JP2004247014A

JP2004247014A - 光記録媒体の製造装置

Info

Publication number: JP2004247014A
Application number: JP2003038692A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Umeka; 毅梅香; Junichi Ide; 順一井出; Yukio Kaneko; 幸生金子; Haruhiko Yamaguchi; 山口　　晴彦; Yoshimi Yodogawa; 吉見淀川; Mamoru Usami; 守宇佐美; Tomoki Ushita; 智樹丑田
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 2003-02-17
Filing date: 2003-02-17
Publication date: 2004-09-02

Abstract

【課題】成膜装置のメンテナンス等による停止中も、連続して光記録媒体を製造することができる装置。
【解決手段】光記録媒体製造装置１０は、成形装置１４、第１基板貯留装置１６、成膜装置１８、第２基板貯留装置２０、塗布装置２２、紫外線照射装置２４をこの順で配置してなり、成膜装置１８の停止中に、成形装置１４において連続的に成形された第１段階基板１２Ａが、第１基板貯留装置１６に貯留され、又、第２基板貯留装置２０に貯留された第２段階基板１２Ｂは、成膜装置１８の停止中に塗布装置２２以降に供給される。
【選択図】図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、光記録媒体を製造する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、この種の装置としては、光ディスク用基板の成形装置と、この成形装置により成形された基板に信号層を形成するための成膜装置と、成膜後の基板にスピンコート等によって紫外線硬化性樹脂を塗布し、これに紫外線を照射して硬化させて樹脂層とする装置と、を順次配置してなるものがある（例えば特許文献１参照）。
【０００３】
このような、従来の光ディスクの製造装置は、成形装置や樹脂層形成装置が、ほぼ連続的に稼動する一方で、一定時間毎に成膜装置におけるターゲット、マスク、シールド部材等の交換の作業（メンテナンス作業）が必要であった。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００２−１９７７３５号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
このようなメンテナンス作業は、例えば光ディスク製造装置の運転時間の、１２時間に１回３０分程度必要であり、このメンテナンス時間中は、成形装置やスピンコート装置の運転を止めざるを得ないという問題点があった。
【０００６】
更に、上記のような光ディスクの製造装置において、前記スピンコート工程では、高速で回転する基板上に液状の樹脂を流下させて、基板の外周にまで延展させ、ここで余分な樹脂を振り切るため、周囲に多くの樹脂が飛び散る。この飛散した樹脂は回収して再利用される。
【０００７】
ところが、スピンコートによって塗布される樹脂を硬化して樹脂層を形成するに当たり、求められる樹脂層の面内厚みバラツキを少なくするために、スピンコートの最中に紫外線を照射するという場合がある。
【０００８】
