JP2004264770A - 偏光膜製造装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】通常のフレキソ印刷装置を用いて偏光膜を作製する場合、版の微細溝の影響を受けずに高い偏光性能の偏光膜を簡単に作製できるようにする。
【解決手段】偏光膜を作製するときは、二色性染料のインキ液を版1に塗布して版面にインキ液の薄膜を形成し、モータを駆動してピニオン8、8を回転する。これにより、版胴2が基板6の上を印刷方向に沿って転動し、インキ液の薄膜が版1から基板6に転写塗布される。このとき、ピニオン8、8と版胴2の径の違いにより版1の周面速度と基板6の平面速度に速度差が生じ、これより版1が基板6に摺接して互いに平行で向きが逆のずれ応力、すなわち剪断力がかかり、インキ液に含まれるスティック状の超分子複合体が基板6の上で印刷方向に沿って整列する。これにより、超分子複合体を構成する染料分子が規則的に配列し、インキ液の薄膜に偏光性能が生じる。
【選択図】 図2
【解決手段】偏光膜を作製するときは、二色性染料のインキ液を版1に塗布して版面にインキ液の薄膜を形成し、モータを駆動してピニオン8、8を回転する。これにより、版胴2が基板6の上を印刷方向に沿って転動し、インキ液の薄膜が版1から基板6に転写塗布される。このとき、ピニオン8、8と版胴2の径の違いにより版1の周面速度と基板6の平面速度に速度差が生じ、これより版1が基板6に摺接して互いに平行で向きが逆のずれ応力、すなわち剪断力がかかり、インキ液に含まれるスティック状の超分子複合体が基板6の上で印刷方向に沿って整列する。これにより、超分子複合体を構成する染料分子が規則的に配列し、インキ液の薄膜に偏光性能が生じる。
【選択図】 図2
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶ディスプレイの製造装置に係わり、特に二色性染料のインキを塗布して偏光膜を形成する技術を適用した偏光膜の製造装置に関する。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】
従来、液晶セルの両面に配置する偏光板は、パネル検査を合格した液晶セルの外側に接着剤を用いて貼り付けていた。
このため、スクライバで分断した液晶セルの一つ一つに偏光板を貼り合わせる必要があり、作業性が非常に悪かった。
また、貼合せ時に位置決め精度や密着強度の確保、気泡やダスト混入の防止、静電気の発生防止などさまざまな対策を必要とし、その後の工程で偏光板とパネルの密着性の強化や間に残存する気泡の除去などのためにオートクレーブ処理を行うなど、その組立てに多くの時間と労力を費やしていた。
【0003】
この問題を解決するために、本出願人は米国Optiva社の開発した二色性染料がスティック状に自発的に積み重なった液晶状態の超分子複合体を含むインキ液を通常のフレキソ印刷装置でガラスやプラスチック基板に印刷して偏光膜を作製する技術を開発し、先に出願している。この技術により偏光板の貼り付け作業を必要としない液晶セルの組立てが可能になり、LCDの生産効率が大幅にアップされた。
【0004】
図3に、この技術を用いた偏光膜製造装置の模式図を示す。
図において、印刷方向に沿って多数の微細溝aを有する版1を版胴2に取り付け、回転している版1に横長のディスペンサ3からインキ液を滴下してブレード4で塗り広げ、二色性染料からなる液晶分子を微細溝aに押し込める。
このとき、ブレード4は版1に接することなくわずかなギャップを設けて保持されているので、版面にインキ液の薄膜が形成される。
そして、テーブル5上に固定された基板6が版胴2直下を通過するとき、版1が基板6に接してインキ液の薄膜が版1から基板6に転写塗布される。
このとき微細溝aに沿った方向に二色性染料からなる液晶分子が配向し、最初は乱れた配列の染料分子が溶剤の蒸発とともに規則正しく配列し、濃度が高くなると結晶化して偏光性能を生じる。
【0005】
この偏光膜の偏光性能は、液晶分子の配向の良し悪しによって左右され、配向の良し悪しは微細溝の深さやピッチなどに影響される。
例えば、微細溝の適正と考えられる深さは20〜30μ、ピッチは120〜500μであるが、ピッチの間隔が狭すぎると凸部での並び方が悪くなり、広すぎると平坦部での方向が乱れる。
適正な微細溝の深さやピッチの設定に当たっては試行錯誤的な面が多く、高い偏光性能が得られる微細溝を設計するのは容易でない。
