樹脂18とが好適に溶着するからである。
ガラスクロス16にかえて補強材として不織布を使用する場合もまったく同様で、その場合には、不織布のガラス転移温度Tgあるいは溶融温度Tmが、樹脂18のガラス転移温度Tgあるいは溶融温度Tmよりも高く設定するのがよい。
ガラスクロス16、不織布、樹脂18に同種材として使用する熱可塑性樹脂としては液晶ポリマーが好適に使用できる。
【0023】
図5は、本発明に係る配線基板の製造方法を利用してBOC基板を形成した例を示す。図はBOC基板40に半導体素子を搭載し、半導体素子の電極端子とBOC基板40のボンディングパッドとをワイヤボンディングによって接続した状態を示す。このBOC基板40は基板の中央部にルーター加工によってスリット孔42を形成し、ルーター加工によって基板の外形を加工したものである。
【0024】
BOC基板を構成する基板は、ガラスクロスまたは不織布に樹脂を含浸させたプリプレグを積層して形成してなる積層基板であり、ガラスクロスまたは不織布をルーター加工によって軟化、溶融する材料によって形成したことによって、スリット孔42の内側面にガラスクロス等のばりが露出せず、高精度にスリット孔42を形成することが可能となる。BOC基板では基板に半導体素子を搭載した際に、スリット孔42と半導体素子の電極端子との相互位置が精度よく位置決めされている必要がある。本発明に係る配線基板の製造方法であれば、スリット孔42の内壁面にガラスクロス等のばりが露出するといったことがなくなり、半導体素子の電極端子と基板のボンディングパッドとを確実にワイヤボンディングすることが可能となる。
【0025】
また、ルーター加工後のスリット孔42では孔の内壁面から基板内に水分が基板内に侵入するといったことが好適に防止されている。また、基板の外側面についても、ルータ加工の際に基板の外側面からガラスクロスがばり状に露出したりすることがなく、高精度に加工することができるとともに、基板の外側面から基板内に水分が侵入したりすることが防止されている。これによって、信頼性の高いBOC基板として提供することができる。
このように、本発明に係る配線基板の製造方法はBOC基板に限らず、ガラスクロスおよび/または不織布を補強材として用いた基板によって信頼性の高い配線基板を製造する方法として好適に利用することができる。
【0026】
なお、上記各実施形態においては、補強材としてガラスクロスを使用し、ガラス素材からなる不織布を使用した例について説明したが、補強材としてガラスクロス以外の織布を使用することも可能である。また、不織布もガラス素材からなるものに限定されるものではない。織布および/または不織布として、基板に機械的加工あるいはレーザ加工等により孔加工や外形加工を施す際に溶着する材料(溶融温度Tm以上になる)を選ぶことによって、上述したと同様に高精度の加工が可能となり、信頼性の高い配線基板として得ることが可能となる。
【0027】
【発明の効果】
本発明に係る配線基板の製造方法によれば、上述したように、樹脂基板に機械的加工あるいはレーザ加工により孔加工あるいは基板の外形加工を施した際に、樹脂基板を構成する補強材と樹脂とが互いに溶着することによって、孔の内壁面や基板の外側面から補強材がばり状に露出したり、補強材と樹脂との間に隙間が生じることが防止でき、高精度の孔加工が可能であるとともに、貫通孔間の電気的短絡を防止することができることから信頼性の高い配線基板を製造することができ、また、回路パターンに細径の貫通孔を形成したり高密度に配線パターンを形成することが可能になる等の著効を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る配線基板の製造方法によって得られた配線基板の構成を示す断面図である。
【図2】本発明に係る配線基板の製造方法を示す説明図である。
【図3】貫通孔の内壁面近傍におけるガラスクロスの溶着部を示す説明図である。
【図4】貫通孔の内壁面近傍におけるガラスクロスと樹脂の溶着層を示す説明図である。
【図5】BOC基板の例を示す説明図である。
【図6】従来の配線基板の製造方法によって得られた配線基板の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
10 貫通孔
10a 内壁面
12 めっき
14 基板
16 ガラスクロス
16a ばり
16b 溶着部
17 溶着層
18 樹脂
20 積層板
22 基板
24 銅箔
26 レジストパターン
28 導体層
30 配線基板
32 配線パターン
40 基板
42 スリット孔

Claims (5)

  1. 熱可塑性樹脂および/または熱可塑性有機繊維からなる織布および/または不織布を補強材に使用し、補強材に熱硬化性樹脂を含浸させて硬化させてなる樹脂基板に、ドリル加工、ルーター加工、プレス加工等の機械的加工あるいはレーザ加工により、貫通孔、スリット孔、ビア穴等の孔加工あるいは基板の外形加工を施して配線基板を製造する方法であって、
    前記樹脂基板に、機械的加工あるいはレーザ加工により孔加工あるいは基板の外形加工を施す際に、孔の内壁面あるいは基板の外側面の近傍部分において、前記補強材を溶融温度Tm以上に加熱することにより、補強材を溶融して、孔の内壁面あるいは基板の外側面において補強材を樹脂に溶着させることを特徴とする配線基板の製造方法。
  2. 織布あるいは不織布が、液晶ポリマーからなることを特徴とする請求項1記載の配線基板の製造方法。
  3. 熱可塑性樹脂および/または熱可塑性有機繊維からなる織布および/または不織布を補強材に使用し、補強材に熱可塑性樹脂を含浸させて硬化させてなる樹脂基板に、ドリル加工、ルーター加工、プレス加工等の機械的加工あるいはレーザ加工により、貫通孔、スリット孔、ビア穴等の孔加工あるいは基板の外形加工を施して配線基板を製造する方法であって、
    前記樹脂基板に、機械的加工あるいはレーザ加工により孔加工あるいは基板の外形加工を施す際に、孔の内壁面あるいは基板の外側面の近傍部分において、前記補強材および樹脂を溶融温度Tm以上に加熱することにより、前記補強材および樹脂を溶融して、孔の内壁面あるいは基板の外側面に前記補強材と樹脂との溶着層を形成することを特徴とする配線基板の製造方法。
  4. 織布および不織布の溶融温度Tmが、補強材に含浸される熱可塑性樹脂の溶融温度Tmよりも高く設定されていることを特徴とする請求項3記載の配線基板の製造方法。
  5. 織布あるいは不織布が液晶ポリマーからなり、補強材に含浸される熱可塑性樹脂が液晶ポリマーからなることを特徴とする請求項3または4記載の配線基板の製造方法。
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