紫外線の照射量にもよるが、このような場合、装置を稼動させ続けて、塗布作業が連続していれば、前記の回収されるべき樹脂は次から次へと飛散し流れてくるので、その場で硬化してしまうことなく回収することができる。しかしながら、前記メンテナンス時に、塗布作業を止めざるを得ない場合、スピンコート装置の前記回収樹脂の流れが中断され、紫外線硬化性樹脂はスピンコート装置中に留まり、回収が遅れることとなり、粘度が上昇する傾向にある。
【０００９】
このような樹脂は時間がたつにつれて回収が困難になっていく傾向にあることはもちろんであるが、回収した場合でも、通常の動作の中で回収される樹脂とは若干特性が変化することも考えられ、混ざり合うことでリサイクル使用に影響を与えることがある。
【００１０】
この発明は、上記従来の問題点に鑑みてなされたものであって、光記録媒体用基板の成形装置を止めることなく無駄の無い運転をすることができるようにした光記録媒体製造装置を提供することを目的とする。
【００１１】
又、スピンコート工程で基板から振り切られた樹脂をリサイクルできるようにした光記録媒体製造装置を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明者の研究の結果、光記録媒体用基板の成形装置と成膜装置との間に第１基板貯留装置を、又、成膜装置と紫外線硬化性樹脂を塗布する塗布装置との間に第２基板貯留装置を、それぞれ設け、成膜装置のメンテナンス時間中に必要な、成膜済みの第２段階基板を第２基板貯留装置に貯留しておき、又、メンテナンス中に成形装置によって成形された第１段階基板は、第１基板貯留装置に貯留しておき、装置全体の運転を停止することなく、成膜装置のメンテナンスを行なうことができることを見出した。
【００１３】
又、光ディスク用基板に塗布された紫外線硬化性樹脂を複数段に分けて紫外線照射して硬化することとし、前の紫外線照射による硬化の際に、スピンコート装置の停止中に紫外線が前記紫外線硬化性樹脂に照射されてもこれをリサイクル可能な程度にのみ硬化されるようにしておけば、振り切られた樹脂のリサイクルができることを見出した。
【００１４】
即ち、以下の本発明により上記目的を達成することができる。
【００１５】
（１）光記録媒体用基板の成形装置と、この成形装置により成形された第１段階基板を貯留する第１基板貯留装置と、この第１基板貯留装置からの第１段階基板に少なくとも一種類の無機膜を形成可能な成膜装置と、この成膜装置により無機膜が形成された第２段階基板を貯留する第２基板貯留装置と、この第２基板貯留装置からの第２段階基板に、紫外線硬化性樹脂を塗布する塗布装置と、この塗布装置により紫外線硬化性樹脂の塗布膜が形成された、又は、紫外線硬化性樹脂の塗布膜を形成中の第３段階基板に、紫外線を照射し、前記塗布膜を硬化皮膜にして第４段階基板を形成する紫外線照射装置と、を配置してなり、且つ、前記成形装置と第１基板貯留装置との間には、第１段階基板を受け渡す第１受渡し装置、該第１基板貯留装置と成膜装置との間には、第１段階基板を受け渡す第２受渡し装置、第２基板貯留装置と塗布装置との間には第２段階基板を受け渡す第３受渡し装置をそれぞれ設けてなり、前記第２基板貯留装置は、前記第２受渡し装置の一部を兼ねていることを特徴とする光記録媒体製造装置。
【００１６】
（２）前記第１基板貯留装置は、最大基板貯留数が、前記成膜装置におけるメンテナンス時間中に、前記成形装置により成形される第１段階基板の数以上に設定されたことを特徴とする（１）の光記録媒体製造装置。
【００１７】
（３）前記第２基板貯留装置は、前記成膜装置及び前記第３受渡し装置の間に配置され、一方向に回転しつつ、その一部の過程で、前記第１基板貯留装置から成膜装置に至る、第１段階基板の受渡し工程の一部を構成し、且つ、成膜装置からの第２段階基板を前記第３受渡し装置に受け渡すまで貯留するようにされ、この貯留時間が調節自在とされたことを特徴とする（１）又は（２）の光記録媒体製造装置。
