JP2004256798A - 水性顔料分散体の製造方法及び水性顔料記録液の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 顔料、高分子分散剤、有機溶剤及び水を必須成分として含む水性顔料分散体を冷却しながら、当該水性顔料分散体に超音波照射して水性顔料分散体を製造する。またここで得られた水性顔料分散体を、質量換算で顔料濃度1〜10%となる様に希釈して水性顔料記録液とする。
【選択図】なし
Description
また本発明は、前記製造方法で製造した水性顔料分散体を、質量換算で顔料濃度1〜10%となる様に希釈する水性顔料記録液の製造方法を提供するものである。
本発明においては、顔料、高分子分散剤、有機溶剤及び水を必須成分として含ませた水性顔料分散体を予め準備し、これを冷却しながら、これに超音波照射を行う。超音波照射に供する水性顔料分散体は、前記原料から構成される。
(1)少なくとも1つのメルカプト基と、2つ以上の水酸基を有する連鎖移動剤(以下、単に連鎖移動剤と称する)の存在下、上述のスチレンアクリル樹脂部分を構成するモノマーを付加重合反応させる。これをプレポリマーAとする。
(2)2官能性以上のポリイソシアネート化合物を用いて、プレポリマーAとを重付加反応させる。この際、1分子中に合計2つ以上の水酸基やアミノ基などの活性水素原子を含有する官能基を有する化合物(これをプレポリマーBとする)を、必要に応じて共存させて共重合体とする。ポリイソシアネート化合物としては公知慣用のものがいずれも使用できる。
このような有機溶剤としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、グリム、ジグリム、トリグリム、テトラグリム、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、グリセリン、プロピレングリコール、テトラヒドロフラン等のエーテル類またはグリコール類、酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸イソプロピル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のモノアルコール類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチル燐酸トリアミド、ヘキサメチル亜燐酸トリアミド、ジメチルイミダゾリジノンなどの含窒素有機化合物や含硫黄有機化合物等を挙げることが出来る。
水性顔料分散体の冷却の手段は、公知のものを、ごく一般的に使うことが出来るが、それを例示するならば、氷冷、風冷、水冷などである。この冷却としては、具体的には、水性顔料分散体を保持する容器の外套(ジャケット)中に冷媒を流す方法、水性顔料分散体の入っている容器を冷媒の中に浸漬する方法、気体の風を吹き付ける方法、水などの冷媒と風とを使って蒸発熱で冷却する方法などが挙げられる。
工程1は、顔料、高分子分散剤、水及び有機溶剤を予備混合する工程である。予備混合の工程とは、これらの混合物を力学的に破砕する前段階として、これらを予備的によく混合する工程である。
工程2は、工程1で予備混合中の粒子をさらに破砕し、粒子径を小さくする工程である。本工程は、顔料を力学的に破砕して分散させる工程(2−1)と、超音波照射により顔料を分散させる工程(2−2)とから構成されている。分散への寄与は工程(2−1)の方が大きく、工程(2−2)は分散には補助的に寄与する場合が多い。所定の目的のために十分に顔料粒子が粉砕されていないと考えるときは、再び工程(2−2)の実施後に工程(2−1)に戻ることも、工程(2−1)と(2−2)とを、数回繰り返して分散していくことも可能である。
工程3は希釈工程である。このプロセスは工程2で得られた超音波照射で得られた水性顔料分散体に対して水溶性有機溶剤と水による希釈を行う工程(3−1)と、好適には実施した方が良い、種々の後処理を行う後処理工程(3−2)を含んでいる。
80℃に加熱したメチルエチルケトン100部中に、窒素気流下、スチレン77部、アクリル酸10部、メタクリル酸13部、和光純薬工業(株)社製重合開始剤「V−59」(α,α’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル))5部をよく混合して、攪拌しながら2時間かけて滴下した。滴下終了後、同温度で、これを窒素下で20時間攪拌し、その間、5時間毎に「V−59」を0.5部ずつ、4回添加して、スチレンアクリル樹脂のメチルエチルケトン溶液を得た。この溶液にさらにメチルエチルケトンを加えて、不揮発分の割合が全体の20%である溶液とした。出来た樹脂の重量平均分子量(Mw)は17000、酸価は149mgKOH/gであった。
実施例1において、冷却を全く行わなかった他は、全く同様に処理して水性顔料記録液を得た。超音波照射を行った水性顔料分散体の最高温度は70℃に達した。この水性顔料記録液の分散粒子の粒子径は210nm、粘度は17.5mPa・sであった。
×…沈殿が生成した。
○…沈殿が生成しなかった。
で表した。ここで○は合格、×は不合格とした。
1…1.0未満
2…1.0以上1.3未満
3…1.3以上1.6未満
4…1.6以上1.9未満
5…1.9以上
で示した。ここで、4、5を合格、1、2、3を不合格とした。
2 円筒状ロータ
3 ロータの回転軸
4 供給口
5 スリット
6 液室
7 分散メディア
8 セパレータ
9 吐出口
Claims (4)
- 顔料、高分子分散剤、有機溶剤及び水を必須成分として含む水性顔料分散体を冷却しながら、当該水性顔料分散体に超音波照射する水性顔料分散体の製造方法。
- 水性顔料分散体の温度が、分散体の凝固点〜30℃となる様に冷却しながら超音波照射する請求項1記載の水性顔料分散体の製造方法。
- 顔料と高分子分散剤とが、顔料が高分子分散剤で被覆された複合粒子として含まれる請求項1記載の水性顔料分散体の製造方法。
- 請求項1〜3のいずれか一項記載の方法で製造した水性顔料分散体を、質量換算で顔料濃度1〜10%となる様に希釈する水性顔料記録液の製造方法。
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2004
- 2004-01-30 JP JP2004023221A patent/JP2004256798A/ja active Pending
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