JP2004247014A - 光記録媒体の製造装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】成膜装置のメンテナンス等による停止中も、連続して光記録媒体を製造することができる装置。
【解決手段】光記録媒体製造装置10は、成形装置14、第1基板貯留装置16、成膜装置18、第2基板貯留装置20、塗布装置22、紫外線照射装置24をこの順で配置してなり、成膜装置18の停止中に、成形装置14において連続的に成形された第1段階基板12Aが、第1基板貯留装置16に貯留され、又、第2基板貯留装置20に貯留された第2段階基板12Bは、成膜装置18の停止中に塗布装置22以降に供給される。
【選択図】 図1
【解決手段】光記録媒体製造装置10は、成形装置14、第1基板貯留装置16、成膜装置18、第2基板貯留装置20、塗布装置22、紫外線照射装置24をこの順で配置してなり、成膜装置18の停止中に、成形装置14において連続的に成形された第1段階基板12Aが、第1基板貯留装置16に貯留され、又、第2基板貯留装置20に貯留された第2段階基板12Bは、成膜装置18の停止中に塗布装置22以降に供給される。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、光記録媒体を製造する装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、この種の装置としては、光ディスク用基板の成形装置と、この成形装置により成形された基板に信号層を形成するための成膜装置と、成膜後の基板にスピンコート等によって紫外線硬化性樹脂を塗布し、これに紫外線を照射して硬化させて樹脂層とする装置と、を順次配置してなるものがある(例えば特許文献1参照)。
【0003】
このような、従来の光ディスクの製造装置は、成形装置や樹脂層形成装置が、ほぼ連続的に稼動する一方で、一定時間毎に成膜装置におけるターゲット、マスク、シールド部材等の交換の作業(メンテナンス作業)が必要であった。
【0004】
【特許文献1】
特開2002−197735号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
このようなメンテナンス作業は、例えば光ディスク製造装置の運転時間の、12時間に1回30分程度必要であり、このメンテナンス時間中は、成形装置やスピンコート装置の運転を止めざるを得ないという問題点があった。
【0006】
更に、上記のような光ディスクの製造装置において、前記スピンコート工程では、高速で回転する基板上に液状の樹脂を流下させて、基板の外周にまで延展させ、ここで余分な樹脂を振り切るため、周囲に多くの樹脂が飛び散る。この飛散した樹脂は回収して再利用される。
【0007】
ところが、スピンコートによって塗布される樹脂を硬化して樹脂層を形成するに当たり、求められる樹脂層の面内厚みバラツキを少なくするために、スピンコートの最中に紫外線を照射するという場合がある。
【0008】
紫外線の照射量にもよるが、このような場合、装置を稼動させ続けて、塗布作業が連続していれば、前記の回収されるべき樹脂は次から次へと飛散し流れてくるので、その場で硬化してしまうことなく回収することができる。しかしながら、前記メンテナンス時に、塗布作業を止めざるを得ない場合、スピンコート装置の前記回収樹脂の流れが中断され、紫外線硬化性樹脂はスピンコート装置中に留まり、回収が遅れることとなり、粘度が上昇する傾向にある。
【0009】
このような樹脂は時間がたつにつれて回収が困難になっていく傾向にあることはもちろんであるが、回収した場合でも、通常の動作の中で回収される樹脂とは若干特性が変化することも考えられ、混ざり合うことでリサイクル使用に影響を与えることがある。
【0010】
この発明は、上記従来の問題点に鑑みてなされたものであって、光記録媒体用基板の成形装置を止めることなく無駄の無い運転をすることができるようにした光記録媒体製造装置を提供することを目的とする。
【0011】
又、スピンコート工程で基板から振り切られた樹脂をリサイクルできるようにした光記録媒体製造装置を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】
本発明者の研究の結果、光記録媒体用基板の成形装置と成膜装置との間に第1基板貯留装置を、又、成膜装置と紫外線硬化性樹脂を塗布する塗布装置との間に第2基板貯留装置を、それぞれ設け、成膜装置のメンテナンス時間中に必要な、成膜済みの第2段階基板を第2基板貯留装置に貯留しておき、又、メンテナンス中に成形装置によって成形された第1段階基板は、第1基板貯留装置に貯留しておき、装置全体の運転を停止することなく、成膜装置のメンテナンスを行なうことができることを見出した。
【0013】
又、光ディスク用基板に塗布された紫外線硬化性樹脂を複数段に分けて紫外線照射して硬化することとし、前の紫外線照射による硬化の際に、スピンコート装置の停止中に紫外線が前記紫外線硬化性樹脂に照射されてもこれをリサイクル可能な程度にのみ硬化されるようにしておけば、振り切られた樹脂のリサイクルができることを見出した。
【0014】
即ち、以下の本発明により上記目的を達成することができる。
【0015】
(1)光記録媒体用基板の成形装置と、この成形装置により成形された第1段階基板を貯留する第1基板貯留装置と、この第1基板貯留装置からの第1段階基板に少なくとも一種類の無機膜を形成可能な成膜装置と、この成膜装置により無機膜が形成された第2段階基板を貯留する第2基板貯留装置と、この第2基板貯留装置からの第2段階基板に、紫外線硬化性樹脂を塗布する塗布装置と、この塗布装置により紫外線硬化性樹脂の塗布膜が形成された、又は、紫外線硬化性樹脂の塗布膜を形成中の第3段階基板に、紫外線を照射し、前記塗布膜を硬化皮膜にして第4段階基板を形成する紫外線照射装置と、を配置してなり、且つ、前記成形装置と第1基板貯留装置との間には、第1段階基板を受け渡す第1受渡し装置、該第1基板貯留装置と成膜装置との間には、第1段階基板を受け渡す第2受渡し装置、第2基板貯留装置と塗布装置との間には第2段階基板を受け渡す第3受渡し装置をそれぞれ設けてなり、前記第2基板貯留装置は、前記第2受渡し装置の一部を兼ねていることを特徴とする光記録媒体製造装置。
【0016】
(2)前記第1基板貯留装置は、最大基板貯留数が、前記成膜装置におけるメンテナンス時間中に、前記成形装置により成形される第1段階基板の数以上に設定されたことを特徴とする(1)の光記録媒体製造装置。
【0017】