【0006】
一方、液晶が剪断力を受けると配向することはよく知られている。
このため、剪断力を与えながらインキ液を基板に塗布すると結果的に液晶分子が印刷方向に沿って配向し、液晶の染料分子が規則正しく配列する。
その結果、版の微細溝の影響を受けずに高い偏光性能を得ることができる。
【0007】
そこで本発明は、通常のフレキソ印刷装置を用いて偏光膜を作製する場合、版の微細溝の影響を受けずに高い偏光性能の偏光膜を簡単に作製できるようにすることを目的になされたものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
かかる目的を達成するために、本発明は以下のように構成した。
【0009】
すなわち、本発明の偏光膜製造装置は、二色性染料がスティック状に自発的に積み重なった液晶状態の超分子複合体を含むインキ液を版胴に留めた版に塗布して薄膜を形成し、この薄膜を版から基板に転写塗布して偏光膜を作製するものにおいて、前記版胴の周面速度と基板の平面速度に速度差を持たせ、これより版を基板に摺接して前記インキ液の薄膜を版から基板に転写塗布することにより上記目的が達成される。
【0010】
また、好ましくは、前記版胴の軸の両端に版胴と異なる径のピニオンを取り付け、このピニオンを基板の両側に配設したラックに噛合し、これより前記版胴の周面速度と基板の平面速度に速度差を持たせる。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下に図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。
【0012】
図1に、本発明を実施した偏光膜製造装置の概略図を示す。
偏光膜製造装置は、テーブル5の両側に印刷方向と平行のラック7、7を一体に取り付け、このラック7、7にピニオン8、8を噛合する。
そして、ピニオン8、8と異なる径の版胴2をピニオン8、8と一体に軸9に軸通し、軸9にピニオン8、8を回転するモータ(図示しない)を接続する。
【0013】
ラック7、7とピニオン8、8は、ラック7、7を固定してピニオン8、8の軸9を可動にする。
この場合、ピニオン8、8を正逆転すると、テーブル5の上を版胴2が前後に回転しながら移動する。
あるいは、ラック7、7を可動にしてピニオン8、8の軸9を固定してもよい。
この場合、ピニオン8、8を正逆転すると、回転する版胴2の下をテーブル5が前後に移動する。
【0014】
版胴2の径は、ピニオン8、8より小径にして版胴2の周面速度をテーブル5の平面速度より遅くする。
あるいは、ピニオン8、8より大径にして版胴2の周面速度をテーブル5の平面速度より速くしてもよい。
このとき、版胴2の径はピニオン8、8より好適には約10%小径、または大径にして版胴2の周面速度とテーブル5の平面速度に10%程度の速度差を持たせる。
【0015】
このようにテーブル5と版胴2をそれぞれラック7、7と径の異なるピニオン8、8に接続して速度差を持たせる以外に、それぞれを別々の動力源に接続して速度差を持たせるようにしてもよい。
その場合、コントローラを設けて版胴2の周面速度とテーブル5の平面速度を個別に制御する。
これにより、コントローラの制御で速度差を任意に変更することもできる。
【0016】
本発明を実施した偏光膜製造装置は以上のような構成で、偏光膜を作製するときは、図2に示すように、テーブル5の上に基板6を設置し、版胴2には版1を取り付ける。また、テーブル5の高さを調節して版1を基板6に接触させる。
図2(a)は、ピニオン8、8の外側視側面図を示し、図2(b)は、ピニオン8、8の内側視側面図を示す。
そして、二色性染料のインキ液を版1に塗布して版面にインキ液の薄膜を形成し、モータを駆動してピニオン8、8を回転する。
これにより、版胴2が基板6の上を印刷方向に沿って転動し、インキ液の薄膜が版1から基板6に転写塗布される。
【0017】
このとき、ピニオン8、8と版胴2の径の違いにより版1の周面速度と基板6の平面速度に速度差が生じ、これより版1が基板6に摺接して互いに平行で向きが逆のずれ応力、すなわち剪断力がかかり、インキ液に含まれるスティック状の超分子複合体が基板6の上で印刷方向に沿って整列する。
これにより、超分子複合体を構成する染料分子が規則的に配列し、インキ液の薄膜に偏光性能が生じる。