【００１８】
（４）前記第２基板貯留装置における基板貯留時間は、最短が成膜後の第２段階基板の必要冷却時間、最長が、前記成膜後の第２段階基板の成膜表面の一定レベルまでの劣化に要する時間の間で設定されたことを特徴とする（３）の光記録媒体製造装置。
【００１９】
（５）前記紫外線照射装置は、前記塗布された紫外線硬化性樹脂を実質的に硬化するまで、段階的に紫外線を照射する複数の照射装置からなることを特徴とする（１）乃至（４）のいずれかの光記録媒体製造装置。
【００２０】
（６）前記照射装置は、第１の前照射装置、第２の前照射装置、後照射装置の３段階の照射装置からなり、前記第２の前照射装置の後に、前記第１及び第２の前照射装置によって紫外線が照射された前記紫外線硬化性樹脂層の上に、第２の紫外線硬化性樹脂を塗布する装置が設けられ、前記後照射装置は、前記第２の紫外線硬化性樹脂を実質的に硬化させるとともにこの第２の紫外線硬化性樹脂の層を透過して、前記紫外線硬化性樹脂を実質的に硬化する量の紫外線を照射するようにされたことを特徴とする（５）の光記録媒体製造装置。
【００２１】
（７）前記第１基板貯留装置、第２受渡し装置、第２基板貯留装置、第３受渡し装置、塗布装置、紫外線照射装置は、略コ字形状のラインに沿って配置され、前記第１基板貯留装置はコ字の一方の側辺、第２基板貯留装置及び紫外線照射装置のうち第１の前照射装置はコ字の中央辺、紫外線照射装置のうち第２の前照射装置以降の照射装置はコ字の他方の側辺に沿って配置されたことを特徴とする（５）又は（６）の光記録媒体製造装置。
【００２２】
（８）前記成膜装置は、前記コ字の中央辺の外側で、且つ、前記第２基板貯留装置に隣接して配置され、前記コ字の中央辺の外側における前記成膜装置から前記他方の側辺までの間に、前記第１段階の照射装置のための保守スペースを設けたことを特徴とする（７）の光記録媒体製造装置。
【００２３】
（９）前記成膜装置は、前記保守スペースから保守作業が可能に配置されたことを特徴とする（８）の光記録媒体製造装置。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施の形態の例を図面を参照して詳細に説明する。
【００２５】
図１に示されるように、この実施の形態の例に係る光記録媒体製造装置１０は、溶融樹脂を射出して円盤状の第１段階基板１２Ａを形成する成形装置１４と、この成形装置１４により成形された第１段階基板１２Ａを、温度及び湿度調整しつつ貯留する第１基板貯留装置１６と、この第１基板貯留装置１６からの第１段階基板１２Ａに、信号層等の無機膜を形成して第２段階基板１２Ｂとするための成膜装置１８と、この成膜装置１８により無機膜が形成された第２段階基板１２Ｂを貯留する第２基板貯留装置２０と、この第２基板貯留装置２０からの第２段階基板１２Ｂに、図２に示されるように、液状の紫外線硬化性樹脂１３Ａをスピンコートにより塗布して第３段階基板１２Ｃとする塗布装置２２と、この塗布装置２２による紫外線硬化性樹脂の塗布膜１３Ｂに紫外線を照射し、これを硬化被膜１３Ｃとして第４段階基板１２Ｄを形成する紫外線照射装置２４と、を配置して構成されている。
【００２６】
前記成形装置１４と第１基板貯留装置１６との間、この第１基板貯留装置１６と前記成膜装置１８との間、前記第２基板貯留装置２０と前記塗布装置２２との間には、それぞれ、第１段階基板１２Ａ、第１段階基板１２Ａ、第２段階基板１２Ｂを受け渡す、第１受渡し装置２６、第２受渡し装置２８、第３受渡し装置３０が設けられている。ここで、前記第２基板貯留装置１６は第２受渡し装置２８の一部を兼ねている（詳述後述）。