(3)前記第2基板貯留装置は、前記成膜装置及び前記第3受渡し装置の間に配置され、一方向に回転しつつ、その一部の過程で、前記第1基板貯留装置から成膜装置に至る、第1段階基板の受渡し工程の一部を構成し、且つ、成膜装置からの第2段階基板を前記第3受渡し装置に受け渡すまで貯留するようにされ、この貯留時間が調節自在とされたことを特徴とする(1)又は(2)の光記録媒体製造装置。
【0018】
(4)前記第2基板貯留装置における基板貯留時間は、最短が成膜後の第2段階基板の必要冷却時間、最長が、前記成膜後の第2段階基板の成膜表面の一定レベルまでの劣化に要する時間の間で設定されたことを特徴とする(3)の光記録媒体製造装置。
【0019】
(5)前記紫外線照射装置は、前記塗布された紫外線硬化性樹脂を実質的に硬化するまで、段階的に紫外線を照射する複数の照射装置からなることを特徴とする(1)乃至(4)のいずれかの光記録媒体製造装置。
【0020】
(6)前記照射装置は、第1の前照射装置、第2の前照射装置、後照射装置の3段階の照射装置からなり、前記第2の前照射装置の後に、前記第1及び第2の前照射装置によって紫外線が照射された前記紫外線硬化性樹脂層の上に、第2の紫外線硬化性樹脂を塗布する装置が設けられ、前記後照射装置は、前記第2の紫外線硬化性樹脂を実質的に硬化させるとともにこの第2の紫外線硬化性樹脂の層を透過して、前記紫外線硬化性樹脂を実質的に硬化する量の紫外線を照射するようにされたことを特徴とする(5)の光記録媒体製造装置。
【0021】
(7)前記第1基板貯留装置、第2受渡し装置、第2基板貯留装置、第3受渡し装置、塗布装置、紫外線照射装置は、略コ字形状のラインに沿って配置され、前記第1基板貯留装置はコ字の一方の側辺、第2基板貯留装置及び紫外線照射装置のうち第1の前照射装置はコ字の中央辺、紫外線照射装置のうち第2の前照射装置以降の照射装置はコ字の他方の側辺に沿って配置されたことを特徴とする(5)又は(6)の光記録媒体製造装置。
【0022】
(8)前記成膜装置は、前記コ字の中央辺の外側で、且つ、前記第2基板貯留装置に隣接して配置され、前記コ字の中央辺の外側における前記成膜装置から前記他方の側辺までの間に、前記第1段階の照射装置のための保守スペースを設けたことを特徴とする(7)の光記録媒体製造装置。
【0023】
(9)前記成膜装置は、前記保守スペースから保守作業が可能に配置されたことを特徴とする(8)の光記録媒体製造装置。
【0024】
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施の形態の例を図面を参照して詳細に説明する。
【0025】
図1に示されるように、この実施の形態の例に係る光記録媒体製造装置10は、溶融樹脂を射出して円盤状の第1段階基板12Aを形成する成形装置14と、この成形装置14により成形された第1段階基板12Aを、温度及び湿度調整しつつ貯留する第1基板貯留装置16と、この第1基板貯留装置16からの第1段階基板12Aに、信号層等の無機膜を形成して第2段階基板12Bとするための成膜装置18と、この成膜装置18により無機膜が形成された第2段階基板12Bを貯留する第2基板貯留装置20と、この第2基板貯留装置20からの第2段階基板12Bに、図2に示されるように、液状の紫外線硬化性樹脂13Aをスピンコートにより塗布して第3段階基板12Cとする塗布装置22と、この塗布装置22による紫外線硬化性樹脂の塗布膜13Bに紫外線を照射し、これを硬化被膜13Cとして第4段階基板12Dを形成する紫外線照射装置24と、を配置して構成されている。
【0026】
前記成形装置14と第1基板貯留装置16との間、この第1基板貯留装置16と前記成膜装置18との間、前記第2基板貯留装置20と前記塗布装置22との間には、それぞれ、第1段階基板12A、第1段階基板12A、第2段階基板12Bを受け渡す、第1受渡し装置26、第2受渡し装置28、第3受渡し装置30が設けられている。ここで、前記第2基板貯留装置16は第2受渡し装置28の一部を兼ねている(詳述後述)。
【0027】
前記第1基板貯留装置16は、第1ベース32上に設けられ、第2基板貯留装置20、第3受渡し装置30、塗布装置22、紫外線照射装置24の一部は、第2ベース34上に、第2受渡し装置28は第1ベース32と第2ベース34との接続部に、それぞれ設けられている。これら第1ベース32及び第2ベース34は、第3ベース36と共に略コ字形状のラインを構成し、第1ベース32と第3ベース36はコ字の両側辺、第2ベース34はコ字の中央辺をそれぞれ構成している。
【0028】
前記成形装置14は、第1ベース32の先端に臨んで、第2ベース34と略平行に配置され、第1受渡し装置26は、第1ベース32の先端でのコ字の内側位置に配置され、更に、第2基板貯留装置20は、第2ベース34の、第1ベース32と隣接する位置に配置されている。
【0029】
前記成膜装置18が設けられる成膜装置ベース38は、前記第2基板貯留装置20に隣接した、前記コ字の外側位置に配置されている。
【0030】
前記成形装置14と前記第1基板貯留装置16との間の第1受渡し装置26は、ディスク基板取出装置26A、搬送手段26B、回転テーブル26C、回転アーム26Dとから構成されている。
【0031】
前記ディスク基板取出装置26Aは、成形装置14において成形が終了した第1段階基板12Aを取り出して、搬送手段26Bに移載するものであり、この搬送手段26Bは、途中で第1段階基板12Aを冷却させながら、これを、前記回転テーブル26Cに移載するようにされている。
【0032】
回転テーブル26Cは、図1において反時計方向に回転しながら第1段階基板12Aを冷却しつつ、欠陥検査装置27に第1段階基板12Aを引き渡し、且つ受け取り、受け取った第1段階基板12Aを、前記回転アーム26Dに引き渡すようにされている。
【0033】
回転アーム26Dは、受け取った第1段階基板12Aを前記第1基板貯留装置16の入側に移載するようにされていて、このとき、前記欠陥検査装置27によって欠陥有りとされた第1段階基板12Aは、第1基板貯留装置16の脇に設けられた欠陥基板ストッカー17に移載し、又欠陥無しの正常な第1段階基板12Aは、前記第1基板貯留装置16に貯留されるようになっている。
【0034】
この第1基板貯留装置16は、受け取った第1段階基板12Aを、前記第1ベース32の長手方向に搬送しつつ、その間に、温度及び湿度調整を行ないつつ、先入れ先出し方式で、前記第2受渡し装置28の位置まで、例えば第1段階基板12Aの中心近傍に設けられた孔に棒を挿通して、複数枚を串刺しにして一度に扱うことのできるピンストック方式により水平に搬送するようにされている。
【0035】
前記第2受渡し装置28は、移載アーム28A、前記第2基板貯留装置20の一部及び反転受渡しアーム28Bを含んで構成されている。前記移載アーム28Aは第1基板貯留装置16から、第1段階基板12Aを1枚ずつ取り出して、これを前記第2基板貯留装置20の要部を構成する回転テーブル20A上に移載するようにされている。