このときの剪断力はピニオン8、8と版胴2の径の違い、すなわち版1と基板6の速度差によってコントロールされ、速度差が大きければ剪断力は強くなり、速度差が小さければ剪断力は弱くなる。
また、このときの膜厚は版胴2または基板6の移動速度によってコントロールされる。
【0018】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、インキ液の薄膜を塗布するときに版胴の周面速度と基板の平面速度に速度差を持たせるので、版と基板が摺接して剪断力が生じ、インキ液に含まれる液晶状態の超分子複合体が一定方向の印刷方向に沿って整列する。このため、通常のフレキソ印刷装置を用いて版の微細溝の影響を受けることなく高い偏光性能の偏光膜を容易に作製できるようになる。
【0019】
また、版胴と異なる径のピニオンをラックに噛合して版胴の周面速度と基板の平面速度に速度差を持たせるので、単一の動力源と簡単な装置構成で容易に速度差を制御できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を実施した偏光膜製造装置の概略図である。
【図2】本発明を実施した偏光膜製造装置の模式図である。
【図3】従来の偏光膜製造装置の模式図である。
【符号の説明】
1 版
2 版胴
3 ディスペンサ
4 ブレード
5 テーブル
6 基板
7 ラック
8 ピニオン
9 軸
a 微細溝
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶ディスプレイの製造装置に係わり、特に二色性染料のインキを塗布して偏光膜を形成する技術を適用した偏光膜の製造装置に関する。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】
従来、液晶セルの両面に配置する偏光板は、パネル検査を合格した液晶セルの外側に接着剤を用いて貼り付けていた。
このため、スクライバで分断した液晶セルの一つ一つに偏光板を貼り合わせる必要があり、作業性が非常に悪かった。
また、貼合せ時に位置決め精度や密着強度の確保、気泡やダスト混入の防止、静電気の発生防止などさまざまな対策を必要とし、その後の工程で偏光板とパネルの密着性の強化や間に残存する気泡の除去などのためにオートクレーブ処理を行うなど、その組立てに多くの時間と労力を費やしていた。
【0003】
この問題を解決するために、本出願人は米国Optiva社の開発した二色性染料がスティック状に自発的に積み重なった液晶状態の超分子複合体を含むインキ液を通常のフレキソ印刷装置でガラスやプラスチック基板に印刷して偏光膜を作製する技術を開発し、先に出願している。この技術により偏光板の貼り付け作業を必要としない液晶セルの組立てが可能になり、LCDの生産効率が大幅にアップされた。
【0004】
図3に、この技術を用いた偏光膜製造装置の模式図を示す。
図において、印刷方向に沿って多数の微細溝aを有する版1を版胴2に取り付け、回転している版1に横長のディスペンサ3からインキ液を滴下してブレード4で塗り広げ、二色性染料からなる液晶分子を微細溝aに押し込める。
このとき、ブレード4は版1に接することなくわずかなギャップを設けて保持されているので、版面にインキ液の薄膜が形成される。
そして、テーブル5上に固定された基板6が版胴2直下を通過するとき、版1が基板6に接してインキ液の薄膜が版1から基板6に転写塗布される。
このとき微細溝aに沿った方向に二色性染料からなる液晶分子が配向し、最初は乱れた配列の染料分子が溶剤の蒸発とともに規則正しく配列し、濃度が高くなると結晶化して偏光性能を生じる。
【0005】
この偏光膜の偏光性能は、液晶分子の配向の良し悪しによって左右され、配向の良し悪しは微細溝の深さやピッチなどに影響される。
例えば、微細溝の適正と考えられる深さは20〜30μ、ピッチは120〜500μであるが、ピッチの間隔が狭すぎると凸部での並び方が悪くなり、広すぎると平坦部での方向が乱れる。
適正な微細溝の深さやピッチの設定に当たっては試行錯誤的な面が多く、高い偏光性能が得られる微細溝を設計するのは容易でない。
【0006】
一方、液晶が剪断力を受けると配向することはよく知られている。
このため、剪断力を与えながらインキ液を基板に塗布すると結果的に液晶分子が印刷方向に沿って配向し、液晶の染料分子が規則正しく配列する。
その結果、版の微細溝の影響を受けずに高い偏光性能を得ることができる。
【0007】