【００２７】
前記第１基板貯留装置１６は、第１ベース３２上に設けられ、第２基板貯留装置２０、第３受渡し装置３０、塗布装置２２、紫外線照射装置２４の一部は、第２ベース３４上に、第２受渡し装置２８は第１ベース３２と第２ベース３４との接続部に、それぞれ設けられている。これら第１ベース３２及び第２ベース３４は、第３ベース３６と共に略コ字形状のラインを構成し、第１ベース３２と第３ベース３６はコ字の両側辺、第２ベース３４はコ字の中央辺をそれぞれ構成している。
【００２８】
前記成形装置１４は、第１ベース３２の先端に臨んで、第２ベース３４と略平行に配置され、第１受渡し装置２６は、第１ベース３２の先端でのコ字の内側位置に配置され、更に、第２基板貯留装置２０は、第２ベース３４の、第１ベース３２と隣接する位置に配置されている。
【００２９】
前記成膜装置１８が設けられる成膜装置ベース３８は、前記第２基板貯留装置２０に隣接した、前記コ字の外側位置に配置されている。
【００３０】
前記成形装置１４と前記第１基板貯留装置１６との間の第１受渡し装置２６は、ディスク基板取出装置２６Ａ、搬送手段２６Ｂ、回転テーブル２６Ｃ、回転アーム２６Ｄとから構成されている。
【００３１】
前記ディスク基板取出装置２６Ａは、成形装置１４において成形が終了した第１段階基板１２Ａを取り出して、搬送手段２６Ｂに移載するものであり、この搬送手段２６Ｂは、途中で第１段階基板１２Ａを冷却させながら、これを、前記回転テーブル２６Ｃに移載するようにされている。
【００３２】
回転テーブル２６Ｃは、図１において反時計方向に回転しながら第１段階基板１２Ａを冷却しつつ、欠陥検査装置２７に第１段階基板１２Ａを引き渡し、且つ受け取り、受け取った第１段階基板１２Ａを、前記回転アーム２６Ｄに引き渡すようにされている。
【００３３】
回転アーム２６Ｄは、受け取った第１段階基板１２Ａを前記第１基板貯留装置１６の入側に移載するようにされていて、このとき、前記欠陥検査装置２７によって欠陥有りとされた第１段階基板１２Ａは、第１基板貯留装置１６の脇に設けられた欠陥基板ストッカー１７に移載し、又欠陥無しの正常な第１段階基板１２Ａは、前記第１基板貯留装置１６に貯留されるようになっている。
【００３４】
この第１基板貯留装置１６は、受け取った第１段階基板１２Ａを、前記第１ベース３２の長手方向に搬送しつつ、その間に、温度及び湿度調整を行ないつつ、先入れ先出し方式で、前記第２受渡し装置２８の位置まで、例えば第１段階基板１２Ａの中心近傍に設けられた孔に棒を挿通して、複数枚を串刺しにして一度に扱うことのできるピンストック方式により水平に搬送するようにされている。
【００３５】
前記第２受渡し装置２８は、移載アーム２８Ａ、前記第２基板貯留装置２０の一部及び反転受渡しアーム２８Ｂを含んで構成されている。前記移載アーム２８Ａは第１基板貯留装置１６から、第１段階基板１２Ａを１枚ずつ取り出して、これを前記第２基板貯留装置２０の要部を構成する回転テーブル２０Ａ上に移載するようにされている。
【００３６】
この回転テーブル２０Ａは、円周方向に等角度間隔で配置された複数、且つ、奇数の基板受け台を備え、図１において時計方向に基板受け台２個分ずつ回転しつつ１つ置きに、前記移載アーム２８Ａから第１段階基板１２Ａを受け取って、成膜装置１８の近傍にある反転受渡しアーム２８Ｂまで搬送するようにされている。即ち、回転テーブル２０Ａは、移載アーム２８の位置から反転受渡しアーム２８Ｂの位置までの間は第２受渡し装置２８の一部を構成している。又、第１段階基板１２Ａを受け取った位置に隣接する基板受け台に、前記成膜装置１８から成膜が終了した第２段階基板１２Ｂを移載するようにされている。