【0036】
この回転テーブル20Aは、円周方向に等角度間隔で配置された複数、且つ、奇数の基板受け台を備え、図1において時計方向に基板受け台2個分ずつ回転しつつ1つ置きに、前記移載アーム28Aから第1段階基板12Aを受け取って、成膜装置18の近傍にある反転受渡しアーム28Bまで搬送するようにされている。即ち、回転テーブル20Aは、移載アーム28の位置から反転受渡しアーム28Bの位置までの間は第2受渡し装置28の一部を構成している。又、第1段階基板12Aを受け取った位置に隣接する基板受け台に、前記成膜装置18から成膜が終了した第2段階基板12Bを移載するようにされている。
【0037】
前記第2基板貯留装置20における回転テーブル20Aと前記成膜装置18との間には、前記反転受渡しアーム28Bが配置されている。この反転受渡しアーム28Bは、回転テーブル20A上の第1段階基板12Aをその先端で吸着して180°回転して、第1段階基板12Aを反転した状態で前記成膜装置18に移載できるようにされ、又、成膜装置18において成膜終了後の第2段階基板12Bを、反転受渡しアーム28Bの先端で受け取って、180°回転して、回転テーブル32A上の、前記第1段階基板12Aを載置した基板受け台と隣接する基板受け台に移載するようにされている。
【0038】
成膜装置18は、バキュームチャンバ、ターゲット、マスク等を備えたスパッタリング装置であり、第1段階基板12Aの記録面側に、反射層、記録層等をスパッタリング形成するようにされている。なお、成膜方法はスパッタリングに限定されず、他の手段、例えば蒸着法等であってもよい。
【0039】
前記回転テーブル20A上に移載された第2段階基板12Bは、回転テーブル20Aによって時計方向に約(n+1/3)回転(nは奇数)した後、第3受渡し装置30により、前記塗布装置22における直線状の搬送ベルト22A上に移載されるようになっている。
【0040】
前記紫外線照射装置24は、第1の前照射装置40及び第2の前照射装置42の2段階の照射装置からなり、第1の前照射装置40においては、第2段階基板12B上に塗布された紫外線硬化性樹脂を、例えば10〜100mJの紫外線を照射して、実質的に完全に硬化する状態の5〜20%程度硬化するようにされ、第2の前照射装置42においては、例えば30〜60%硬化するようにされている。
【0041】
前記搬送ベルト22Aに沿って、4台の第1の前照射装置40及び塗布装置22が配置され、各塗布装置22は、図2(A)に示されるように、ディスペンサー23から供給される液状の紫外線硬化性樹脂13Aを回転する第2段階基板12B上に滴下してスピンコートし、第1の前照射装置40は、このスピンコート中に塗布されつつある、又は塗布された紫外線硬化性樹脂に紫外線を照射するようにされている。
【0042】
図1の符号44は、搬送ベルト22Aと塗布装置本体との間で第2段階基板12Bの受渡しをする移載装置を示す。
【0043】
前記搬送ベルト22Aの端末近傍には移載アーム46が配置され、搬送ベルト22A上を搬送されてきた、第1の前照射が終了した第3段階基板12Cを搬送ベルト46A上に移載するようにされている。
【0044】
この搬送ベルト46Aは、前記第3ベース36上にその長手方向に配置されていて、且つ、この第3ベース36の、搬送ベルト46Aの入側近傍の端部には、前記第2の前照射装置42が配置されている。
【0045】
この第2の前照射装置42に対しては、搬送ベルト46A上の第3段階基板12Cが、引渡し受取りアーム46Bによって、引渡し及び受取りがなされるようになっている。
【0046】
前記第2の前照射装置42は、受け取った第3段階基板12Cの、5〜20%程度硬化されている紫外線硬化性樹脂に、例えば3秒間程度紫外線を照射して、これを30〜60%程度硬化させて、図2(C)に示される樹脂層である被膜13Cとするようにされている。
【0047】
被膜13Cが形成された第3段階基板12Cは、引渡し受取りアーム46Bによって前記搬送ベルト46A上に移載され、搬送ベルト46Aは、これを更に第3ベース36の端部(コ字の他の側辺の先端)方向に搬送するようにされている。
【0048】
前記搬送ベルト46Aに沿って、前記第2の前照射装置42の下流側には、第2の樹脂層形成装置48が配置されていて、この第2の樹脂層形成装置48に対して、移載装置48Aにより、搬送ベルト46A上の第3段階基板12Cが移載され、且つ戻されるようになっている。このような複数の樹脂層としては、例えば先の樹脂層が光透過性カバー層、後の樹脂層がハードコート層のような場合があげられる。
【0049】
第2の樹脂層形成装置48は、前記第3段階基板12Cの、前記紫外線照射された被膜13Cの層の上側に、第2の紫外線硬化性樹脂をスピンコーティングするものであって、この実施の形態の例では2台のスピンコーター49A、49Bを備えている。
【0050】
前記第2の樹脂層形成装置48の反対側から、第3ベース36と直交して、前記コ字の内側に、アニールテーブル50が配置されている。このアニールテーブル50は、この実施の形態の例においては、上面からパネルヒータ(図示省略)により加熱されるアニール領域内を第2の紫外線硬化性樹脂が塗布された第3段階基板12Cが複数枚加熱されるように、先入れ先出し方式で順次移送するようになっている。
【0051】
アニールテーブル50と第3ベース36との接続部近傍には、回転アーム50Aが設けられ、第2の紫外線硬化性樹脂層の塗布が終了した後、搬送ベルト46Aに戻された第3段階基板12Cを、アニールテーブル50上に受渡しできるようにされていて、アニールテーブル50におけるアニーリング終了後に再度搬送ベルト46Aに、前記第3段階基板12Cが戻されるようになっている。
【0052】
アニールテーブル50から、前記搬送ベルト46A上に戻された第3段階基板12Cは、回転アーム52Aにより紫外線後照射装置52に送られ、ここで紫外線照射によって紫外線硬化性樹脂が実質的に完全に硬化された後、再び回転アーム52Aにより、搬送ベルト46Aに戻されるようになっている。
【0053】
上記のように紫外線後照射装置52によって後照射する場合、第1の紫外層硬化性樹脂の紫外線照射による硬化時に酸素(空気)障害を回避することができるので、第1の紫外線硬化性樹脂をより確実に、短時間で硬化することができる。
【0054】
紫外線後照射装置52から更に第3ベース36の先端までの間には、打抜き装置54、膜欠陥検査装置56及び光記録媒体ストッカー58が配置されている。
【0055】