そこで本発明は、通常のフレキソ印刷装置を用いて偏光膜を作製する場合、版の微細溝の影響を受けずに高い偏光性能の偏光膜を簡単に作製できるようにすることを目的になされたものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
かかる目的を達成するために、本発明は以下のように構成した。
【0009】
すなわち、本発明の偏光膜製造装置は、二色性染料がスティック状に自発的に積み重なった液晶状態の超分子複合体を含むインキ液を版胴に留めた版に塗布して薄膜を形成し、この薄膜を版から基板に転写塗布して偏光膜を作製するものにおいて、前記版胴の周面速度と基板の平面速度に速度差を持たせ、これより版を基板に摺接して前記インキ液の薄膜を版から基板に転写塗布することにより上記目的が達成される。
【0010】
また、好ましくは、前記版胴の軸の両端に版胴と異なる径のピニオンを取り付け、このピニオンを基板の両側に配設したラックに噛合し、これより前記版胴の周面速度と基板の平面速度に速度差を持たせる。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下に図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。
【0012】
図1に、本発明を実施した偏光膜製造装置の概略図を示す。
偏光膜製造装置は、テーブル5の両側に印刷方向と平行のラック7、7を一体に取り付け、このラック7、7にピニオン8、8を噛合する。
そして、ピニオン8、8と異なる径の版胴2をピニオン8、8と一体に軸9に軸通し、軸9にピニオン8、8を回転するモータ(図示しない)を接続する。
【0013】
ラック7、7とピニオン8、8は、ラック7、7を固定してピニオン8、8の軸9を可動にする。
この場合、ピニオン8、8を正逆転すると、テーブル5の上を版胴2が前後に回転しながら移動する。
あるいは、ラック7、7を可動にしてピニオン8、8の軸9を固定してもよい。
この場合、ピニオン8、8を正逆転すると、回転する版胴2の下をテーブル5が前後に移動する。
【0014】
版胴2の径は、ピニオン8、8より小径にして版胴2の周面速度をテーブル5の平面速度より遅くする。
あるいは、ピニオン8、8より大径にして版胴2の周面速度をテーブル5の平面速度より速くしてもよい。
このとき、版胴2の径はピニオン8、8より好適には約10%小径、または大径にして版胴2の周面速度とテーブル5の平面速度に10%程度の速度差を持たせる。
【0015】
このようにテーブル5と版胴2をそれぞれラック7、7と径の異なるピニオン8、8に接続して速度差を持たせる以外に、それぞれを別々の動力源に接続して速度差を持たせるようにしてもよい。
その場合、コントローラを設けて版胴2の周面速度とテーブル5の平面速度を個別に制御する。
これにより、コントローラの制御で速度差を任意に変更することもできる。
【0016】
本発明を実施した偏光膜製造装置は以上のような構成で、偏光膜を作製するときは、図2に示すように、テーブル5の上に基板6を設置し、版胴2には版1を取り付ける。また、テーブル5の高さを調節して版1を基板6に接触させる。
図2(a)は、ピニオン8、8の外側視側面図を示し、図2(b)は、ピニオン8、8の内側視側面図を示す。
そして、二色性染料のインキ液を版1に塗布して版面にインキ液の薄膜を形成し、モータを駆動してピニオン8、8を回転する。
これにより、版胴2が基板6の上を印刷方向に沿って転動し、インキ液の薄膜が版1から基板6に転写塗布される。
【0017】
このとき、ピニオン8、8と版胴2の径の違いにより版1の周面速度と基板6の平面速度に速度差が生じ、これより版1が基板6に摺接して互いに平行で向きが逆のずれ応力、すなわち剪断力がかかり、インキ液に含まれるスティック状の超分子複合体が基板6の上で印刷方向に沿って整列する。
これにより、超分子複合体を構成する染料分子が規則的に配列し、インキ液の薄膜に偏光性能が生じる。
このときの剪断力はピニオン8、8と版胴2の径の違い、すなわち版1と基板6の速度差によってコントロールされ、速度差が大きければ剪断力は強くなり、速度差が小さければ剪断力は弱くなる。
また、このときの膜厚は版胴2または基板6の移動速度によってコントロールされる。