【００３７】
前記第２基板貯留装置２０における回転テーブル２０Ａと前記成膜装置１８との間には、前記反転受渡しアーム２８Ｂが配置されている。この反転受渡しアーム２８Ｂは、回転テーブル２０Ａ上の第１段階基板１２Ａをその先端で吸着して１８０°回転して、第１段階基板１２Ａを反転した状態で前記成膜装置１８に移載できるようにされ、又、成膜装置１８において成膜終了後の第２段階基板１２Ｂを、反転受渡しアーム２８Ｂの先端で受け取って、１８０°回転して、回転テーブル３２Ａ上の、前記第１段階基板１２Ａを載置した基板受け台と隣接する基板受け台に移載するようにされている。
【００３８】
成膜装置１８は、バキュームチャンバ、ターゲット、マスク等を備えたスパッタリング装置であり、第１段階基板１２Ａの記録面側に、反射層、記録層等をスパッタリング形成するようにされている。なお、成膜方法はスパッタリングに限定されず、他の手段、例えば蒸着法等であってもよい。
【００３９】
前記回転テーブル２０Ａ上に移載された第２段階基板１２Ｂは、回転テーブル２０Ａによって時計方向に約（ｎ＋１／３）回転（ｎは奇数）した後、第３受渡し装置３０により、前記塗布装置２２における直線状の搬送ベルト２２Ａ上に移載されるようになっている。
【００４０】
前記紫外線照射装置２４は、第１の前照射装置４０及び第２の前照射装置４２の２段階の照射装置からなり、第１の前照射装置４０においては、第２段階基板１２Ｂ上に塗布された紫外線硬化性樹脂を、例えば１０〜１００ｍＪの紫外線を照射して、実質的に完全に硬化する状態の５〜２０％程度硬化するようにされ、第２の前照射装置４２においては、例えば３０〜６０％硬化するようにされている。
【００４１】
前記搬送ベルト２２Ａに沿って、４台の第１の前照射装置４０及び塗布装置２２が配置され、各塗布装置２２は、図２（Ａ）に示されるように、ディスペンサー２３から供給される液状の紫外線硬化性樹脂１３Ａを回転する第２段階基板１２Ｂ上に滴下してスピンコートし、第１の前照射装置４０は、このスピンコート中に塗布されつつある、又は塗布された紫外線硬化性樹脂に紫外線を照射するようにされている。
【００４２】
図１の符号４４は、搬送ベルト２２Ａと塗布装置本体との間で第２段階基板１２Ｂの受渡しをする移載装置を示す。
【００４３】
前記搬送ベルト２２Ａの端末近傍には移載アーム４６が配置され、搬送ベルト２２Ａ上を搬送されてきた、第１の前照射が終了した第３段階基板１２Ｃを搬送ベルト４６Ａ上に移載するようにされている。
【００４４】
この搬送ベルト４６Ａは、前記第３ベース３６上にその長手方向に配置されていて、且つ、この第３ベース３６の、搬送ベルト４６Ａの入側近傍の端部には、前記第２の前照射装置４２が配置されている。
【００４５】
この第２の前照射装置４２に対しては、搬送ベルト４６Ａ上の第３段階基板１２Ｃが、引渡し受取りアーム４６Ｂによって、引渡し及び受取りがなされるようになっている。
【００４６】
前記第２の前照射装置４２は、受け取った第３段階基板１２Ｃの、５〜２０％程度硬化されている紫外線硬化性樹脂に、例えば３秒間程度紫外線を照射して、これを３０〜６０％程度硬化させて、図２（Ｃ）に示される樹脂層である被膜１３Ｃとするようにされている。
【００４７】
被膜１３Ｃが形成された第３段階基板１２Ｃは、引渡し受取りアーム４６Ｂによって前記搬送ベルト４６Ａ上に移載され、搬送ベルト４６Ａは、これを更に第３ベース３６の端部（コ字の他の側辺の先端）方向に搬送するようにされている。
【００４８】
前記搬送ベルト４６Ａに沿って、前記第２の前照射装置４２の下流側には、第２の樹脂層形成装置４８が配置されていて、この第２の樹脂層形成装置４８に対して、移載装置４８Ａにより、搬送ベルト４６Ａ上の第３段階基板１２Ｃが移載され、且つ戻されるようになっている。このような複数の樹脂層としては、例えば先の樹脂層が光透過性カバー層、後の樹脂層がハードコート層のような場合があげられる。
【００４９】
第２の樹脂層形成装置４８は、前記第３段階基板１２Ｃの、前記紫外線照射された被膜１３Ｃの層の上側に、第２の紫外線硬化性樹脂をスピンコーティングするものであって、この実施の形態の例では２台のスピンコーター４９Ａ、４９Ｂを備えている。
【００５０】
前記第２の樹脂層形成装置４８の反対側から、第３ベース３６と直交して、前記コ字の内側に、アニールテーブル５０が配置されている。このアニールテーブル５０は、この実施の形態の例においては、上面からパネルヒータ（図示省略）により加熱されるアニール領域内を第２の紫外線硬化性樹脂が塗布された第３段階基板１２Ｃが複数枚加熱されるように、先入れ先出し方式で順次移送するようになっている。
【００５１】
アニールテーブル５０と第３ベース３６との接続部近傍には、回転アーム５０Ａが設けられ、第２の紫外線硬化性樹脂層の塗布が終了した後、搬送ベルト４６Ａに戻された第３段階基板１２Ｃを、アニールテーブル５０上に受渡しできるようにされていて、アニールテーブル５０におけるアニーリング終了後に再度搬送ベルト４６Ａに、前記第３段階基板１２Ｃが戻されるようになっている。
【００５２】
アニールテーブル５０から、前記搬送ベルト４６Ａ上に戻された第３段階基板１２Ｃは、回転アーム５２Ａにより紫外線後照射装置５２に送られ、ここで紫外線照射によって紫外線硬化性樹脂が実質的に完全に硬化された後、再び回転アーム５２Ａにより、搬送ベルト４６Ａに戻されるようになっている。
【００５３】
上記のように紫外線後照射装置５２によって後照射する場合、第１の紫外層硬化性樹脂の紫外線照射による硬化時に酸素（空気）障害を回避することができるので、第１の紫外線硬化性樹脂をより確実に、短時間で硬化することができる。
【００５４】
紫外線後照射装置５２から更に第３ベース３６の先端までの間には、打抜き装置５４、膜欠陥検査装置５６及び光記録媒体ストッカー５８が配置されている。
【００５５】
前記成膜装置１８は、前記コ字形状の中間辺となる第２ベース３４に対して、コ字の外側に突出するようにして配置され、この成膜装置１８の基板搬送方向下流側で、且つ、第２ベース３４の外側位置には、前記塗布装置２２及び第１の前照射装置４０に臨んでメンテナンススペース６０が設けられ、ここで作業者が作業できるようにされている。
【００５６】
このメンテナンススペース６０における作業者の作業は、前記成膜装置１８におけるターゲット、マスク、シールド部材等の交換及び、前記塗布装置２２における回転する第２段階基板１２Ｂから振り切られて周囲に飛散した紫外線硬化性樹脂を回収することである。その他に、成膜装置１８、塗布装置２２及び第１の前照射装置４０のチェック、メンテナンスがある。
【００５７】
前記第１基板貯留装置１６における最大基板貯留数は、前記成膜装置１８におけるメンテナンス時間中に、前記成形装置１４により成形される第１段階基板１２Ａの数以上に設定されている。
【００５８】
又、前記第２基板貯留装置２０の回転テーブル２０Ａは、前記第２受渡し装置２８、成膜装置１８及び前記第３受渡し装置３０の間に配置され、図１において時計方向に回転しつつ、第２受渡し装置２８からの第１段階基板１２Ａが成膜装置１８に受け渡されるまでの間、且つ、成膜装置１８からの第２段階基板１２Ｂが第３受渡し装置３０に渡されるまでの間、これらの基板を貯留するようにされている。
【００５９】
ここで、前記第２基板貯留装置２０における基板貯留時間は、最短が、成膜後の第２段階基板１２Ｂの必要冷却時間、最長が前記成膜後の第２段階基板１２Ｂの成膜表面の一定レベルまでの劣化に要する時間の間で設定されている。具体的な貯留時間の調整は、成膜装置１８から渡された第２段階基板１２Ｂが第３受渡し装置３０により回転テーブル２０Ａから搬出されるまでの間の回転テーブル２０Ａの回転数（ｎ＋１／３）におけるｎを奇数の変数として行なう。
【００６０】
又、前記第１基板貯留装置１６は、通常は成膜装置１８による成膜動作に連動して、貯留された第１段階基板１２Ａを排出するようにされている。
【００６１】
従って、成膜装置１８のメンテナンス等による運転停止時間を除いた一定時間中の成膜枚数と、これと同一時間内での成形装置１４での第１段階基板１２Ａの成形枚数（欠陥基板を除く）が一致するように設定しておけばよい。
【００６２】
これによって、装置全体として無駄なく、成膜装置１８の停止中も、連続して成形装置１４による基板成形運転が停止されることがない。
【００６３】
又、第２基板貯留装置２０における第２段階基板１２Ｂの貯留枚数を、成膜装置１８の停止から運転再開後の第２段階基板１２Ｂの供給開始までの間の時間に対応する成膜枚数に一致させることによって、成膜装置１８の停止中も装置全体の運転を停止させる必要がなくなる。
【００６４】
この光ディスクの製造装置１０においては、第２段階基板１２Ｂ上の紫外線硬化性樹脂の硬化が、第１の前照射装置４０によって５〜２０％程度硬化され、ここから離間して配置された第２の前照射装置４２によって紫外線硬化性樹脂が３０〜６０％程度硬化される。従って、塗布装置２２において回転する第２段階基板１２Ｂから振り切られ、周囲に飛散した紫外線硬化性樹脂、及び、塗布装置２２が一定時間停止し、その間に紫外線の照射を受けてから振り切られた紫外線硬化性樹脂も、紫外線被爆量が少なく、従ってこれを回収して再使用することができる。
【００６５】
又、この飛散した紫外線硬化性樹脂の回収作業のためのメンテナンススペース６０が、製造ラインを略コ字形状にされた中央辺である第２ベース３４の外側に隣接して設けているので、塗布装置２２及び第１の前照射装置４０へのアクセスが容易であり、作業もし易い。更に、このコ字形状の中央辺である第２ベース３４から外側に突出した位置に成膜装置１８が設けられて、これがメンテナンススペース６０に隣接しているので、メンテナンススペース６０は成膜装置１８のメンテナンススペースも兼ねることができる。
【００６６】
上記実施の形態の例においては、紫外線硬化性樹脂を第１の前照射と第２の前照射及び後照射の３段階の紫外線照射により硬化させるものであるが、本発明は、これに限定されるものでなく、第１の前照射の際に周囲に飛散した紫外線硬化性樹脂がリサイクル可能範囲で照射されるようにすればよい。
【００６７】
従って、例えば図３に示されるように、前記と同様の第１の前照射（Ｓ１０１）の後の第２の前照射（Ｓ１０２）によって、すでに塗布された紫外線硬化性樹脂層を実質的に硬化し、次工程の第２の紫外線硬化性樹脂層の塗布（Ｓ１０３）の後、後照射（Ｓ１０４）によって第２の紫外線硬化性樹脂層の硬化を実行するようにしてもよい。
【００６８】
【発明の効果】
本発明は上記のように構成したので、成膜装置のメンテナンス等による停止中も、他の装置を停止させることなく、光記録媒体の製造を連続して行なうことができるという優れた効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光記録媒体の製造装置を示す略示平面図
【図２】同光記録媒体の製造装置によってディスク基板上に塗布された紫外線硬化性樹脂を硬化する過程を示す略示断面図
【図３】同光記録媒体の製造装置によってディスク状の基板上に塗布された紫外線硬化性樹を３段階の紫外線照射により硬化させる過程を示すフローチャート
【符号の説明】
１０…光記録媒体製造装置
１２…ディスク基板
１２Ａ…第１段階基板
１２Ｂ…第２段階基板
１２Ｃ…第３段階基板
１２Ｄ…第４段階基板
１３Ａ…紫外線硬化性樹脂
１３Ｂ…塗布膜
１３Ｃ…被膜
１４…成形装置
１６…第１基板貯留装置
１８…成膜装置
２０…第２基板貯留装置
２２…塗布装置
２４…紫外線照射装置
２６…第１受渡し装置
２８…第２受渡し装置
３０…第３受渡し装置
３２…第１ベース
３４…第２ベース
３６…第３ベース
３８…成膜装置ベース
４０…第１の前照射装置
４２…第２の前照射装置
４８…第２の樹脂層形成装置
５２…紫外線後照射装置
６０…メンテナンススペース

Claims

光記録媒体用基板の成形装置と、この成形装置により成形された第１段階基板を貯留する第１基板貯留装置と、この第１基板貯留装置からの第１段階基板に少なくとも一種類の無機膜を形成可能な成膜装置と、この成膜装置により無機膜が形成された第２段階基板を貯留する第２基板貯留装置と、この第２基板貯留装置からの第２段階基板に、紫外線硬化性樹脂を塗布する塗布装置と、この塗布装置により紫外線硬化性樹脂の塗布膜が形成された、又は、紫外線硬化性樹脂の塗布膜を形成中の第３段階基板に、紫外線を照射し、前記塗布膜を硬化皮膜にして第４段階基板を形成する紫外線照射装置と、を配置してなり、且つ、前記成形装置と第１基板貯留装置との間には、第１段階基板を受け渡す第１受渡し装置、該第１基板貯留装置と成膜装置との間には、第１段階基板を受け渡す第２受渡し装置、第２基板貯留装置と塗布装置との間には第２段階基板を受け渡す第３受渡し装置をそれぞれ設けてなり、前記第２基板貯留装置は、前記第２受渡し装置の一部を兼ねていることを特徴とする光記録媒体製造装置。
請求項１において、
前記第１基板貯留装置は、最大基板貯留数が、前記成膜装置におけるメンテナンス時間中に、前記成形装置により成形される第１段階基板の数以上に設定されたことを特徴とする光記録媒体の製造装置。
請求項１又は２において、
前記第２基板貯留装置は、前記成膜装置及び前記第３受渡し装置の間に配置され、一方向に回転しつつ、その一部の過程で、前記第１基板貯留装置から成膜装置に至る、第１段階基板の受渡し工程の一部を構成し、且つ、成膜装置からの第２段階基板を前記第３受渡し装置に受け渡すまで貯留するようにされ、この貯留時間が調節自在とされたことを特徴とする光記録媒体製造装置。
請求項３において、
前記第２基板貯留装置における基板貯留時間は、最短が成膜後の第２段階基板の必要冷却時間、最長が、前記成膜後の第２段階基板の成膜表面の一定レベルまでの劣化に要する時間の間で設定されたことを特徴とする光記録媒体製造装置。
請求項１乃至４のいずれかにおいて、
前記紫外線照射装置は、前記塗布された紫外線硬化性樹脂を実質的に硬化するまで、段階的に紫外線を照射する複数の照射装置からなることを特徴とする光記録媒体製造装置。
請求項５において、
前記照射装置は、第１の前照射装置、第２の前照射装置、後照射装置の３段階の照射装置からなり、前記第２の前照射装置の後に、前記第１及び第２の前照射装置によって紫外線が照射された前記紫外線硬化性樹脂層の上に、第２の紫外線硬化性樹脂を塗布する装置が設けられ、前記後照射装置は、前記第２の紫外線硬化性樹脂を実質的に硬化させるとともにこの第２の紫外線硬化性樹脂の層を透過して、前記紫外線硬化性樹脂を実質的に硬化する量の紫外線を照射するようにされたことを特徴とする光記録媒体製造装置。