前記成膜装置18は、前記コ字形状の中間辺となる第2ベース34に対して、コ字の外側に突出するようにして配置され、この成膜装置18の基板搬送方向下流側で、且つ、第2ベース34の外側位置には、前記塗布装置22及び第1の前照射装置40に臨んでメンテナンススペース60が設けられ、ここで作業者が作業できるようにされている。
【0056】
このメンテナンススペース60における作業者の作業は、前記成膜装置18におけるターゲット、マスク、シールド部材等の交換及び、前記塗布装置22における回転する第2段階基板12Bから振り切られて周囲に飛散した紫外線硬化性樹脂を回収することである。その他に、成膜装置18、塗布装置22及び第1の前照射装置40のチェック、メンテナンスがある。
【0057】
前記第1基板貯留装置16における最大基板貯留数は、前記成膜装置18におけるメンテナンス時間中に、前記成形装置14により成形される第1段階基板12Aの数以上に設定されている。
【0058】
又、前記第2基板貯留装置20の回転テーブル20Aは、前記第2受渡し装置28、成膜装置18及び前記第3受渡し装置30の間に配置され、図1において時計方向に回転しつつ、第2受渡し装置28からの第1段階基板12Aが成膜装置18に受け渡されるまでの間、且つ、成膜装置18からの第2段階基板12Bが第3受渡し装置30に渡されるまでの間、これらの基板を貯留するようにされている。
【0059】
ここで、前記第2基板貯留装置20における基板貯留時間は、最短が、成膜後の第2段階基板12Bの必要冷却時間、最長が前記成膜後の第2段階基板12Bの成膜表面の一定レベルまでの劣化に要する時間の間で設定されている。具体的な貯留時間の調整は、成膜装置18から渡された第2段階基板12Bが第3受渡し装置30により回転テーブル20Aから搬出されるまでの間の回転テーブル20Aの回転数(n+1/3)におけるnを奇数の変数として行なう。
【0060】
又、前記第1基板貯留装置16は、通常は成膜装置18による成膜動作に連動して、貯留された第1段階基板12Aを排出するようにされている。
【0061】
従って、成膜装置18のメンテナンス等による運転停止時間を除いた一定時間中の成膜枚数と、これと同一時間内での成形装置14での第1段階基板12Aの成形枚数(欠陥基板を除く)が一致するように設定しておけばよい。
【0062】
これによって、装置全体として無駄なく、成膜装置18の停止中も、連続して成形装置14による基板成形運転が停止されることがない。
【0063】
又、第2基板貯留装置20における第2段階基板12Bの貯留枚数を、成膜装置18の停止から運転再開後の第2段階基板12Bの供給開始までの間の時間に対応する成膜枚数に一致させることによって、成膜装置18の停止中も装置全体の運転を停止させる必要がなくなる。
【0064】
この光ディスクの製造装置10においては、第2段階基板12B上の紫外線硬化性樹脂の硬化が、第1の前照射装置40によって5〜20%程度硬化され、ここから離間して配置された第2の前照射装置42によって紫外線硬化性樹脂が30〜60%程度硬化される。従って、塗布装置22において回転する第2段階基板12Bから振り切られ、周囲に飛散した紫外線硬化性樹脂、及び、塗布装置22が一定時間停止し、その間に紫外線の照射を受けてから振り切られた紫外線硬化性樹脂も、紫外線被爆量が少なく、従ってこれを回収して再使用することができる。
【0065】
又、この飛散した紫外線硬化性樹脂の回収作業のためのメンテナンススペース60が、製造ラインを略コ字形状にされた中央辺である第2ベース34の外側に隣接して設けているので、塗布装置22及び第1の前照射装置40へのアクセスが容易であり、作業もし易い。更に、このコ字形状の中央辺である第2ベース34から外側に突出した位置に成膜装置18が設けられて、これがメンテナンススペース60に隣接しているので、メンテナンススペース60は成膜装置18のメンテナンススペースも兼ねることができる。
【0066】
上記実施の形態の例においては、紫外線硬化性樹脂を第1の前照射と第2の前照射及び後照射の3段階の紫外線照射により硬化させるものであるが、本発明は、これに限定されるものでなく、第1の前照射の際に周囲に飛散した紫外線硬化性樹脂がリサイクル可能範囲で照射されるようにすればよい。
【0067】
従って、例えば図3に示されるように、前記と同様の第1の前照射(S101)の後の第2の前照射(S102)によって、すでに塗布された紫外線硬化性樹脂層を実質的に硬化し、次工程の第2の紫外線硬化性樹脂層の塗布(S103)の後、後照射(S104)によって第2の紫外線硬化性樹脂層の硬化を実行するようにしてもよい。
【0068】
【発明の効果】
本発明は上記のように構成したので、成膜装置のメンテナンス等による停止中も、他の装置を停止させることなく、光記録媒体の製造を連続して行なうことができるという優れた効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光記録媒体の製造装置を示す略示平面図
【図2】同光記録媒体の製造装置によってディスク基板上に塗布された紫外線硬化性樹脂を硬化する過程を示す略示断面図
【図3】同光記録媒体の製造装置によってディスク状の基板上に塗布された紫外線硬化性樹を3段階の紫外線照射により硬化させる過程を示すフローチャート
【符号の説明】
10…光記録媒体製造装置
12…ディスク基板
12A…第1段階基板
12B…第2段階基板
12C…第3段階基板
12D…第4段階基板
13A…紫外線硬化性樹脂
13B…塗布膜
13C…被膜
14…成形装置
16…第1基板貯留装置
18…成膜装置
20…第2基板貯留装置
22…塗布装置
24…紫外線照射装置
26…第1受渡し装置
28…第2受渡し装置
30…第3受渡し装置
32…第1ベース
34…第2ベース
36…第3ベース
38…成膜装置ベース
40…第1の前照射装置
42…第2の前照射装置
48…第2の樹脂層形成装置
52…紫外線後照射装置
60…メンテナンススペース
【発明の属する技術分野】
この発明は、光記録媒体を製造する装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、この種の装置としては、光ディスク用基板の成形装置と、この成形装置により成形された基板に信号層を形成するための成膜装置と、成膜後の基板にスピンコート等によって紫外線硬化性樹脂を塗布し、これに紫外線を照射して硬化させて樹脂層とする装置と、を順次配置してなるものがある(例えば特許文献1参照)。
【0003】
このような、従来の光ディスクの製造装置は、成形装置や樹脂層形成装置が、ほぼ連続的に稼動する一方で、一定時間毎に成膜装置におけるターゲット、マスク、シールド部材等の交換の作業(メンテナンス作業)が必要であった。
【0004】
【特許文献1】