【0018】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、インキ液の薄膜を塗布するときに版胴の周面速度と基板の平面速度に速度差を持たせるので、版と基板が摺接して剪断力が生じ、インキ液に含まれる液晶状態の超分子複合体が一定方向の印刷方向に沿って整列する。このため、通常のフレキソ印刷装置を用いて版の微細溝の影響を受けることなく高い偏光性能の偏光膜を容易に作製できるようになる。
【0019】
また、版胴と異なる径のピニオンをラックに噛合して版胴の周面速度と基板の平面速度に速度差を持たせるので、単一の動力源と簡単な装置構成で容易に速度差を制御できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を実施した偏光膜製造装置の概略図である。
【図2】本発明を実施した偏光膜製造装置の模式図である。
【図3】従来の偏光膜製造装置の模式図である。
【符号の説明】
1 版
2 版胴
3 ディスペンサ
4 ブレード
5 テーブル
6 基板
7 ラック
8 ピニオン
9 軸
a 微細溝
Claims (2)
- 二色性染料がスティック状に自発的に積み重なった液晶状態の超分子複合体を含むインキ液を版胴に留めた版に塗布して薄膜を形成し、
この薄膜を版から基板に転写塗布して偏光膜を作製するものにおいて、
前記版胴の周面速度と基板の平面速度に速度差を持たせ、
これより版を基板に摺接して前記インキ液の薄膜を版から基板に転写塗布することを特徴とする偏光膜製造装置。 - 前記版胴の軸の両端に版胴と異なる径のピニオンを取り付け、
このピニオンを基板の両側に配設したラックに噛合し、
これより前記版胴の周面速度と基板の平面速度に速度差を持たせることを特徴とする請求項1記載の偏光膜製造装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003057377A JP2004264770A (ja) | 2003-03-04 | 2003-03-04 | 偏光膜製造装置 |
PCT/JP2004/002485 WO2004079415A1 (ja) | 2003-03-04 | 2004-03-01 | 偏光膜の製造装置および製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003057377A JP2004264770A (ja) | 2003-03-04 | 2003-03-04 | 偏光膜製造装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004264770A true JP2004264770A (ja) | 2004-09-24 |
Family
ID=33120822
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003057377A Pending JP2004264770A (ja) | 2003-03-04 | 2003-03-04 | 偏光膜製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004264770A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008055579A (ja) * | 2006-09-01 | 2008-03-13 | Lintec Corp | ミクロ相分離構造物の製造方法 |
-
2003
- 2003-03-04 JP JP2003057377A patent/JP2004264770A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008055579A (ja) * | 2006-09-01 | 2008-03-13 | Lintec Corp | ミクロ相分離構造物の製造方法 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20041130 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080129 |
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A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20080603 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |