JP2004250451A - ベンゾチアゾリルスルフェンアミドの製造方法 - Google Patents
ベンゾチアゾリルスルフェンアミドの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004250451A JP2004250451A JP2004043475A JP2004043475A JP2004250451A JP 2004250451 A JP2004250451 A JP 2004250451A JP 2004043475 A JP2004043475 A JP 2004043475A JP 2004043475 A JP2004043475 A JP 2004043475A JP 2004250451 A JP2004250451 A JP 2004250451A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alkali metal
- hydrogen peroxide
- mercaptobenzothiazole
- mol
- amount
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- GPNLWUFFWOYKLP-UHFFFAOYSA-N s-(1,3-benzothiazol-2-yl)thiohydroxylamine Chemical compound C1=CC=C2SC(SN)=NC2=C1 GPNLWUFFWOYKLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 6
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 73
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 72
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 37
- -1 alkali metal salt Chemical class 0.000 claims abstract description 37
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims abstract description 20
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Inorganic materials Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 4
- 125000002924 primary amino group Chemical class [H]N([H])* 0.000 claims abstract 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 27
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 28
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- VLDHWMAJBNWALQ-UHFFFAOYSA-M sodium;1,3-benzothiazol-3-ide-2-thione Chemical compound [Na+].C1=CC=C2SC([S-])=NC2=C1 VLDHWMAJBNWALQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- 239000000047 product Substances 0.000 description 12
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 8
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910019093 NaOCl Inorganic materials 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 3
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 2
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- YBRBMKDOPFTVDT-UHFFFAOYSA-N tert-butylamine Chemical compound CC(C)(C)N YBRBMKDOPFTVDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035899 viability Effects 0.000 description 2
- GELMWIVBBPAMIO-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-2-amine Chemical compound CCC(C)(C)N GELMWIVBBPAMIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 150000003946 cyclohexylamines Chemical class 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SATVIFGJTRRDQU-UHFFFAOYSA-N potassium hypochlorite Chemical compound [K+].Cl[O-] SATVIFGJTRRDQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000010057 rubber processing Methods 0.000 description 1
- ZLIOIJSVMSHZQQ-UHFFFAOYSA-N s-cyclohexylthiohydroxylamine Chemical compound NSC1CCCCC1 ZLIOIJSVMSHZQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
- C07D277/60—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D277/62—Benzothiazoles
- C07D277/68—Benzothiazoles with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 2
- C07D277/70—Sulfur atoms
- C07D277/76—Sulfur atoms attached to a second hetero atom
- C07D277/80—Sulfur atoms attached to a second hetero atom to a nitrogen atom
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
【課題】ベンゾチアゾリルスルフェンアミドを製造するにあたり、貯蔵安定性生成物をもたらし、また工業的等級の品質で得られる出発生成物の使用も可能にするように、環境的及び経済的に改善する。
【解決手段】使用されるメルカプトベンゾチアゾールのアルカリ金属塩に対して≦90モル%の過酸化水素の存在下に、メルカプトベンゾチアゾールの金属塩の水溶液と第一級アミンとを10.0〜11.0の範囲のpHで反応させ、その際、過酸化水素の量を≧2時間にわたり添加し、≧10分に以内にアルカリ金属次亜塩素酸塩を添加し、その際、使用される第一級アミンの量は100〜500モル%であり、かつ使用される過酸化水素と使用されるアルカリ金属次亜塩素酸塩の総和はメルカプトベンゾチアゾールのアルカリ金属塩の量に対して≦130モル%である、ベンゾチアゾリルスルフェンアミドの製造方法によって解決される。
【選択図】なし
【解決手段】使用されるメルカプトベンゾチアゾールのアルカリ金属塩に対して≦90モル%の過酸化水素の存在下に、メルカプトベンゾチアゾールの金属塩の水溶液と第一級アミンとを10.0〜11.0の範囲のpHで反応させ、その際、過酸化水素の量を≧2時間にわたり添加し、≧10分に以内にアルカリ金属次亜塩素酸塩を添加し、その際、使用される第一級アミンの量は100〜500モル%であり、かつ使用される過酸化水素と使用されるアルカリ金属次亜塩素酸塩の総和はメルカプトベンゾチアゾールのアルカリ金属塩の量に対して≦130モル%である、ベンゾチアゾリルスルフェンアミドの製造方法によって解決される。
【選択図】なし
Description
本発明は、過酸化水素及びアルカリ金属次亜塩素酸塩の存在下に第一級アミンとメルカプトベンゾチアゾールのアルカリ金属塩とを反応させることによってベンゾチアゾリルスルフェンアミドを製造するための方法に関する。本発明による方法は高い変換率を特徴とし、その際、得られるベンゾチアゾリルスルフェンアミドは高められた温度及び高い湿度においてさえも高い純度、高い収率及び高い貯蔵安定性で得られる。
特にゴム加工工業において加硫促進剤として使用されるベンゾチアゾリルスルフェンアミドをメルカプトベンゾチアゾール又はそのアルカリ金属塩及びアミンの相互酸化によって製造できることは公知である。例えば塩素、次亜塩素酸塩又は過酸化水素を酸化剤として使用する。
従って例えばベンゾチアゾリルスルフェンアミドの製造方法は欧州特許第0180869−A2号明細書に記載され、その際、これらはメルカプトベンゾチアゾール又はその塩及び第一級アミンの水性媒体中での酸化によって得られる。
しかしながら前記の欧州特許出願に記載される方法の欠点は、該特許出願の実施例に記載される純度及び収率を得るために過酸化水素での酸化の場合に使用されるメルカプトベンゾチアゾールを75%だけ変換できるにすぎないことである。しかしながらメルカプトベンゾチアゾールを比較的低い変換率でのみ変換できるにすぎないので、これは前記欧州特許出願に記載される方法の経済的実行可能性を低下させる。
記載される次亜塩素酸塩を使用する酸化法の欠点は、該方法の間に形成され、かつ従って適当な様式で廃棄する必要がある多量の塩化物イオンである。付加的にこの方法は腐蝕に関する多くの問題も抱えている。
米国特許第5,436,346号明細書はまた酸化剤として過酸化水素の存在下に水性媒体中で2−メルカプトベンゾチアゾールと第一級又は第二級又は脂環式のアミンとを反応させることによってベンゾチアゾリルスルフェンアミドを製造する方法を記載している。
この方法の欠点は2−メルカプトベンゾチアゾールを出発生成物として使用することである。該出発生成物はまず相応のアルカリ金属塩から製造する必要があり、その際、該方法は通常、精製プロセスのため相応の収率損失を伴う。付加的に前記の米国特許明細書に記載される方法の工業的規模での実施は複雑であり、従って非常に非経済的である。
欧州特許第0180869−A2号明細書
米国特許第5,436,346号明細書
従って本発明の課題は、メルカプトベンゾチアゾールのアルカリ金属塩から出発して、これが貯蔵安定性生成物(高められた温度及び高い湿度)をもたらし、また工業的等級の品質(約93〜97%の濃度)で得られる出発生成物の使用も可能にする、環境的及び経済的に改善された方法を提供することである。付加的に本発明は、ベンゾチアゾリルスルフェンアミドに関する高い純度及び高い収率と関連して、使用されるメルカプトベンゾチアゾールのアルカリ金属塩に関する高い変換率を保証することを意図している。
意想外にも本発明による条件下で、前記のように、使用されるアルカリ金属メルカプトベンゾチアゾールに関する高い変換率に関連して、高い純度及び高い貯蔵安定性及び高い収率で生じるベンゾチアゾリルスルフェンアミドが得られることが見いだされた。
従って本発明は過酸化水素及びアルカリ金属次亜塩素酸塩の存在下に第一級アミンとメルカプトベンゾチアゾールのアルカリ金属塩との反応によってベンゾチアゾリルスルフェンアミドを製造するための方法において、メルカプトベンゾチアゾールの金属塩の水溶液を、使用されるメルカプトベンゾチアゾールのアルカリ金属塩に対して、多くて90モル%の過酸化水素の存在下に10.0〜11.0のpH範囲で第一級アミンと反応させ、その際、過酸化水素の量を≧2時間にわたり添加し、次いで≧10分に以内にアルカリ金属次亜塩素酸塩を該反応混合物に添加して、使用されるメルカプトベンゾチアゾールのアルカリ金属塩の更なる反応を行い、かつ該反応混合物のpHは反応の完了後に11.5〜12に増大し、その際、使用される第一級アミンの量は100〜500モル%であり、かつ使用される過酸化水素と使用されるアルカリ金属次亜塩素酸塩の総和は使用されるメルカプトベンゾチアゾールのアルカリ金属塩の量に関して多くて130モル%であることを特徴とする方法を提供している。
使用のために好適な第一級アミンは、例えばシクロヘキシルアミン、t−ブチルアミン、t−アミルアミン及びイソプロピルアミン、使用されているシクロヘキシルアミン及びt−ブチルアミンを含む。適当なメルカプトベンゾチアゾールのアルカリ金属塩はナトリウム塩及びカリウム塩、例えばカリウム塩を含む。
メルカプトベンゾチアゾールのアルカリ金属塩は本発明による方法において水性形で使用できる。メルカプトベンゾチアゾールのアルカリ金属塩の水溶液の濃度は通常は10〜60%、例えば20〜50%である。
本発明による方法は、使用されるメルカプトベンゾチアゾールのアルカリ金属塩の量に対して、有利には50〜90モル%の過酸化水素、例えば70〜90モル%の過酸化水素の存在下に実施できる。
使用される過酸化水素の量は、とりわけ反応条件及び使用されるメルカプトベンゾチアゾールの金属塩及び使用される第一級アミンの種類に依存する。最も有用な量はその都度適当な予備試験によって規定できる。
本発明による方法のために、過酸化水素の量を一定の期間にわたり添加することが重要である。例えば過酸化水素の量を反応混合物に2〜5時間以内に、又は更に例えば3〜4時間の期間内に添加する。過酸化水素の添加時間は更に反応条件及び選択される出発生成物に依存し、かつ適当な予備試験によって容易に規定できる。
本発明による方法は10.2〜10.8のpH範囲で実施できる。
過酸化水素の所定の量を反応混合物に添加した後に、アルカリ金属次亜塩素酸塩を次いで反応混合物に、例えば15〜90分以内、又は更に例えば20〜60分以内に添加して、使用されるメルカプトベンゾチアゾールのアルカリ金属塩を更に反応させる。次亜塩素酸ナトリウム及び次亜塩素酸カリウム、例えば次亜塩素酸ナトリウムをアルカリ金属次亜塩素酸塩として使用する。
使用されるメルカプトベンゾチアゾールのアルカリ金属塩の反応の完了後に反応混合物のpHを、例えば11.6〜11.8に増大させる。反応完了後のpH増大は貯蔵安定な最終生成物を得るためには重要である。
使用される第一級アミンの量は、例えば使用されるメルカプトベンゾチアゾールのアルカリ金属塩の量に対して133〜400モル%である。ここで再び、最も有用な使用されるべき第一級アミンの量はその都度適当な予備試験によって規定できる。
本発明による方法において、使用されるアルカリ金属次亜塩素酸塩の量は、使用される過酸化水素及び使用されるアルカリ金属次亜塩素酸塩の総和が、例えば115モル%に達するように選択される。例えば80モル%の過酸化水素の量が選択される場合に、使用されるアルカリ金属次亜塩素酸塩の量は多くて35モル%である。
使用される過酸化水素水溶液の濃度は約5〜50%、例えば5〜35%、更に例えば5〜15%であり、使用されるアルカリ金属次亜塩素酸塩の水溶液の濃度は約12〜15%、例えば13〜14%である。
本発明による方法は連続的にも回分式にも実施してよく、その際、回分法が有利である。
本発明による方法は約35〜60℃、例えば40〜55℃の温度で実施される。
反応の完了後に、得られるベンゾチアゾリルスルフェンアミドを、例えば濾過によって単離し、かつ得られた生成物を洗浄及び乾燥させる。
前記のようにメルカプトベンゾチアゾールの塩は本発明による方法において工業的等級の品質で使用できる、すなわち93%より高い純度、又は例えば93〜95%の純度で使用できる。またメルカプトベンゾチアゾールをより高い純度で使用できるが、これは本発明による方法の経済的実行可能性に関する不利な効果を有することがある。
本発明による方法を使用することによって、ベンゾチアゾリルスルフェンアミドは>99%の純度で得られ、かつ>92%の理論的収率で得られる。使用されるメルカプトベンゾチアゾールのアルカリ金属塩に関する変換率は>99%である。
更に、僅かに少量の塩化物イオンが本発明による方法の間に形成されることが有利な場合もある、これは該方法は酸化剤として塩化物だけ又は次亜塩素酸ナトリウムだけを使用する方法と比較した場合に環境的に適していることを意味する。本発明による方法において酸化は主に過酸化水素で行われ、かつ少量だけの次亜塩素酸ナトリウムを使用するが、ベンゾチアゾリルスルフェンアミドを前記の高い品質で、極めて高い収率で、かつ高い変換率で、メルカプトベンゾチアゾールのアルカリ金属塩から出発して得られることは意想外であると見なされる。
例1
ナトリウム 2−メルカプトベンゾチアゾールの995.94gの20%濃度の水溶液を反応器中に装入し、かつ139.35gのシクロヘキシルアミン(100%濃度)を前記水溶液に激しく撹拌しながら(混合力0.4ワット/l)添加した。使用されるナトリウムメルカプトベンゾチアゾールの純度は95%であった。純粋なナトリウムメルカプトベンゾチアゾールとシクロヘキシルアミンとのモル比は1:1.4モルであった、すなわち95%の純度を有する100モル%のナトリウムメルカプトベンゾチアゾールに対して133モル%のシクロヘキシルアミンを使用した。反応器は還流冷却器、温度計及びpH測定電極を有していた。反応混合物のpHを40℃において20%濃度の硫酸で10.6に調整し、かつ温度を全反応の間40℃に維持した。
ナトリウム 2−メルカプトベンゾチアゾールの995.94gの20%濃度の水溶液を反応器中に装入し、かつ139.35gのシクロヘキシルアミン(100%濃度)を前記水溶液に激しく撹拌しながら(混合力0.4ワット/l)添加した。使用されるナトリウムメルカプトベンゾチアゾールの純度は95%であった。純粋なナトリウムメルカプトベンゾチアゾールとシクロヘキシルアミンとのモル比は1:1.4モルであった、すなわち95%の純度を有する100モル%のナトリウムメルカプトベンゾチアゾールに対して133モル%のシクロヘキシルアミンを使用した。反応器は還流冷却器、温度計及びpH測定電極を有していた。反応混合物のpHを40℃において20%濃度の硫酸で10.6に調整し、かつ温度を全反応の間40℃に維持した。
0.821モルの過酸化水素(10%濃度)を反応混合物に5時間にわたり均一に添加した。これは、78モル%の過酸化水素を100モル%の95%濃度のナトリウムメルカプトベンゾチアゾールに使用したことを意味する。
過酸化水素の添加後に、202gの13%濃度の次亜塩素酸ナトリウムを反応混合物に38分にわたり添加し、かつ反応の完了後にpHを50%濃度の水性水酸化ナトリウムを添加することによって11.8に増大させた。次いで該反応混合物を30℃に冷却し、濾過し、10%濃度のシクロヘキシルアミンで洗浄し、次いで再び水で洗浄し、かつ沈殿した生成物を乾燥させた。245.56gのベンゾチアゾリルスルフェンアミドが得られ、これは純粋なナトリウムメルカプトベンゾチアゾールに対して97.76%の収率に相当する。変換率は純粋なNaMBTに対して99.4%であった。得られる生成物はASTM D4936(MBT)に記載される滴定によって測定して99.2%の純度を有していた。
反応の間に、使用される過酸化水素及び使用されるアルカリ金属次亜塩素酸塩の総和は使用される95%濃度のナトリウムメルカプトベンゾチアゾールの量に対して112モル%の全量に相当する。
例2
例1に記載したのと同様の手順を使用するが、1.06モルの10%過酸化水素(100モル%濃度のナトリウムメルカプトベンゾチアゾールに対して101モル%)を使用した。過酸化水素を40℃の反応温度で4時間にわたり添加した。該混合物を更に10分間にわたり更に57.8gの13%濃度のNaOCl溶液で酸化させた。
例1に記載したのと同様の手順を使用するが、1.06モルの10%過酸化水素(100モル%濃度のナトリウムメルカプトベンゾチアゾールに対して101モル%)を使用した。過酸化水素を40℃の反応温度で4時間にわたり添加した。該混合物を更に10分間にわたり更に57.8gの13%濃度のNaOCl溶液で酸化させた。
収率は96.8%であり、純度は99.2%であり、かつ変換率は99.4%であった。
例3
例2に記載したのと同様の手順を使用するが、過酸化水素を40℃の反応温度で3時間にわたり添加した。該混合物を更に61.6gの13%濃度のNaOCl溶液で12分にわたり酸化させた。
例2に記載したのと同様の手順を使用するが、過酸化水素を40℃の反応温度で3時間にわたり添加した。該混合物を更に61.6gの13%濃度のNaOCl溶液で12分にわたり酸化させた。
収率は96.6%であり、純度は98.1%であり、かつ変換率は99.4%であった。
例4
この例は例1と同様に実施したが、1.10モルのシクロヘキシルアミン及び90モル%の過酸化水素(10%濃度)を使用した。過酸化水素を反応混合物に4時間にわたり45℃の反応温度で添加した。該混合物を更に35分にわたり182gの13%濃度のNaOCl溶液で酸化させた。
この例は例1と同様に実施したが、1.10モルのシクロヘキシルアミン及び90モル%の過酸化水素(10%濃度)を使用した。過酸化水素を反応混合物に4時間にわたり45℃の反応温度で添加した。該混合物を更に35分にわたり182gの13%濃度のNaOCl溶液で酸化させた。
収率は95.2%であり、純度は97.5%であり、かつ変換率は99.4%であった。
例5
反応を例1と同様に実施した。純度93%を有するナトリウムメルカプトベンゾチアゾールを使用した。シクロヘキシルアミンの量は、使用される100%純度のナトリウムメルカプトベンゾチアゾールに対して、1.43モルであった。90モル%の10%濃度の過酸化水素を反応混合物に4時間にわたり40℃の反応温度で添加した。該混合物を更に24分にわたり12gの13%濃度のNaOCl溶液で酸化させた。
反応を例1と同様に実施した。純度93%を有するナトリウムメルカプトベンゾチアゾールを使用した。シクロヘキシルアミンの量は、使用される100%純度のナトリウムメルカプトベンゾチアゾールに対して、1.43モルであった。90モル%の10%濃度の過酸化水素を反応混合物に4時間にわたり40℃の反応温度で添加した。該混合物を更に24分にわたり12gの13%濃度のNaOCl溶液で酸化させた。
収率は97.8%であり、純度は98.9%であり、かつ変換率は99.4%であった。
比較例6
ナトリウム 2−メルカプトベンゾチアゾールの397.89gの50%濃度の水溶液を反応器中に装入し、かつ187.57gの100%濃度のシクロヘキシルアミン及び1648gの水を前記溶液に混合しながら添加した。使用されるナトリウムメルカプトベンゾチアゾールの純度は95%であった。次いで368.4gの20%濃度の硫酸を反応混合物に50℃において添加した。
ナトリウム 2−メルカプトベンゾチアゾールの397.89gの50%濃度の水溶液を反応器中に装入し、かつ187.57gの100%濃度のシクロヘキシルアミン及び1648gの水を前記溶液に混合しながら添加した。使用されるナトリウムメルカプトベンゾチアゾールの純度は95%であった。次いで368.4gの20%濃度の硫酸を反応混合物に50℃において添加した。
1モルの過酸化水素(30%濃度)を該反応混合物に50℃において2時間にわたり均一に添加した。反応の完了後に73.68gの50%濃度の水酸化ナトリウム水溶液を該反応混合物に添加した。
次いで反応混合物を30分間撹拌し、30℃に冷却し、濾過し、水で洗浄し、かつ沈殿された生成物を乾燥させた。
222.1gのベンゾチアゾールスルフェンアミドが得られ、これは純粋なナトリウムメルカプトベンゾチアゾールに関して、84%の収率を示している。
得られる生成物はASTM D4936に記載される滴定によって測定して99%の純度を有していた。
母液はなおも34.29gのナトリウムメルカプトベンゾチアゾールを含有し、これによって81.87%の変換率となる。
比較例7
175gの2−メルカプトベンゾチアゾール、500gの水及び118gの100%のシクロヘキシルアミン(1.2モル)を反応器中に激しく撹拌しながら装入した。使用されるメルカプトベンゾチアゾールの純度は95.5%であった。
175gの2−メルカプトベンゾチアゾール、500gの水及び118gの100%のシクロヘキシルアミン(1.2モル)を反応器中に激しく撹拌しながら装入した。使用されるメルカプトベンゾチアゾールの純度は95.5%であった。
純粋なメルカプトベンゾチアゾールとシクロヘキシルアミンとのモル比は1:1.2モルであった。2−メルカプトベンゾチアゾールのシクロヘキシルアミン塩の微細懸濁液を50℃に加熱した。
1.1モルの過酸化水素(12.6%)を該反応混合物に5時間にわたり激しく撹拌しながら均一に添加した。
次いで反応混合物を30分間撹拌し、室温に冷却し、濾過し、10%濃度のシクロヘキシルアミンで洗浄し、次いで再び水で洗浄し、かつ沈殿した生成物を乾燥させた。250.2gのベンゾチアゾールスルフェンアミドが得られた。
母液は4.3gの未反応の2−メルカプトベンゾチアゾールを含有していた。
変換率は97.4%であり、シクロヘキシルスルフェンアミドの収率は94.8%であった。
得られた生成物はASTM D4936に記載される滴定によって測定した99.1%の純度を有していた。
本発明は前記に説明の目的で詳細に記載したが、かかる詳細は単に説明を目的とするものであり、種々の変更はここで当業者によって本発明の精神及び範囲から逸脱することなく、特許請求の範囲によって制限される場合を除いてなされると解されるべきである。
Claims (2)
- 使用されるメルカプトベンゾチアゾールのアルカリ金属塩に対して≦90モル%の過酸化水素の存在下に、メルカプトベンゾチアゾールの金属塩の水溶液と第一級アミンとを10.0〜11.0の範囲のpHで反応させ、その際、過酸化水素の量を≧2時間にわたり添加し、アルカリ金属次亜塩素酸塩を≧10分にわたり添加し、反応混合物のpHを11.5〜12に増大させ、その際、使用される第一級アミンの量は100〜500モル%であり、かつ使用される過酸化水素と使用されるアルカリ金属次亜塩素酸塩の総和はメルカプトベンゾチアゾールのアルカリ金属塩の量に対して≦130モル%である、ベンゾチアゾリルスルフェンアミドの製造方法。
- pHを11.6〜11.8の範囲に増大させる、請求項1記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10307138A DE10307138A1 (de) | 2003-02-20 | 2003-02-20 | Verfahren zur Herstellung von Lagerstabilen Benzthiazolylsulfenamiden |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004250451A true JP2004250451A (ja) | 2004-09-09 |
Family
ID=32731063
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004043475A Pending JP2004250451A (ja) | 2003-02-20 | 2004-02-19 | ベンゾチアゾリルスルフェンアミドの製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20040167340A1 (ja) |
EP (1) | EP1449837A1 (ja) |
JP (1) | JP2004250451A (ja) |
CN (1) | CN1523020A (ja) |
CA (1) | CA2458024A1 (ja) |
DE (1) | DE10307138A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101271929B1 (ko) | 2005-04-15 | 2013-06-05 | 가부시키가이샤 브리지스톤 | 변성공역디엔계 공중합체, 고무 조성물 및 타이어 |
CN102827104A (zh) * | 2012-09-25 | 2012-12-19 | 科迈化工股份有限公司 | 以次氯酸钠为氧化剂两步法合成橡胶硫化促进剂cz的方法 |
EP3325548B1 (en) | 2015-07-22 | 2019-10-30 | Basf Se | Mixture of n-(1,3-benzothiazol-2-ylsulfanyl)-2-methylcyclohexanamine and n-(1,3-benzothiazol-2-ylsulfanyl)-4-methylcyclohexanamine |
CN106829219B (zh) * | 2016-12-28 | 2018-02-27 | 安徽省虹升生物股份有限公司 | 一种噻唑的安全储存方法 |
CN107445918A (zh) * | 2017-08-14 | 2017-12-08 | 青岛奥克凯姆化学助剂有限公司 | 溶剂提纯法橡胶促进剂m合成次磺酰胺类促进剂cbs的方法 |
CN107501206A (zh) * | 2017-08-14 | 2017-12-22 | 青岛奥克凯姆化学助剂有限公司 | 溶剂提纯法橡胶促进剂m合成次磺酰胺类促进剂tbbs的方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4258197A (en) * | 1979-06-08 | 1981-03-24 | Pennwalt Corporation | Manufacture of sulfenamides |
CS215179B1 (en) * | 1980-07-09 | 1982-07-30 | Stanislav Kacani | Method of making the n-cyclohexybenzthiazol-2-sulphenamide |
DE3440801A1 (de) * | 1984-11-08 | 1986-05-15 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung von lagerstabilen benzothiazolsulfenamiden |
CA2126336A1 (en) * | 1991-12-21 | 1993-07-08 | Ludwig Eisenhuth | Process for producing benzothiazolyl-2-sulphenamides |
US5436346A (en) * | 1991-12-21 | 1995-07-25 | Akzo Nobel N.V. | Process for the preparation of benzothiazolyl-2-sulphenamides |
-
2003
- 2003-02-20 DE DE10307138A patent/DE10307138A1/de not_active Withdrawn
-
2004
- 2004-02-07 EP EP04002756A patent/EP1449837A1/de not_active Withdrawn
- 2004-02-13 US US10/778,437 patent/US20040167340A1/en not_active Abandoned
- 2004-02-17 CA CA002458024A patent/CA2458024A1/en not_active Abandoned
- 2004-02-19 JP JP2004043475A patent/JP2004250451A/ja active Pending
- 2004-02-20 CN CNA2004100067050A patent/CN1523020A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1449837A1 (de) | 2004-08-25 |
US20040167340A1 (en) | 2004-08-26 |
CA2458024A1 (en) | 2004-08-20 |
CN1523020A (zh) | 2004-08-25 |
DE10307138A1 (de) | 2004-09-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4012568B2 (ja) | ハロ置換芳香族酸の製造方法 | |
JP2004250451A (ja) | ベンゾチアゾリルスルフェンアミドの製造方法 | |
JPS61115075A (ja) | 貯蔵可能なベンズチアゾールスルフエンアミド類の製造方法 | |
US5436346A (en) | Process for the preparation of benzothiazolyl-2-sulphenamides | |
JP4558182B2 (ja) | 5−カルボキシフタライドの製造法 | |
JPS5910664B2 (ja) | 5−アセトアセチルアミノベンズイミダゾロンの製法 | |
JPH05194447A (ja) | 2−アミノベンゾチアゾールの製造方法 | |
JP2677836B2 (ja) | 2,2−ジブロモニトリロプロピオンアミドの製造方法 | |
CA2126336A1 (en) | Process for producing benzothiazolyl-2-sulphenamides | |
US3657353A (en) | Process for producing iodomethyl sulfones | |
Gero et al. | Halogenation of 2-Hydroxynicotinic Acid | |
KR100351743B1 (ko) | N,n-디싸이클로헥실-2-벤조티아졸 설펜아미드의 제조방법 | |
US4755608A (en) | Preparation of 2,2'-dithiobis(benzothiazole) in an acidic aqueous reacting medium | |
US6787666B2 (en) | Process for the preparation of isolated 3,4-diaminobenzenesulphonic acid | |
JP3566380B2 (ja) | 3−[2−(ベンゾチアゾリル)チオ]プロピオン酸の製造方法 | |
CA1269986A (en) | Process for the preparation of n,n-diisopropyl-2- benzothiazyl-sulfenamide | |
JP3547498B2 (ja) | ベンゾチアゾロン化合物の製造方法 | |
US3654295A (en) | Process for the production of 2-halo-5-nitrothiazoles | |
JPH0413657A (ja) | 2,4―ジアミノベンゼンスルホン酸の製造方法 | |
JPS6157566A (ja) | ベンゾチアゾールスルフエンアミドの製法 | |
JPH04202002A (ja) | 過ヨウ素酸アルカリ金属塩の製造方法 | |
JPH10158226A (ja) | ヒドロキシイミノジコハク酸アルカリ金属塩の製造方法 | |
JPH0521100B2 (ja) | ||
JP2627443B2 (ja) | 2,3―エポキシ―2,3―ジヒドロー1,4―ナフトキノンの製造方法 | |
JP2730991B2 (ja) | 1―アミノ―2―クロル―4―ヒドロキシ―アントラキノンの製造方法 |