特開2002−197735号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
このようなメンテナンス作業は、例えば光ディスク製造装置の運転時間の、12時間に1回30分程度必要であり、このメンテナンス時間中は、成形装置やスピンコート装置の運転を止めざるを得ないという問題点があった。
【0006】
更に、上記のような光ディスクの製造装置において、前記スピンコート工程では、高速で回転する基板上に液状の樹脂を流下させて、基板の外周にまで延展させ、ここで余分な樹脂を振り切るため、周囲に多くの樹脂が飛び散る。この飛散した樹脂は回収して再利用される。
【0007】
ところが、スピンコートによって塗布される樹脂を硬化して樹脂層を形成するに当たり、求められる樹脂層の面内厚みバラツキを少なくするために、スピンコートの最中に紫外線を照射するという場合がある。
【0008】
紫外線の照射量にもよるが、このような場合、装置を稼動させ続けて、塗布作業が連続していれば、前記の回収されるべき樹脂は次から次へと飛散し流れてくるので、その場で硬化してしまうことなく回収することができる。しかしながら、前記メンテナンス時に、塗布作業を止めざるを得ない場合、スピンコート装置の前記回収樹脂の流れが中断され、紫外線硬化性樹脂はスピンコート装置中に留まり、回収が遅れることとなり、粘度が上昇する傾向にある。
【0009】
このような樹脂は時間がたつにつれて回収が困難になっていく傾向にあることはもちろんであるが、回収した場合でも、通常の動作の中で回収される樹脂とは若干特性が変化することも考えられ、混ざり合うことでリサイクル使用に影響を与えることがある。
【0010】
この発明は、上記従来の問題点に鑑みてなされたものであって、光記録媒体用基板の成形装置を止めることなく無駄の無い運転をすることができるようにした光記録媒体製造装置を提供することを目的とする。
【0011】
又、スピンコート工程で基板から振り切られた樹脂をリサイクルできるようにした光記録媒体製造装置を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】
本発明者の研究の結果、光記録媒体用基板の成形装置と成膜装置との間に第1基板貯留装置を、又、成膜装置と紫外線硬化性樹脂を塗布する塗布装置との間に第2基板貯留装置を、それぞれ設け、成膜装置のメンテナンス時間中に必要な、成膜済みの第2段階基板を第2基板貯留装置に貯留しておき、又、メンテナンス中に成形装置によって成形された第1段階基板は、第1基板貯留装置に貯留しておき、装置全体の運転を停止することなく、成膜装置のメンテナンスを行なうことができることを見出した。
【0013】
又、光ディスク用基板に塗布された紫外線硬化性樹脂を複数段に分けて紫外線照射して硬化することとし、前の紫外線照射による硬化の際に、スピンコート装置の停止中に紫外線が前記紫外線硬化性樹脂に照射されてもこれをリサイクル可能な程度にのみ硬化されるようにしておけば、振り切られた樹脂のリサイクルができることを見出した。
【0014】
即ち、以下の本発明により上記目的を達成することができる。
【0015】
(1)光記録媒体用基板の成形装置と、この成形装置により成形された第1段階基板を貯留する第1基板貯留装置と、この第1基板貯留装置からの第1段階基板に少なくとも一種類の無機膜を形成可能な成膜装置と、この成膜装置により無機膜が形成された第2段階基板を貯留する第2基板貯留装置と、この第2基板貯留装置からの第2段階基板に、紫外線硬化性樹脂を塗布する塗布装置と、この塗布装置により紫外線硬化性樹脂の塗布膜が形成された、又は、紫外線硬化性樹脂の塗布膜を形成中の第3段階基板に、紫外線を照射し、前記塗布膜を硬化皮膜にして第4段階基板を形成する紫外線照射装置と、を配置してなり、且つ、前記成形装置と第1基板貯留装置との間には、第1段階基板を受け渡す第1受渡し装置、該第1基板貯留装置と成膜装置との間には、第1段階基板を受け渡す第2受渡し装置、第2基板貯留装置と塗布装置との間には第2段階基板を受け渡す第3受渡し装置をそれぞれ設けてなり、前記第2基板貯留装置は、前記第2受渡し装置の一部を兼ねていることを特徴とする光記録媒体製造装置。
【0016】
(2)前記第1基板貯留装置は、最大基板貯留数が、前記成膜装置におけるメンテナンス時間中に、前記成形装置により成形される第1段階基板の数以上に設定されたことを特徴とする(1)の光記録媒体製造装置。
【0017】
(3)前記第2基板貯留装置は、前記成膜装置及び前記第3受渡し装置の間に配置され、一方向に回転しつつ、その一部の過程で、前記第1基板貯留装置から成膜装置に至る、第1段階基板の受渡し工程の一部を構成し、且つ、成膜装置からの第2段階基板を前記第3受渡し装置に受け渡すまで貯留するようにされ、この貯留時間が調節自在とされたことを特徴とする(1)又は(2)の光記録媒体製造装置。
【0018】
(4)前記第2基板貯留装置における基板貯留時間は、最短が成膜後の第2段階基板の必要冷却時間、最長が、前記成膜後の第2段階基板の成膜表面の一定レベルまでの劣化に要する時間の間で設定されたことを特徴とする(3)の光記録媒体製造装置。
【0019】
(5)前記紫外線照射装置は、前記塗布された紫外線硬化性樹脂を実質的に硬化するまで、段階的に紫外線を照射する複数の照射装置からなることを特徴とする(1)乃至(4)のいずれかの光記録媒体製造装置。
【0020】
(6)前記照射装置は、第1の前照射装置、第2の前照射装置、後照射装置の3段階の照射装置からなり、前記第2の前照射装置の後に、前記第1及び第2の前照射装置によって紫外線が照射された前記紫外線硬化性樹脂層の上に、第2の紫外線硬化性樹脂を塗布する装置が設けられ、前記後照射装置は、前記第2の紫外線硬化性樹脂を実質的に硬化させるとともにこの第2の紫外線硬化性樹脂の層を透過して、前記紫外線硬化性樹脂を実質的に硬化する量の紫外線を照射するようにされたことを特徴とする(5)の光記録媒体製造装置。
【0021】
(7)前記第1基板貯留装置、第2受渡し装置、第2基板貯留装置、第3受渡し装置、塗布装置、紫外線照射装置は、略コ字形状のラインに沿って配置され、前記第1基板貯留装置はコ字の一方の側辺、第2基板貯留装置及び紫外線照射装置のうち第1の前照射装置はコ字の中央辺、紫外線照射装置のうち第2の前照射装置以降の照射装置はコ字の他方の側辺に沿って配置されたことを特徴とする(5)又は(6)の光記録媒体製造装置。
【0022】
(8)前記成膜装置は、前記コ字の中央辺の外側で、且つ、前記第2基板貯留装置に隣接して配置され、前記コ字の中央辺の外側における前記成膜装置から前記他方の側辺までの間に、前記第1段階の照射装置のための保守スペースを設けたことを特徴とする(7)の光記録媒体製造装置。
【0023】
(9)前記成膜装置は、前記保守スペースから保守作業が可能に配置されたことを特徴とする(8)の光記録媒体製造装置。
【0024】
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施の形態の例を図面を参照して詳細に説明する。
【0025】
図1に示されるように、この実施の形態の例に係る光記録媒体製造装置10は、溶融樹脂を射出して円盤状の第1段階基板12Aを形成する成形装置14と、この成形装置14により成形された第1段階基板12Aを、温度及び湿度調整しつつ貯留する第1基板貯留装置16と、この第1基板貯留装置16からの第1段階基板12Aに、信号層等の無機膜を形成して第2段階基板12Bとするための成膜装置18と、この成膜装置18により無機膜が形成された第2段階基板12Bを貯留する第2基板貯留装置20と、この第2基板貯留装置20からの第2段階基板12Bに、図2に示されるように、液状の紫外線硬化性樹脂13Aをスピンコートにより塗布して第3段階基板12Cとする塗布装置22と、この塗布装置22による紫外線硬化性樹脂の塗布膜13Bに紫外線を照射し、これを硬化被膜13Cとして第4段階基板12Dを形成する紫外線照射装置24と、を配置して構成されている。
【0026】
前記成形装置14と第1基板貯留装置16との間、この第1基板貯留装置16と前記成膜装置18との間、前記第2基板貯留装置20と前記塗布装置22との間には、それぞれ、第1段階基板12A、第1段階基板12A、第2段階基板12Bを受け渡す、第1受渡し装置26、第2受渡し装置28、第3受渡し装置30が設けられている。ここで、前記第2基板貯留装置16は第2受渡し装置28の一部を兼ねている(詳述後述)。
【0027】
前記第1基板貯留装置16は、第1ベース32上に設けられ、第2基板貯留装置20、第3受渡し装置30、塗布装置22、紫外線照射装置24の一部は、第2ベース34上に、第2受渡し装置28は第1ベース32と第2ベース34との接続部に、それぞれ設けられている。これら第1ベース32及び第2ベース34は、第3ベース36と共に略コ字形状のラインを構成し、第1ベース32と第3ベース36はコ字の両側辺、第2ベース34はコ字の中央辺をそれぞれ構成している。
【0028】
前記成形装置14は、第1ベース32の先端に臨んで、第2ベース34と略平行に配置され、第1受渡し装置26は、第1ベース32の先端でのコ字の内側位置に配置され、更に、第2基板貯留装置20は、第2ベース34の、第1ベース32と隣接する位置に配置されている。
【0029】
前記成膜装置18が設けられる成膜装置ベース38は、前記第2基板貯留装置20に隣接した、前記コ字の外側位置に配置されている。
【0030】
前記成形装置14と前記第1基板貯留装置16との間の第1受渡し装置26は、ディスク基板取出装置26A、搬送手段26B、回転テーブル26C、回転アーム26Dとから構成されている。
【0031】
前記ディスク基板取出装置26Aは、成形装置14において成形が終了した第1段階基板12Aを取り出して、搬送手段26Bに移載するものであり、この搬送手段26Bは、途中で第1段階基板12Aを冷却させながら、これを、前記回転テーブル26Cに移載するようにされている。
【0032】
回転テーブル26Cは、図1において反時計方向に回転しながら第1段階基板12Aを冷却しつつ、欠陥検査装置27に第1段階基板12Aを引き渡し、且つ受け取り、受け取った第1段階基板12Aを、前記回転アーム26Dに引き渡すようにされている。
【0033】
回転アーム26Dは、受け取った第1段階基板12Aを前記第1基板貯留装置16の入側に移載するようにされていて、このとき、前記欠陥検査装置27によって欠陥有りとされた第1段階基板12Aは、第1基板貯留装置16の脇に設けられた欠陥基板ストッカー17に移載し、又欠陥無しの正常な第1段階基板12Aは、前記第1基板貯留装置16に貯留されるようになっている。
【0034】
この第1基板貯留装置16は、受け取った第1段階基板12Aを、前記第1ベース32の長手方向に搬送しつつ、その間に、温度及び湿度調整を行ないつつ、先入れ先出し方式で、前記第2受渡し装置28の位置まで、例えば第1段階基板12Aの中心近傍に設けられた孔に棒を挿通して、複数枚を串刺しにして一度に扱うことのできるピンストック方式により水平に搬送するようにされている。
【0035】
前記第2受渡し装置28は、移載アーム28A、前記第2基板貯留装置20の一部及び反転受渡しアーム28Bを含んで構成されている。前記移載アーム28Aは第1基板貯留装置16から、第1段階基板12Aを1枚ずつ取り出して、これを前記第2基板貯留装置20の要部を構成する回転テーブル20A上に移載するようにされている。
【0036】
この回転テーブル20Aは、円周方向に等角度間隔で配置された複数、且つ、奇数の基板受け台を備え、図1において時計方向に基板受け台2個分ずつ回転しつつ1つ置きに、前記移載アーム28Aから第1段階基板12Aを受け取って、成膜装置18の近傍にある反転受渡しアーム28Bまで搬送するようにされている。即ち、回転テーブル20Aは、移載アーム28の位置から反転受渡しアーム28Bの位置までの間は第2受渡し装置28の一部を構成している。又、第1段階基板12Aを受け取った位置に隣接する基板受け台に、前記成膜装置18から成膜が終了した第2段階基板12Bを移載するようにされている。
【0037】
前記第2基板貯留装置20における回転テーブル20Aと前記成膜装置18との間には、前記反転受渡しアーム28Bが配置されている。この反転受渡しアーム28Bは、回転テーブル20A上の第1段階基板12Aをその先端で吸着して180°回転して、第1段階基板12Aを反転した状態で前記成膜装置18に移載できるようにされ、又、成膜装置18において成膜終了後の第2段階基板12Bを、反転受渡しアーム28Bの先端で受け取って、180°回転して、回転テーブル32A上の、前記第1段階基板12Aを載置した基板受け台と隣接する基板受け台に移載するようにされている。
【0038】
成膜装置18は、バキュームチャンバ、ターゲット、マスク等を備えたスパッタリング装置であり、第1段階基板12Aの記録面側に、反射層、記録層等をスパッタリング形成するようにされている。なお、成膜方法はスパッタリングに限定されず、他の手段、例えば蒸着法等であってもよい。
【0039】
前記回転テーブル20A上に移載された第2段階基板12Bは、回転テーブル20Aによって時計方向に約(n+1/3)回転(nは奇数)した後、第3受渡し装置30により、前記塗布装置22における直線状の搬送ベルト22A上に移載されるようになっている。
【0040】
前記紫外線照射装置24は、第1の前照射装置40及び第2の前照射装置42の2段階の照射装置からなり、第1の前照射装置40においては、第2段階基板12B上に塗布された紫外線硬化性樹脂を、例えば10〜100mJの紫外線を照射して、実質的に完全に硬化する状態の5〜20%程度硬化するようにされ、第2の前照射装置42においては、例えば30〜60%硬化するようにされている。
【0041】
前記搬送ベルト22Aに沿って、4台の第1の前照射装置40及び塗布装置22が配置され、各塗布装置22は、図2(A)に示されるように、ディスペンサー23から供給される液状の紫外線硬化性樹脂13Aを回転する第2段階基板12B上に滴下してスピンコートし、第1の前照射装置40は、このスピンコート中に塗布されつつある、又は塗布された紫外線硬化性樹脂に紫外線を照射するようにされている。
【0042】
図1の符号44は、搬送ベルト22Aと塗布装置本体との間で第2段階基板12Bの受渡しをする移載装置を示す。
【0043】
前記搬送ベルト22Aの端末近傍には移載アーム46が配置され、搬送ベルト22A上を搬送されてきた、第1の前照射が終了した第3段階基板12Cを搬送ベルト46A上に移載するようにされている。
【0044】
この搬送ベルト46Aは、前記第3ベース36上にその長手方向に配置されていて、且つ、この第3ベース36の、搬送ベルト46Aの入側近傍の端部には、前記第2の前照射装置42が配置されている。
【0045】
この第2の前照射装置42に対しては、搬送ベルト46A上の第3段階基板12Cが、引渡し受取りアーム46Bによって、引渡し及び受取りがなされるようになっている。
【0046】
前記第2の前照射装置42は、受け取った第3段階基板12Cの、5〜20%程度硬化されている紫外線硬化性樹脂に、例えば3秒間程度紫外線を照射して、これを30〜60%程度硬化させて、図2(C)に示される樹脂層である被膜13Cとするようにされている。
【0047】
被膜13Cが形成された第3段階基板12Cは、引渡し受取りアーム46Bによって前記搬送ベルト46A上に移載され、搬送ベルト46Aは、これを更に第3ベース36の端部(コ字の他の側辺の先端)方向に搬送するようにされている。
【0048】
前記搬送ベルト46Aに沿って、前記第2の前照射装置42の下流側には、第2の樹脂層形成装置48が配置されていて、この第2の樹脂層形成装置48に対して、移載装置48Aにより、搬送ベルト46A上の第3段階基板12Cが移載され、且つ戻されるようになっている。このような複数の樹脂層としては、例えば先の樹脂層が光透過性カバー層、後の樹脂層がハードコート層のような場合があげられる。
【0049】
第2の樹脂層形成装置48は、前記第3段階基板12Cの、前記紫外線照射された被膜13Cの層の上側に、第2の紫外線硬化性樹脂をスピンコーティングするものであって、この実施の形態の例では2台のスピンコーター49A、49Bを備えている。
【0050】
前記第2の樹脂層形成装置48の反対側から、第3ベース36と直交して、前記コ字の内側に、アニールテーブル50が配置されている。このアニールテーブル50は、この実施の形態の例においては、上面からパネルヒータ(図示省略)により加熱されるアニール領域内を第2の紫外線硬化性樹脂が塗布された第3段階基板12Cが複数枚加熱されるように、先入れ先出し方式で順次移送するようになっている。
【0051】
アニールテーブル50と第3ベース36との接続部近傍には、回転アーム50Aが設けられ、第2の紫外線硬化性樹脂層の塗布が終了した後、搬送ベルト46Aに戻された第3段階基板12Cを、アニールテーブル50上に受渡しできるようにされていて、アニールテーブル50におけるアニーリング終了後に再度搬送ベルト46Aに、前記第3段階基板12Cが戻されるようになっている。
【0052】
アニールテーブル50から、前記搬送ベルト46A上に戻された第3段階基板12Cは、回転アーム52Aにより紫外線後照射装置52に送られ、ここで紫外線照射によって紫外線硬化性樹脂が実質的に完全に硬化された後、再び回転アーム52Aにより、搬送ベルト46Aに戻されるようになっている。
【0053】
上記のように紫外線後照射装置52によって後照射する場合、第1の紫外層硬化性樹脂の紫外線照射による硬化時に酸素(空気)障害を回避することができるので、第1の紫外線硬化性樹脂をより確実に、短時間で硬化することができる。
【0054】
紫外線後照射装置52から更に第3ベース36の先端までの間には、打抜き装置54、膜欠陥検査装置56及び光記録媒体ストッカー58が配置されている。
【0055】
前記成膜装置18は、前記コ字形状の中間辺となる第2ベース34に対して、コ字の外側に突出するようにして配置され、この成膜装置18の基板搬送方向下流側で、且つ、第2ベース34の外側位置には、前記塗布装置22及び第1の前照射装置40に臨んでメンテナンススペース60が設けられ、ここで作業者が作業できるようにされている。
【0056】
このメンテナンススペース60における作業者の作業は、前記成膜装置18におけるターゲット、マスク、シールド部材等の交換及び、前記塗布装置22における回転する第2段階基板12Bから振り切られて周囲に飛散した紫外線硬化性樹脂を回収することである。その他に、成膜装置18、塗布装置22及び第1の前照射装置40のチェック、メンテナンスがある。
【0057】
前記第1基板貯留装置16における最大基板貯留数は、前記成膜装置18におけるメンテナンス時間中に、前記成形装置14により成形される第1段階基板12Aの数以上に設定されている。
【0058】
又、前記第2基板貯留装置20の回転テーブル20Aは、前記第2受渡し装置28、成膜装置18及び前記第3受渡し装置30の間に配置され、図1において時計方向に回転しつつ、第2受渡し装置28からの第1段階基板12Aが成膜装置18に受け渡されるまでの間、且つ、成膜装置18からの第2段階基板12Bが第3受渡し装置30に渡されるまでの間、これらの基板を貯留するようにされている。
【0059】
ここで、前記第2基板貯留装置20における基板貯留時間は、最短が、成膜後の第2段階基板12Bの必要冷却時間、最長が前記成膜後の第2段階基板12Bの成膜表面の一定レベルまでの劣化に要する時間の間で設定されている。具体的な貯留時間の調整は、成膜装置18から渡された第2段階基板12Bが第3受渡し装置30により回転テーブル20Aから搬出されるまでの間の回転テーブル20Aの回転数(n+1/3)におけるnを奇数の変数として行なう。
【0060】
又、前記第1基板貯留装置16は、通常は成膜装置18による成膜動作に連動して、貯留された第1段階基板12Aを排出するようにされている。
【0061】
従って、成膜装置18のメンテナンス等による運転停止時間を除いた一定時間中の成膜枚数と、これと同一時間内での成形装置14での第1段階基板12Aの成形枚数(欠陥基板を除く)が一致するように設定しておけばよい。
【0062】
これによって、装置全体として無駄なく、成膜装置18の停止中も、連続して成形装置14による基板成形運転が停止されることがない。
【0063】
又、第2基板貯留装置20における第2段階基板12Bの貯留枚数を、成膜装置18の停止から運転再開後の第2段階基板12Bの供給開始までの間の時間に対応する成膜枚数に一致させることによって、成膜装置18の停止中も装置全体の運転を停止させる必要がなくなる。
【0064】
この光ディスクの製造装置10においては、第2段階基板12B上の紫外線硬化性樹脂の硬化が、第1の前照射装置40によって5〜20%程度硬化され、ここから離間して配置された第2の前照射装置42によって紫外線硬化性樹脂が30〜60%程度硬化される。従って、塗布装置22において回転する第2段階基板12Bから振り切られ、周囲に飛散した紫外線硬化性樹脂、及び、塗布装置22が一定時間停止し、その間に紫外線の照射を受けてから振り切られた紫外線硬化性樹脂も、紫外線被爆量が少なく、従ってこれを回収して再使用することができる。
【0065】
又、この飛散した紫外線硬化性樹脂の回収作業のためのメンテナンススペース60が、製造ラインを略コ字形状にされた中央辺である第2ベース34の外側に隣接して設けているので、塗布装置22及び第1の前照射装置40へのアクセスが容易であり、作業もし易い。更に、このコ字形状の中央辺である第2ベース34から外側に突出した位置に成膜装置18が設けられて、これがメンテナンススペース60に隣接しているので、メンテナンススペース60は成膜装置18のメンテナンススペースも兼ねることができる。
【0066】
上記実施の形態の例においては、紫外線硬化性樹脂を第1の前照射と第2の前照射及び後照射の3段階の紫外線照射により硬化させるものであるが、本発明は、これに限定されるものでなく、第1の前照射の際に周囲に飛散した紫外線硬化性樹脂がリサイクル可能範囲で照射されるようにすればよい。
【0067】
従って、例えば図3に示されるように、前記と同様の第1の前照射(S101)の後の第2の前照射(S102)によって、すでに塗布された紫外線硬化性樹脂層を実質的に硬化し、次工程の第2の紫外線硬化性樹脂層の塗布(S103)の後、後照射(S104)によって第2の紫外線硬化性樹脂層の硬化を実行するようにしてもよい。
【0068】
【発明の効果】
本発明は上記のように構成したので、成膜装置のメンテナンス等による停止中も、他の装置を停止させることなく、光記録媒体の製造を連続して行なうことができるという優れた効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光記録媒体の製造装置を示す略示平面図
【図2】同光記録媒体の製造装置によってディスク基板上に塗布された紫外線硬化性樹脂を硬化する過程を示す略示断面図
【図3】同光記録媒体の製造装置によってディスク状の基板上に塗布された紫外線硬化性樹を3段階の紫外線照射により硬化させる過程を示すフローチャート
【符号の説明】
10…光記録媒体製造装置
12…ディスク基板
12A…第1段階基板
12B…第2段階基板
12C…第3段階基板
12D…第4段階基板
13A…紫外線硬化性樹脂
13B…塗布膜
13C…被膜
14…成形装置
16…第1基板貯留装置
18…成膜装置
20…第2基板貯留装置
22…塗布装置
24…紫外線照射装置
26…第1受渡し装置
28…第2受渡し装置
30…第3受渡し装置
32…第1ベース
34…第2ベース
36…第3ベース
38…成膜装置ベース
40…第1の前照射装置
42…第2の前照射装置
48…第2の樹脂層形成装置
52…紫外線後照射装置
60…メンテナンススペース
Claims (6)
- 光記録媒体用基板の成形装置と、この成形装置により成形された第1段階基板を貯留する第1基板貯留装置と、この第1基板貯留装置からの第1段階基板に少なくとも一種類の無機膜を形成可能な成膜装置と、この成膜装置により無機膜が形成された第2段階基板を貯留する第2基板貯留装置と、この第2基板貯留装置からの第2段階基板に、紫外線硬化性樹脂を塗布する塗布装置と、この塗布装置により紫外線硬化性樹脂の塗布膜が形成された、又は、紫外線硬化性樹脂の塗布膜を形成中の第3段階基板に、紫外線を照射し、前記塗布膜を硬化皮膜にして第4段階基板を形成する紫外線照射装置と、を配置してなり、且つ、前記成形装置と第1基板貯留装置との間には、第1段階基板を受け渡す第1受渡し装置、該第1基板貯留装置と成膜装置との間には、第1段階基板を受け渡す第2受渡し装置、第2基板貯留装置と塗布装置との間には第2段階基板を受け渡す第3受渡し装置をそれぞれ設けてなり、前記第2基板貯留装置は、前記第2受渡し装置の一部を兼ねていることを特徴とする光記録媒体製造装置。
- 請求項1において、
前記第1基板貯留装置は、最大基板貯留数が、前記成膜装置におけるメンテナンス時間中に、前記成形装置により成形される第1段階基板の数以上に設定されたことを特徴とする光記録媒体の製造装置。 - 請求項1又は2において、
前記第2基板貯留装置は、前記成膜装置及び前記第3受渡し装置の間に配置され、一方向に回転しつつ、その一部の過程で、前記第1基板貯留装置から成膜装置に至る、第1段階基板の受渡し工程の一部を構成し、且つ、成膜装置からの第2段階基板を前記第3受渡し装置に受け渡すまで貯留するようにされ、この貯留時間が調節自在とされたことを特徴とする光記録媒体製造装置。 - 請求項3において、
前記第2基板貯留装置における基板貯留時間は、最短が成膜後の第2段階基板の必要冷却時間、最長が、前記成膜後の第2段階基板の成膜表面の一定レベルまでの劣化に要する時間の間で設定されたことを特徴とする光記録媒体製造装置。 - 請求項1乃至4のいずれかにおいて、
前記紫外線照射装置は、前記塗布された紫外線硬化性樹脂を実質的に硬化するまで、段階的に紫外線を照射する複数の照射装置からなることを特徴とする光記録媒体製造装置。 - 請求項5において、
前記照射装置は、第1の前照射装置、第2の前照射装置、後照射装置の3段階の照射装置からなり、前記第2の前照射装置の後に、前記第1及び第2の前照射装置によって紫外線が照射された前記紫外線硬化性樹脂層の上に、第2の紫外線硬化性樹脂を塗布する装置が設けられ、前記後照射装置は、前記第2の紫外線硬化性樹脂を実質的に硬化させるとともにこの第2の紫外線硬化性樹脂の層を透過して、前記紫外線硬化性樹脂を実質的に硬化する量の紫外線を照射するようにされたことを特徴とする光記録媒体製造装置。
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